KR20060103072A - Resin composition for protective film of color filter, and color filter - Google Patents

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Abstract

우수한 경화성과 보존 안정성을 갖고, 또한 경화 후에 얻어진 수지 경화물의 층의 가시광선 투과율과 내용매성이라는 기본 성능을 구비할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 제공하고, 상기 목적을 달성하는 수지 조성물을 사용하여 가시광선 투과율과 내용매성이라는 기본 성능을 구비할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 수지 경화물의 층을 갖는 컬러 필터를 제공한다. It provides not only the basic performance of visible light transmittance and solvent resistance of the layer of cured resin obtained after curing, but also excellent curability and storage stability, and provides a resin composition for color filter protective films excellent in adhesion and ITO formation processability. By using the resin composition which achieves the said objective, it provides not only the basic performance of visible light transmittance and solvent resistance, but also provides the color filter which has the layer of the resin cured material excellent in adhesiveness and ITO formation processability.

중량 평균 분자량이 5000 내지 40000이고, 에폭시 당량이 140 내지 4 00 g/mol이며, 적어도 탄소-탄소 불포화 결합과 에폭시기를 함유하는 단량체를 사용하여 중합된 에폭시기 함유 중합체 (A)와, 분자량이 330 내지 7000이고, 에폭시 당량이 150 내지 3500 g/mol이며, 에폭시기를 2개 이상 갖는 비스페놀 A의 유도체인 에폭시기 함유 화합물 (B)와, 특정한 구조를 갖는 카르복실산 (c1)이 비닐에테르 화합물 (c2)에 의해 잠재화된 다가 카르복실산 유도체 (C)를 함유하는 컬러 필터 보호막용 수지 조성물이다. An epoxy group-containing polymer (A) polymerized using a monomer having a weight average molecular weight of 5000 to 40000, an epoxy equivalent of 140 to 400 g / mol, and containing at least a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group, and a molecular weight of 330 to Epoxy group-containing compound (B), which is a derivative of bisphenol A having an epoxy equivalent of 150 to 3500 g / mol and having two or more epoxy groups, and a carboxylic acid (c1) having a specific structure are vinyl ether compounds (c2) It is a resin composition for color filter protective films containing the polyhydric carboxylic acid derivative (C) latent by using.

컬러 필터, 보호막, 수지 조성물 Color filter, protective film, resin composition

Description

컬러 필터 보호막용 수지 조성물, 및 컬러 필터{RESIN COMPOSITION FOR PROTECTIVE FILM OF COLOR FILTER, AND COLOR FILTER}Resin composition for color filter protective films, and color filter {RESIN COMPOSITION FOR PROTECTIVE FILM OF COLOR FILTER, AND COLOR FILTER}

[문헌 1] 일본 특허 공개 (평)7-126352호 공보[Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-126352

[문헌 2] 일본 특허 공개 제2001-350010호 공보[Document 2] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-350010

본 발명은 액정 표시 장치(LCD), 고체 촬상 소자(CCD 등), 전계 발광 장치(ELD) 등에 이용되는 컬러 필터 보호막용 수지 조성물, 이 수지 조성물을 이용한 컬러 필터에 관한 것이다. This invention relates to the resin composition for color filter protective films used for a liquid crystal display device (LCD), a solid-state image sensor (CCD, etc.), an electroluminescent device (ELD), etc., and the color filter using this resin composition.

종래부터 액정 표시 장치(LCD), 고체 촬상 소자(CCD 등), 전계 발광 장치(ELD) 등에 이용되는 컬러 필터(이후, CF라고도 함)에는, RGB 레지스트의 요철을 평탄화할 목적으로, 또는 RGB 레지스트에서 블리드 아웃(bleed out)되는 이온성 물질로부터 액정 등을 보호할 목적으로, RGB 레지스트와, 액정 배향막 또는 ITO 층 등 사이에 보호막이라고 불리는 층이 설치된다. 이 보호막에는 투명성, 내약품성, 내열성, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성, 평탄성 등의 성능이 요구된다. 특히 최근 표시 장치를 가정용 텔레비젼 용도에 전개하는 데에 있어서, 그 수명에 크게 영 향을 미치는 밀착성과, 대형화에 따라 보다 고도한 전기 특성이 요구되어온 결과, 보다 엄격해진 ITO 형성 공정 조건에 대응한 내ITO 형성 프로세스성을 갖는 CF 보호막이 요구되어 왔다. Conventionally, color filters (hereinafter also referred to as CF) used in liquid crystal displays (LCDs), solid-state imaging devices (CCDs, etc.), electroluminescent devices (ELDs), and the like are used for the purpose of flattening irregularities of RGB resists or RGB resists. A layer called a protective film is provided between the RGB resist and the liquid crystal alignment film or the ITO layer or the like for the purpose of protecting the liquid crystal or the like from the ionic material bleed out. The protective film is required for performance such as transparency, chemical resistance, heat resistance, adhesion, ITO formation processability, and flatness. In particular, in recent years in the development of display devices for home television applications, the adhesion that greatly affects the lifespan and higher electrical characteristics have been required as the size has been increased, resulting in a more strict ITO forming process. CF protective films having ITO formation processability have been required.

밀착성은 보호막과, 유리 또는 RGB 레지스트와의 밀착성을 가리키고, CF의 수명에 관계된 중요한 성능이다. 나아가, ITO 형성 공정에 있어서의 고온하, 고왜곡하, 산 또는 알칼리 침지하에 있어서도 유리 또는 RGB 레지스트로부터 박리되지 않을 만큼의 밀착성이 보호막에 요구되고 있다. 또한, 내ITO 형성 프로세스성은 ITO 회로 형성시 또는 배향막 형성시의 결점에 대한 내성이고, 구체적으로는 ITO 회로 형성시의 산-알칼리 내성(에칭 내성)과 ITO 회로 형성 후의 230 내지 250 ℃에서의 내열성을 들 수 있다. 내ITO 형성 프로세스성이 우수하기 위해서는 상기 한 밀착성 이외에, 내열성, 저열 팽창성, 강인성, 내약품성 등의 모든 조화가 우수한 재료인 것이 요구된다. Adhesion refers to the adhesion between the protective film and glass or RGB resist, and is an important performance related to the life of CF. Furthermore, the adhesive film is required for the protective film not to be peeled from the glass or the RGB resist even under high temperature, high distortion, acid or alkali immersion in the ITO forming step. In addition, the ITO formation processability is resistance to defects in forming an ITO circuit or in forming an alignment film, specifically, acid-alkali resistance (etching resistance) in forming an ITO circuit and heat resistance at 230 to 250 ° C. after forming an ITO circuit. Can be mentioned. In order to be excellent in the ITO formation processability, in addition to the above adhesiveness, it is required to be a material having excellent harmony in all of heat resistance, low thermal expansion, toughness, chemical resistance and the like.

CF 보호막용 수지 조성물로서, 일본 특허 공개 (평)7-126352호 공보에는 에폭시 화합물, 경화제, 및 특정한 용매의 조합을 포함하는 CF 보호막용 수지 조성물이 개시되어 있다. 그 중에서도, 에폭시 화합물과 카르복실산 화합물(또는, 카르복실산 무수물)을 포함하는 에폭시 수지 조성물을 열경화시킨 CF 보호막이 투명성, 내약품성, 내열성의 점에서 적합한 재료로서 이용되어 왔다. 그러나, 에폭시 화합물과 경화제를 포함하는 수지 조성물은 반드시 밀착성이나 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 것은 아니었다. 또한, 상기 에폭시 화합물은 실온에서도 경화제의 관능기와 반응하기 때문에 보존 안정성이 열악하였다.As a resin composition for CF protective films, JP-A-7-126352 discloses a resin composition for CF protective films containing a combination of an epoxy compound, a curing agent, and a specific solvent. Especially, the CF protective film which thermosetted the epoxy resin composition containing an epoxy compound and a carboxylic acid compound (or carboxylic anhydride) has been used as a suitable material from the point of transparency, chemical-resistance, and heat resistance. However, the resin composition containing an epoxy compound and a hardening | curing agent was not necessarily excellent in adhesiveness or ITO formation processability. In addition, the epoxy compound reacts with the functional group of the curing agent even at room temperature, resulting in poor storage stability.

보존 안정성은 수지 조성물에서 요구되는 성능 중 하나이다. 보관시에 수지 조성물이 증점되면 도포성이 현저히 저하되고, 보호막의 막 두께의 제어가 곤란해질 뿐만 아니라, 보호막에 있어서는 치명적인 불균일이 발생되어 버린다. 보관시의 보존 안정성을 향상시키기 위해 보관 조건인 저온 및 밀폐하에 반응하는 각각의 성분을 별도로 보관하는(2액화) 등의 수법이 취해지고 있다. 그러나, 어떠한 수법도 보관이나 CF 제조시의 비용 상승의 원인이 되고 있다. 특히, 2액화를 행하면 사용 직전에 혼합할 필요가 있고, 이때 발생하는 기포가 소실될 때까지 장시간 방치할 필요가 있기 때문에, 생산성에 문제점이 남아 있었다. 또한, 2액화를 행하더라도 도포시에 침전이 발생하고, 증점되는 문제가 남아 보존 안정성이 우수한 수지 조성물이 강하게 요구되었다. Storage stability is one of the performances required in resin compositions. When the resin composition is thickened at the time of storage, applicability | paintability falls remarkably, control of the film thickness of a protective film becomes difficult, and fatal nonuniformity arises in a protective film. In order to improve the storage stability at the time of storage, the method of storing each component reacting under low temperature and sealing which are storage conditions separately (two liquefaction), etc. is taken. However, any technique is a cause of the cost increase in storage and CF manufacture. In particular, when performing two-liquefaction, it is necessary to mix immediately before use, and since it is necessary to leave it for a long time until the bubble produced at this time disappears, there existed a problem in productivity. In addition, even when performing two-liquidization, the problem which precipitated and the thickening remained at the time of application | coating remained, and the resin composition excellent in storage stability was strongly requested | required.

CF 보호막용 수지 조성물의 보존 안정성의 향상에 대해, 지금까지 수많은 연구가 이루어져 왔다. 예를 들면, 일본 특허 공개 제2001-350010호 공보에는 에폭시기 함유 수지와 다가 카르복실산 유도체를 사용한 CF 보호막용 수지 조성물이 개시되어 있다. 다가 카르복실산 유도체는 카르복실산을 비닐에테르에 의해 잠재화한 화합물이기 때문에, 상기 수지 조성물은 보존 안정성이 매우 우수한 특징이 있었다. 그러나, 최근 CF 보호막에 요구되고 있는 높은 밀착성이나 내ITO 형성 프로세스성을 만족시키기 위해서는, 열경화 반응을 촉진하는 활성이 강한 촉매를 비교적 많이 수지 조성물에 배합할 필요가 있었다. 이 활성이 강한 촉매는 실온에서도 약간의 활성을 갖기 때문에, 비교적 많이 배합되면 최대의 이점인 보존 안정성을 발휘할 수 없는 경우가 있었다. Numerous studies have been made on the improvement of the storage stability of the resin composition for the CF protective film. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-350010 discloses a resin composition for CF protective film using an epoxy group-containing resin and a polyvalent carboxylic acid derivative. Since the polyhydric carboxylic acid derivative is a compound in which carboxylic acid was latent with vinyl ether, the said resin composition had the characteristic which was very excellent in storage stability. However, in order to satisfy the high adhesiveness and ITO formation processability which are currently requested | required of CF protective film, it was necessary to mix | blend comparatively many strong catalysts with active activity which promotes a thermosetting reaction with a resin composition. Since this catalyst having a high activity has some activity even at room temperature, it may not be able to exhibit the storage stability which is the greatest advantage when it is compounded relatively large.

한편, 밀착성 향상을 위해 수지 조성물에 실란 커플링제나 티타네이트 커플링제 등을 첨가하는 수법이 일반적으로 취해지고 있다. 그러나, 실란 커플링제나 티타네이트 커플링제를 각각 단독으로 사용했을 경우에는, 수지 조성물에 상기 밀착성을 충분히 부여할 수 없었다. 또한, 실란 커플링제와 티타네이트 커플링제를 병용했을 경우에는, 실란 커플링제와 티타네이트 커플링제, 또는 경화제의 관능기와 각 커플링제가 실온에서도 반응하게 된다. 따라서, 커플링제 병용시에는 밀착성 향상 효과는 높지만, 실온에서도 수지 조성물이 증점되어 보존 안정성이 현저히 저하되는 문제점이 있었다. On the other hand, in order to improve adhesiveness, the method of adding a silane coupling agent, a titanate coupling agent, etc. to a resin composition is generally taken. However, when the silane coupling agent and the titanate coupling agent were each used alone, the adhesiveness could not be sufficiently provided to the resin composition. In addition, when using a silane coupling agent and a titanate coupling agent together, the functional group and each coupling agent of a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or a hardening | curing agent will react at room temperature. Therefore, when using a coupling agent together, although the adhesive improvement effect is high, there existed a problem that a resin composition thickens even at room temperature, and storage stability falls remarkably.

본 발명은 상기 실상을 감안하여 완수된 것이며, 그 제1 목적은 우수한 경화성과 보존 안정성을 가지며, 또한 수지 경화물의 층이 내열성이나 내용매성이라는 기본 성능을 구비할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 제공하는 것이다. The present invention has been accomplished in view of the above facts, and its first object is to have excellent curability and storage stability, and not only to have the basic performance of the heat-resistant or solvent-resistant layer of the cured resin, but also the adhesion and ITO formation process. It is providing the resin composition for color filter protective films excellent in the property.

또한, 본 발명의 제2 목적은 내열성이나 내용매성이라는 기본 성능을 구비할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 수지 경화물의 층을 갖는 컬러 필터를 제공하는 것이다. Moreover, the 2nd object of this invention is not only to provide the basic performance of heat resistance and solvent resistance, but also to provide the color filter which has a layer of the resin hardened | cured material excellent in adhesiveness and ITO formation processability.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 특정한 수지 조성물이 우수한 경화성과 보존 안정성을 가지며, 또한 수지 경화물의 층이 내열성이나 내용매성이 양호할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우 수하다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, as a result, the specific resin composition has the outstanding curability and storage stability, and the layer of the cured resin product has not only good heat resistance and solvent resistance, but also the adhesiveness and ITO formation process. It was found that sex was superior and the present invention was completed.

즉, 본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물은, 중량 평균 분자량이 5000 내지 40000이고, 에폭시 당량이 140 내지 600 g/mol이며, 적어도 탄소-탄소 불포화 결합과 에폭시기를 함유하는 단량체를 사용하여 중합된 에폭시기 함유 중합체 (A)와, 분자량이 330 내지 7000이고, 에폭시 당량이 150 내지 3500 g/mol이며, 에폭시기를 2개 이상 갖는 비스페놀 A의 유도체인 에폭시기 함유 화합물 (B)와, 하기 화학식 1의 구조를 갖는 카르복실산 (c1)이 비닐에테르 화합물 (c2)에 의해 잠재화된 다가 카르복실산 유도체 (C)를 함유한다.That is, the resin composition for color filter protective films which concerns on this invention superposes | polymerizes using the monomer with a weight average molecular weight of 5000-40000, an epoxy equivalent of 140-600 g / mol, and containing at least a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group. Epoxy group-containing polymer (A), an epoxy group-containing compound (B) which is a derivative of bisphenol A having a molecular weight of 330 to 7000, an epoxy equivalent of 150 to 3500 g / mol and having two or more epoxy groups, The carboxylic acid (c1) having a structure contains a polyvalent carboxylic acid derivative (C) latent with a vinyl ether compound (c2).

Figure 112005055126862-PAT00001
Figure 112005055126862-PAT00001

식 중, 6원환은 방향족 또는 지환식의 탄화수소이다. m1은 0 내지 2의 정수이고, t1은 0 내지 1의 정수이며, n은 1 내지 4의 정수이다. 또한, n이 1인 경우 R1은 수소 원자 또는 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이고, n이 2 내지 4인 경우 R1은 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In the formula, the six-membered ring is an aromatic or alicyclic hydrocarbon. m1 is an integer of 0-2, t1 is an integer of 0-1, n is an integer of 1-4. In addition, when n is 1, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms, and when n is 2 to 4, R 1 is a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

발명에 있어서는, 경화제로서 사용되는 난용성의 다가 카르복실산을 이 다가 카르복실산의 카르복실기를 블록하여 잠재화함으로써, 용해성이 높은 다가 카 르복실산 유도체 (C)의 형태로 하고 나서 용매에 용해, 분산시켜 사용한다. 따라서, 수지 조성물 중에 카르복실기의 반응점을 고농도로 에폭시기와 공존시킬 수 있고, 이러한 수지 조성물을 사용하여 층을 형성하여 가열하면 높은 가교 밀도의 보호막이 얻어진다. 또한, 다가 카르복실산 유도체 (C)는 상기 화합물에 따른 소정의 온도 이상으로 가열하지 않으면 카르복실기가 재생되지 않는다. 따라서, 에폭시기 함유 중합체 (A) 및 에폭시기 함유 화합물 (B)에 함유되어 있는 에폭시기 및 다가 카르복실산 유도체 (C)에 함유되어 있는 카르복실기 각각의 반응점 농도가 높음에도 불구하고, 제조 직후부터 장기간에 걸쳐 양호한 점도를 유지하기를 계속하여 보존 안정성이 매우 우수하다. example In the present invention, the poorly soluble polyvalent carboxylic acid used as the curing agent is blocked by carboxyl group of the polyvalent carboxylic acid, thereby dissolving in a solvent after being in the form of a highly soluble polyvalent carboxylic acid derivative (C). Disperse and use. Therefore, the reaction point of a carboxyl group can coexist in high concentration with an epoxy group in a resin composition, and when a layer is formed and heated using such a resin composition, the protective film of high crosslinking density is obtained. In addition, a polyhydric carboxylic acid derivative (C) does not regenerate a carboxyl group unless it heats more than predetermined temperature according to the said compound. Therefore, although the reaction point concentration of each of the epoxy group contained in the epoxy group-containing polymer (A) and the epoxy group-containing compound (B) and the carboxyl group contained in the polyvalent carboxylic acid derivative (C) is high, it is for a long time immediately after preparation. The storage stability is very excellent by continuing to maintain a good viscosity.

특히, 본 발명에 따르면, 상기 특정한 에폭시기 함유 중합체 (A) 및 특정한 에폭시기 함유 화합물 (B)와, 상기 특정한 다가 카르복실산 유도체 (C)를 특정량으로 조합하여 사용함으로써 우수한 경화성과 보존 안정성을 가지고, 또한 수지 경화물의 층이 내열성이나 내용매성이 양호할 뿐만 아니라, 충분히 우수한 밀착성이나 내ITO 프로세스 형성성을 얻을 수 있다. 따라서, 종래 사용되고 있었던 활성이 강한 촉매의 배합량을 보존 안정성이 저하되지 않는 정도, 구체적으로는 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 100 중량부로 했을 경우, 100 중량부에 대해 금속 원자로서 0.1 중량부 이하 정도로 억제하더라도 또는 사용하지 않더라도, 최근 CF 보호막에 요구되고 있는 높은 밀착성이나 내ITO 형성 프로세스성을 달성할 수 있고, 나아가 보존 안정성이 손상되는 일없이 매우 우수하다. In particular, according to the present invention, by using the specific epoxy group-containing polymer (A) and the specific epoxy group-containing compound (B) in combination with a specific amount of the specific polyvalent carboxylic acid derivative (C), it has excellent curability and storage stability. In addition, the layer of the cured resin product has not only good heat resistance and solvent resistance but also sufficiently excellent adhesion and ITO process formation resistance. Therefore, when the compounding quantity of the catalyst with a strong activity used conventionally is not reduced in storage stability, specifically, when the total weight of the said (A) component, the said (B) component, and the said (C) component is 100 weight part, 100 Even if it is suppressed to about 0.1 weight part or less as a metal atom with respect to a weight part, even if it is not used, the high adhesiveness and ITO formation processability currently requested | required of a CF protective film can be achieved, and further, it is very excellent without damaging storage stability. Do.

본 발명에 따른 CF 보호막용 수지 조성물에 있어서의 바람직한 한 실시 형태 로서는 상기 다가 카르복실산 유도체 (C)가, 하기 화학식 2의 구조를 갖는 카르복실산이 프로필비닐에테르에 의해 잠재화된 것을 들 수 있다. 이러한 경우에는 180 ℃ 이하의 보다 저온에서 경화시켰을 때에도 고가교 밀도로 밀착성이나 내ITO 형성 프로세스성이 우수하다는 이점을 갖는다. As a preferable embodiment in the resin composition for CF protective films which concerns on this invention, the said polyhydric carboxylic acid derivative (C) mentions that carboxylic acid which has a structure of following General formula (2) was latent by propyl vinyl ether. . In such a case, even when hardened at a lower temperature of 180 ° C. or lower, it has an advantage of having good adhesion and ITO formation processability at high crosslinking density.

Figure 112005055126862-PAT00002
Figure 112005055126862-PAT00002

식 중, m2는 0 내지 2의 정수이다.In formula, m2 is an integer of 0-2.

또한, 본 발명에 따른 CF 보호막용 수지 조성물에 있어서의 바람직한 다른 한 실시 형태로서는, 상기 다가 카르복실산 유도체 (C)가, 하기 화학식 3의 구조를 갖는 카르복실산이 비닐에테르 화합물 (c2)에 의해 잠재화된 것을 들 수 있다. 이러한 경우에는 탈잠재화되는 온도가 높기 때문에 보존 안정성이 현저히 우수할 뿐만 아니라, 특히 무색 투명으로 장기 고온 조건하나 고에너지의 광 조사하에서의 변색이 적다고 하는 이점을 갖는다. Moreover, as another preferable embodiment in the resin composition for CF protective films which concerns on this invention, the said polyhydric carboxylic acid derivative (C) is the carboxylic acid which has a structure of following General formula (3) by a vinyl ether compound (c2). And latent ones. In this case, not only is it excellent in storage stability because of high de-latent temperature, but also it is colorless and transparent, and it has the advantage that there is little discoloration under long-term high temperature conditions but high energy light irradiation.

Figure 112005055126862-PAT00003
Figure 112005055126862-PAT00003

식 중, m3은 0 내지 2의 정수이고, t3은 0 내지 1의 정수이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In formula, m3 is an integer of 0-2, t3 is an integer of 0-1. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

본 발명에 따른 CF 보호막용 수지 조성물에 있어서는, 밀착성 향상제 (D)로서 티탄 비누 및(또는) 지르코늄 비누를 더 함유하는 것이 밀착성을 더욱 향상시킨다는 점에서 바람직하다. In the resin composition for CF protective films which concerns on this invention, it is preferable at the point which further improves adhesiveness to contain titanium soap and / or zirconium soap as an adhesive improving agent (D).

또한, 본 발명에 따른 CF 보호막용 수지 조성물에 있어서는, 보존 안정성 향상제 (E)로서 5가의 인 원자 함유 화합물을 더 함유하는 것이 보존 안정성을 더욱 향상시킨다는 점에서 바람직하다. Moreover, in the resin composition for CF protective films which concerns on this invention, it is preferable to further contain a pentavalent phosphorus atom containing compound as a storage stability improving agent (E) from the point of further improving storage stability.

한편, 본 발명에 따른 컬러 필터는 상기 본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지 경화물의 층을 갖는다. On the other hand, the color filter which concerns on this invention has a layer of the resin cured material formed by hardening | curing the resin composition for color filter protective films which concerns on the said invention.

본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물은 우수한 경화성과 보존 안정성을 가지며, 또한 수지 경화물의 층이 내열성이나 내용매성이 양호할 뿐만 아니라, 충분히 우수한 밀착성이나 내ITO 프로세스 형성성을 얻을 수 있다. 따라서, 종래 사용되고 있었던 활성이 강한 촉매의 배합량을 억제하더라도 또는 사용하지 않더라도, 최근 CF 보호막에 요구되고 있는 높은 밀착성이나 내ITO 형성 프로세스성을 달성할 수 있고, 나아가 보존 안정성이 손상되는 일없이 매우 우수하다.The resin composition for color filter protective films which concerns on this invention has the outstanding curability and storage stability, and the layer of cured resin is good in heat resistance and solvent resistance, and can fully obtain adhesiveness and ITO process formation property. Therefore, even if the compounding amount of the active catalyst, which has been used conventionally, is suppressed or not used, it is possible to achieve high adhesion and ITO formation processability, which are required for the CF protective film in recent years, and further excellent without damaging the storage stability. Do.

또한, 본 발명에 따르면, 내열성이나 내용매성이라는 기본 성능을 구비할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 수지 경화물의 층을 갖는 컬러 필터를 얻을 수 있다. Moreover, according to this invention, the color filter which has not only the basic performance of heat resistance and solvent resistance but also the layer of the resin hardened | cured material excellent in adhesiveness and ITO formation processability can be obtained.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>Best Mode for Carrying Out the Invention

이하에서 본 발명을 자세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

1. 컬러 필터 보호막용 수지 조성물 1. Resin composition for color filter protective film

본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물은 중량 평균 분자량이 5000 내지 40000이고, 에폭시 당량이 140 내지 600 g/mol이며, 적어도 탄소-탄소 불포화 결합과 에폭시기를 함유하는 단량체를 사용하여 중합된 에폭시기 함유 중합체 (A)와, 분자량이 330 내지 7000이고, 에폭시 당량이 150 내지 3500 g/mol이며, 에폭시기를 2개 이상 갖는 비스페놀 A의 유도체인 에폭시기 함유 화합물 (B)와, 하기 화학식 1의 구조를 갖는 카르복실산 (c1)이 비닐에테르 화합물 (c2)에 의해 잠재화된 다가 카르복실산 유도체 (C)를 함유한다. The resin composition for color filter protective films according to the present invention contains an epoxy group polymerized using a monomer having a weight average molecular weight of 5000 to 40000, an epoxy equivalent of 140 to 600 g / mol, and a monomer containing at least a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group. A polymer (A), an epoxy group-containing compound (B) which is a derivative of bisphenol A having a molecular weight of 330 to 7000, an epoxy equivalent of 150 to 3500 g / mol and having two or more epoxy groups, and a structure of the following general formula (1) The carboxylic acid (c1) contains a polyvalent carboxylic acid derivative (C) latent with a vinyl ether compound (c2).

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112005055126862-PAT00004
Figure 112005055126862-PAT00004

식 중, 6원환은 방향족 또는 지환식의 탄화수소이다. m1은 0 내지 2의 정수이고, t1은 0 내지 1의 정수이며, n은 1 내지 4의 정수이다. 또한, n이 1인 경우 R1은 수소 원자 또는 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이고, n이 2 내지 4인 경우 R1은 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In the formula, the six-membered ring is an aromatic or alicyclic hydrocarbon. m1 is an integer of 0-2, t1 is an integer of 0-1, n is an integer of 1-4. In addition, when n is 1, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms, and when n is 2 to 4, R 1 is a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

또한, 본 발명에 있어서 CF(컬러 필터) 보호막은 넓게는 CF를 갖는 표시 장치 및 고체 촬상 소자에 이용되는 것을 의미하고, 보다 자세하게는 액정 표시 장치(LCD), 고체 촬상 소자(CCD 등), 전계 발광 장치(ELD) 등에 이용되는 CF의, RGB 화 소와, 액정 배향막, ITO층, 발광체, 수광체 등의 사이에 형성되는 유기층을 의미하는 것으로 한다. 일반적으로 보호막이라고 하는 것으로 특별히 한정되지 않으며, 또한 RGB 화소에 직접 접촉하지 않더라도, 다른 재료를 통해 간접적으로 보호하는 보호막과 같은 경우도 포함되며, 예를 들면 고체 촬상 소자의 마이크로 렌즈와 컬러 필터 사이에 사용되는 중간막, 또는 컬러 필터와 전극 사이에 사용되는 중간막도 포함된다. In addition, in this invention, CF (color filter) protective film means what is widely used for the display apparatus and solid-state image sensor which have CF, More specifically, a liquid crystal display device (LCD), a solid-state image sensor (CCD etc.), an electric field It means an organic layer formed between an RGB pixel of CF used for a light emitting device (ELD), etc., and a liquid crystal aligning film, an ITO layer, a light emitting body, a light receiving body, etc. It is not specifically limited to what is generally called a protective film, and also the case where the protective film which protects indirectly through another material, even if it does not directly contact an RGB pixel, is included, for example, between the microlens of a solid-state image sensor, and a color filter. Also included are interlayers used, or interlayers used between color filters and electrodes.

(에폭시기 함유 중합체 (A))(Epoxy group-containing polymer (A))

본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 중합체 (A)는 적어도 탄소-탄소 불포화 결합과 에폭시기를 함유하는 단량체(이하, 에폭시기 함유 단량체라고도 함)를 사용하여 중합된 중합체이며, 에폭시기를 2개 이상 갖는 것이다. 에폭시기 함유 중합체 (A)는 에폭시기 함유 단량체를 단독으로 중합함으로써, 또는 에폭시기 함유 단량체와 다른 단량체를 공중합시킴으로써 얻을 수 있다. 그 분자 형태로서는 직쇄상이거나, 분지 구조를 가지고 있을 수도 있고, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 하나의 형태일 수도 있다. The epoxy group-containing polymer (A) in the resin composition of the present invention is a polymer polymerized using at least a carbon-carbon unsaturated bond and a monomer containing an epoxy group (hereinafter also referred to as an epoxy group-containing monomer), and having two or more epoxy groups. will be. An epoxy group containing polymer (A) can be obtained by superposing | polymerizing an epoxy group containing monomer independently or copolymerizing an epoxy group containing monomer and another monomer. The molecular form may be linear, may have a branched structure, or may be any one of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, and the like.

본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 중합체 (A)는 통상법의 중합법에 의해 공중합할 수 있다. 즉, 중합법은 특별히 한정되지 않으며, 라디칼 중합, 이온 중합 등의 중합법을 이용할 수 있고, 보다 구체적으로는 중합 개시제의 존재하에 괴상 중합법, 용액 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등의 중합법을 이용할 수 있다. 중합법에 따라는 단량체가 다량으로 잔존하는 경우가 있지만, 이 단량체가 도포 경화 후의 보호막 물성에 영향을 미치는 경우에는, 감압 증류 제거 법이나 재침전 형성법 등에 의해 단량체를 제거할 수도 있다. The epoxy group containing polymer (A) in the resin composition of this invention can be copolymerized by the polymerization method of a conventional method. That is, the polymerization method is not particularly limited, and polymerization methods such as radical polymerization and ionic polymerization can be used, and more specifically, in the presence of a polymerization initiator, such as a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method and the like. The polymerization method can be used. Depending on the polymerization method, a large amount of monomer may remain. However, when the monomer affects the protective film properties after coating curing, the monomer may be removed by a vacuum distillation method, a reprecipitation forming method, or the like.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 에폭시기 함유 중합체 (A)는 분자량이나 공단량체종이 다른 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. In the resin composition of the present invention, the epoxy group-containing polymer (A) may be used by mixing two or more kinds having different molecular weights and comonomer species.

본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 중합체 (A)는 구성 단위로서 하기 화학식 4 내지 6으로 표시되는 구성 단위를 갖는 것을 바람직한 예로서 들 수 있다. The epoxy group containing polymer (A) in the resin composition of this invention has what has a structural unit represented by following formula (4)-6 as a structural unit as a preferable example.

Figure 112005055126862-PAT00005
Figure 112005055126862-PAT00005

식 중, R3은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고, R4는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 2의 알킬기이며, p1은 1 내지 8의 정수이다.In formula, R <3> is a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group, R <4> is a hydrogen atom or a C1-C2 alkyl group, p1 is an integer of 1-8.

Figure 112005055126862-PAT00006
Figure 112005055126862-PAT00006

식 중, R5는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고, R6은 -CH2O- 또 는 -CH2-이며, R7은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 2의 알킬기이고, q1은 0 내지 7의 정수이다.Wherein R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 6 is —CH 2 O— or —CH 2 —, R 7 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, q1 is 0 It is an integer of -7.

Figure 112005055126862-PAT00007
Figure 112005055126862-PAT00007

식 중, R8은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고, r1은 1 내지 8의 정수이다.In formula, R <8> is a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group, and r1 is an integer of 1-8.

본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 중합체 (A)는 하기 화학식 7 내지 9로 표시되는 구성 단위를 더 갖고 있을 수도 있다.The epoxy group-containing polymer (A) in the resin composition of the present invention may further have a structural unit represented by the following formulas (7) to (9).

Figure 112005055126862-PAT00008
Figure 112005055126862-PAT00008

식 중, R9는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기이고, R10은 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 주요 환을 구성하는 탄소수 3 내지 12인 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 아릴옥시기, 또는 방향족 폴리알킬렌글리콜 잔기이다.In formula, R <9> is a hydrogen atom or a C1-C12 alkyl group, R <10> is a hydrogen atom, a C1-C12 alkyl group, a C3-C12 alicyclic hydrocarbon group which comprises a main ring, an aromatic hydrocarbon group, an aryl Oxy or aromatic polyalkylene glycol moieties.

Figure 112005055126862-PAT00009
Figure 112005055126862-PAT00009

식 중, R11은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기이고, R12는 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 알콕시기, 히드록시알킬기, 히드록시기, 실록시알킬기, 또는 방향족 탄화수소기이다.In formula, R <11> is a hydrogen atom or a C1-C12 alkyl group, R <12> is a hydrogen atom, a C1-C12 alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyalkyl group, a hydroxy group, a siloxyalkyl group, or an aromatic hydrocarbon group.

Figure 112005055126862-PAT00010
Figure 112005055126862-PAT00010

식 중, R13은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 시클로알킬기, 또는 방향족 탄화수소기이다.In formula, R <13> is a hydrogen atom or a C1-C12 alkyl group, a cycloalkyl group, or an aromatic hydrocarbon group.

상기 화학식 4 내지 6으로 표시되는 구성 단위는 각각 하기 화학식 10 내지 12로 표시되는 에폭시기 함유 단량체로부터 유도된다. The structural units represented by Chemical Formulas 4 to 6 are each derived from an epoxy group-containing monomer represented by the following Chemical Formulas 10 to 12.

Figure 112005055126862-PAT00011
Figure 112005055126862-PAT00011

식 중, R14는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고, R15는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 2의 알킬기이며, p2는 1 내지 8의 정수이다.In formula, R <14> is a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group, R <15> is a hydrogen atom or a C1-C2 alkyl group, p2 is an integer of 1-8.

상기 화학식 10에 있어서, R14 및 R15로서 바람직한 것은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이며, p2로서 바람직한 것은 1 내지 3이다. 화학식 10으로 표시되는 단량체로서는 구체적으로 글리시딜(메트)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트를 예시할 수 있고, 그 중에서는 글리시딜메타크릴레이트(이하, GMA)가 입수성면 등에서 바람직하다. 여기서, 본 발명에 있어서의 (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 중 어느 것일 수도 있는 것을 의미한다. In the above formula (10), preferred as R 14 and R 15 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and preferred as p 2 are 1 to 3. Specific examples of the monomer represented by the formula (10) include glycidyl (meth) acrylate and β-methylglycidyl (meth) acrylate. Among them, glycidyl methacrylate (hereinafter referred to as GMA) is It is preferable from the viewpoint of availability. Here, it means that the (meth) acrylate in this invention may be either an acrylate or a methacrylate.

Figure 112005055126862-PAT00012
Figure 112005055126862-PAT00012

식 중, R16은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고, R17은 -CH2O-기 또는 -CH2-기이며, R18은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 2의 알킬기이고, q2는 0 내지 7의 정수이다. In the formula, R 16 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 17 is a -CH 2 O- group or a -CH 2 -group, R 18 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, q2 is It is an integer of 0-7.

상기 화학식 11에 있어서, R16 및 R18로서 바람직한 것은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이고, R17로서 바람직한 것은 -CH2O-기이며, q2로서 바람직한 것은 1 내지 3이다. 화학식 11로 표시되는 단량체로서는 구체적으로 o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르가 입수성면 등에서 바람직하다. In the above formula (11), preferred as R 16 and R 18 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, preferred as R 17 are a -CH 2 O- group, and preferred as q2 are 1 to 3. Specific examples of the monomer represented by the formula (11) include o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, and p-vinyl benzyl glycidyl ether in terms of availability.

Figure 112005055126862-PAT00013
Figure 112005055126862-PAT00013

식 중, R19는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고, r2는 1 내지 8의 정수이다.In the formula, R 19 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5, r2 is an integer of 1 to 8.

상기 화학식 12에 있어서, R19로서 바람직한 것은 수소 원자 또는 메틸기이고, r2로서 바람직한 것은 1 내지 3이다. 화학식 12로 표시되는 단량체로서는 구체적으로 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트가 경도 등의 수지 경화물층의 물성면에서 바람직하다. 그러나, 상기 단량체를 사용하는 경우에는 다른 단량체에 비해 금속의 혼입에 의해 보존 안정성이 저하되는 경우가 있기 때문에, 후술하는 바와 같이 수지 조성물에 포함되는 전이 금속 원자의 양을 일정 이하로 하는 것이 바람직하다. In Formula 12, R 19 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and r 2 is preferably 1 to 3. As the monomer represented by the formula (12), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate is particularly preferable in view of physical properties of the cured resin layer such as hardness. However, when using the said monomer, since storage stability may fall by incorporation of a metal compared with another monomer, it is preferable to make the quantity of the transition metal atom contained in a resin composition below fixed as mentioned later. .

또한 상기 화학식 7 내지 9로 표시되는 구성 단위는 하기 화학식 13 내지 15로 표시되는 단량체로부터 유도된다. In addition, the structural units represented by Formulas 7 to 9 are derived from monomers represented by the following Formulas 13 to 15.

Figure 112005055126862-PAT00014
Figure 112005055126862-PAT00014

식 중, R20은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기이고, R21은 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 주요 환을 구성하는 탄소수 3 내지 12인 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 아릴옥시기, 또는 방향족 폴리알킬렌글리콜 잔기이다. Wherein, R 20 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 21 is group an alicyclic hydrocarbon group of 3 to 12 carbon atoms for a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms constituting the main ring, an aromatic hydrocarbon group, an aryl Oxy or aromatic polyalkylene glycol moieties.

상기 화학식 13에 있어서, R21로 표시되는 주요 환을 구성하는 탄소수 3 내지 12인 지환식 탄화수소기는 부가적인 구조, 예를 들면 환내 이중 결합, 탄화수소기의 측쇄, 스피로환의 측쇄, 환내 가교 탄화수소기 등을 포함할 수 있다. In Formula 13, the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms constituting the main ring represented by R 21 has an additional structure, for example, a double bond in a ring, a side chain of a hydrocarbon group, a side chain of a spiro ring, a crosslinked hydrocarbon group in a ring, and the like. It may include.

상기 화학식 13에 있어서, R20으로서 바람직한 것은 수소 또는 메틸기이고, R21로서 바람직한 것은 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 시클로헥실기 또는 디시클로펜타닐기이다. 화학식 13으로 표시되는 단량체로서는 구체적으로 시클로헥실메타크릴레이트 및 디시클로펜타닐메타크릴레이트가 경도, 내열성 등의 수지 경화물층의 물성면에서 바람직하다. In Formula 13, R 20 is preferably hydrogen or a methyl group, and R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclohexyl group, or a dicyclopentanyl group. As the monomer represented by the formula (13), cyclohexyl methacrylate and dicyclopentanyl methacrylate are particularly preferable in terms of physical properties of the cured resin layer such as hardness and heat resistance.

Figure 112005055126862-PAT00015
Figure 112005055126862-PAT00015

식 중, R22는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기이고, R23은 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 알콕시기, 히드록시알킬기, 히드록시기, 실록시알킬기, 또는 방향족 탄화수소기이다.In the formula, R 22 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R 23 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group, a hydroxyalkyl group, a hydroxy group, a siloxyalkyl group, or an aromatic hydrocarbon group.

상기 화학식 14에 있어서, R22로서 바람직한 것은 수소 또는 메틸기이고, R23으로서는 바람직한 것은 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 페닐기이다. 화학식 14로 표시되는 단량체로서는 구체적으로 스티렌이 다른 종의 단량체와의 공중합성, 및 입수성면 등에서 바람직하다. In Chemical Formula 14, R 22 is preferably hydrogen or a methyl group, and R 23 is preferably an alkyl or phenyl group having 1 to 6 carbon atoms. As the monomer represented by the general formula (14), styrene is particularly preferable in terms of copolymerizability with monomers of other species, availability and the like.

Figure 112005055126862-PAT00016
Figure 112005055126862-PAT00016

식 중, R24는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 시클로알킬기, 또는 방향족 탄화수소기이다.In formula, R <24> is a hydrogen atom or a C1-C12 alkyl group, a cycloalkyl group, or an aromatic hydrocarbon group.

상기 화학식 15에 있어서, R24로서 바람직한 것은 시클로헥실기 및 페닐기이다. 화학식 15로 표시되는 단량체로서는 구체적으로 N-시클로헥실말레이미드 및 N-페닐말레이미드가 경도 및 내열성 등의 수지 경화물층의 물성면에서 바람직하다.In the general formula (15), preferred as R 24 are a cyclohexyl group and a phenyl group. As the monomer represented by the formula (15), N-cyclohexyl maleimide and N-phenylmaleimide are particularly preferable in terms of physical properties of the cured resin layer such as hardness and heat resistance.

본 발명의 수지 조성물의 에폭시기 함유 중합체 (A)는 에폭시 당량이 140 내지 600 g/mol이 되는 범위이면, 상기 화학식 4 내지 6으로 표시되는 에폭시기 함유 구성 단위 중 적어도 1종 이상을 에폭시기 함유 중합체 (A) 중, 10 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 20 내지 100 중량% 갖는 것이 바람직하다. 에폭시기 함유 구성 단위가 10 중량% 미만이면 도포 경화 후의 보호막의 강인성이 부족해질 가능성이 있다. When the epoxy group-containing polymer (A) of the resin composition of the present invention has an epoxy equivalent in the range of 140 to 600 g / mol, at least one or more of the epoxy group-containing structural units represented by the above formulas (4) to (6) may be selected from the epoxy group-containing polymer (A ), 10 to 100% by weight, more preferably 20 to 100% by weight. If the epoxy group-containing structural unit is less than 10% by weight, the toughness of the protective film after coating curing may be insufficient.

본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 중합체 (A)의 중량 평균 분자량(Mw)은 5,000 내지 40,000이고, 바람직하게는 5,000 내지 20,000의 범위이다. 중량 평균 분자량(Mw)이 5,000 미만이면 보호막의 경도의 저하가 관측되고, 40,000을 상회하면 도포 경화 후의 평탄성이 저하될 가능성이 있다. 또한, 에폭시기 함유 중합체 (A)의 중량 평균 분자량(Mw)은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이다. The weight average molecular weight (Mw) of the epoxy group containing polymer (A) in the resin composition of this invention is 5,000-40,000, Preferably it is the range of 5,000-20,000. If the weight average molecular weight (Mw) is less than 5,000, the fall of the hardness of a protective film is observed, and when it exceeds 40,000, the flatness after application hardening may fall. In addition, the weight average molecular weight (Mw) of an epoxy group containing polymer (A) is a weight average molecular weight of polystyrene conversion by a gel permeation chromatography (GPC) method.

또한, 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 중합체 (A)의 에폭시 당량은 140 내지 600 g/mol이고, 바람직하게는 180 내지 550 g/mol이다. 에폭시 당량이 140 g/mol 미만이면 도포 경화 후의 보호막이 강인성을 잃는 경향이 있고, 600 g/mol을 상회하면 수지 경화물층의 경도의 저하, 및 ITO 형성 공정 적성의 결여가 발생될 가능성이 있다. 또한, 높은 밀착성이 요구되는 용도의 경우에는 보호막에 강인성이 요구되기 때문에, 260 내지 550 g/mol인 것이 바람직하다. 에폭시기 함유 중합체 (A)의 에폭시 당량이 260 g/mol 이상이면 강인성이 우수하고, 밀 착성 시험에서도 단부 결함이 발생하기 어려울수록 높은 밀착성이 얻어진다. 이때의 에폭시 당량이란 중합체에 대한 에폭시기의 당량을 가리키며, JIS K 7236: 2001 "에폭시 수지의 에폭시 당량을 구하는 방법"에 준하여 측정된다. Moreover, the epoxy equivalent of the epoxy group containing polymer (A) in the resin composition of this invention is 140-600 g / mol, Preferably it is 180-550 g / mol. If the epoxy equivalent is less than 140 g / mol, the protective film after coating hardening tends to lose toughness. If the epoxy equivalent exceeds 600 g / mol, the hardness of the cured resin layer and the lack of ITO forming process may occur. . In addition, since the toughness is required for a protective film in the case of the use which requires high adhesiveness, it is preferable that it is 260-550 g / mol. If the epoxy equivalent of an epoxy-group-containing polymer (A) is 260 g / mol or more, it will be excellent in toughness, and high adhesiveness will be obtained, so that an edge defect is hard to generate | occur | produce also in an adhesive test. Epoxy equivalent at this time refers to the equivalent of an epoxy group with respect to a polymer, and is measured according to JIS K 7236: 2001 "Method for obtaining the epoxy equivalent of epoxy resin".

본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 중합체 (A)는 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw) 및 에폭시 당량이 상기 범위 내에 있기 때문에, 가교 밀도가 높고 내ITO 형성 프로세스성이나 강인성이 우수하다. Since the epoxy group-containing polymer (A) in the resin composition of the present invention has a weight average molecular weight (Mw) and an epoxy equivalent in terms of polystyrene in the above range, the crosslinking density is high and the ITO formation processability and toughness are excellent.

(에폭시기 함유 화합물 (B))(Epoxy group-containing compound (B))

본 발명의 수지 조성물의 에폭시기 함유 화합물 (B)는 1분자 중에 에폭시기를 2개 이상 갖는 것으로, 비스페놀 A의 유도체이다. The epoxy group-containing compound (B) of the resin composition of the present invention has two or more epoxy groups in one molecule and is a derivative of bisphenol A.

또한, 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 화합물 (B)의 분자량은 330 내지 7,000이고, 바람직하게는 330 내지 6,500, 보다 바람직하게는 330 내지 6,000이다. 에폭시기 함유 화합물 (B)의 분자량이 330 미만이면 보호막의 경도가 저하될 가능성이 있고, 7,000을 상회하면 도포 경화 후의 불균일이 발생하는 등 외관이 저하될 가능성이 있다. 또한, 에폭시기 함유 화합물 (B)가 중합체인 경우, 상기 분자량은 중량 평균 분자량이다. Moreover, the molecular weight of the epoxy group containing compound (B) in the resin composition of this invention is 330-7,000, Preferably it is 330-6,500, More preferably, it is 330-6,000. If the molecular weight of an epoxy-group-containing compound (B) is less than 330, the hardness of a protective film may fall, and when it exceeds 7,000, the external appearance may fall, for example, the nonuniformity after application | coating hardening may arise. In addition, when an epoxy group containing compound (B) is a polymer, the said molecular weight is a weight average molecular weight.

또한, 에폭시기 함유 화합물 (B)의 에폭시 당량은 150 내지 3,500 g/mol이고, 바람직하게는 160 내지 3,300 g/mol, 보다 바람직하게는 180 내지 3,000 g/mol이다. 에폭시기 함유 화합물 (B)의 에폭시 당량이 150 g/mol 미만이면 가교 밀도가 높아져 보호막의 강인성, 특히 경도가 저하될 가능성이 있고, 3,500 g/mol을 상회하면 보호막의 가교 밀도가 낮아져 보호막의 경도가 현저히 저하될 가능성이 있 다. The epoxy equivalent of the epoxy group-containing compound (B) is 150 to 3,500 g / mol, preferably 160 to 3,300 g / mol, more preferably 180 to 3,000 g / mol. If the epoxy equivalent of the epoxy group-containing compound (B) is less than 150 g / mol, the crosslinking density may increase, and the toughness of the protective film may be lowered, in particular, the hardness may be lowered. If the epoxy group-containing compound (B) exceeds 3,500 g / mol, the crosslinking density of the protective film is lowered and the hardness of the protective film is lowered. There is a possibility of a significant decrease.

본 발명의 수지 조성물의 에폭시기 함유 화합물 (B)는 상기 조건을 만족시키면, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 2종 이상을 조합하여 사용할 때에는 그 혼합물을 본 발명에의 에폭시기 함유 화합물 (B)로 한다. The epoxy group-containing compound (B) of the resin composition of the present invention can be used alone or in combination of two or more as long as the above conditions are satisfied. When using in combination of 2 or more type, let this mixture be the epoxy group containing compound (B) in this invention.

본 발명에 있어서의 비스페놀 A란 4,4'-이소프로필리덴디페놀을 가리키고, 그의 유도체로서는 1-클로로-2,3-에폭시프로판과의 중축합물인 비스페놀 A형 에폭시 수지, 4,4'-이소프로필리덴디페놀과 포름알데히드의 중축합물의 디글리시딜에테르인 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 에틸렌옥사이드 부가물의 디글리시딜에테르, 비스페놀 A 프로필렌옥시드 부가물의 디글리시딜에테르, 또는 이들 핵 수소 첨가 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 또는 이들 핵 수소 첨가 화합물이 바람직하고, 바람직한 화합물로서는 하기 화학식 16 또는 17로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 또한, 이들 수소 첨가 화합물도 바람직한 예로서 들 수 있다. Bisphenol A in the present invention refers to 4,4'-isopropylidenediphenol, and as the derivative thereof, bisphenol A type epoxy resin, 4,4'- which is a polycondensate with 1-chloro-2,3-epoxypropane. Bisphenol A novolac type epoxy resin which is a diglycidyl ether of the polycondensate of isopropylidene diphenol and formaldehyde, the diglycidyl ether of the bisphenol A ethylene oxide addition product, and the diglycidyl ether of the bisphenol A propylene oxide addition product Or these nuclear hydrogenated compounds. Especially, bisphenol-A epoxy resin and bisphenol-A novolak-type epoxy resin or these nuclear hydrogenated compounds are preferable, and a compound represented by following formula (16) or 17 is mentioned as a preferable compound. Moreover, these hydrogenated compounds are also mentioned as a preferable example.

Figure 112005055126862-PAT00017
Figure 112005055126862-PAT00017

식 중, n2는 0 내지 19의 정수를 나타낸다. In formula, n2 represents the integer of 0-19.

Figure 112005055126862-PAT00018
Figure 112005055126862-PAT00018

식 중, n3은 1 내지 19의 정수를 나타낸다. In formula, n3 represents the integer of 1-19.

이들 에폭시기 함유 화합물 중, 유동성의 관점에서 화학식 16의 n2가 0 내지 10인 에폭시기 함유 화합물, 화학식 17의 n3이 1 내지 12인 에폭시기 함유 화합물을 보다 바람직한 예로서 들 수 있다. 수지 조성물의 상용성면에서 가장 바람직한 것은 화학식 16으로 표시되는 화합물이다. Among these epoxy group-containing compounds, more preferable examples include epoxy group-containing compounds having n 2 of Formula 16 from 0 to 10 and epoxy groups containing compounds having n 3 of Formula 17 from 1 to 12 from the viewpoint of fluidity. Most preferable in terms of compatibility of the resin composition is a compound represented by the formula (16).

본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 화합물 (B)는 비스페놀 A의 유도체인 것이 선택되고, 또한 분자량 및 에폭시 당량이 상기 범위 내에 있기 때문에, 경도가 높고 투명성이 우수한 보호막을 얻을 수 있다. Since the epoxy group containing compound (B) in the resin composition of this invention is a derivative of bisphenol A, and since molecular weight and an epoxy equivalent are in the said range, the protective film which is high in hardness and excellent in transparency can be obtained.

또한, 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 에폭시기 함유 화합물 (B)는 1분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 비스페놀 A의 유도체이지만, 필수 성분인 (A) 내지 (C)에 포함되지 않는 추가 성분으로서 1분자 중에 에폭시기를 1개 이상 갖는 비스페놀 A 유도체 이외의 에폭시기 함유 화합물을 첨가하더라도 상관없다. 이때, (B)에 포함되지 않는 에폭시기 함유 화합물의 양은, 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 후술하는 (C) 성분의 총중량에 대해 100 중량% 미만으로 억제하는 것이 바람직하 다. (B)에 포함되지 않는 에폭시기 함유 화합물의 양이 100 중량% 이상이면 도포 경화 후의 보호막의 경도나 도포성이 저하되어 본 발명의 효과를 얻기가 어려워진다. In addition, although the epoxy group containing compound (B) in the resin composition of this invention is a derivative of bisphenol A which has 2 or more epoxy groups in 1 molecule, it is 1 as an additional component which is not contained in (A)-(C) which is an essential component. You may add epoxy group containing compounds other than the bisphenol A derivative which has one or more epoxy groups in a molecule | numerator. At this time, it is preferable to suppress the quantity of the epoxy group containing compound which is not contained in (B) to less than 100 weight% with respect to the total weight of the said (A) component, the said (B) component, and the (C) component mentioned later. If the amount of the epoxy group-containing compound not included in (B) is 100% by weight or more, the hardness and the applicability of the protective film after coating hardening will be reduced, and it will be difficult to obtain the effect of the present invention.

(다가 카르복실산 유도체 (C))(Polyhydric carboxylic acid derivative (C))

본 발명의 수지 조성물의 다가 카르복실산 유도체 (C)는 하기 화학식 1의 구조를 갖는 카르복실산 (c1)의 카르복실기가 하기 화학식 18로 표시되는 비닐에테르 화합물 (c2)(비닐기 및 에테르기 함유 화합물)에 의해 잠재화(이후, 블록화라고도 함)된 화합물이다. Polyhydric carboxylic acid derivative (C) of the resin composition of this invention contains the vinyl ether compound (c2) (vinyl group and ether group) in which the carboxyl group of the carboxylic acid (c1) which has a structure of following formula (1) is represented by following formula (18) Compound), which is latent (hereinafter also referred to as blocking).

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112005055126862-PAT00019
Figure 112005055126862-PAT00019

식 중, 6원환은 방향족 또는 지환식의 탄화수소이다. m1은 0 내지 2의 정수이고, t1은 0 내지 1의 정수이며, n은 1 내지 4의 정수이다. 또한, n이 1인 경우 R1은 수소 원자 또는 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이고, n이 2 내지 4인 경우 R1은 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In the formula, the six-membered ring is an aromatic or alicyclic hydrocarbon. m1 is an integer of 0-2, t1 is an integer of 0-1, n is an integer of 1-4. In addition, when n is 1, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms, and when n is 2 to 4, R 1 is a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

Figure 112005055126862-PAT00020
Figure 112005055126862-PAT00020

식 중, R25는 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기이다.In formula, R <25> is a C1-C10 hydrocarbon group.

카르복실기는 비닐기와 하기 화학식 19와 같은 반응을 함으로써 잠재화된다. 이 반응은 비교적 용이하기 때문에, 다가 카르복실산 유도체 (C)는 우수한 수율로 얻어진다. 따라서, 다가 카르복실산 유도체 (C)는 카르복실산이 잠재화된 하기 화학식 20의 구조를 갖고 있다. The carboxyl group is latent by reacting a vinyl group with the same formula (19). Since this reaction is relatively easy, the polyhydric carboxylic acid derivative (C) is obtained in excellent yield. Therefore, the polyhydric carboxylic acid derivative (C) has a structure of the following general formula (20) in which carboxylic acid is latent.

Figure 112005055126862-PAT00021
Figure 112005055126862-PAT00021

Figure 112005055126862-PAT00022
Figure 112005055126862-PAT00022

식 중, R25는 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기이다.In formula, R <25> is a C1-C10 hydrocarbon group.

화학식 1로 표시되는 카르복실산 (c1) 중, R1이 수소 원자 이외의 화합물로서는 알코올 화합물과 산 무수물과의 반응에 의해 얻어지는 하프 에스테르체를 들 수 있다. In carboxylic acid (c1) represented by General formula (1), as a compound other than a hydrogen atom, R1 can mention the half ester body obtained by reaction of an alcohol compound and an acid anhydride.

이 반응시에 사용되는 알코올 화합물로서는 에탄올, 프로판올, 헥산올, 옥탄올, 이소프로필 알코올 등의 1가 알코올 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 헥산디올, 네오펜틸글리콜, 시클로헥산디올 등의 2가 알코올 화합물; 글리세린, 펜탄트리올, 헥산트리올, 시클로헥산트리올, 벤젠트리올, 트리메틸올프로판 등의 3가 알코올 화합물; 펜타에리트리톨 등의 4가 알코올 화합물을 바람직한 예로서 들 수 있고, 보다 바람직하게는 헥산올, 이소프로필알코올, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 1,6-헥산디올, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨을 들 수 있다. Alcohol compounds used in this reaction include monohydric alcohol compounds such as ethanol, propanol, hexanol, octanol and isopropyl alcohol; Dihydric alcohol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, neopentyl glycol and cyclohexanediol; Trihydric alcohol compounds such as glycerin, pentane triol, hexane triol, cyclohexane triol, benzene triol and trimethylol propane; A tetrahydric alcohol compound, such as pentaerythritol, is mentioned as a preferable example, More preferably, hexanol, isopropyl alcohol, 1, 2- propylene glycol, 1, 3- propylene glycol, 1, 6- hexanediol, glycerin And trimethylolpropane and pentaerythritol.

또한, 이 반응시에 사용되는 산 무수물로서는 하기 화학식 21로 표시되는 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 프탈산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물, 1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물(이하, 트리멜리트산 무수물이라고 함), 1,3,4-시클로헥산트리카르복실산-3,4-무수물, 메틸헥사히드로프탈산 무수물을 바람직한 예로서 들 수 있다. 또한, 이상의 하프 에스테르체 중에서는 가교 밀도가 높고 밀착성이 높은 보호막이 얻어진다는 점에서, 탄소수 3 내지 6의 2가 이상의 다가 알코올과 트리멜리트산 무수물 또는 메틸헥사히드로프탈산 무수물과의 조합에 의헤 얻어지는 것을 화학식 1로 표시되는 카르복실산 (c1)로서 바람직하게 들 수 있고, 그 중에서도 투명성과 보존 안정성면에서 메틸헥사히드로프탈산 무수물을 선택하는 것을 바람직하게 들 수 있다.  Moreover, as an acid anhydride used at the time of this reaction, the compound represented by following formula (21) is mentioned, Specifically, a phthalic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 1,3,4-tricarboxyl Acid-3,4- anhydride (henceforth a trimellitic anhydride), a 1,3,4-cyclohexane tricarboxylic acid-3,4- anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride are mentioned as a preferable example. In addition, in the above half ester body, since the protective film which has high crosslinking density and high adhesiveness is obtained, what is obtained by the combination of C3-C6 divalent or more polyhydric alcohol, trimellitic anhydride, or methylhexahydrophthalic anhydride is obtained. Preferred examples of the carboxylic acid (c1) represented by the general formula (1) include those in which methylhexahydrophthalic anhydride is selected from the viewpoints of transparency and storage stability.

Figure 112005055126862-PAT00023
Figure 112005055126862-PAT00023

식 중, 6원환은 방향족 또는 지환식의 탄화수소이고, m1은 0 내지 2의 정수이며, t1은 O 내지 1의 정수이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In the formula, the 6-membered ring is an aromatic or alicyclic hydrocarbon, m1 is an integer of 0 to 2, and t1 is an integer of 0 to 1. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

화학식 1로 표시되는 카르복실산 (c1) 중, R1이 수소 원자인 화합물은 화학식 2 또는 화학식 3을 들 수 있고, 이들 카르복실산을 블록화한 다가 카르복실산 유도체 (C)는 용해력이 높기 때문에, 상용성이 낮은 (A) 또는 (B)와의 조합에 있어 서는 바람직하게 사용된다. Among the carboxylic acids (c1) represented by the general formula (1), a compound in which R 1 is a hydrogen atom includes the general formula (2) or the general formula (3), and the polyvalent carboxylic acid derivatives (C) that block these carboxylic acids have high solubility. And in combination with (A) or (B) having low compatibility.

<화학식 2><Formula 2>

Figure 112005055126862-PAT00024
Figure 112005055126862-PAT00024

식 중, m2는 0 내지 2의 정수이다.In formula, m2 is an integer of 0-2.

<화학식 3><Formula 3>

Figure 112005055126862-PAT00025
Figure 112005055126862-PAT00025

식 중, m3은 0 내지 2의 정수이고, t3은 0 내지 1의 정수이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In formula, m3 is an integer of 0-2, t3 is an integer of 0-1. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 화합물로서는 프탈산 등의 방향족 디카르복실산; 시클로헥산디카르복실산 등의 지환식 디카르복실산; 1,2,4-벤젠트리카르복실산(이하, 트리멜리트산) 등의 방향족 트리카르복실산; 1,2,4-시클로헥산트리카르복실산(이하, CHTA) 등의 지환식 트리카르복실산; 1,2,4,5-벤젠테트라카르복실산(피로멜리트산) 등의 방향족 테트라카르복실산; 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 등의 지환식 테트라카르복실산을 들 수 있다. 또한, 이들에는 치환기로서 R2를 갖고 있을 수도 있다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 탄소수 1 내지 3의 직쇄의 알킬기이다. 또한, 이상의 카르복실산 중에서는 가교 밀도가 높고 밀착성이 높은 보호막이 얻어진다는 점에서, 피로멜리트산, 트리멜리트산 또는 CHTA를 화학식 1로 표시되는 카르복실산 (c1)로서 바람직하게 들 수 있고, 그 중에서도 투명성과 보존 안정성면에서 CHTA를 선택하는 것을 바람직하게 들 수 있다. As a compound represented by Formula (2) or Formula (3), Aromatic dicarboxylic acid, such as a phthalic acid; Alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid; Aromatic tricarboxylic acids such as 1,2,4-benzenetricarboxylic acid (hereinafter, trimellitic acid); Alicyclic tricarboxylic acids such as 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid (hereinafter CHTA); Aromatic tetracarboxylic acids such as 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic acid (pyromellitic acid); Alicyclic tetracarboxylic acids, such as 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic acid, are mentioned. In addition, they may have R <2> as a substituent. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, etc. Although it is possible, Preferably it is a C1-C3 linear alkyl group. Among the above carboxylic acids, pyromellitic acid, trimellitic acid or CHTA can be preferably used as the carboxylic acid (c1) represented by the formula (1), in that a protective film having a high crosslinking density and high adhesion is obtained. Among them, it is preferable to select CHTA in terms of transparency and storage stability.

본 발명의 수지 조성물에 있어서 화학식 1로 표시되는 카르복실산 (c1)로서 사용할 수 있는 카르복실산은 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The carboxylic acid which can be used as carboxylic acid (c1) represented by General formula (1) in the resin composition of this invention can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

한편, 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 다가 카르복실산 유도체 (C)의 원료인, 화학식 18로 표시되는 비닐에테르 화합물 (c2)로서는, 예를 들면 이소프로필비닐에테르, n-프로필비닐에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, t-부틸 비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르 등의 알킬비닐에테르류를 들 수 있다. 본 발명의 수지 조성물에 바람직하게 사용할 수 있는 비닐에테르 화합물 (c2)로서는 n-프로필비닐에테르 및 이소부틸비닐에테르를 들 수 있고, 1종단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. On the other hand, as a vinyl ether compound (c2) represented by General formula (18) which is a raw material of the polyhydric carboxylic acid derivative (C) in the resin composition of this invention, for example, isopropyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, n Alkyl vinyl ether, such as -butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, and cyclohexyl vinyl ether, is mentioned. As a vinyl ether compound (c2) which can be preferably used for the resin composition of this invention, n-propyl vinyl ether and isobutyl vinyl ether can be mentioned, It can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

본 발명에서 사용되는 다가 카르복실산 유도체 (C)는 상기 카르복실산 (c1) 과, 상기 비닐에테르 화합물 (c2)를 실온 내지 150 ℃ 범위의 온도에서 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 블록화 반응은 평형 반응이기 때문에, 카르복실산 (c1)에 대해 비닐에테르 화합물 (c2)를 약간 많이 사용하면 반응이 촉진되어 수율을 향상시킬 수 있다. 구체적으로는, 카르복실산 (c1)의 카르복실기에 대한 비닐에테르 화합물 (c2)의 비닐기의 몰당량비[(비닐기/카르복실기)의 몰당량비]는 1/1 내지 2/1인 것이 바람직하다. 이 몰당량비가 2/1을 초과하는 경우, 반응 온도를 높일 수가 없고, 반응 속도가 현저히 낮은 경우가 있다. The polyhydric carboxylic acid derivative (C) used in the present invention can be obtained by reacting the carboxylic acid (c1) with the vinyl ether compound (c2) at a temperature ranging from room temperature to 150 ° C. Since the blocking reaction is an equilibrium reaction, when the vinyl ether compound (c2) is slightly used with respect to the carboxylic acid (c1), the reaction can be promoted and the yield can be improved. Specifically, the molar equivalent ratio [molar equivalent ratio of (vinyl group / carboxyl group)] of vinyl group of vinyl ether compound (c2) to carboxyl group of carboxylic acid (c1) is preferably 1/1 to 2/1. When this molar equivalent ratio exceeds 2/1, reaction temperature cannot be raised and reaction rate may be remarkably low.

블록화 반응을 행할 때, 반응을 촉진시킬 목적으로 산 촉매를 사용할 수도 있다. 그와 같은 촉매로서는, 예를 들면 하기 화학식 22로 표시되는 산성 인산에스테르 화합물을 들 수 있다. When performing the blocking reaction, an acid catalyst may be used for the purpose of promoting the reaction. As such a catalyst, the acidic phosphate ester compound represented by following formula (22) is mentioned, for example.

Figure 112005055126862-PAT00026
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식 중, R26은 탄소수 3 내지 10의 알킬기, 시클로알킬기 또는 아릴기이고, k 는 1 또는 2이다.In formula, R <26> is a C3-C10 alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and k is 1 or 2.

또한, 블록화 반응을 행할 때, 반응계를 균일하게 하고 반응을 용이하게 할 목적으로 유기 용매를 사용할 수도 있다. 이때에 사용하는 유기 용매로서는, 예를 들면 방향족 탄화수소, 에테르류, 에스테르 및 에테르에스테르류, 케톤류, 인산에스테르류, 니트릴류, 비양성자성 극성 용매, 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류 등을 들 수 있다. 보다 바람직하게는 시클로헥사논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 들 수 있다. 상기 유기 용매로서는 알코올 또는 이온성 용매를 제외한 유기 용매인 것이 바람직하다. 알코올 또는 이온성 용매에 대해서는 탈블록 반응을 진행시키는 경우가 있다는 것이 알려져 있는데, 이들이 수지 조성물의 보존 안정성을 현저히 저하시켜 본 발명의 효과를 얻기가 어려워지는 경우가 있기 때문이다. In addition, when performing a blocking reaction, an organic solvent can also be used for the purpose of making a reaction system uniform and making reaction easy. Examples of the organic solvent used at this time include aromatic hydrocarbons, ethers, esters and ether esters, ketones, phosphate esters, nitriles, aprotic polar solvents, propylene glycol alkyl ether acetates, and the like. More preferably, cyclohexanone and a propylene glycol monomethyl ether acetate are mentioned. It is preferable that it is an organic solvent except an alcohol or an ionic solvent as said organic solvent. It is known that deblocking reaction may be advanced with respect to an alcohol or an ionic solvent, since these may significantly reduce the storage stability of a resin composition, and it may become difficult to obtain the effect of this invention.

상기 유기 용매는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 유기 용매의 사용량은 특별히 한정되지 않지만, 반응 원료 100 중량부에 대해 통상 5 내지 95 중량부, 바람직하게는 20 내지 80 중량부이다. 이와 같이 유기 용매가 첨가되어 있는 경우에도 다가 카르복실산 유도체 (C)의 함유량은 유기 용매를 제외한 유효 성분(다가 카르복실산 유도체 (C) 그 자체)의 양이라고 생각한다.The said organic solvent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Although the usage-amount of the said organic solvent is not specifically limited, Usually, 5-95 weight part with respect to 100 weight part of reaction raw materials, Preferably it is 20-80 weight part. Thus, even when the organic solvent is added, the content of the polyvalent carboxylic acid derivative (C) is considered to be the amount of the active ingredient (polyvalent carboxylic acid derivative (C) itself) excluding the organic solvent.

(상기 (A), (B), (C) 성분의 배합 비율) (Combination ratio of the above (A), (B), (C) component)

본 발명의 수지 조성물은 도포 공정의 종류에 따라 최적인 점도가 다르기 때문에, 용매에 의해 임의로 희석할 수 있는 것으로 한다. 또한, 본 발명의 수지 조성물은 후술한 바와 같은 충전제나 첨가제를 임의의 양으로 첨가할 수 있는 것으로 한다. 이상으로부터, 본 발명의 수지 조성물에서는 상기 (A) 내지 (C) 성분의 최종 수지 조성물 중의 함유율이 변화하게 되기 때문에, 필수 성분인 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 기준으로 하여 배합 비율을 정의한다. 또한, 본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량은 수지 조성물의 고형분 중에 30 내지 100 중량% 포함되는 것이 바람직하다. 여기서, 배합 비율을 특정하기 위한 수지 조성물의 고형분이란, 용매를 제외한 모든 성분을 포함하며, 액상의 에폭시기 함유 화합물 등도 고형분에 포함된다. Since the optimum viscosity differs according to the kind of application | coating process, the resin composition of this invention shall be able to dilute arbitrarily with a solvent. In addition, the resin composition of this invention shall add the filler and additive which are mentioned later in arbitrary amounts. As mentioned above, in the resin composition of this invention, since the content rate in the final resin composition of the said (A)-(C) component changes, the said (A) component which is an essential component, the said (B) component, and the said (C) component Formulation ratios are defined based on the total weight of. Moreover, in the resin composition of this invention, it is preferable that 30-100 weight% of total weights of the said (A) component, the said (B) component, and the said (C) component are contained in solid content of a resin composition. Here, solid content of the resin composition for specifying a compounding ratio includes all components except a solvent, and liquid epoxy group containing compound etc. are contained in solid content.

본 발명의 수지 조성물은 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량에 대해, 상기 (A) 성분을 20 내지 65 중량%, 상기 (B) 성분을 5 내지 30 중량%, 상기 (C) 성분을 15 내지 65 중량% 함유하는 것이 바람직하다. The resin composition of the present invention is 20 to 65% by weight of the component (A) and 5 to 30% by weight of the component (B) to the total weight of the component (A), the component (B) and the component (C). It is preferable to contain 15 to 65 weight% of said (C) component.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 조성물 중의 에폭시기 함유 중합체 (A)의 배합 비율은 20 내지 65 중량%가 바람직하지만, 보다 바람직한 배합 비율은 다가 카르복실산 유도체 (C)에 따라 다르다. 하기 화학식 23에 나타낸 바와 같이, 상기 화학식 1의 6원환이 방향족 탄화수소인 경우에는, 조성물 중의 에폭시기 함유 중합체 (A)의 배합 비율은 40 내지 65 중량%가 보다 바람직하고, 40 내지 60 중량%가 더욱 바람직하다. 에폭시기 함유 중합체 (A)의 배합 비율이 40 중량% 미만인 경우에는 보호막의 밀착성 등의 성능이 저하되는 경우가 있고, 65 중량%를 상회하면 보호막의 강인성을 손상시키는 경우가 있기 때문에 본 발명의 효과를 얻는 것이 어렵다. In the resin composition of the present invention, the blending ratio of the epoxy group-containing polymer (A) in the composition is preferably 20 to 65% by weight, but more preferably the blending ratio depends on the polyvalent carboxylic acid derivative (C). As shown in the following formula (23), when the 6-membered ring of the formula (1) is an aromatic hydrocarbon, the blending ratio of the epoxy group-containing polymer (A) in the composition is more preferably 40 to 65% by weight, further 40 to 60% by weight desirable. When the compounding ratio of the epoxy group-containing polymer (A) is less than 40% by weight, the performance such as adhesion of the protective film may be deteriorated, and when it exceeds 65% by weight, the toughness of the protective film may be impaired. It's hard to get

Figure 112005055126862-PAT00027
Figure 112005055126862-PAT00027

식 중, m1은 0 내지 2의 정수이고, t1은 0 내지 1의 정수이며, n은 1 내지 4의 정수이다. 또한, n이 1인 경우에는 R1은 수소 원자 또는 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이고, n이 2 내지 4의 경우에는 R1은 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In formula, m1 is an integer of 0-2, t1 is an integer of 0-1, n is an integer of 1-4. In addition, when n is 1, R <1> is a hydrogen atom or a C2-C8 hydrocarbon group, and when n is 2-4, R <1> is a C2-C8 hydrocarbon group. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

한편, 하기 화학식 24에 나타낸 바와 같이, 상기 화학식 1의 6원환이 지환식 탄화수소인 경우에는 조성물 중의 에폭시기 함유 중합체 (A)의 배합 비율은 30 내지 65 중량%가 보다 바람직하고, 35 내지 55 중량%가 더욱 바람직하다. 에폭시기를 갖는 공중합체 (A)의 배합 비율이 30 중량% 미만인 경우에는 보호막의 밀착성 등의 성능이 저하되는 경우가 있고, 65 중량%를 상회하면 내ITO 형성 프로세스성을 손상시키는 경우가 있기 때문에 본 발명의 효과를 얻기가 어렵다. On the other hand, as shown in the following formula (24), when the 6-membered ring of the formula (1) is an alicyclic hydrocarbon, the blending ratio of the epoxy group-containing polymer (A) in the composition is more preferably 30 to 65% by weight, 35 to 55% by weight More preferred. When the blending ratio of the copolymer (A) having an epoxy group is less than 30% by weight, the performance such as adhesion of the protective film may be deteriorated, and when it exceeds 65% by weight, the processability of ITO formation may be impaired. It is difficult to obtain the effects of the invention.

Figure 112005055126862-PAT00028
Figure 112005055126862-PAT00028

식 중, m1은 0 내지 2의 정수이고, t1은 0 내지 1의 정수이며, n은 1 내지 4의 정수이다. 또한, n이 1인 경우에는 R1은 수소 원자 또는 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이고, n이 2 내지 4인 경우에는 R1은 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이다. R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다.In formula, m1 is an integer of 0-2, t1 is an integer of 0-1, n is an integer of 1-4. In addition, when n is 1, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms, and when n is 2 to 4, R 1 is a hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 에폭시기 함유 화합물 (B)의 배합 비율은 5 내지 30 중량%가 바람직하지만, 보다 바람직한 배합 비율은 다가 카르복실산 유도체 (C)에 따라 다르다. 상기 화학식 23에 나타낸 바와 같이, 상기 화학식 1의 6원환이 방향족 탄화수소인 경우에는 조성물 중의 에폭시기 함유 화합물 (B)의 배합 비율은 5 내지 30 중량%가 보다 바람직하고, 10 내지 25 중량%가 더욱 바람직하다. 에폭시기 함유 화합물 (B)의 배합 비율이 5 중량% 미만인 경우에는 보호막의 밀착성 등의 성능이 저하되는 경우가 있고, 30 중량%를 상회하면 보호막의 강인성을 손상시키는 경우가 있기 때문에, 본 발명의 효과를 얻기가 어렵다. In the resin composition of this invention, 5-30 weight% is preferable for the compounding ratio of an epoxy group containing compound (B), but a more preferable compounding ratio changes with polyhydric carboxylic acid derivative (C). As shown in the formula (23), when the six-membered ring of the formula (1) is an aromatic hydrocarbon, the compounding ratio of the epoxy group-containing compound (B) in the composition is more preferably 5 to 30% by weight, still more preferably 10 to 25% by weight. Do. When the compounding ratio of an epoxy group containing compound (B) is less than 5 weight%, performance, such as adhesiveness of a protective film, may fall, and when it exceeds 30 weight%, the toughness of a protective film may be impaired. Therefore, the effect of this invention Is difficult to obtain.

한편, 상기 화학식 24에 나타낸 바와 같이, 상기 화학식 1의 6원환이 지환식 탄화수소인 경우에는 조성물 중의 에폭시기 함유 화합물 (B)의 배합 비율은 5 내지 25 중량%가 보다 바람직하고, 5 내지 20 중량%가 더욱 바람직하다. 에폭시기 함유 화합물 (B)의 배합 비율이 5 중량% 미만인 경우에는 내ITO 형성 프로세스성이 저하되는 경우가 있고, 25 중량%를 상회하면 내열 착색성을 손상시키는 경우가 있기 때문에, 본 발명의 효과를 얻기가 어렵다. On the other hand, as shown in Formula 24, when the 6-membered ring of Formula 1 is an alicyclic hydrocarbon, the blending ratio of the epoxy group-containing compound (B) in the composition is more preferably 5 to 25% by weight, and 5 to 20% by weight More preferred. When the blending ratio of the epoxy group-containing compound (B) is less than 5% by weight, the processability of ITO formation may decrease, and when it exceeds 25% by weight, the heat-coloring property may be impaired. Thus, the effect of the present invention is obtained. Is difficult.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 다가 카르복실산 유도체 (C)의 배합 비율은 15 내지 65 중량%가 바람직하지만, 보다 바람직한 배합 비율은 다가 카르복실산 유도체 (C)의 구조에 따라 다르다. 상기 화학식 23에 나타낸 바와 같이, 상기 화학식 1의 6원환이 방향족 탄화수소인 경우에는 조성물 중의 다가 카르복실산 유도체 (C)의 배합 비율은 20 내지 50 중량%가 보다 바람직하고, 25 내지 50 중량%가 더욱 바람직하다. 다가 카르복실산 유도체 (C)의 배합 비율이 20 중량% 미만인 경우에는 보호막의 경도가 저하되는 경우가 있고, 50 중량%를 상회하면 보호막에 점착이 발생하는 경우가 있기 때문에, 본 발명의 효과를 얻기가 어렵다. In the resin composition of the present invention, the blending ratio of the polyvalent carboxylic acid derivative (C) is preferably 15 to 65% by weight, but more preferably the blending ratio depends on the structure of the polyvalent carboxylic acid derivative (C). As shown in the formula (23), when the six-membered ring of the formula (1) is an aromatic hydrocarbon, the blending ratio of the polyvalent carboxylic acid derivative (C) in the composition is more preferably 20 to 50% by weight, and 25 to 50% by weight More preferred. When the blending ratio of the polyhydric carboxylic acid derivative (C) is less than 20% by weight, the hardness of the protective film may be lowered, and when it exceeds 50% by weight, adhesion may occur to the protective film. Difficult to obtain

한편, 상기 화학식 24에 나타낸 바와 같이, 상기 화학식 1의 6원환이 지환식 탄화수소인 경우에는 조성물 중의 다가 카르복실산 유도체 (C)의 배합 비율은 15 내지 60 중량%가 보다 바람직하다. 다가 카르복실산 유도체 (C)의 배합 비율이 15 중량% 미만인 경우에는 내ITO 형성 프로세스성이 저하되는 경우가 있고, 60 중량%를 상회하면 보호막에 점착이 발생되는 경우가 있기 때문에, 본 발명의 효과를 얻기가 어렵다. On the other hand, as shown in the said Formula (24), when the 6-membered ring of the said Formula (1) is an alicyclic hydrocarbon, the compounding ratio of the polyhydric carboxylic acid derivative (C) in a composition is more preferable 15 to 60 weight%. In the case where the blending ratio of the polyvalent carboxylic acid derivative (C) is less than 15% by weight, the process resistance of ITO formation may decrease, and if it exceeds 60% by weight, adhesion may occur to the protective film. Hard to get effect

상기 에폭시기 함유 중합체 (A)와 에폭시기 함유 화합물 (B)의 합계 배합량과 다가 카르복실산 유도체 (C)의 배합량의 비는 이하의 범위인 것이 바람직하다. 다가 카르복실산 유도체 (C)의 비닐에테르 화합물의 이탈(탈잠재화, 탈블록) 후에 생성되는 카르복실기의 몰 농도와, 에폭시기 함유 중합체 (A)와 에폭시기 함유 화합물 (B)의 에폭시기의 몰 농도와의 비(카르복실기/에폭시기)가 0.2/1.0 내지 1.6/1.0이 되는 배합량으로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 몰 농도비는 0.4/1.0 내지 1.2/1.0이다. 카르복실기와 에폭시기와의 몰 농도비가 0.2/1.0 미만이면, 경화 후에 에폭시기가 다량으로 잔류하기 때문에 가교 밀도가 낮아지고, 본 발명의 효과가 얻어지지 않게 될 가능성이 있다. 또한, 카르복실기와 에폭시기와의 몰 농도비가 1.6/1.0을 상회하면, 카르복실기가 과량이 되어 대부분의 경우 수지 물성이 저하된다. 또한, 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 필수 성분인 (A) 내지 (C)에 포함되지 않는 추가 성분으로서 카르복실기, 및 에폭시기를 포함하는 카르복실기와 반응할 수 있는 관능기를 포함하는 화합물을 첨가할 때에는, 조성물 중의 카르복실기의 몰 농도와, 에폭시기를 포함하는 카르복실기와 반응할 수 있는 관능기의 몰 농도와의 비가 상기 범위가 되도록 배합하는 것이 바람직하다. It is preferable that the ratio of the total compounding quantity of the said epoxy group containing polymer (A) and an epoxy group containing compound (B) and the compounding quantity of a polyhydric carboxylic acid derivative (C) is the following range. The molar concentration of the carboxyl group produced after the separation (de-sublating, deblocking) of the vinyl ether compound of the polyvalent carboxylic acid derivative (C), and the molar concentration of the epoxy group of the epoxy group-containing polymer (A) and the epoxy group-containing compound (B) It is preferable to set it as the compounding quantity of ratio (carboxyl group / epoxy group) becoming 0.2 / 1.0-1.6 / 1.0, and more preferable molar concentration ratio is 0.4 / 1.0-1.2 / 1.0. If the molar concentration ratio between the carboxyl group and the epoxy group is less than 0.2 / 1.0, since the epoxy group remains in a large amount after curing, the crosslinking density may be low, and the effect of the present invention may not be obtained. Moreover, when the molar concentration ratio of a carboxyl group and an epoxy group exceeds 1.6 / 1.0, a carboxyl group will become excess and resin property will fall in most cases. Moreover, when adding the compound containing the carboxyl group and the functional group which can react with the carboxyl group containing an epoxy group as an additional component which is not contained in (A)-(C) which is an essential component in the resin composition of this invention, It is preferable to mix | blend so that ratio of the molar concentration of the carboxyl group in a composition, and the molar concentration of the functional group which can react with the carboxyl group containing an epoxy group will be in the said range.

또한, 여기서 카르복실기의 몰 농도는 간단하게는 화합물 구조식(분자량)과 배합 농도로부터 산출되고, 보다 정확하게는 JIS K 0070:1992 "화학 제품의 산가, 비누화가, 에스테르가, 요오드가, 수산기가 및 비비누화물의 시험 방법"에 준하여 측정된 산당량으로부터 산출된다. In addition, the molar concentration of a carboxyl group here is simply computed from a compound structural formula (molecular weight) and a compounding concentration, and more accurately JIS K 0070: 1992 "The acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value, and ratio of a chemical product. It is calculated from the acid equivalent measured according to "Test Method of Saponified".

이어서, 본 발명의 수지 조성물에 바람직하게 첨가되는 첨가제에 대해 설명한다. Next, the additive preferably added to the resin composition of the present invention will be described.

(밀착성 향상제 (D))(Adhesive Enhancer (D))

본 발명의 수지 조성물에 있어서는, 밀착성 향상제 (D)로서 티탄 비누, 및(또는) 지르코늄 비누를 함유하는 것이, 밀착성을 더욱 향상시킨다는 점에서 바람직하다. 본 발명의 수지 조성물에서의 티탄 비누 또는 지르코늄 비누란, 티탄 또는 지르코늄을 중심 금속으로 한 카르복실산염이고, 구조가 한정되는 것은 아니지만 대표적으로는 하기 화학식 25로 표시되는 화합물의 혼합물이다. In the resin composition of this invention, containing titanium soap and / or zirconium soap as an adhesive improving agent (D) is preferable at the point which improves adhesiveness further. Titanium soap or zirconium soap in the resin composition of this invention is a carboxylate salt which made titanium or zirconium the center metal, and is a mixture of the compound represented by following formula (25) although a structure is not limited.

Figure 112005055126862-PAT00029
Figure 112005055126862-PAT00029

식 중, M은 티탄 원자 또는 지르코늄 원자, R27, R28, R29 및 R30은 각각 동일하거나 또는 상이한 탄소수 1 내지 29의 탄화수소기 또는 카르복실기를 갖는 유기기이고, 서로 결합하여 환을 형성할 수도 있으며, z1은 1 이상의 정수, z2는 0 이상의 정수, z3은 0 또는 1, z4 및 z5는 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수, z6 및 z7은 각각 독립적으로 0 또는 1이다.Wherein M is a titanium atom or a zirconium atom, R 27 , R 28 , R 29 and R 30 are each an organic group having the same or different hydrocarbon groups or carboxyl groups having 1 to 29 carbon atoms, and are bonded to each other to form a ring. Z1 may be an integer of 1 or more, z2 is an integer of 0 or more, z3 is 0 or 1, z4 and z5 are each independently an integer of 0 to 2, z6 and z7 are each independently 0 or 1.

티탄 비누 또는 지르코늄 비누는 아세틸아세톤 등을 배위자로 하는 티탄 커플링제에 비해, 카르복실기와 에폭시기의 반응 및 탈블록 반응을 촉진하지 않는 것이 본 발명자들의 연구에 의해 밝혀졌다. 이는 티탄 원자 또는 지르코늄 원자와 카르복실기가 견고한 결합을 형성하고 있기 때문이라고 생각된다. 따라서, 수지 조성물 보관시의 가교 형성에 의한 증점이 거의 없다. 또한, 통상적으로 티탄 비 누 또는 지르코늄 비누와 카르복실산을 혼합하면, 금속 비누와 카르복실산과의 사이에서 배위자 교환 반응이 발생하지만, 카르복실기가 잠재화되어 있는 다가 카르복실산 유도체와는 배위자의 교환 반응이 관측되지 않는다는 것도 판명되었다. 따라서, 겔화 및 불용화 금속 비누의 침전이 발생하지 않는다. 따라서, 티탄 비누 또는 지르코늄 비누는 본 발명의 수지 조성물에 첨가되더라도 수지 조성물의 보존 안정성을 저하시키지 않고 높은 보존 안정성을 유지할 뿐만 아니라, 밀착성을 현저하게 향상시킬 수 있는 바람직한 첨가제이다. It has been found by the present inventors that titanium soap or zirconium soap does not promote the reaction of the carboxyl group with the epoxy group and the deblocking reaction as compared with the titanium coupling agent having acetylacetone as a ligand. It is considered that this is because the titanium atom or the zirconium atom and the carboxyl group form a strong bond. Therefore, there is almost no thickening by crosslink formation at the time of resin composition storage. In general, when titanium soap or zirconium soap and carboxylic acid are mixed, ligand exchange reaction occurs between metal soap and carboxylic acid, but ligand exchange with polyhydric carboxylic acid derivative in which carboxyl group is latent It was also found that no reaction was observed. Thus, precipitation of gelling and insoluble metal soap does not occur. Therefore, titanium soap or zirconium soap is a preferred additive that can be added to the resin composition of the present invention not only to maintain high storage stability without lowering the storage stability of the resin composition but also to significantly improve the adhesion.

본 발명의 수지 조성물에 있어서 밀착성 향상제 (D)로서 사용되는 티탄 비누 또는 지르코늄 비누의 합성 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 카르복실산 화합물과 티탄 또는 지르코늄 금속과의 반응, 카르복실산 화합물과 티탄 또는 지르코늄의 산화물이나 수산화물과의 반응, 카르복실산 화합물의 알칼리 금속염과 수용성 티탄 또는 지르코늄염과의 반응 등을 이용한, 복분해법, 용융 직접법, 반용융 직접법, 습식 직접법, 고상직접법, 용매 직접법 등을 예로서 들 수 있다. 이상의 합성법 중에서도, 반응 속도나 생성물 분리가 용이하다는 관점에서 복분해법 및 반용융 직접법을 바람직한 예로서 들 수 있다. 합성법에 의해 얻어지는 티탄 비누 또는 지르코늄 비누의 용매에의 용해성 등의 성질이 다른 경우가 있다. The method for synthesizing the titanium soap or zirconium soap used as the adhesion improving agent (D) in the resin composition of the present invention is not particularly limited, but the reaction between the carboxylic acid compound and the titanium or zirconium metal, the carboxylic acid compound and the titanium or Examples of the metathesis method, melt direct method, semi-melt direct method, wet direct method, solid phase direct method, solvent direct method, etc. using reaction of an oxide or hydroxide of zirconium, an alkali metal salt of a carboxylic acid compound and a water-soluble titanium or zirconium salt, etc. It can be mentioned as. Among the above synthesis methods, metathesis methods and semi-melt direct methods are preferable examples from the viewpoint of reaction rate and easy product separation. Properties, such as the solubility to the solvent of the titanium soap or zirconium soap obtained by the synthesis method, may differ.

본 발명의 수지 조성물에서의 밀착성 향상제 (D) 중 티탄 비누를 복분해법으로 얻을 때에는 카르복실산 화합물의 나트륨염과 2 내지 4가의 염화티탄을 수중에서 반응시키는 것이 바람직하다. When obtaining titanium soap in the adhesive improving agent (D) in the resin composition of this invention by metathesis method, it is preferable to make the sodium salt of a carboxylic acid compound and divalent tetravalent titanium chloride react in water.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 밀착성 향상제 (D)로서 사용되는 티탄 비 누 또는 지르코늄 비누의 원료인 카르복실산 화합물 또는 그의 알칼리 금속염으로서는 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지 또는 환 구조를 갖는, 포화 또는 불포화의 카르복실산 또는 그의 알칼리 금속염을 바람직하게 들 수 있고, 보다 바람직하게는 탄소수 4 내지 15의 직쇄 또는 분지 구조를 갖는, 포화 또는 불포화의 지방족 카르복실산 또는 그의 알칼리 금속염을 바람직하게 들 수 있다. 그 중에서도 티탄 비누의 경우에는 수지 조성물에 대한 용해성의 관점에서 카프로산, 카프릴산(n-옥탄산), 옥틸산(2-에틸헥산산), 카프르산(데칸산), 나프텐산 및 이들의 알칼리 금속염을 사용하여 합성되는 것이 바람직하다. 또한, 지르코늄 비누의 경우에는 수지 조성물에 대한 용해성의 관점에서, 탄소수 4 내지 9의 포화 지방족 카르복실산 또는 그의 알칼리 금속염을 사용하여 합성되는 것이 바람직하다. 또한, 지르코늄 비누로서는 하기 화학식 26으로 표시되는 것이 그 중에서도 바람직하게 사용된다. In the resin composition of the present invention, as a carboxylic acid compound or an alkali metal salt thereof, which is a raw material of titanium soap or zirconium soap used as the adhesion improving agent (D), having a linear or branched or ring structure having 1 to 30 carbon atoms, or Unsaturated carboxylic acid or its alkali metal salt is mentioned preferably, Saturated or unsaturated aliphatic carboxylic acid or its alkali metal salt which has a C4-C15 linear or branched structure more preferably is mentioned preferably. . Among them, in the case of titanium soap, caproic acid, caprylic acid (n-octanoic acid), octylic acid (2-ethylhexanoic acid), capric acid (decanoic acid), naphthenic acid and the like from the viewpoint of solubility to the resin composition It is preferable to synthesize | combine using the alkali metal salt of. Moreover, in the case of zirconium soap, it is preferable to synthesize | combine using saturated C4-9 saturated aliphatic carboxylic acid or its alkali metal salt from a viewpoint of the solubility to a resin composition. In addition, as zirconium soap, what is represented by following formula (26) is used preferably especially.

Figure 112005055126862-PAT00030
Figure 112005055126862-PAT00030

식 중, j는 4 내지 9의 정수를 나타낸다.In formula, j represents the integer of 4-9.

상기 화학식 26으로 표시되는 지르코늄 비누의 구체적인 예로서는 발레르산지르코늄, 카프로산지르코늄, 헵탄산지르코늄, n-옥탄산지르코늄(카프릴산지르코늄), 옥틸산지르코늄(2-에틸헥산산지르코늄), 이소노난산지르코늄, 데칸산지르코늄(카프르산지르코늄), 3,5,5-트리메틸헥산산지르코늄 등을 들 수 있다. Specific examples of the zirconium soap represented by the formula (26) include zirconium valeric acid, zirconium caproate, zirconium heptane, zirconium n-octanoate (zirconium caprylate), zirconium octylate (zirconium 2-ethylhexanoate), and isononanoic acid Zirconium, zirconium decanoate (zirconium capricate), zirconium 3,5,5-trimethylhexanoate, and the like.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 밀착성 향상제 (D)는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. In the resin composition of this invention, an adhesive improving agent (D) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 밀착성 향상제 (D)의 배합 비율은 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 100 중량부로 했을 경우, 100 중량부에 대해 통상 0.010 내지 20 중량부, 바람직하게는 0.10 내지 20 중량부, 보다 바람직하게는 0.2 내지 15 중량부이다. 밀착성 향상제 (D)의 배합 비율이 상기에 있어서 0.010 중량부 미만인 경우에는 보호막의 밀착성의 향상이 불충분하고, 20 중량부를 상회하면 보호막의 투명성이 손상되기 때문에 본 발명의 효과를 얻기가 어렵다. In the resin composition of the present invention, the blending ratio of the adhesion improving agent (D) is usually 0.010 to 100 parts by weight when the total weight of the component (A), the component (B) and the component (C) is 100 parts by weight. To 20 parts by weight, preferably 0.10 to 20 parts by weight, more preferably 0.2 to 15 parts by weight. In the case where the blending ratio of the adhesion improving agent (D) is less than 0.010 parts by weight in the above, the improvement of the adhesion of the protective film is insufficient, and when it exceeds 20 parts by weight, the transparency of the protective film is impaired, so that the effect of the present invention is difficult to be obtained.

또한, 밀착성 향상제 (D)로서 사용되는 티탄 비누 또는 지르코늄 비누는 배위자의 종류에 따라 금속 함량이 다르기 때문에, 상기 금속 비누의 배합량은 금속 함유량으로 규정하는 것이 바람직하다. 이 경우 밀착성 향상제 (D)로서 사용되는 티탄 비누 또는 지르코늄 비누의 배합량은 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 100 중량부로 했을 경우, 100 중량부에 대해 금속 함유량으로 바람직하게는 0.0030 내지 3.0 중량부, 보다 바람직하게는 0.010 내지 1.8 중량부이다. In addition, since titanium content or zirconium soap used as an adhesive improving agent (D) differs in metal content according to the kind of ligand, it is preferable to prescribe the compounding quantity of the said metal soap by metal content. In this case, the compounding quantity of the titanium soap or zirconium soap used as an adhesive improving agent (D) is a metal with respect to 100 weight part, when the total weight of the said (A) component, the said (B) component, and the said (C) component is 100 weight part. The content is preferably 0.0030 to 3.0 parts by weight, more preferably 0.010 to 1.8 parts by weight.

(보존 안정성 향상제 (E))(Storage stability improver (E))

또한, 본 발명의 수지 조성물에 있어서는 보존 안정성 향상제 (E)로서 5가의 인 원자 함유 화합물을 더 함유하는 것이 보존 안정성을 더욱 향상시킨다는 점에서 바람직하다. 보존 안정성 향상제 (E)로서 바람직하게 사용되는 5가의 인 원자 함유 화합물로서는 인산트리에스테르를 바람직하게 들 수 있다. 인산트리에스테르로서는, 예를 들면 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트, 트리페닐포스페이트 등 을 들 수 있다.Moreover, in the resin composition of this invention, it is preferable to further contain a pentavalent phosphorus atom containing compound as a storage stability improver (E) from the point of further improving storage stability. As a pentavalent phosphorus atom containing compound preferably used as a storage stability improving agent (E), a phosphate triester is mentioned preferably. As phosphoric acid ester, a triethyl phosphate, a tributyl phosphate, a triphenyl phosphate, etc. are mentioned, for example.

본 발명의 수지 조성물에 있어서 보존 안정성 향상제 (E)의 배합 비율은 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 100 중량부로 했을 경우, 100 중량부에 대해 통상 0.01 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.02 내지 2 중량부, 보다 바람직하게는 0.05 내지 1 중량부이다. 보존 안정성 향상제 (E)의 배합 비율이 상기에 있어서 0.01 중량부 미만인 경우에는 보존 안정성의 향상이 불충분하고, 5 중량부를 상회하면 보호막의 경도 및 투명성이 손상되기 때문에, 본 발명의 효과를 얻기가 어렵다. In the resin composition of this invention, when the compounding ratio of a storage stability improving agent (E) makes 100 weight part of total weights of the said (A) component, the said (B) component, and the said (C) component, it is 0.01 to 100 weight part normally. To 5 parts by weight, preferably 0.02 to 2 parts by weight, more preferably 0.05 to 1 part by weight. In the case where the blending ratio of the storage stability improving agent (E) is less than 0.01 part by weight in the above, the improvement of the storage stability is insufficient, and when it exceeds 5 parts by weight, the hardness and transparency of the protective film are impaired, so that the effect of the present invention is difficult to obtain. .

이어서, 본 발명의 수지 조성물에 임의의 양으로 첨가할 수 있는 첨가제나 유기 용매, 충전제에 대해 설명한다. Next, the additive, organic solvent, and filler which can be added to arbitrary amounts to the resin composition of this invention are demonstrated.

(밀착성 향상 보조제)(Adhesive Enhancement Aid)

본 발명의 수지 조성물에는 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 보호막과 기재와의 밀착성을 향상시키기 위한 보조제로서, 실란계 커플링제를 첨가할 수도 있다. 첨가할 수 있는 실란계 커플링제로서는, 예를 들면 에폭시기를 갖는 실란계 커플링제, 아미노기를 갖는 실란계 커플링제, (메트)아크릴로일기를 갖는 실란계 커플링제 또는 그의 중합물 등을 들 수 있다. 이들 실란계 커플링제는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 적절하게 조합하여 첨가할 수 있다. A silane coupling agent can also be added to the resin composition of this invention as an adjuvant for improving the adhesiveness of the protective film which hardens a resin composition, and a base material. As a silane coupling agent which can be added, the silane coupling agent which has an epoxy group, the silane coupling agent which has an amino group, the silane coupling agent which has a (meth) acryloyl group, or its polymer etc. are mentioned, for example. These silane coupling agents can be added individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate.

상기 실란계 커플링제는 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 100 중량부로 했을 경우, 100 중량부에 대해 통상 1 내지 30 중량부, 바람직하게는 2 내지 25 중량부, 보다 바람직하게는 3 내지 20 중량부로 첨가된다. 실란계의 커플링제의 배합량이 1 중량부 미만이면 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 보호막의 기재에의 밀착성의 향상이 불충분하다. 또한, 실란계 커플링제가 30 중량부를 초과하면 보호막의 경도 등의 성능이 저하된다. When the said silane coupling agent makes the total weight of the said (A) component, the said (B) component, and said (C) component 100 weight part, it is 1-30 weight part normally with respect to 100 weight part, Preferably it is 2-25. It is added in parts by weight, more preferably 3 to 20 parts by weight. When the compounding quantity of a silane coupling agent is less than 1 weight part, the improvement of adhesiveness to the base material of the protective film obtained by hardening a resin composition is inadequate. Moreover, when silane coupling agent exceeds 30 weight part, performances, such as hardness of a protective film, fall.

(계면활성제)(Surfactants)

본 발명의 수지 조성물에는 본 발명의 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 보호막의 외관을 향상시키는 등의 목적으로 계면활성제를 첨가할 수도 있다. 계면활성제는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 적절하게 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 계면활성제는 본 발명의 (A) 내지 (C)의 필수 성분을 비롯한 각 성분의 상용성을 향상시킬 목적으로 첨가되는 경우도 있다. Surfactant can also be added to the resin composition of this invention for the purpose of improving the external appearance of the protective film which hardens the resin composition of this invention, etc. Surfactant can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. In addition, surfactant may be added in order to improve the compatibility of each component including the essential component of (A)-(C) of this invention.

상기 계면활성제는 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 100 중량부로 했을 경우, 100 중량부에 대해 통상 0.001 내지 3 중량부로 배합하는 것이 바람직하다. When the said surfactant is made into 100 weight part of total weights of the said (A) component, the said (B) component, and the said (C) component, it is preferable to mix | blend normally with 0.001-3 weight part with respect to 100 weight part.

(유기 용매)(Organic solvent)

본 발명의 수지 조성물에는 점도 등을 조정할 목적으로 유기 용매를 사용할 수도 있다. 이때 사용하는 유기 용매로서는 방향족 탄화수소, 에테르류, 에스테르 및 에테르에스테르류, 케톤류, 인산에스테르류, 니트릴류, 비양성자성 극성 용매, 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류 등을 들 수 있다. 상기 유기 용매로서도 알코올 또는 이온성 용매를 제외한 유기 용매인 것이 바람직하다. 알코올 또는 이온성 용매에 대해서는 탈블록 반응을 진행시키는 경우가 있다는 것이 알려져 있는데, 이들이 수지 조성물의 보존 안정성을 현저히 저하시켜 본 발명의 효과를 얻기 가 어려워지는 경우가 있기 때문이다. 이들 유기 용매는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 적절하게조합하여 사용할 수 있다. An organic solvent can also be used for the resin composition of this invention in order to adjust viscosity, etc. Examples of the organic solvent used at this time include aromatic hydrocarbons, ethers, esters and ether esters, ketones, phosphate esters, nitriles, aprotic polar solvents, propylene glycol alkyl ether acetates, and the like. As said organic solvent, it is preferable that it is an organic solvent except an alcohol or an ionic solvent. It is known that deblocking reaction may be advanced with respect to an alcohol or an ionic solvent, since these may significantly reduce the storage stability of a resin composition, and it may become difficult to obtain the effect of this invention. These organic solvents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

또한, 이들 유기 용매의 사용량에 대해서는 특별히 제한되지 않고, 소정 막 두께, 표면의 평활성 및 막 형성 방법 등에 따라 임의의 양을 첨가하여 도포 적합성을 부여할 수 있다. In addition, the usage-amount of these organic solvents is not specifically limited, Arbitrary quantity can be added according to predetermined | prescribed film thickness, surface smoothness, a film formation method, etc., and application | coating suitability can be provided.

(그 밖의 성분)(Other ingredients)

본 발명의 수지 조성물에는 점도 조정의 목적으로 증점제, 틱소제 등의 점도 조정제를 더 첨가할 수도 있다. 또한, 적외선이나 자외선 흡수제를 첨가할 수도 있다. You may further add viscosity modifiers, such as a thickener and a thixo agent, to the resin composition of this invention for the purpose of viscosity adjustment. Moreover, infrared rays and an ultraviolet absorber can also be added.

또한, 선팽창 계수의 조정, 평탄성 향상, 표면 경도의 향상, 점도 조정, 굴절률의 조정, 소정 파장의 광선 흡수, 밀착성의 향상 등의 목적으로 본 발명의 수지 조성물에 임의의 양의 충전제를 첨가할 수 있다. 이때 사용되는 충전제로서는, 투명성을 방해하는 것이 아니면 특별히 한정되지는 않지만, 실리카졸, 실리카겔, 산화티탄, 산화알루미늄, 산화세륨, 산화주석, 산화아연, 산화지르코늄 등을 예로서 들 수 있다. 이들 충전제는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 적절하게 조합하여 사용할 수 있다. In addition, any amount of filler can be added to the resin composition of the present invention for the purpose of adjusting the linear expansion coefficient, improving flatness, improving surface hardness, adjusting viscosity, adjusting refractive index, absorbing light at a predetermined wavelength, and improving adhesion. have. The filler used at this time is not particularly limited as long as it does not impede transparency, and examples thereof include silica sol, silica gel, titanium oxide, aluminum oxide, cerium oxide, tin oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. These fillers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate.

또한, 본 발명의 수지 조성물에는 본 발명의 효과가 손상되지 않는 범위에서, 필요에 따라 탄산 가스 발생 방지제, 가요성 부여제, 산화 방지제, 가소제, 윤활제, 표면 처리제, 난연제, 대전 방지제, 착색제, 레벨링제, 이온 트랩제, 접동성 개량제, 각종 고무, 유기 중합체 비드, 유리 비드, 요변성 부여제, 표면 장력 저하 제, 소포제, 광확산제, 항산화제, 형광제 등의 첨가제를 배합할 수 있다. In addition, in the resin composition of this invention, the carbon dioxide generation | occurrence | production agent, a softening agent, antioxidant, a plasticizer, a lubricating agent, a surface treating agent, a flame retardant, an antistatic agent, a coloring agent, and a leveling as needed in the range which does not impair the effect of this invention. Additives, such as an ion trap agent, a slidability improver, various rubber | gum, organic polymer beads, glass beads, a thixotropic imparting agent, a surface tension decreasing agent, an antifoamer, a light-diffusion agent, antioxidant, and fluorescent agent, can be mix | blended.

상기 첨가제는 본 발명의 효과가 손상되지 않는 범위에서 임의의 양을 사용할 수 있지만, 이때에는 티탄 및 지르코늄 이외의 전이 금속, 알칼리 금속, 알칼리 토금속 원자가 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분의 총중량을 100 중량부로 했을 경우, 100 중량부에 대해 통상 0.1 중량부 이상 혼입하지 않도록 하는 것이 바람직하다. 0.1 중량부 이상 혼입하는 경우에는 보존 안정성이 현저하게 저하되는 경우가 있기 때문이다. The additive may be used in any amount within the range that does not impair the effects of the present invention, but in this case transition metals, alkali metals, alkaline earth metals other than titanium and zirconium valences (A) component, (B) component and the When the total weight of the component (C) is 100 parts by weight, it is preferable not to mix 0.1 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight. It is because storage stability may fall remarkably when it mixes 0.1 weight part or more.

(수지 조성물의 제조 방법) (Method of producing a resin composition)

이하에 본 발명의 수지 조성물의 배합, 교반, 분산 수법에 대해 설명한다. Below, the mixing | blending, stirring, and the dispersion method of the resin composition of this invention are demonstrated.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 내지 (C)의 필수 성분을 비롯한 각 성분을 일괄 배합할 수도 있고, 각 성분을 용매에 용해한 후에 축차 배합할 수도 있다. 또한, 배합할 때의 투입 순서나 작업 조건은 특별히 제약을 받지 않는다. 예를 들면, 전체 성분을 동시에 용매에 용해하여 수지 조성물을 제조할 수도 있고, 필요에 따라서는 각 성분을 적절하게 2가지 이상의 용액으로 하여, 사용시(도포시)에 이들 용액을 혼합하여 수지 조성물로서 제조할 수도 있다. In the resin composition of this invention, each component including the essential component of said (A)-(C) may be mix | blended collectively, and it can also mix | blend sequentially after dissolving each component in a solvent. In addition, the addition order and working conditions at the time of compounding are not restrict | limited. For example, a resin composition may be prepared by dissolving all components in a solvent at the same time. If necessary, each component may be suitably used as two or more solutions, and these solutions may be mixed at the time of use (at the time of application) as a resin composition. It can also manufacture.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 내지 (C)의 필수 성분을 비롯한 각 성분 혼합 후의 교반에 대해서는, 날개형 교반기, 디졸버, 혼련기, 볼밀 혼화기, 롤 분산기 등을 이용하여 교반을 행할 수도 있고, 각 성분을 갤런병 등의 용기에 배합하고 나서 용기마다 믹스 로터에서 회전시켜 교반할 수도 있다. 혼합 및 교반의 온도는 배합 성분에 따라도 다르지만, 통상 결로나 용매의 휘산을 피하기 위해 10 내지 60 ℃가 바람직하다. In the resin composition of this invention, about stirring after each component mixing including the essential component of said (A)-(C), it stirs using a vane type stirrer, a dissolver, a kneader, a ball mill admixture, a roll disperser, etc. Alternatively, each component may be blended in a container such as a gallon bottle, and then rotated in a mix rotor for each container and stirred. Although the temperature of mixing and stirring also changes with blending components, in order to avoid condensation and volatilization of a solvent, 10-60 degreeC is preferable normally.

본 발명의 수지 조성물에 점도 조정제나 충전제를 첨가하는 경우에는, 모터밀, 쉐이커 등의 고전단 분산기를 이용한 분산을 행할 수도 있다. 이때에는 본 발명에 있어서의 상기 (A) 내지 (C)의 필수 성분을 비롯한 각 성분을 결합제로 한 마스터 배치를 미리 제조해 두고, 사용시에 배합하는 등의 수법도 취할 수 있다. 단, 본 발명의 다가 카르복실산 유도체 (C)는 열에 의해 탈블록 반응이 진행되기 때문에, 다가 카르복실산 유도체 (C)를 포함하는 조성물을 분산할 때에는 80 ℃ 이상으로 가열되지 않도록 하는 주의가 필요하다.When adding a viscosity modifier and a filler to the resin composition of this invention, dispersion using high shear dispersers, such as a motor mill and a shaker, can also be performed. At this time, the method of preparing the master batch which used each component including the essential component of said (A)-(C) as a binder as a binder beforehand, and mix | blending at the time of use can also be taken. However, since the deblocking reaction proceeds by heat of the polyhydric carboxylic acid derivative (C) of the present invention, care should be taken not to be heated to 80 ° C or higher when dispersing the composition containing the polyvalent carboxylic acid derivative (C). need.

이와 같이 하여 제조되는 본 발명의 수지 조성물에 있어서는 경화제로서 사용되는 난용성의 다가 카르복실산을, 이 다가 카르복실산의 카르복실기를 잠재화( 블록화, 캡, 보호)함으로써 용해성이 높은 다가 카르복실산 유도체 (C)의 형태로부터 용매에 용해, 분산시켜 사용한다. 따라서, 수지 조성물 중에 카르복실기의 반응점을 고농도로 에폭시기와 공존시킬 수 있고, 이러한 수지 조성물을 사용하고 층을 형성하여 가열하면 높은 가교 밀도가 얻어진다. 또한, 다가 카르복실산 유도체 (C)는 상기 화합물에 따른 소정의 온도 이상으로 가열하지 않으면 카르복실기가 재생되지 않는다. 따라서, 에폭시기 함유 중합체 (A) 및 에폭시기 함유 화합물 (B)에 함유되어 있는 에폭시기 및 다가 카르복실산 유도체 (C)에 함유되어 있는 카르복실기 각각의 반응점 농도가 높음에도 불구하고, 제조 직후부터 장기간에 걸쳐 양호한 점도를 계속해서 유지하여 보존 안정성이 매우 우수하다. 수지 조성물을 제조한 후, 밀폐 용기에 넣어 5 ℃에서 120 일간 방치한 후의 점도가 초기 점도의 1.5배 이하로 억제하는 것이 바람직하며, 25 ℃에서 120 일간 방치한 후의 점도가 초기 점도의 1.5배 이하로 억제하는 것이 더욱 바람직하다. In the resin composition of the present invention produced in this way, the polysoluble carboxylic acid having high solubility by latent (blocking, capping, protecting) the carboxyl group of the poorly soluble polyvalent carboxylic acid to be used as a curing agent. It is used by dissolving and dispersing in a solvent from the form of derivative (C). Therefore, the reaction point of a carboxyl group can coexist with an epoxy group in high concentration in a resin composition, and when using this resin composition and forming a layer and heating, a high crosslinking density is obtained. In addition, a polyhydric carboxylic acid derivative (C) does not regenerate a carboxyl group unless it heats more than predetermined temperature according to the said compound. Therefore, although the reaction point concentration of each of the epoxy group contained in the epoxy group-containing polymer (A) and the epoxy group-containing compound (B) and the carboxyl group contained in the polyvalent carboxylic acid derivative (C) is high, it is for a long time immediately after preparation. It maintains a good viscosity and is very excellent in storage stability. After preparing a resin composition, it is preferable to restrain the viscosity after leaving in a sealed container for 5 days at 5 degreeC to 1.5 times or less of initial viscosity, and the viscosity after leaving at 25 degreeC for 120 days is 1.5 times or less of initial viscosity It is more preferable to suppress this.

이와 같이, 본 발명에 있어서의 수지 조성물은 종래 기술에 비해 보존 안정성이 우수하고, 1액 형태로 장기 보존이 가능할 뿐만 아니라, 보관시 및 사용시에 침전의 발생이 없는 이점을 갖고 있는 것이다. 또한, 일단 사용에 제공되어 남은 수지 조성물의 잔액은 단시간의 작업에서는 열화되지 않는다. 따라서, 그와 같은 잔액을 회수하거나, 또는 신선한 수지 조성물을 연속적으로 보충함으로써 재사용할 수 있어 경제적이다. Thus, the resin composition in this invention is excellent in storage stability compared with the prior art, long-term storage is possible in 1-liquid form, and it has the advantage that there is no generation | occurrence | production of precipitation at the time of storage and use. In addition, the balance of the resin composition which was once provided for use does not deteriorate in a short time of operation. Therefore, such a balance can be recovered or reused by continuously replenishing the fresh resin composition, which is economical.

또한, 본 발명의 수지 조성물은 상기 특정한 필수 성분의 조성비가 최적이기 때문에, 수지 경화물층의 기재에 대한 밀착성이 우수할 뿐만 아니라, 내열성, 저열 팽창성, 강인성, 내약품성 등의 모든 조화가 우수한 재료이고, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 것이다. 게다가, 균일한 막 두께로 도포할 수 있어 평탄성이 우수하기 때문에, 본 발명의 수지 조성물은 표시 장치나 고체 촬상 소자의 컬러 필터 보호막 등의 유기층을 형성하는 데 특히 바람직하게 사용할 수 있다.  Moreover, since the composition ratio of the said specific essential component is optimal, the resin composition of this invention is not only excellent in adhesiveness with respect to the base material of a cured resin layer, but also excellent in all the harmony, such as heat resistance, low thermal expansion, toughness, chemical resistance, etc. It is excellent in the ITO formation process resistance. Moreover, since it can apply | coat with a uniform film thickness and is excellent in flatness, the resin composition of this invention can be used especially preferably for forming organic layers, such as a color filter protective film of a display apparatus and a solid-state image sensor.

2. 컬러 필터2. color filter

본 발명에 따른 컬러 필터는 상기 본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지 경화물의 층을 갖는다. The color filter which concerns on this invention has a layer of the resin cured material formed by hardening | curing the resin composition for color filter protective films which concerns on the said invention.

상기 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지 경화물의 층은 일반적으로 보호막이라고 하는 것으로 특별히 한정되지는 않으며, 예를 들면 컬러 필터의 기판 상에 형성된 RGB 화소와, 액정 배향막, ITO층, 발광체, 또는 수 광체 등과의 사이에 형성되는 수지 경화물의 층을 말한다. 또한, RGB 화소에 직접 접촉하지 않더라도 다른 재료를 통해 간접적으로 보호하는 보호막과 같은 경우도 포함되고, 예를 들면 고체 촬상 소자의 마이크로 렌즈와 컬러 필터의 사이에 사용되는 중간막, 또는 컬러 필터와 전극의 사이에 사용되는 중간막도 포함된다. The layer of the cured resin product formed by curing the resin composition for color filter protective film is generally referred to as a protective film, and is not particularly limited. For example, an RGB pixel formed on a substrate of a color filter, a liquid crystal alignment film, an ITO layer, a light emitter, Or the layer of hardened | cured material of resin formed between a light receiver, etc. is meant. Also included is a case of a protective film which indirectly protects through another material even if it is not in direct contact with the RGB pixel, for example, an interlayer film used between a micro lens of a solid-state imaging device and a color filter, or of a color filter and an electrode. Also included is an interlayer used in between.

본 발명에 따른 컬러 필터는, 상기 본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지 경화물의 층을 갖기 때문에, 내열성이나 내용매성이라는 기본 성능을 구비할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 수지 조성물의 층을 갖는 컬러 필터를 얻을 수 있다. Since the color filter which concerns on this invention has the layer of the cured resin material which hardens the resin composition for color filter protective films which concerns on the said invention, it does not only have the basic performance of heat resistance and solvent resistance, but also the adhesiveness and ITO formation process The color filter which has a layer of the resin composition excellent in the characteristic can be obtained.

컬러 필터는 일례로서 투명 기판에 소정의 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스와, 이 블랙 매트릭스 사이에 소정의 패턴으로 형성된 화소부와, 이 화소부를 덮 도록 형성된 보호막을 구비하고 있다. 보호막 상에 필요에 따라 액정 구동용의 투명 전극이 형성되는 경우도 있다. 또한, 블랙 매트릭스층이 형성된 영역에 맞춰, 투명 전극판 상 또는 화소부 상 또는 보호막 상에 원주상 스페이서가 형성되는 경우도 있다. The color filter includes, for example, a black matrix formed in a predetermined pattern on a transparent substrate, a pixel portion formed in a predetermined pattern between the black matrices, and a protective film formed to cover the pixel portion. The transparent electrode for liquid crystal drive may be formed on a protective film as needed. In addition, a columnar spacer may be formed on a transparent electrode plate, a pixel part, or a protective film according to the area | region in which the black matrix layer was formed.

상기 본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지 경화물의 층은, 상기 본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 적절한 점도로 조정하여 도포액으로 하고, 우선 그것을 예를 들면 컬러 필터의 착색층을 형성한 측의 표면에 도포한다. The layer of the cured resin product which hardens the resin composition for color filter protective films which concerns on the said invention adjusts the resin composition for color filter protective films which concerns on this invention to appropriate viscosity, and makes it a coating liquid, First, for example, a color filter It applies to the surface of the side which formed the colored layer of.

본 발명의 수지 조성물을 도포하는 방법에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 통상 이용되는 도포 수법으로서, 예를 들면 스핀 코터 도포법, 침지 도포 법, 분무 코터 도포법, 롤 코터 도포법, 스크린 인쇄 도포법, 오프셋 인쇄 도포법, 슬릿 코터 도포법, 다이 코터 도포법 등의 단독 또는 조합에 의해 기재에 도포할 수 있다. It does not specifically limit about the method of apply | coating the resin composition of this invention, As a coating method used normally, for example, a spin coater coating method, the dip coating method, the spray coater coating method, the roll coater coating method, the screen printing coating method It can apply | coat to a base material individually or in combination, such as the offset printing coating method, the slit coater coating method, and the die coater coating method.

이어서, 얻어진 도막을 건조하고, 필요에 따라 예비 가열(이하, 예비 소성이라고 함)을 더 행한 후, 본 경화 가열(이하, 후소성이라고 함)을 거쳐 수지 경화물의 층을 형성한다. 이때에는 예비 소성 조건으로서 40 내지 140 ℃, 0 내지 1 시간, 후소성 조건으로서 150 내지 280 ℃, 0.2 내지 2 시간을 바람직한 조건으로서 들 수 있다. 또한, 이때의 가열 수법으로서는 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 밀폐식 경화로나 연속 경화가 가능한 터널로 등의 경화 장치를 이용할 수 있다. 가열원은 특별히 제약되지 않고, 열풍 순환, 적외선 가열, 고주파 가열 등의 방법으로 행할 수 있다. Next, the obtained coating film is dried, and further preliminary heating (henceforth preliminary baking) is performed as needed, and the layer of hardened | cured material of resin is formed through this hardening heating (henceforth a post-baking). At this time, 40-140 degreeC, 0 to 1 hour as a preliminary baking condition, 150-280 degreeC and 0.2 to 2 hours are mentioned as a preferable baking condition. In addition, it does not specifically limit as a heating method at this time, For example, hardening apparatuses, such as a closed hardening furnace and the tunnel furnace which can continuously cure, can be used. The heating source is not particularly limited and can be performed by hot wind circulation, infrared heating, high frequency heating or the like.

본 발명의 수지 조성물은 상술된 바와 같이 보존 안정성이 우수하기 때문에, 이것을 도포하고 있는 사이에는 점도가 상승되지 않고 초기의 양호한 도포성을 계속해서 유지하며, 도포 작업 중에 도포 조건을 빈번히 변경할 필요는 없다. 따라서, 작업 개시시에 설정한 도포 조건하에서 고속이면서 연속적으로 균일성이 높은 도막을 형성할 수 있다. 또한, 도포 종료 후에 도막을 가열하면, 도막 중에 함유되어 있는 상기 다가 카르복실산 유도체 (C)의 보호기가 이탈하고, 화학식 1과 같이 카르복실기가 재생되어 에폭시기를 함유하는 화합물((A) 및 (b) 성분)의 에폭시기와 가교 반응을 일으켜 도막이 경화된다. Since the resin composition of this invention is excellent in storage stability as mentioned above, a viscosity does not rise and it maintains the initial favorable applicability | paintability continuously, and it does not need to change coating conditions frequently during application | coating operation, during this application | coating. . Therefore, a coating film with high uniformity can be formed at high speed and continuously under the coating conditions set at the start of the work. When the coating film is heated after the coating is finished, the protecting group of the polyvalent carboxylic acid derivative (C) contained in the coating film is released, and the carboxyl group is regenerated as shown in Formula 1 to contain an epoxy group ((A) and (b) A crosslinking reaction occurs with the epoxy group of the component) and the coating film is cured.

또한, 본 발명에 관한 수지 경화물의 층은, 도포 경화 후의 막 두께가 0.2 내지 5 ㎛인 것이 바람직하고, 0.5 내지 4 ㎛인 것이 보다 바람직하다. 도포 경화 후의 막 두께가 0.2 ㎛ 미만인 경우에는 배리어성, 평탄성 등의 보호막에 요구되는 성능을 얻기가 어렵고, 5 ㎛를 상회하면 투명성, 내ITO 형성 프로세스성 등의 성능이 저하될 우려가 있어 바람직하지 않다. 단, 높은 평탄성이 요구되는 용도에 대해서는 도포 경화 후의 막 두께가 5 내지 20 ㎛일 수도 있다.  Moreover, it is preferable that the film thickness after application hardening is 0.2-5 micrometers, and, as for the layer of the cured resin product which concerns on this invention, it is more preferable that it is 0.5-4 micrometers. When the film thickness after application | coating hardening is less than 0.2 micrometer, the performance required for protective films, such as barrier property and flatness, is difficult to obtain, and when it exceeds 5 micrometers, there exists a possibility that the performances, such as transparency and ITO formation processability, may fall, and are not preferable. not. However, the film thickness after application hardening may be 5-20 micrometers about the use which requires high flatness.

이와 같이 하여 얻어지는 본 발명에 따른 수지 경화물의 층은 카르복실산 화합물과 에폭시기를 함유하는 화합물에 의한 가교 수지이기 때문에, 내약품성, 내열성(가열에 의한 막 감소나 변색의 정도 등)이 우수하다. 나아가, 본 발명에 관한 수지 경화물의 층은 적절한 수지 조성을 포함하기 때문에, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수할 뿐만 아니라, 본 발명에 따른 수지 경화물의 층은 추가로 티탄 비누 및(또는) 지르코늄 비누와 조합함으로써, 기재에 대한 밀착성이 현저히 높고, 다양화되는 기재 종류나 CF 형성 공정에 폭넓게 대응할 수 있는 이점을 갖고 있다. Since the layer of the cured resin product which concerns on this invention obtained in this way is a crosslinked resin by the compound containing a carboxylic acid compound and an epoxy group, it is excellent in chemical-resistance and heat resistance (degree of film | membrane reduction or discoloration by heating, etc.). Furthermore, since the layer of the cured resin product according to the present invention contains an appropriate resin composition, not only the adhesiveness and the ITO formation processability are excellent, but also the layer of the cured resin product according to the present invention further contains titanium soap and / or zirconium soap. In combination with, the adhesiveness to the substrate is remarkably high, and has the advantage of being able to cope with a wide variety of substrate types and CF forming processes that are diversified.

본 발명에 관한 수지 경화물의 층은 구체적으로, 예를 들면 하기의 내약품성 및 내열성을 겸비한 층으로 할 수 있다. The layer of the cured resin product which concerns on this invention can be made into the layer which specifically has the following chemical-resistance and heat resistance, for example.

a) 내약품성: 본 발명에 따른 수지 경화물의 층을 설치한 컬러 필터를 이소프로필알코올, N-메틸피롤리돈 또는 γ-부티로락톤 중 어느 하나의 용매에 액체 온도 40 ℃에서 1 시간 동안 침지한 후에 수지 경화물의 층의 막 두께를 측정하여 산출되는 막 두께 감소를 어느 쪽의 용매에 침지한 경우에도 10 % 이하로 할 수 있다. a) Chemical resistance: The color filter having the layer of cured resin according to the present invention is immersed in a solvent of any one of isopropyl alcohol, N-methylpyrrolidone or γ-butyrolactone at a liquid temperature of 40 ° C. for 1 hour. Even if the film thickness reduction calculated by measuring the film thickness of the layer of cured resin after that is immersed in either solvent can be made into 10% or less.

b) 내열성: 컬러 필터를 250 ℃에서 1 시간 동안 방치한 후의 본 발명에 따 른 수지 경화물의 층의 막 두께 감소가 10 % 이하이고, 또한 상기 방치 전후의 색차가 1 이하이다. b) Heat resistance: The film thickness reduction of the layer of cured resin according to the present invention after leaving the color filter at 250 ° C. for 1 hour is 10% or less, and the color difference before and after the standing is 1 or less.

또한, 본 발명에 관한 수지 조성물의 층은 구체적으로 예를 들면, 하기와 같은 우수한 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성(ITO 회로 형성 후의 산-알칼리 내성(에칭내성), ITO 회로 형성 후의 230 내지 250 ℃에서의 내열성)을 겸비한 층으로 할 수 있다. Moreover, the layer of the resin composition which concerns on this invention specifically has the following outstanding adhesiveness, ITO formation processability (acid-alkali resistance (etch resistance) after ITO circuit formation, 230-250 degreeC after ITO circuit formation), for example. Heat resistance) can be used as the layer.

c) 밀착성: 본 발명에 관한 수지 경화물의 층을 설치한 컬러 필터를, 장기 신뢰성 평가인 압력솥 테스트(이하, PCT라고 함)(121 ℃에서 습도 100 %의 환경하에 8 시간 동안 방치) 처리를 행한 후에, JIS K5600-5-6에 규정되는 도막의 기계적 성질-부착성(크로스 절단법) 시험법을 행하여 수지 경화물의 층에서 박리를 없앨 수 있다. c) Adhesiveness: The color filter which provided the layer of the hardened | cured material of the resin which concerns on this invention was subjected to the pressure cooker test (henceforth PCT) which is long-term reliability evaluation (it left for 8 hours in 121 degreeC 100% humidity environment). Then, the mechanical property-adhesiveness (cross-cutting method) test method of the coating film prescribed | regulated to JISK5600-5-6 can be performed, and peeling can be eliminated in the layer of resin cured material.

d) ITO 회로 형성 후의 산-알칼리 내성(에칭 내성: 본 발명에 관한 수지 경화물의 층을 설치한 컬러 필터의 이 수지 경화물의 층 상에 ITO 층을 형성한 후, 에칭 레지스트를 스트라이프상으로 도포하고, 에칭 레지스트를 60 ℃×10 분간으로 형성시킨 후, 산 처리(H2O/HCl/HNO3=1/1/0.04(중량비))를 50 ℃에서 8 분간, 및 알칼리 처리(5 % NaOH 수용액)를 50 ℃에서 3 분간 또는 18 분간 행한 후에도, ITO 층 및 이 수지 경화물의 층에 균열 또는 주름이 발생하지 않게 할 수 있다. d) Acid-alkali resistance after etching of ITO circuit (etching resistance: after forming an ITO layer on this resin cured product layer of the color filter provided with the resin cured product layer of this invention, an etching resist is apply | coated in stripe form, and , then forming an etching resist by 60 ℃ × 10 minutes, and acid treatment (H 2 O / HCl / HNO 3 = 1/1 / 0.04 ( weight ratio)) for 8 minutes at 50 ℃, and alkali treatment (5% NaOH aqueous solution ) Can be prevented from cracking or wrinkles in the ITO layer and the layer of the cured resin.

e) ITO 회로 형성 후의 내열성: 본 발명에 따른 수지 경화물의 층을 설치한 컬러 필터의 이 수지 경화물의 층 상에 ITO 층을 형성한 후, 230 ℃ 또는 250 ℃에 서 1 시간 동안 처리한 후에도, ITO 층 및 이 수지 경화물의 층에 균열 또는 주름이 발생하지 않게 할 수 있다. e) Heat resistance after the formation of the ITO circuit: After forming an ITO layer on the layer of the cured resin of the color filter provided with the layer of the cured resin according to the present invention, even after treatment for 1 hour at 230 ° C or 250 ° C, It is possible to prevent cracks or wrinkles from occurring in the ITO layer and the layer of the cured resin.

본 발명에 있어서 제조되는 보호막이 상기한 바와 같이 종래에 더하여 우수한 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성을 나타내는 것은, 수지 조성의 최적화에 의해 보호막의 가교 밀도가 매우 높은 것이 많이 공헌하고 있는 것으로 추측된다. As described above, the protective film produced in the present invention exhibits excellent adhesion and ITO formation processability in addition to the conventional ones, and it is estimated that the crosslinking density of the protective film is very high due to the optimization of the resin composition.

또한, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 상기 실시 양태는 예시이고, 본 발명의 특허 청구의 범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지며 동일한 작용 효과를 발휘하는 것은, 어떠한 것이더라도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. In addition, this invention is not limited to the said embodiment. The said embodiment is an illustration, and what has substantially the same structure as the technical idea described in the claim of this invention, and exhibits the same effect is contained in the technical scope of this invention.

<실시예><Example>

(제조예 A-1: 에폭시기 함유 중합체 (A)의 합성) Production Example A-1: Synthesis of Epoxy Group-Containing Polymer (A)

온도계, 환류 냉각기, 교반기, 적하 로트를 구비한 용량 500 mL의 사구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, PMA라고 함)를 160 중량부넣고, 교반하면서 가열하여 80 ℃로 승온시켰다. 이어서, 80 ℃의 온도에서 글리시딜메타크릴레이트(이하, GMA라고 함) 114 중량부, 시클로헥실메타크릴레이트(이하, CHMA라고 함) 86 중량부, 닛본 유시(주) 제조의 과산화물계 중합 개시제 "퍼헥실 O(;상품명, 순도 93 %)"(이하, PHO라고 함) 7 중량부, 및 PMA 33 중량부를 미리 균일하게 혼합한 것(적하 성분)을 2 시간에 걸쳐 적하 로트에 의해 등속 적하하였다. 적하 종료 후, 98 ℃의 온도를 7 시간 동안 유지한 후, 반응을 종료하였다. 중량 평균 분자량(Mw) 34,000, 고형분 53 %, 점도 25 Pa·s(20 ℃) 및 용액의 에 폭시 당량 520 g/mol의 에폭시기를 갖는 중합체 용액(에폭시기 함유 중합체의 에폭시 당량 280 g/mol)을 얻었다. 160 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PMA) was put into a 500 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, a stirrer, and a dropping lot, heated with stirring to raise the temperature to 80 ° C. Subsequently, 114 parts by weight of glycidyl methacrylate (hereinafter referred to as GMA), 86 parts by weight of cyclohexyl methacrylate (hereinafter referred to as CHMA) at a temperature of 80 ° C., and peroxide-based polymerization of Nippon Yushi Co., Ltd. 7 parts by weight of the initiator "perhexyl O (product name, purity 93%)" (hereinafter referred to as PHO) and 33 parts by weight of PMA were uniformly mixed in advance by a dropping lot over 2 hours. It dripped. After completion of the dropwise addition, the temperature was maintained at 98 ° C for 7 hours, and then the reaction was completed. A polymer solution having a weight average molecular weight (Mw) of 34,000, a solid content of 53%, a viscosity of 25 Pa · s (20 ° C.) and an epoxy group having an epoxy equivalent of 520 g / mol of the solution (the epoxy equivalent of the epoxy group-containing polymer 280 g / mol) Got it.

또한, 이하에 상기 중량 평균 분자량, 고형분, 점도, 에폭시 당량의 측정 방법을 나타내었다. In addition, the measuring method of the said weight average molecular weight, solid content, a viscosity, and an epoxy equivalent is shown below.

<중량 평균 분자량> <Weight average molecular weight>

중량 평균 분자량(Mw)은 도소(주) 제조의 겔 투과 크로마토그래피 장치 HLC-8220GPC를 이용하고, 칼럼으로서 쇼와 덴꼬(주) 제조의 SHODEX K-801을 이용하고, THF(테트라히드로푸란)을 용리액으로 하고, RI(굴절률) 검출기에 의해 측정하여 폴리스티렌 환산에 의해 구하였다. The weight average molecular weight (Mw) is a gel permeation chromatography apparatus HLC-8220GPC manufactured by Toso Corporation, and SHODEX K-801 manufactured by Showa Denko Co., Ltd. is used as a column, and THF (tetrahydrofuran) is used. It was set as the eluent, measured by RI (refractive index) detector, and calculated | required by polystyrene conversion.

<점도> <Viscosity>

점도는 순환식 항온 수욕을 장비한 B형 점도계(도끼 산교(주) 제조)를 이용하여 온도 20 ℃에서 측정하였다. The viscosity was measured at the temperature of 20 degreeC using the Brookfield viscometer (made by AX Sangyo Co., Ltd.) equipped with the circulating constant temperature water bath.

<에폭시 당량><Epoxy equivalent>

에폭시 당량은 JIS K 7236: 2001 "에폭시 수지의 에폭시 당량을 구하는 방법"에 의해 규정되는 방법으로 측정하였다. Epoxy equivalent was measured by the method prescribed by JIS K 7236: 2001 "Method of obtaining epoxy equivalent of epoxy resin".

(제조예 A-2 내지 A-5, 비교 제조예 A'-6: 에폭시기 함유 중합체 (A), 및 비교 에폭시기 함유 중합체 (A')의 합성) (Production Examples A-2 to A-5, Comparative Production Example A'-6: Synthesis of Epoxy Group-Containing Polymer (A) and Comparative Epoxy Group-containing Polymer (A '))

제조예 A-1과 동일하게 에폭시기 함유 중합체 (A-2 내지 A-5), 및 비교 에폭시기 함유 중합체 (A'-6)을 얻었다. 제조예 A-2 내지 A-5, 비교 제조예 A'-6에 있어서의 각 원료의 투입비, 적하 온도, 중량 평균 분자량, 고형분, 점도 및 에폭시 당량을 제조예 A-1의 것과 합쳐서 하기 표 1에 나타내었다. In the same manner as in Production Example A-1, an epoxy group-containing polymer (A-2 to A-5) and a comparative epoxy group-containing polymer (A'-6) were obtained. The preparation ratios, the dropping temperature, the weight average molecular weight, the solid content, the viscosity, and the epoxy equivalent of each raw material in Production Examples A-2 to A-5 and Comparative Production Example A'-6 were added to those of Production Example A-1. Shown in

Figure 112005055126862-PAT00031
Figure 112005055126862-PAT00031

(제조예 C-1: 다가 카르복실산 유도체 (C)의 합성) (Production Example C-1: Synthesis of Polyvalent Carboxylic Acid Derivative (C))

온도계, 환류 냉각기, 교반기, 적하 로트를 구비한 사구 플라스크에, PMA 27 중량부, 미쯔비시 가스 가가꾸(주) 제조의 트리멜리트산(이하, TMA라고 함) 27 중량부, n-프로필비닐에테르(이하, nPr-VE라고 함) 46 중량부를 넣고, 교반하면서 가열하여 70 ℃로 승온시켰다. 이어서, 온도를 유지하면서 계속하여 교반하고, 혼합물의 산가가 2.0 mg KOH/g 이하가 되자마자 반응을 종료하고, 용액의 산가 0.64 mg KOH/g의 블록화된 카르복실기를 2개 이상 갖는 경화제 용액 (C-1)을 얻었다. 27 parts by weight of PMA, 27 parts by weight of trimellitic acid (hereinafter referred to as TMA) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., n-propyl vinyl ether, in a four-necked flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, a stirrer, and a dropping lot. Hereinafter, 46 parts by weight of nPr-VE) was put, heated with stirring to raise the temperature to 70 ° C. Subsequently, stirring was continued while maintaining the temperature, the reaction was terminated as soon as the acid value of the mixture became 2.0 mg KOH / g or less, and the curing agent solution having two or more blocked carboxyl groups having an acid value of 0.64 mg KOH / g (C -1) was obtained.

또한, 산가 및 전체 산 당량은 JIS K 0070: 1992 "화학 제품의 산가, 비누화가, 에스테르가, 요오드가, 수산기가 및 비비누화물의 시험 방법"의 가수 분해 산가 측정에 의해 측정하였다. In addition, the acid value and total acid equivalent were measured by the hydrolysis acid value measurement of JIS K 0070: 1992 "Test method of the acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value, and non-soapide of a chemical product."

(제조예 C-2 내지 C-4 및 비교 제조예 C'-5: 다가 카르복실산 유도체 (C) 및 비교 다가 카르복실산 유도체 (C')의 합성) Preparation Example C-2 to C-4 and Comparative Production Example C'-5: Synthesis of Polyvalent Carboxylic Acid Derivative (C) and Comparative Polyvalent Carboxylic Acid Derivative (C ')

제조예 C-1과 동일하게 다가 카르복실산 유도체 (C-2 내지 C-4), 및 비교 다가 카르복실산 유도체 (C'-5)를 얻었다. 각 원료의 투입비, 반응 온도, 산가 및 전체 산 당량을 하기 표 2에 나타내었다. In the same manner as in Production Example C-1, a polyhydric carboxylic acid derivative (C-2 to C-4) and a comparative polyhydric carboxylic acid derivative (C'-5) were obtained. The input ratio, reaction temperature, acid value and total acid equivalent of each raw material are shown in Table 2 below.

Figure 112005055126862-PAT00032
Figure 112005055126862-PAT00032

(실시예 1 내지 9)(Examples 1 to 9)

하기 표 3에 나타낸 배합 비율로 각 성분을 충분히 교반하고, 용해하여 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 얻었다. Each component was fully stirred and dissolved at the blending ratio shown in Table 3 below to obtain a resin composition for a color filter protective film.

Figure 112005055126862-PAT00033
Figure 112005055126862-PAT00033

각 컬러 필터 보호막용 수지 조성물의 보존 안정성 시험을 하기의 수법으로 행하였다. 또한, 각 수지 조성물을 공경 0.2 ㎛의 멤브레인 필터로 여과한 후, 스핀 코터를 이용하여 유리 기판(닛본 덴끼 가라스(주) 제조; 상품명: OA-10, 무알칼리 유리)에 800 rpm으로 회전 도포하였다. 도포한 후, 유리 기판을 80 ℃의 청정 오븐 중에서 5 분간 건조 처리한 후, 230 ℃의 청정 오븐 중에서 30 분간 처리하여 도막을 경화시켰다. 실시예의 모든 경우에 있어서, 얻어진 도막의 표면은 매우 편평하고, 핀홀 등은 전혀 보이지 않았다. 미세 형상 측정기((주)고사까 겡뀨쇼사 제조; 상품명: SURFCORDER ET400)에 의해 측정한 막 두께는 2.0 내지 2.5 ㎛였다. 또한, 얻어진 각 컬러 필터 보호막용 수지 조성물의 수지 경화물의 층에 대해, 하기의 수법으로 밀착성, 및 내ITO 형성 프로세스성(ITO 회로 형성 후의 산-알칼리 내성, ITO 회로 형성 후의 내열성)의 각 시험을 행하였다. 결과를 하기 표 4에 나타내었다. The storage stability test of each resin composition for color filter protective films was done with the following method. In addition, after filtering each resin composition with the membrane filter of 0.2 micrometer of pore diameters, it spin-coated to a glass substrate (made by Nippon Denki Glass Co., Ltd .; brand name: OA-10, an alkali free glass) using a spin coater at 800 rpm. It was. After apply | coating, the glass substrate was dried for 5 minutes in a 80 degreeC clean oven, and then processed for 30 minutes in a 230 degreeC clean oven, and hardened the coating film. In all cases of the examples, the surface of the obtained coating film was very flat, and no pinholes or the like were seen at all. The film thickness measured by the fine shape measuring device (made by Kosaka Co., Ltd .; brand name: SURFCORDER ET400) was 2.0-2.5 micrometers. Moreover, about the layer of the resin cured material of each obtained resin composition for color filter protective films, each test of adhesiveness and ITO formation processability (acid-alkali resistance after ITO circuit formation, heat resistance after ITO circuit formation) was performed by the following method. It was done. The results are shown in Table 4 below.

<보존 안정성> <Storage stability>

보존 안정성은 수지 조성물의 용액을 밀폐 용기 중에 5 ℃ 및 25 ℃의 항온조에서 120 일간 보관한 후의 점도의 상승율(/초기 점도)을 관측함으로써 평가하였다. 점도는 상기한 수법으로 측정하였다. Storage stability was evaluated by observing the rate of rise (/ initial viscosity) of the solution after storing the solution of the resin composition for 120 days in a 5 degreeC and 25 degreeC thermostat in a closed container. The viscosity was measured by the method mentioned above.

<밀착성> <Adhesiveness>

보호막을 형성한 샘플을 PCT(121 ℃에서 습도 100 %의 환경하에서 8 시간 동안 방치) 처리를 행한 후에, JIS K5600-5-6에 규정된 도막의 기계적 성질-부착성(크로스 절단법) 시험법을 행하였다. After the sample which formed the protective film was processed by PCT (staying for 8 hours in the environment of 100% humidity at 121 degreeC), the mechanical property-adhesiveness (cross-cutting method) test method of the coating film prescribed | regulated to JISK5600-5-6. Was performed.

<ITO 후 에칭 내성> <Etch resistance after ITO>

보호막을 형성한 샘플의 보호막 상에, 스퍼터링 온도가 230 ℃, SiO2층 막 두께가 100 내지 150 Å, ITO층 막 두께가 2,500 내지 3,000 Å, 저항치가 10 내지 15 Ω/□가 되도록 ITO층을 형성한 후, 에칭 레지스트를 스트라이프상으로 도포하였다. 에칭 레지스트를 60 ℃×10 분간으로 형성시킨 후, 산 처리(H2O/HCl/HNO3=1/1/0.04<중량비>, 50 ℃×8 분간), 및 알칼리 처리(5 % NaOH 수용액, 50 ℃×3 분간 또는 18 분간)한 후의 샘플에 대해, ITO층 및 보호막에 균열 또는 주름이 발생하고 있지 않다는 것을 육안으로 확인하였다. On the protective film of the sample to form a protective film, a sputtering temperature of 230 ℃, 100 to 150 Å is SiO 2 layer thickness, an ITO layer having a thickness of 2,500 to 3,000 Å film, the ITO layer so that the resistance value is 10 to 15 Ω / □ After formation, the etching resist was applied in the form of stripes. After the etching resist was formed at 60 占 폚 for 10 minutes, acid treatment (H 2 O / HCl / HNO 3 = 1/1 / 0.04 <weight ratio>, 50 占 폚 for 8 minutes), and alkali treatment (5% NaOH aqueous solution, About the sample after 50 degreeC * 3 minutes or 18 minutes), it confirmed visually that the ITO layer and the protective film did not generate | occur | produce a crack or a wrinkle.

<ITO 후 내열성> <Heat resistance after ITO>

상기 ITO 후 에칭 내성과 동일하게 보호막을 형성한 샘플에 ITO층을 형성한 후, 230 ℃ 또는 250 ℃×1 시간 처리한 후의 샘플에 대해, ITO층 및 보호막에 균열 또는 주름이 발생하고 있지 않다는 것을 육안으로 확인하였다. After the ITO layer was formed on the sample in which the protective film was formed in the same manner as the etching resistance after the ITO, the sample after the 230 ° C. or 250 ° C. × 1 hour treatment was not cracked or wrinkled in the ITO layer and the protective film. It was visually confirmed.

Figure 112005055126862-PAT00034
Figure 112005055126862-PAT00034

(비교예 1 내지 6)(Comparative Examples 1 to 6)

표 5에 나타낸 배합 비율로 각 성분을 충분히 교반하고 용해하여 비교예의 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 얻었다. Each component was fully stirred and dissolved at the blending ratio shown in Table 5 to obtain a resin composition for a color filter protective film of Comparative Example.

Figure 112005055126862-PAT00035
Figure 112005055126862-PAT00035

또한, 비교예의 수지 조성물에 대해, 실시예와 동일하게 하여 보존 안정성을 평가하였다. 또한, 실시예와 완전히 동일한 방법에 의해 비교예의 수지 조성물을 사용하여 수지 경화물의 층을 얻었다. 비교예의 모든 경우에서 얻어진 도막의 표면은 편평하였고, 핀홀 등은 전혀 보이지 않았다. 실시예에서 측정한 막 두께는 2.0 내지 2.5 ㎛였다. 또한, 얻어진 수지 경화물의 층에 대해 실시예와 동일하게 하여 밀착성, 및 내ITO 형성 프로세스성(ITO 회로 형성 후의 산-알칼리 내성, ITO 회로 형성 후의 내열성)의 각 시험을 행하였다. 결과를 하기 표 6에 나타내었다. In addition, storage stability was evaluated like the Example about the resin composition of the comparative example. Moreover, the layer of resin cured material was obtained using the resin composition of a comparative example by the method exactly the same as an Example. In all cases of the comparative example, the surface of the obtained coating film was flat and no pinholes or the like were seen. The film thickness measured in the Example was 2.0-2.5 micrometers. Moreover, each test of adhesiveness and ITO formation processability (acid-alkali tolerance after ITO circuit formation, heat resistance after ITO circuit formation) was performed about the obtained resin cured layer similarly to an Example. The results are shown in Table 6 below.

Figure 112005055126862-PAT00036
Figure 112005055126862-PAT00036

표 4 및 표 6의 결과로부터, 본 발명의 수지 조성물을 사용한 실시예 1 내지 9의 경우에는, 얻어진 배합액의 보존 안정성이 최근 요구되고 있는 성능을 만족시키면서, 경화 후의 보호막의 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수하다는 것을 알 수 있었다. 또한, 본 발명의 수지 조성물은 에폭시 화합물과 카르복실산 화합물을 포함하기 때문에, 경화 후의 보호막이 투명성, 내약품성, 내열성이 우수하였다. In the case of Examples 1-9 using the resin composition of this invention from the result of Table 4 and Table 6, the adhesiveness of the protective film after hardening and ITO formation, while the storage stability of the obtained compound liquid satisfy | fill the performance currently calculated | required in recent years. It was found that the processability is excellent. Moreover, since the resin composition of this invention contains an epoxy compound and a carboxylic acid compound, the protective film after hardening was excellent in transparency, chemical-resistance, and heat resistance.

비교예 1에 있어서는 에폭시기 함유 중합체 (A)의 에폭시 당량이 본 발명의 청구의 범위에 비해 크기 때문에 보호막의 가교 밀도가 낮고, 밀착성 및 내ITO 형성 프로세스성이 떨어진다는 결과가 얻어졌다. 비교예 2, 3 및 6은 각각 에폭시기 함유 화합물 (B)가 본 발명의 청구의 범위에 포함되지 않는 것이며, 밀착성 및 내 lTO 형성 프로세스성이 떨어진다는 결과가 얻어졌다. 비교예 4 및 5는 각각 다가 카르복실산 유도체 (C)가 본 발명 청구의 범위에 포함되지 않는 것이며, 비교예 4에 대해서는 가교 밀도가 낮기 때문에 밀착성 및 내ITO 형성 프로세스성이 떨어지고, 비교예 5에 대해서는 카르복실산이 블록화되어 있지 않았기 때문에 보존 안정성이 현저히 떨어지는 결과가 얻어졌다. In the comparative example 1, since the epoxy equivalent of the epoxy group containing polymer (A) was large compared with the Claim of this invention, the crosslink density of a protective film was low, and the result that adhesiveness and ITO formation processability were inferior was obtained. In Comparative Examples 2, 3 and 6, the epoxy group-containing compound (B) was not included in the claims of the present invention, respectively, and the results showed that the adhesion and the lTO formation processability were poor. In Comparative Examples 4 and 5, the polyvalent carboxylic acid derivative (C) is not included in the claims of the present invention, and in Comparative Example 4, since the crosslinking density is low, the adhesion and the ITO formation processability are inferior, and Comparative Example 5 Since the carboxylic acid was not blocked, the storage stability was significantly lower.

본 발명에 따른 컬러 필터 보호막용 수지 조성물은 우수한 경화성과 보존 안정성을 가지며, 또한 수지 경화물의 층이 내열성이나 내용매성이 양호할 뿐만 아니라, 충분히 우수한 밀착성이나 내ITO 프로세스 형성성을 얻을 수 있다. 따라서, 종래 사용되고 있었던 활성이 강한 촉매의 배합량을 억제하더라도 또는 사용하지 않더라도, 최근 CF 보호막에 요구되고 있는 높은 밀착성이나 내ITO 형성 프로세스성을 달성할 수 있고, 나아가 보존 안정성이 손상되는 일없이 매우 우수하다.The resin composition for color filter protective films which concerns on this invention has the outstanding curability and storage stability, and the layer of cured resin is good in heat resistance and solvent resistance, and can fully obtain adhesiveness and ITO process formation property. Therefore, even if the compounding amount of the active catalyst, which has been used conventionally, is suppressed or not used, it is possible to achieve high adhesion and ITO formation processability, which are required for the CF protective film in recent years, and further excellent without damaging the storage stability. Do.

또한, 본 발명에 따르면, 내열성이나 내용매성이라는 기본 성능을 구비할 뿐만 아니라, 밀착성, 내ITO 형성 프로세스성이 우수한 수지 경화물의 층을 갖는 컬러 필터를 얻을 수 있다. Moreover, according to this invention, the color filter which has not only the basic performance of heat resistance and solvent resistance but also the layer of the resin hardened | cured material excellent in adhesiveness and ITO formation processability can be obtained.

Claims (6)

중량 평균 분자량이 5000 내지 40000이고, 에폭시 당량이 140 내지 600 g/mol이며, 적어도 탄소-탄소 불포화 결합과 에폭시기를 함유하는 단량체를 사용하여 중합된 에폭시기 함유 중합체 (A)와, 분자량이 330 내지 7000이고, 에폭시 당량이 150 내지 3500 g/mol이며, 에폭시기를 2개 이상 갖는 비스페놀 A의 유도체인 에폭시기 함유 화합물 (B)와, 하기 화학식 1의 구조를 갖는 카르복실산 (c1)이 비닐에테르 화합물 (c2)에 의해 잠재화된 다가 카르복실산 유도체 (C)를 함유하는 컬러 필터 보호막용 수지 조성물. An epoxy group-containing polymer (A) polymerized using a monomer having a weight average molecular weight of 5000 to 40000, an epoxy equivalent of 140 to 600 g / mol, and containing at least a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group, and a molecular weight of 330 to 7000 Epoxy group-containing compound (B), which is a derivative of bisphenol A having an epoxy equivalent of 150 to 3500 g / mol and having two or more epoxy groups, and a carboxylic acid (c1) having a structure represented by the following formula (1) are vinyl ether compounds ( The resin composition for color filter protective films containing the polyhydric carboxylic acid derivative (C) latent by c2). <화학식 1><Formula 1>
Figure 112005055126862-PAT00037
Figure 112005055126862-PAT00037
(식 중, 6원환은 방향족 또는 지환식의 탄화수소이고, m1은 0 내지 2의 정수이고, t1은 0 내지 1의 정수이고, n은 1 내지 4의 정수이며, n이 1인 경우 R1은 수소 원자 또는 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이고, n이 2 내지 4인 경우 R1은 탄소수 2 내지 8의 탄화수소기이며, R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기임)(Wherein 6-membered ring is an aromatic or alicyclic hydrocarbon, m1 is an integer of 0 to 2, t1 is an integer of 0 to 1, n is an integer of 1 to 4, when n is 1, R 1 is A hydrogen atom or a hydrocarbon group of 2 to 8 carbon atoms, when n is 2 to 4, R 1 is a hydrocarbon group of 2 to 8 carbon atoms, and R 2 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms)
제1항에 있어서, 상기 다가 카르복실산 유도체 (C)가, 하기 화학식 2의 구조를 갖는 카르복실산이 프로필비닐에테르에 의해 잠재화된 것인 컬러 필터 보호막용 수지 조성물. The resin composition for color filter protective films of Claim 1 in which the said polyhydric carboxylic acid derivative (C) has the carboxylic acid which has a structure of following General formula (2) latent by propyl vinyl ether. <화학식 2><Formula 2>
Figure 112005055126862-PAT00038
Figure 112005055126862-PAT00038
(식 중, m2는 0 내지 2의 정수임)(Wherein m2 is an integer of 0 to 2)
제1항에 있어서, 상기 다가 카르복실산 유도체 (C)가, 하기 화학식 3의 구조를 갖는 카르복실산이 비닐에테르 화합물 (c2)에 의해 잠재화된 것인 컬러 필터 보호막용 수지 조성물. The resin composition for color filter protective films of Claim 1 in which the said polyhydric carboxylic acid derivative (C) is latent by the vinyl ether compound (c2) which has the structure of following General formula (3). <화학식 3><Formula 3>
Figure 112005055126862-PAT00039
Figure 112005055126862-PAT00039
(식 중, m3은 0 내지 2의 정수이고, t3은 0 내지 1의 정수이며, R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기임)(Wherein m3 is an integer of 0 to 2, t3 is an integer of 0 to 1, and R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms)
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 밀착성 향상제 (D)로서 티탄 비누 및(또는) 지르코늄 비누를 더 함유하는 컬러 필터 보호막용 수지 조성물. The resin composition for color filter protective films as described in any one of Claims 1-3 which further contains titanium soap and / or zirconium soap as an adhesive improving agent (D). 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 보존 안정성 향상제 (E)로서 5가의 인 원자 함유 화합물을 더 함유하는 컬러 필터 보호막용 수지 조성물. The resin composition for color filter protective films as described in any one of Claims 1-4 which further contains a pentavalent phosphorus atom containing compound as a storage stability improving agent (E). 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 컬러 필터 보호막용 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지 경화물의 층을 갖는 컬러 필터.The color filter which has a layer of the resin cured material formed by hardening | curing the resin composition for color filter protective films of any one of Claims 1-5.
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