KR20060108089A - 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 챔버내에 플라즈마를 발생시키는 유도결합 플라즈마 발생장치에 있어서, 상기 챔버와 연통되는 루프를 형성하는 루프관; 상기 루프관과 상기 챔버의 경계에서 상기 루프관을 완전하게 둘러싸는 자성코어; 및 상기 루프관을 통하여 흐르는 전기장을 유도하는 자기장을 생성하도록 상기 자성코어에 권취되는 안테나를 포함하는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.

루프관, 유도결합 플라즈마 발생장치, 자성코어, 고투자율

Description

자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치{Inductively coupled plasma generating apparatus with magnetic core}

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 종단면도.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 횡단면도.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 자성코어 부분의 확대도.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 다른 형태의 자성코어 부분의 확대도.

도 5a와 도 5b는 본 발명의 일실시예에 따른 상부측의 자성코어 조합도.

도 6a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 종단면도.

도 6b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 횡단면도.

*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ***

100: 유도결합 플라즈마 발생장치 101: 챔버

102: 루프관 103, 103-1, 103-2, 103', 103'-1, 203: 자성코어

104, 104-1, 204: 안테나 105, 105-1, 205: 상부 안테나

106, 206: 가스 주입구 107, 207: 배기구

108, 208: 절연판 109, 209: 척

110, 210: 개폐구 201: 외부 루프관

202: 내부 챔버 211: 브리지

본 발명은 유도결합 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 특히 고투자율 코어를 이용하여 대면적상에 균일한 고밀도의 플라즈마를 발생시키는 유도결합 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.

반도체 칩(chip) 제조공정 또는 PDP(Plasma Display Panel), LCD(liquid crystal display), 유기 EL(Ｅlectro Ｌuminescence) 등과 같은 평판표시장치의 제조공정에서와 같이 미세패턴을 형성하여야 하는 기술분야에서는 플라즈마를 생성하여 건식식각, 화학기상증착(CVD: Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링(Sputtering)과 같은 물리기상증착(PVD: Physical Vapor Deposition) 등 각종 표면처리 공정을 수행하고 있다. 최근에는 비용절감 및 수율향상을 위해 기판의 크기가 예컨대 300mm 이상으로 대구경화되는 경향을 보이며, 이에 따라 대구경의 기판을 가공하기 위한 플라즈마 발생장치의 규모도 증가하고 있다.

이런 플라즈마 발생장치들에서 널리 사용되는 대표적인 형태로는 예컨대 유도결합형 플라즈마 발생장치와 축전결합형 플라즈마 발생장치를 들 수 있고, 이중 유도결합형 플라즈마 발생장치는 플라즈마가 생성되는 챔버를 포함하며, 이 챔버에 는 반응가스를 공급하기 위한 가스 주입구와 챔버 내부를 진공으로 유지하고 반응이 끝나면 반응가스를 배출하기 위한 진공펌프 및 가스 배출구가 구비되어 있다. 또한, 챔버의 내부에는 웨이퍼 또는 유리기판 등의 시료를 올려놓기 위한 척(chuck)이 구비되어 있으며, 챔버의 상부에는 고주파전원이 접속된 안테나가 설치된다. 안테나와 챔버 사이에는 절연판을 설치하여 안테나에 의해 유도되는 전자기파가 투과될 수 있어 안테나로부터 플라즈마로 전력이 전달될 수 있다.

종래의 유도결합형 플라즈마 발생장치에는 단일의 나선형 안테나 또는 복수개의 분할 전극형 안테나가 사용되었는데, RF전력이 인가됨에 따라 안테나가 이루는 평면과 수직방향의 시간적으로 변화하는 자기장이 형성되며, 이러한 시간적으로 변화하는 자기장은 챔버 내부에 유도전기장을 형성하고 유도전기장은 전자를 가열하여 안테나와 유도성으로 결합된 플라즈마가 발생하게 된다. 이렇게 전자들은 주변의 중성기체입자들과 충돌하여 이온 및 라디칼 등을 생성하고 이들은 플라즈마 식각 및 증착에 이용된다.

그러나, 나선형 구조의 안테나에서는 안테나를 구성하는 각 유도코일이 직렬 연결되어 있는 구조이므로 유도코일마다 흐르는 전류량이 일정하게 되는데, 이 경우 유도전기장 분포 조절이 어려워 챔버 내벽에서의 이온 및 전자의 손실로 플라즈마의 중심부가 높은 밀도를 갖게 되고, 챔버의 내벽에 가까운 부분에는 플라즈마의 밀도가 낮아지게 되는 것을 막기 힘들게 된다. 따라서 플라즈마의 밀도를 균일하게 유지하는 것이 극히 곤란하게 된다.

또한, 안테나의 각 유도코일이 직렬로 연결되어 있으므로 안테나에 의한 전 압강하가 크게 되므로 플라즈마와의 용량성 결합에 의한 영향이 증가된다. 따라서, 전력 효율이 낮아지며 플라즈마의 균일성을 유지하는 것도 어렵게 된다.

다음으로, 서로 위상이 다른 3개의 고주파 전원에 각각 접속된 3개의 분할전극 구조의 안테나에서는 각 분할전극에 가까운 위치에서 플라즈마의 밀도가 높고, 챔버의 중앙부일수록 플라즈마의 밀도가 낮아 플라즈마의 균일성 확보에 어려움이 따르며, 특히 넓은 면적의 기판을 처리하는 것이 현저히 곤란하게 된다. 또한 각각 독립적으로 동작하는 전원을 사용하여야 하므로 비용이 증가하게 되며, 전원의 효율적인 사용을 위한 임피던스 정합을 위해서는 각 분할전극마다 독자적인 임피던스 정합회로를 사용하여야 하는 문제점이 있었다.

한편, 상기한 플라즈마 발생장치에서는 루프형 안테나의 구조적인 원인에 의해 챔버 내부에서의 플라즈마 밀도분포가 균일하지 못하다는 문제점이 있다. 즉, 안테나의 중간부분에는 상대적으로 플라즈마 밀도가 높은 구역이 형성되고, 안테나의 전원공급단 및 접지단 쪽의 플라즈마 밀도는 상대적으로 낮게 나타났으며, 직경을 따라 절단한 단면상에서의 플라즈마 밀도분포가 서로 대칭이 되지 않고 불균일하였다.

이는 안테나의 전원공급단 쪽이 상대적으로 고전압이 인가되므로 이온손실이 발생하게 되고 이에 따라 플라즈마 밀도의 강하가 이루어지며, 이와 아울러 루프형 안테나의 끊어진 부분 즉, 전원공급단과 접지단 사이에서는 전류의 흐름이 없기 때문에 유도전기장이 발생하지 않게 되어 이 부분의 플라즈마 발생이 약해지고 따라서 플라즈마 밀도의 강하가 발생하기 때문이었다.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 등록실용신안공보 제 253559호에서는 일단에 RF전원이 인가되는 파워드 엔드가 형성되고 타단의 그라운드 엔드는 전기적으로 접지된 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나에 있어서, 안테나는 적어도 2개의 루프형 안테나가 병렬로 설치되고, 각 안테나의 파워드 엔드와 그라운드 엔드는 안테나의 중심에 대하여 대칭위치에 배치되며, 각 안테나의 파워드 엔드와 그라운드 엔드는 챔버에서 먼 위치에 배치되고 각 안테나의 중간부분은 챔버에서 가까운 위치에 오도록 상호 평행하게 교차 설치되는 회전방향으로 균일한 플라즈마 밀도를 발생시키는 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나 구조를 제공하고 있다.

그러나, 이런 안테나 구조를 장착한 플라즈마 발생장치에서는 여러 가지의 문제점이 발생하는데, 먼저 챔버에 가까운 위치에 있는 각 안테나의 중간부분은 상하로 교차되기 때문에 안테나가 이루는 평면과 수직방향으로의 높이 차이에 의하여 전기장의 차이가 발생하여 챔버에 발생되는 플라즈마의 균일성을 저해한다.

또한, 챔버내에 발생되는 플라즈마의 발생효율을 향상시키기 위해서는 강한 유도 전기장을 형성해야 하고, 이를 위해서는 안테나에 공급되는 RF전력을 증대시켜야 하므로 전력 소모량이 많다는 문제점을 가지고 있다.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해서 내부에 고밀도의 플라즈마를 균일하게 발생시키고 분포시킬 수 있는 유도결합형 플라즈마 발생장치를 제공하는데 목적이 있다.

본 발명의 다른 목적은 플라즈마 발생장치의 내부에 강한 전기장을 형성시킬 수 있는 유도결합형 플라즈마 발생장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 낮은 내부압력과 낮은 RF전원으로도 고밀도의 플라즈마를 대면적상에 발생시킴으로써 유도결합형 플라즈마 발생장치의 전력효율을 증대시키는데 있다.

본 발명의 목적들과 특징 및 이점은 이하에 서술되는 실시예로부터 보다 명확하게 이해될 것이다.

이와 같은 목적을 달성하기 위해 챔버내에 플라즈마를 발생시키는 유도결합 플라즈마 발생장치에 있어서, 상기 챔버와 연통되는 루프를 형성하는 루프관; 상기 루프관과 상기 챔버의 경계에서 상기 루프관을 완전하게 둘러싸는 자성코어; 및 상기 루프를 통하여 흐르는 전기장을 유도하는 자기장을 생성하도록 상기 자성코어에 권취되는 안테나를 포함하는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치가 개시된다.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 종단면도이고, 도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 횡단면도로서 도 1의 A-A'을 따라 절단한 횡단면도이다.

도 1, 및 도 2a 내지 도 2c를 참조하면, 유도결합형 플라즈마 발생장치(100)는 챔버(101), 전기장이 유도되는 루프관(102), 자기장을 형성하기 위한 자성코어 (103), RF전원이 공급되는 안테나(104), 챔버 상부에 장착된 상부 안테나(105), 가스가 주입되는 가스 주입구(106), 사용후 가스를 배출하기 위한 배기구(107), 웨이퍼나 유리기판을 개폐구(110)를 통해 챔버 내부에 장착하기 위해 구비된 척(109)으로 구성된다.

루프관(102)은 단면이 원형 또는 사각형으로서 이 실시예에서는 원형으로 형성되어, 챔버(101)의 원주방향을 따라 소정 간격으로 이격되고 챔버(101)내부로부터 연통되어 다시 챔버(101)내부로 들어가는 돌출된 원통 고리형이며, 하나 이상의 개수로 챔버(101)의 외측에 위치한다. 또한, 루프관(102)은 도 1에 도시된 바와 같이 챔버(101)의 종방향을 따라 일정 간격을 두고 다수로 배치되어 층을 이룰 수 있다.

자성코어(103)는 각각의 루프관(102)을 감싸면서 탈착되는 원형 고리형태로서, 루프관(102)과 챔버(101)의 경계에서 루프관(102)을 에워싸고, 페라이트와 같은 강자성체 재질의 큰 투자율(magnetic permeability)을 이용하여 강한 전기장(E)을 루프관(102)에 유도하기 위해 구비된다. 여기서, 자성코어(103)는 고투자율의 재질로서, OP 페라이트, Ba 페라이트, Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Cu-Zn계 페라이트, 퍼몰로이(permalloy), 및 센다스트(sendust)중 어느 하나로 구성될 수 있다.

안테나(104)와 상부 안테나(105)는 일단에 300V 이하의 전압과 10A 이하 전류의 RF 전원이 인가되는 전원단(도시되지 않음)과 타단에 접지를 위한 접지단(도시되지 않음)으로 구성된다. 안테나 (104)에는 수 백 kHz의 저주파수 전력원을 공 급하고 상부 안테나(105)에는 예컨대 13.56MHz 전력원과 같은 고주파 전력원을 연결하여 플라즈마 발생을 용이하게 할 수 있으며, 균일한 플라즈마 생성에 기여할 수 있다. 또한, 안테나(104)와 상부 안테나(105)에 동일한 전력원을 연결하여 사용할 수도 있다.

이런 구성의 안테나(104)는 도 3에 도시된 바와 같이 챔버(101)외측에서 인접한 두개의 자성코어(103, 103-1)를 권취, 즉 두개의 자성코어(103, 103-1)를 자성코어(103)밑에서부터 시계방향으로 함께 감은 후 소정거리로 이격된 다른 두개의 자성코어(103', 103'-1)를 반대로 자성코어(103'-1)밑에서부터 반시계방향으로 함께 감게 되고, 이런 일련의 안테나(104)의 배치는 챔버(101)의 원주방향을 따라 두개의 자성코어(103, 103-1)와 다른 두개의 자성코어(103', 103'-1)를 각각의 쌍으로 권취하며 연속적으로 배치된다.

또한, 안테나(104)는 연속적으로 챔버(101)의 원주방향을 따라 두개의 자성코어(103, 103-1)를 권취하고 다른 두개의 자성코어(103', 103'-1)를 감싸며 배치되지 않고, 개별적으로 두개의 자성코어(103, 103-1)와 다른 두개의 자성코어(103', 103'-1)를 별도로 권취하며 배치될 수도 있다.

상부 안테나(105)는 절연판(108)상에 장착되고 절연판(108)의 평면과 수직방향으로 시간적으로 변화하는 자기장(B)을 형성시켜 챔버(101)내부에 전기장을 유도한다.

이와 같은 구성의 유도결합형 플라즈마 발생장치(100)에서 강한 전기장이 발생하는 과정을 도 3을 참조하여 설명한다.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 자성코어 부분의 확대도로서, 루프관(102)과 원형챔버의 경계부분에 루프관(102)을 둘러싸는 자성코어(103)를 구비하고, 이 자성코어(103)를 권취하는 안테나(104)가 도시된다.

RF전원이 안테나(104)에 인가됨에 따라, 안테나(104)는 두개의 인접한 자성코어(103, 103-1)에 시간적으로 변화하는 임의 방향의 강한 자기장(B)을 형성시킨다. 즉, 두개의 자성코어(103, 103-1)에는 방향이 상반된 자기장(B) 예를 들어, 일측의 자성코어(103)에는 시간적으로 변화하는 시계 방향의 자기장이 형성되고 인접측의 자성코어(103-1)에는 시간적으로 변화하는 반시계 방향의 자기장이 형성된다.

또한, 다른 두개의 자성코어(103', 103'-1)에도 방향이 상반된 자기장(B)이 형성되어, 일측의 자성코어(103')에는 시간적으로 변화하는 시계 방향의 자기장이 형성되고 인접측의 자성코어(103'-1)에는 시간적으로 변화하는 반시계 방향의 자기장이 형성된다.

이렇게 시간적으로 변화하는 상반된 자기장(B)이 두개의 자성코어(103, 103-1)와 다른 두개의 자성코어(103', 103'-1)에 형성됨으로써, 루프관(102)에는 예컨대, 자성코어(103)가 장착된 오른쪽 개구관으로부터 자성코어(103'-1)가 장착된 왼쪽 개구관으로 지나가는 원형 전기장(E)이 유도된다.

이런 유도 전기장(E)이 도 2a에 도시된 바와 같이 각각의 루프관(102)에 원형으로 유도되며, 따라서 이런 유도 전기장(E)을 이용하여 가스 주입구(106)를 통해 주입된 챔버내 가스에 에너지를 가하여 챔버(101)내부에 플라즈마를 발생시키게 된다. 또한, 두개의 자성코어(103, 103-1)와 다른 두개의 자성코어(103', 103'-1) 를 권취하는 안테나(104)의 감는 방향을 반대로 하면 도 2b에 도시된 바와 같이 자성코어(103'-1)가 장착된 왼쪽 개구관으로부터 자성코어(103)가 장착된 오른쪽 개구관으로 지나가는 원형 전기장(E)이 유도된다.

선택적으로, 안테나(104)가 자성코어들(103, 103-1, 103', 103'-1)을 각각 권취하여 도 2c에 도시된 바와 같이 소정방향으로 전기장(E)을 유도할 수 있다.

여기서, 전술한 자성코어(103, 103-1, 103', 103'-1)는 원형고리의 형태이지만, 도 4에 도시된 바와 같이 자성코어(103-2)는 루프관(102)의 단부를 에워싸는 "□□" 사각고리의 형태를 가질 수 있다.

이때, 안테나(104-1)는 전술한 바와 같은 배치형태가 아니라, 중간코어(103-3)를 감싸는 형태로 배치되어 중간코어(103-3)를 지나가는 쌍와류 형태와 같은 자기장(B)이 자성코어(103-2)에 발생시키고, 이 자기장(B)에 의해 루프관(102)에 전기장(E)이 유도된다.

선택적으로, 도 1과 도 2의 본 발명의 일실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치(100)는 챔버(101) 상부의 절연판(108)상에 장착된 상부 안테나(105)를 이용하여 챔버(101)내의 상부에 전기장을 유도하지만, 더욱 강한 전기장을 유도하기 위해서 도 5a와 도 5b에 도시된 바와 같이 챔버(101) 상부의 절연판(108)상에 다수의 루프관(102)과 이런 루프관(102)을 각각 둘러싸고 안테나(105-1)로 감싸인 □□ 사각고리의 형태를 가지는 다수의 자성코어(103-2)를 동일한 밀도로 격자배열하거나 원주방향을 따라 소정거리로 이격되어 원형 배열될 수도 있다.

이렇게 구성된 본 발명의 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치(100)에 서 구비된 자성코어(103, 103-1)를 이용하여 낮은 RF전원으로 챔버(101)내에 강한 전기장(E)을 유도하고, 유도된 전기장(E)을 통해 고밀도의 플라즈마를 발생시킨다.

이런 고밀도의 플라즈마를 300mm이상의 대면적의 웨이퍼, LCD, 및 유기EL 등에 사용하기 위해서는 챔버의 크기가 커져야 되고 전기장의 세기도 또한 더 강해져야 할 것이다. 따라서, 도 6a와 도 6b에 도시된 바와 같이 본 발명의 다른 실시예에 따른 유도결합형 플라즈마 발생장치가 실시될 수 있다.

이하, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치(200)를 설명한다.

도 6a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 종단면도이고, 도 6b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치의 횡단면도로서 도 6a의 C-C'를 따라 절단한 횡단면도이다.

도 6a와 도 6b를 참조하면, 유도결합형 플라즈마 발생장치(200)는 원형의 내부 챔버(202), 내부 챔버(202)로부터 일정거리 이격되어 내부 챔버(202)를 둘러싸는 루프를 이루는 원형의 외부 루프관(201), 외부 루프관(201)과 내부 챔버(202)가 서로 연통되도록 외부 루프관(201)과 내부 챔버(202)사이를 따라 일정간격으로 배열되는 다수의 브리지(211), 각각의 브리지(211)를 감싸고 자기장을 형성하기 위한 자성코어(203), RF전원이 공급되는 안테나(204), 챔버 상부에 장착된 상부 안테나(205), 가스가 주입되는 가스 주입구(206), 사용후 가스를 배출하기 위한 배기구(207), 웨이퍼나 유리기판을 개폐구(210)를 통해 내부 챔버(202)내에 장착하기 위해 구비된 척(209)으로 구성된다.

유도결합형 플라즈마 발생장치(200)에는 외부 루프관(201)와 내부 챔버(202)사이를 연통하는 다수의 브리지(211)가 원주방향을 따라 소정거리로 이격되어 구비되고, 또한 외부 루프관(201)과 내부 챔버(202)사이에서 높이 방향을 따라 다수개 배열될 수 있다.

이렇게 배열된 각각의 브리지(211)를 외측에서 에워싸고 안테나(204)에 의해 권취된 자성코어(203)를 이용하여 각각의 브리지(211)를 지나는 전기장(E)을 유도한다.

자성코어(203)는 브리지(211)를 외측에서 완전하게 에워싸는 형태로서, 원형 고리, 원통, 사각 고리, 및 사각통중 선택된 어느 하나일 수 있고, 자성코어(203)의 재질은 전술한 자성코어(103)의 재질과 같이 OP 페라이트, Ba 페라이트, Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Cu-Zn계 페라이트, 퍼몰로이, 및 센다스트중 어느 하나로 구성된다.

자성코어(203)를 권취하는 안테나(204)에 의해 자성코어(203)에 시간적으로 변화하는 강한 자기장(B)이 형성되어, 도 6b에 도시된 바와 같이 브리지(211)를 지나는 큰 직경의 강한 전기장(E)이 유도되고, 따라서 대면적의 강한 전기장(E)이 플라즈마 발생장치(200)의 원주를 따라 유도된다.

이렇게 유도된 강한 전기장(E)을 이용하여 내부 챔버내(202)에 고밀도의 플라즈마를 발생시켜, 개폐구(210)를 통해 전달되어 척(209)에 놓인 웨이퍼나 유리기판을 처리하게 된다.

종래의 유도결합 플라즈마 발생장치에 인가되는 RF전원으로 본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 발생장치에 더욱 강한 전기장을 대면적상에 유도시키고 이런 강한 전기장을 이용하여 고밀도의 플라즈마를 발생시킬 수 있다.

본 발명의 기술사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 전술한 실시예들은 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의 하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 다양한 실시가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 낮은 RF전원으로 고투자율의 재질을 사용하여 강한 전기장을 유도하고, 이런 강한 전기장을 이용하여 고밀도의 플라즈마를 발생시킬 수 있다.

고밀도의 플라즈마를 대면적상에 균일하게 발생시켜 대구경의 웨이퍼 또는 유리기판에 플라즈마를 이용함으로써, 생산수율을 향상시킬 수 있다.

Claims (8)

1. 챔버내에 플라즈마를 발생시키는 유도결합 플라즈마 발생장치에 있어서,

   상기 챔버와 연통되는 루프를 형성하는 루프관;

   상기 루프관과 상기 챔버의 경계에서 상기 루프관을 완전하게 둘러싸는 자성코어; 및

   상기 루프를 통하여 흐르는 전기장을 유도하는 자기장을 생성하도록 상기 자성코어에 권취되는 안테나를 포함하는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 루프관은 상기 챔버의 측면 외부에서 원주방향으로 일정 간격 이격되어 다수개 배열되는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.
3. 제 2 항에 있어서, 상기 루프관은 상기 챔버의 높이 방향으로 일정 간격 이격되어 다수개 배열되는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.
4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 루프관은 상기 챔버의 상부에 균일한 밀도로 다수개 배열되는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 자성코어는 상기 루프관과 상기 챔버의 경계마다 상기 루프관을 둘러싸며, 상기 안테나는 인접한 루프관을 각각 둘러싸는 인접한 자성코어를 함께 권취하는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.
6. 챔버내에 플라즈마를 발생시키는 유도결합 플라즈마 발생장치에 있어서,

   상기 챔버로부터 일정거리 이격되어 상기 챔버를 둘러싸는 루프관;

   상기 루프관과 상기 챔버가 연통되도록 상기 루프관과 챔버 사이를 따라 일정한 간격으로 배열되는 브리지;

   상기 브리지를 완전하게 둘러싸는 자성코어; 및

   상기 브리지와 루프관을 통하여 흐르는 전기장을 유도하는 자기장을 생성하도록 상기 자성코어에 권취되는 안테나를 포함하는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.
7. 제 6 항에 있어서, 상기 루프관과 이에 대응하는 브리지들은 상기 챔버의 높이 방향을 따라 다수개 배열되는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.
8. 제 7 항에 있어서, 상기 배열된 루프관은 상기 높이 방향에서 전체로 통합되는 자성코어를 이용한 유도결합 플라즈마 발생장치.

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