KR20060112289A - Stage system of exposing apparatus - Google Patents

Stage system of exposing apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20060112289A
KR20060112289A KR1020050033998A KR20050033998A KR20060112289A KR 20060112289 A KR20060112289 A KR 20060112289A KR 1020050033998 A KR1020050033998 A KR 1020050033998A KR 20050033998 A KR20050033998 A KR 20050033998A KR 20060112289 A KR20060112289 A KR 20060112289A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
seating
loaded
pins
pin
Prior art date
Application number
KR1020050033998A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유동민
Original Assignee
동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동부일렉트로닉스 주식회사 filed Critical 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority to KR1020050033998A priority Critical patent/KR20060112289A/en
Publication of KR20060112289A publication Critical patent/KR20060112289A/en

Links

Images

Classifications

    • E—FIXED CONSTRUCTIONS
    • E04—BUILDING
    • E04G—SCAFFOLDING; FORMS; SHUTTERING; BUILDING IMPLEMENTS OR AIDS, OR THEIR USE; HANDLING BUILDING MATERIALS ON THE SITE; REPAIRING, BREAKING-UP OR OTHER WORK ON EXISTING BUILDINGS
    • E04G23/00—Working measures on existing buildings
    • E04G23/02—Repairing, e.g. filling cracks; Restoring; Altering; Enlarging
    • E04G23/0203—Arrangements for filling cracks or cavities in building constructions
    • E04G23/0211—Arrangements for filling cracks or cavities in building constructions using injection
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C17/00—Hand tools or apparatus using hand held tools, for applying liquids or other fluent materials to, for spreading applied liquids or other fluent materials on, or for partially removing applied liquids or other fluent materials from, surfaces
    • B05C17/005—Hand tools or apparatus using hand held tools, for applying liquids or other fluent materials to, for spreading applied liquids or other fluent materials on, or for partially removing applied liquids or other fluent materials from, surfaces for discharging material from a reservoir or container located in or on the hand tool through an outlet orifice by pressure without using surface contacting members like pads or brushes
    • B05C17/01—Hand tools or apparatus using hand held tools, for applying liquids or other fluent materials to, for spreading applied liquids or other fluent materials on, or for partially removing applied liquids or other fluent materials from, surfaces for discharging material from a reservoir or container located in or on the hand tool through an outlet orifice by pressure without using surface contacting members like pads or brushes with manually mechanically or electrically actuated piston or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

Provided is a stage system for exposure apparatus which prevents breakdown and damage of wafer occurring if wafer is loaded or unloaded because of incorrect location of the wafer. The stage system for exposure apparatus comprises a plurality of pins(222), on the top of which wafer is loaded; a supporter connected to the bottoms of the pins; load cells(400) which are installed at the lower of the plurality of pins respectively; and a controller which controls a moving for loading the wafer on the pin, and stops the moving of wafer loading when a data received from the load cell(400) is out of standard value range. The standard value set on the controller is a weight of the wafer. The standard value is a gap between a time that the wafer is loaded on first pin of the plurality of pins(222) and a time that the wafer is loaded on at least second pin.

Description

노광장치의 스테이지 시스템{Stage system of exposing apparatus}Stage system of exposure apparatus

도 1은 스텝퍼 및 트랙의 인터페이스를 보여주는 구성도,1 is a block diagram showing an interface of a stepper and a track,

도 2는 종래의 인스테이지와 아웃스테이지의 구성을 보여주는 사시개략도,Figure 2 is a perspective schematic view showing the configuration of the conventional stage and out stage,

도 3은 웨이퍼가 안착핀에 안착된 상태를 보여주는 정면도,3 is a front view showing a state in which a wafer is seated on a mounting pin;

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 노광장치의 스테이지 시스템의 개략적인 구성을 보여주는 사시도,4 is a perspective view showing a schematic configuration of a stage system of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 노광장치의 스테이지 시스템의 구성을 보여주는 개략도,5 is a schematic view showing the configuration of a stage system of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 로드셀이 작동되는 순서를 보여주는 흐름도.6 is a flowchart showing a sequence in which a load cell is operated according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for main parts of drawings *

1 : 웨이퍼 100 : 트랙1: wafer 100: track

200 : 인터페이스부 210,310 : 아암200: interface unit 210,310: arm

220 : 인스테이지 221 : 고정대220: Intage 221: Fixture

222 : 안착핀 223 : 커버222: mounting pin 223: cover

224 : 너트 225 : 웨이퍼감지센서224: nut 225: wafer detection sensor

230 : 아웃스테이지 300 : 스텝퍼230: out stage 300: stepper

320 : 스테이지 400 : 로드셀320: stage 400: load cell

500 : 제어부500: control unit

본 발명은 노광장치에 관한 것으로, 반도체 제조를 위해 노광공정을 수행하는 트랙 및 스텝퍼장치로부터 웨이퍼가 로딩될 때 안착핀에 웨이퍼가 잘못 안착되는 경우 알람을 발생시켜 공정에러를 방지하기 위한 노광장치의 스테이지 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus, wherein an exposure apparatus for preventing a process error by generating an alarm when a wafer is incorrectly seated on a mounting pin when a wafer is loaded from a track and stepper apparatus performing an exposure process for semiconductor manufacturing. It is about a stage system.

도 1은 스텝퍼 및 트랙의 인터페이스를 보여주는 구성도로서, 반도체를 제조하기 위해 웨이퍼에 노광을 실시하는 공정은 다음과 같이 진행된다. 웨이퍼가 트랙(Track)장치(100)로 이송되면 웨이퍼 표면에 포토레지스트(PR;Photo Resist)가 도포된다. 포토레지스트가 도포되면 일정온도로 웨이퍼를 가열하는 소프트 베이킹을 실시하여 포토레지스트를 노광에 적합한 상태로 형성시킨다.1 is a block diagram showing an interface between a stepper and a track. The process of exposing a wafer to fabricate a semiconductor proceeds as follows. When the wafer is transferred to the track apparatus 100, photoresist (PR) is applied to the wafer surface. Once the photoresist is applied, soft baking is performed to heat the wafer to a constant temperature to form the photoresist in a state suitable for exposure.

소프트 베이킹된 웨이퍼는 트랙(100)과 스텝퍼(Stepper)(300)사이에 설치된 인터페이스부(200)의 아암(Arm)(210)에 의해 인스테이지(In-Stage)(220)에 로딩된다.The soft baked wafer is loaded into the in-stage 220 by an arm 210 of the interface unit 200 provided between the track 100 and the stepper 300.

상기 인스테이지(220)에 로딩된 웨이퍼는 아암(310)에 의해 프리얼라인(Pre-alignment)단계를 거친 후 스텝퍼(Stepper)(300)의 스테이지(320)에 로딩되어 노광 마스크를 통해 광원에 노출시키는 노광을 실시하여 패턴(Pattern)을 전사시킨다.The wafer loaded on the image 220 is subjected to a pre-alignment step by the arm 310 and then loaded on the stage 320 of the stepper 300 to be exposed to a light source through an exposure mask. Exposure is performed to expose the pattern.

노광이 종료되면 아암(310)에 의해 웨이퍼를 아웃스테이지(Out-Stage)(230)로 반출하고, 상기 아웃스테이지(230)에 로딩된 웨이퍼는 아암(210)에 의해 트랙(Track)(100)으로 이송되어 현상(Developing)과정을 거치게 된다.When the exposure is complete, the wafer 310 is taken out to the out stage 230 by the arm 310, and the wafer loaded on the out stage 230 is track 100 by the arm 210. It is transferred to the process and undergoes a developing process.

도 2는 종래의 인스테이지와 아웃스테이지의 구성을 보여주는 사시개략도이고, 도 3은 웨이퍼가 안착핀에 안착된 상태를 보여주는 정면도이다.Figure 2 is a perspective schematic view showing the configuration of the conventional instage and outstage, Figure 3 is a front view showing a state in which the wafer is seated on the seating pin.

상기 인스테이지(220)와 아웃스테이지(230)는 좌우 2단 스테이지 또는 상하 2단 스테이지로 사용되고, 상기 인스테이지(220)와 아웃스테이지(230)를 구성하는 부품은 동일하므로 이하, 인스테이지(220)의 경우에 한해서 설명한다.Since the intage 220 and the out stage 230 are used as a left and right two-stage stage or a top and bottom two-stage stage, the components constituting the insulator 220 and the outstage 230 are the same. Only in the case of).

상기 인스테이지(220)는 금속판으로 이루어진 고정대(221), 상기 고정대(221)에 너트(224)에 의해 고정설치된 3개의 안착핀(222)이 구비되고, 상기 안착핀(222)에 상단부에는 웨이퍼(1)의 손상을 방지하기 위한 테프론(TEFLON)재질로 이루어진 커버(223)가 덮여 있다.The insulator 220 is provided with a fixing table 221 made of a metal plate, three mounting pins 222 fixed to the fixing table 221 by nuts 224, and a wafer at an upper end of the mounting pin 222. A cover 223 made of TEFLON material is covered to prevent damage to (1).

웨이퍼(1)는 트랙(100) 또는 스텝퍼(300)로부터 아암(210,310)에 의해 이송되어 커버(223)가 씌워진 안착핀(222)의 상단부에 안착된다. 이 경우 웨이퍼(1)가 안착핀(222)에 정상적으로 로딩되었는지 여부는 발광부(225a)와 수광부(225b)로 이루어진 웨이퍼감지센서(225)에 의해 감지되는데, 이는 웨이퍼(1)의 유무만을 감지 하는 것이고, 웨이퍼(1)가 일측으로 편심되어 로딩된 것인지 여부는 감지할 수 없다.The wafer 1 is transferred from the track 100 or the stepper 300 by the arms 210 and 310 and seated on the upper end of the mounting pin 222 on which the cover 223 is covered. In this case, whether the wafer 1 is normally loaded on the seating pin 222 is detected by the wafer sensor 225 including the light emitting unit 225a and the light receiving unit 225b, which only detects the presence or absence of the wafer 1. It is impossible to detect whether the wafer 1 is loaded eccentrically to one side.

그러나 스텝퍼(300)의 스테이지(320)를 클리닝(Cleaning)하거나 아암(210)을 정비하기 위해 상기 장치들을 구성하는 블럭(Block)을 제거한 후 재장착 했을 때 웨이퍼(1)가 로딩되는 위치가 변경되어 3개의 안착핀(222)에 정확하게 안착되지 못하고 일측으로 편심되어 로딩될 수 있고, 또한 웨이퍼(1)가 3개의 안착핀(222)에 동시에 안착되지 않는 경우가 생길 수 있다.However, when the stage 320 of the stepper 300 is cleaned or the arm 210 is removed and then replaced, the position where the wafer 1 is loaded is changed. Therefore, it may not be correctly seated on the three seating pins 222 and may be eccentrically loaded to one side, and the wafer 1 may not be seated on the three seating pins 222 at the same time.

이와 같은 상태에서 아암(210,310)이 웨이퍼를 픽업(Pick Up)하거나 로딩하게 되면 웨이퍼(1) 위치 불량으로 인해 웨이퍼(1)가 파손되거나 손상되는 문제점이 있다.In this state, when the arms 210 and 310 pick up or load the wafer, there is a problem that the wafer 1 is broken or damaged due to the position of the wafer 1 being incorrect.

따라서 본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 본 발명은 노광장치의 스테이지 시스템에서 웨이퍼가 인스테이지와 아웃스테이지에 잘못 로딩된 경우 안착핀에 가해지는 무게를 감지하여 기준값의 설정범위를 벗어나는 경우 알람을 발생시켜 공정사고를 방지할 수 있는 노광장치의 스테이지 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, the present invention is to detect the weight applied to the mounting pin when the wafer is incorrectly loaded on the instage and outstage in the stage system of the exposure apparatus to detect the setting range of the reference value It is an object of the present invention to provide a stage system of an exposure apparatus capable of preventing an accident by generating an alarm when a deviation occurs.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명은 상단부에 웨이퍼가 안착 되는 다수개의 안착핀과, 상기 안착핀의 하부와 결합되는 고정대와, 상기 다수개의 안착핀 각각의 하부에 설치된 로드셀과, 상기 안착핀에 웨이퍼를 안착시키기 위한 동작을 제어하며 상기 로드셀로부터 수신된 데어터가 기준값으로 설정된 범위를 벗어나는 경우 웨이퍼 안착 동작을 중단하는 제어부를 포함하는 것으로 이루어진다.The present invention for realizing the object as described above is a plurality of seating pins that the wafer is seated on the upper end, a fixing rod coupled to the lower portion of the seating pin, a load cell installed in each of the plurality of seating pins, and the seating And a controller which controls an operation for seating the wafer on the pin and stops the wafer seating operation when the data received from the load cell is out of a range set as a reference value.

또한, 상기 제어부에 설정된 기준값은 웨이퍼의 무게인 것을 특징으로 한다.In addition, the reference value set in the control unit is characterized in that the weight of the wafer.

또한, 상기 제어부에 설정된 기준값은 다수개의 안착핀 중 웨이퍼가 첫번째 안착핀에 안착되는 시간과 두번째 이후의 안착핀에 안착되는 시간과의 차이인 것을 특징으로 한다.In addition, the reference value set in the control unit is characterized in that the difference between the time that the wafer is seated on the first seating pin and the second and subsequent seating pin of the plurality of seating pins.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 노광장치의 스테이지 시스템의 개략적인 구성을 보여주는 사시도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 노광장치의 스테이지 시스템의 구성을 보여주는 개략도이다.4 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a stage system of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a schematic view illustrating a configuration of a stage system of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

아암(210,310)은 트랙(100) 또는 스텝퍼(300)로부터 웨이퍼(1)를 이송하여 3개의 안착핀(222)에 로딩하거나 3개의 안착핀(222)에 로딩된 웨이퍼(1)를 이송하여 트랙(100) 또는 스텝퍼(300)로 언로딩시킨다.The arms 210 and 310 transfer the wafer 1 from the track 100 or the stepper 300 to be loaded on the three seating pins 222 or the wafers 1 loaded on the three seating pins 222. Unloaded by (100) or stepper 300.

상기 3개의 안착핀(222)은 서스(SUS)재질로서 고정대(221)에 고정설치되고, 상단부에는 웨이퍼의 손상을 방지하기 위한 테프론(TEFLON)재질로 이루어진 커버(223)가 씌워진다.The three mounting pins 222 are fixed to the holder 221 as a sus material, and a cover 223 made of a TEFLON material is covered on the upper end to prevent damage to the wafer.

상기 안착핀(222) 하단부에는 각각 로드셀(load cell)(400)이 연결설치된다. 로드셀(400)은 금속 재질의 탄성체에 스트레인 게이지(Strain gage)를 부착하여 하중에 따른 탄성체의 변형률을 전기적인 신호로 변환시켜 출력하는 센서이다.Load cells 400 are respectively connected and installed at the lower ends of the seating pins 222. The load cell 400 is a sensor that attaches a strain gage to an elastic body made of metal and converts the strain of the elastic body according to a load into an electrical signal and outputs the electrical signal.

상기 로드셀(400)은 상용화된 것으로 동전모양 로드셀에 안착핀(222)의 하단부를 연결하여 사용하거나 나사방식으로 안착핀(222)과 체결하여 사용할 수 있다.The load cell 400 is commercially available and can be used by connecting the lower end of the mounting pin 222 to the coin-shaped load cell or by fastening with the mounting pin 222 by a screw method.

상기 로드셀(400)은 웨이퍼(1)가 로딩되었을 때 감지된 무게 데이터가 케이블(410)을 통해 수신되는 제어부(500)와 연결된다.The load cell 400 is connected to the controller 500 in which the weight data detected when the wafer 1 is loaded through the cable 410.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 로드셀이 작동되는 순서를 보여주는 흐름도이다.6 is a flowchart illustrating a sequence of operating a load cell according to an embodiment of the present invention.

웨이퍼(1)가 트랙(100) 또는 스텝퍼(300)로부터 아암(210,310)에 의해 이송되어 상기 안착핀(222)의 상단부에 로딩된다.The wafer 1 is transported by the arms 210 and 310 from the track 100 or the stepper 300 and loaded on the upper end of the seating pin 222.

스텝퍼(300)의 스테이지(320)를 클리닝(Cleaning)하거나 아암(210)을 정비하기 위해 상기 장치들을 구성하는 블럭(Block)을 제거한 후 재장착한 경우에는 웨이퍼(1)가 로딩되는 위치에 변형이 생길 수 있다.When the stage 320 of the stepper 300 is cleaned or remounted after the block constituting the apparatuses for servicing the arm 210 is deformed at the position where the wafer 1 is loaded. This can happen.

이와 같은 경우에 상기 안착핀(222)의 하단부에 설치된 로드셀(400)이 무게를 감지하여 정상적으로 웨이퍼(1)가 로딩되었는지 여부를 모니터링하게 된다.In this case, the load cell 400 installed at the lower end of the seating pin 222 senses the weight and monitors whether the wafer 1 is normally loaded.

즉, 웨이퍼(1)가 안착핀(222)에 로딩되면 로드셀(400)에 하중이 작용하게 된 다. 종래에는 단순히 웨이퍼(1)의 유무만을 체크하는 웨이퍼감지센서(225)가 설치되어 있었으나, 본 발명의 경우 웨이퍼감지센서(225)의 구성을 없애고, 로드셀(400)을 장착하였다.That is, when the wafer 1 is loaded on the seating pin 222, a load acts on the load cell 400. Conventionally, the wafer detection sensor 225 is provided which simply checks the presence or absence of the wafer 1, but in the case of the present invention, the structure of the wafer detection sensor 225 is removed, and the load cell 400 is mounted.

실리콘 웨이퍼(1)의 무게는 약 8.8g 정도로서, 패턴(Pattern)이 형성된 웨이퍼나 형성되지 않은 웨이퍼 모두 무게 차이는 거의 없다. 따라서 상기 웨이퍼(1)의 무게 데이터에 대한 기준값(예를 들면 8.8g±0.2g)을 제어부(500)에 설정한다.Since the weight of the silicon wafer 1 is about 8.8 g, there is almost no difference in weight between the wafer on which the pattern is formed and the wafer on which the pattern is not formed. Therefore, a reference value (for example, 8.8 g ± 0.2 g) for the weight data of the wafer 1 is set in the controller 500.

상기 웨이퍼(1)가 안착핀(222)에 로딩되지 않고 드롭(Drop)된 경우에는 로드셀(400)에 하중이 전혀 작용하지 않아 상기 무게 데이터에 대한 기준값의 범위를 벗어난 데이터가 제어부(500)에 수신된다. 이 경우 제어부(500)에서는 웨이퍼(1)가 없다는 판단을 하고 알람(Alarm)을 발생시키고, 진행되던 모든 동작이 정지된다. 따라서 웨이퍼(1)의 유무를 감지하는 종래의 기능을 그대로 수행한다.When the wafer 1 is not loaded on the seating pin 222 and is dropped, no load is applied to the load cell 400 so that the data outside the range of the reference value for the weight data is transferred to the controller 500. Is received. In this case, the controller 500 determines that the wafer 1 is not present, generates an alarm, and stops all the operations. Therefore, the conventional function of detecting the presence or absence of the wafer 1 is performed as it is.

또한, 웨이퍼(1)가 완전히 드롭(Drop)되지 않더라도 상기 3개의 안착핀(222)에 균형있게 놓이지 않고 편심되게 로딩되는 경우가 발생할 수 있다. 웨이퍼(1) 무게 8.8g 은 3개의 안착핀(222)에 균일하게 작용해야 하는데, 이와 같이 편심되어 로딩되게 되면 3개의 안착핀(222)에 작용하는 하중은 서로 다르게 된다.In addition, even if the wafer 1 is not completely dropped, it may occur that the three mounting pins 222 are eccentrically loaded without being balanced. 8.8 g of the weight of the wafer 1 should be uniformly applied to the three seating pins 222. When the eccentric load is carried out, the loads acting on the three seating pins 222 are different.

이 경우에도 하나의 안착핀(222)에 작용하는 하중에 대한 기준값 범위를 설정한 다음 측정된 하중이 그 범위를 벗어나게 되면 제어부(500)에서는 웨이퍼(1)가 편심되었다고 판단한 후 알람(Alarm)을 발생시키고, 진행되던 모든 동작이 정지되도록 한다.Even in this case, if the reference value range for the load acting on one seating pin 222 is set, and the measured load is out of the range, the controller 500 determines that the wafer 1 is eccentric and then alarms. And stop all the movements that were in progress.

한편, 아암(210)의 위치가 틀어진 경우에는 웨이퍼(1)를 정상적으로 로딩시키지 못하고, 2개 또는 1개의 안착핀(222)에 웨이퍼(1)가 먼저 안착된 후 나머지 안착핀(222)에 웨이퍼(1) 안착되는 경우에는 3개의 로드셀(400)에 하중이 작용하는 시간에 차이가 발생한다.On the other hand, when the position of the arm 210 is misaligned, the wafer 1 cannot be loaded normally, and the wafer 1 is first seated on two or one seating pins 222, and then the wafers are rested on the remaining seating pins 222. (1) When it is seated, a difference occurs in the time that a load acts on the three load cells 400.

이 경우 웨이퍼(1)가 안착핀(222)에 먼저 안착되는 시간과 나중에 안착되는 시간은 대략적으로 0.5~1sec 차이가 난다. 즉, 3개의 안착핀(222)에 웨이퍼(1)가 동시에 안착된 경우를 기준으로 하여 안착되는 시간 차이에 대한 범위를 설정한다.In this case, the time when the wafer 1 is first seated on the seating pin 222 and the time when it is later seated are approximately 0.5 to 1 sec. That is, based on the case in which the wafer 1 is simultaneously seated on three seating pins 222, a range of time difference between the seating pins 222 is set.

각각의 로드셀(400)로부터 제어부(500)에 송신된 신호의 시간차이가 상기 범위를 벗어나게 되면 위치가 변경되었다고 판단하여 알람(Alarm)을 발생시키고, 진행되던 모든 동작이 정지되도록 한다.When the time difference of the signal transmitted from each load cell 400 to the control unit 500 is out of the above range, it is determined that the position has been changed to generate an alarm, and stop all the operations that have been performed.

상기 로드셀(400)로부터 수신된 데이터가 제어부(500)에 설정된 기준값의 설정범위를 벗어나지 않으면 아암(210,310)에 의해 웨이퍼(1)를 언로딩시킴으로써 공정을 정상적으로 수행하게 된다.When the data received from the load cell 400 does not deviate from the setting range of the reference value set in the controller 500, the process is normally performed by unloading the wafer 1 by the arms 210 and 310.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 노광장치의 스테이지 시스템에 의하면, 트랙 또는 스텝퍼로부터 아암에 의해 이송되어 안착핀에 로딩된 웨이퍼의 무게를 감지할 수 있는 로드셀과 상기 로드셀에 의해 측정된 데이터를 기준 값과 비교하여 웨이퍼의 유무 및 웨이퍼가 비정상적으로 로딩된 것임을 판단하는 제어부를 구비함으로써 웨이퍼 위치 불량으로 인해 로딩 및 언로딩시 발생되는 웨이퍼 파손과 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the stage system of the exposure apparatus according to the present invention as described in detail above, the load cell and the data measured by the load cell that can detect the weight of the wafer transferred to the seating pin by the arm from the track or stepper Comparing the reference value with the control unit to determine the presence of the wafer and whether the wafer is abnormally loaded there is an effect that can prevent the wafer damage and damage caused during loading and unloading due to the wafer position failure.

Claims (3)

상단부에 웨이퍼가 안착되는 다수개의 안착핀과,A plurality of seating pins on which the wafer is seated at the upper end; 상기 안착핀의 하부와 결합되는 고정대와,A fixing rod coupled to a lower portion of the seating pin; 상기 다수개의 안착핀 각각의 하부에 설치된 로드셀과,A load cell installed under each of the plurality of seating pins; 상기 안착핀에 웨이퍼를 안착시키기 위한 동작을 제어하며 상기 로드셀로부터 수신된 데어터가 기준값으로 설정된 범위를 벗어나는 경우 웨이퍼 안착 동작을 중단하는 제어부를 포함하는 노광장치의 스테이지 시스템.And a control unit controlling an operation for seating the wafer on the seating pin and stopping the wafer seating operation when the data received from the load cell is out of a range set as a reference value. 제1항에 있어서, 상기 제어부에 설정된 기준값은 웨이퍼의 무게인 것을 특징으로 하는 노광장치의 스테이지 시스템.The stage system of an exposure apparatus according to claim 1, wherein the reference value set in the control unit is a weight of a wafer. 제1항에 있어서, 상기 제어부에 설정된 기준값은 다수개의 안착핀 중 웨이퍼가 첫번째 안착핀에 안착되는 시간과 두번째 이후의 안착핀에 안착되는 시간과의 차이인 것을 특징으로 하는 노광장치의 스테이지 시스템.The stage system of an exposure apparatus according to claim 1, wherein the reference value set in the controller is a difference between a time when the wafer is seated on the first seating pin and a time after the second seating pin is seated among the plurality of seating pins.
KR1020050033998A 2005-04-25 2005-04-25 Stage system of exposing apparatus KR20060112289A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050033998A KR20060112289A (en) 2005-04-25 2005-04-25 Stage system of exposing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050033998A KR20060112289A (en) 2005-04-25 2005-04-25 Stage system of exposing apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060112289A true KR20060112289A (en) 2006-10-31

Family

ID=37620590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050033998A KR20060112289A (en) 2005-04-25 2005-04-25 Stage system of exposing apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060112289A (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1097978A (en) * 1996-09-25 1998-04-14 Canon Inc Mask correction method and production of device
KR20000018639A (en) * 1998-09-03 2000-04-06 윤종용 Wafer sensing device of baker unit
KR20010046063A (en) * 1999-11-10 2001-06-05 황인길 System for the alignment of a semiconductor wafer through the use of a weight measurement
US6330052B1 (en) * 1997-06-13 2001-12-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method
KR20050099670A (en) * 2004-04-12 2005-10-17 삼성전자주식회사 Method and apparatus for pre-aligning a wafer
KR20060020845A (en) * 2004-09-01 2006-03-07 삼성전자주식회사 Apparatus for coating photoresist

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1097978A (en) * 1996-09-25 1998-04-14 Canon Inc Mask correction method and production of device
US6330052B1 (en) * 1997-06-13 2001-12-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method
KR20000018639A (en) * 1998-09-03 2000-04-06 윤종용 Wafer sensing device of baker unit
KR20010046063A (en) * 1999-11-10 2001-06-05 황인길 System for the alignment of a semiconductor wafer through the use of a weight measurement
KR20050099670A (en) * 2004-04-12 2005-10-17 삼성전자주식회사 Method and apparatus for pre-aligning a wafer
KR20060020845A (en) * 2004-09-01 2006-03-07 삼성전자주식회사 Apparatus for coating photoresist

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI454857B (en) Unusual judging system and unusual judging method of processing apparatus
KR102457407B1 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium
CN110716124B (en) Circuit device, detector, inspection device, and method for adjusting warpage of circuit board
JP4055839B2 (en) Liquid level detection apparatus and method
KR20170108858A (en) Pressure measuring device and exhaust system using the same, and substrate processing apparatus
US20220130703A1 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
KR20060112289A (en) Stage system of exposing apparatus
KR102020533B1 (en) End effector detecting module and end effector monitoring device using the same
JP7249814B2 (en) Heat treatment apparatus and heat treatment method
CN113823577B (en) Contact releasing method in inspection device and inspection device
JP2002329770A (en) Substrate detector, substrate processing equipment and method of operation thereof
KR100218254B1 (en) Wafer cassette stage
JP2006186361A (en) Apparatus and method of arranging foup on load port
KR100280108B1 (en) Wafer Breakage Prevention System of Orient Flat Zone Unit
KR20020062437A (en) A method and an apparatus for baking wafer
KR100478499B1 (en) Inspection method of semiconductor wafer
KR20060120322A (en) Bake unit
KR20070089445A (en) Wafer loading apparatus
KR100215844B1 (en) Wafer loading apparatus for semiconductor equipment
KR20030061032A (en) Semiconductor manufacturing equipment
KR20070080528A (en) Wafer atage of semiconductor manufacture apparatus
KR0125237Y1 (en) Wafer chuck for an etching apparatus
KR100639675B1 (en) Bake apparatus of semiconductor manufacturing equipment
KR20020083660A (en) Baking apparatus for manufacturing semiconductor devices
KR20030073938A (en) Semiconductor fabricating equipment with a position sensor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application