KR20060102838A - Mask frame - Google Patents

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탁윤흥
모성호
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 세정액을 이용한 세정 공정시 세정액을 완전하게 외부로 배출시켜 이물질이 포함된 세정액의 잔류를 방지할 수 있는 구조를 갖는 마스크 프레임을 개시한다. 본 발명에 따른 마스크 프레임은 중앙부에는 개방부가 형성되며, 개방부의 외곽부에는 마스크의 외곽부가 고정되는 재치부가 형성되고, 재치부에는 개방부와 외부 공간을 연결하는 다수의 홈이 형성되어 있다. 또한, 홈들은 어느 한 변의 재치부 및 그에 인접한 다른 한 변의 재치부에 형성되어 있다. The present invention discloses a mask frame having a structure capable of completely discharging the cleaning liquid to the outside during the cleaning process using the cleaning liquid to prevent the remaining of the cleaning liquid containing foreign substances. In the mask frame according to the present invention, an opening portion is formed in a central portion, a placement portion at which an outer portion of the mask is fixed is formed at an outer portion of the opening portion, and a plurality of grooves are formed at the placement portion connecting the opening portion and the external space. In addition, the grooves are formed in the mounting portion on one side and the mounting portion on the other side adjacent thereto.

유기 전계 발광 소자, 마스크, 마스크 프레임 Organic electroluminescent devices, masks, mask frames

Description

마스크 프레임{Mask frame}Mask frame

도 1은 유기 전계 발광 소자의 평면도.1 is a plan view of an organic electroluminescent device.

도 2는 도 1의 선 A-A를 따라 절취한 상태의 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 3은 유기 전계 발광 소자의 제조 공정에서 사용되는 일반적인 마스크의 평면도.3 is a plan view of a general mask used in the manufacturing process of the organic electroluminescent device.

도 4는 도 3에 도시된 마스크가 고정되는 마스크 프레임의 평면도.4 is a plan view of a mask frame to which the mask shown in FIG. 3 is fixed.

도 5는 도 4의 선 B-B를 따라 절취한 상태의 단면도.5 is a cross-sectional view taken along the line B-B of FIG. 4.

도 6은 본 발명에 따른 마스크 프레임의 평면도.6 is a plan view of a mask frame according to the present invention.

도 7은 도 6의 선 C-C를 따라 절취한 상태의 단면도.7 is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG. 6.

본 발명은 마스크 프레임에 관한 것으로서, 특히 증착 공정 후 실시되는 세정 과정에서 세정액의 잔류를 억제할 수 있는 구조를 갖는 마스크 프레임에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask frame, and more particularly to a mask frame having a structure capable of suppressing the remaining of the cleaning liquid in the cleaning process performed after the deposition process.

유기 전계 발광은 유기물(저분자 또는 고분자) 박막에 음극과 양극을 통하여 주입된 전자(electron)와 정공(hole)이 재결합하여 여기자(exciton)를 형성하고, 형성된 여기자로부터의 에너지에 의해 특정한 파장의 빛이 발생되는 현상이다. 이러한 현상을 이용한 유기 전계 발광 소자의 구조 및 제조 단계를 설명하면 다음과 같다. In organic electroluminescence, electrons and holes injected through a cathode and an anode are recombined to form an exciton in an organic (low molecular or polymer) thin film, and light of a specific wavelength is generated by energy from the excitons formed. This is a phenomenon that occurs. Referring to the structure and manufacturing steps of the organic EL device using this phenomenon as follows.

도 1은 유기 전계 발광 소자의 평면도, 도 2는 도 1의 선 A-A를 따라 절취한 상태의 단면도로서, 유기 전계 발광 소자의 구성을 도시하고 있다.1 is a plan view of an organic electroluminescent element, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the organic electroluminescent element taken along the line A-A of FIG.

유기 전계 발광 소자는 투명 기판(1) 상에 배열된 ITO층(2), ITO층(2) 상에 형성된 유기 전계 발광층(3; 이하 "유기 EL 층"이라 칭함), 유기 EL 층(3) 상에 형성된 금속층(4)으로 이루어진다.The organic electroluminescent element includes an ITO layer 2 arranged on the transparent substrate 1, an organic electroluminescent layer 3 formed on the ITO layer 2 (hereinafter referred to as an "organic EL layer"), and an organic EL layer 3 It consists of the metal layer 4 formed on it.

유기 EL 층(3)은 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층이 적층되어 구성되며, 각 금속 전극(4; 유기 EL 층 포함)은 이웃하는 금속 전극과 일정한 간격을 유지한다. 여기서 기판(1) 상에 배열된 ITO층(2)은 애노드 전극의 기능을 수행하며, 각 금속층(4)은 캐소드 전극의 기능을 수행한다. The organic EL layer 3 is formed by stacking a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer, and each metal electrode 4 (including the organic EL layer) maintains a constant distance from a neighboring metal electrode. Here, the ITO layer 2 arranged on the substrate 1 performs the function of an anode electrode, and each metal layer 4 performs the function of a cathode electrode.

이상과 같은 구조를 갖는 유기 전계 발광 소자를 제조하는 각 단계를 도면을 통하여 간단히 설명하면 다음과 같다. Each step of manufacturing the organic EL device having the structure as described above will be described briefly with reference to the drawings.

먼저, 글라스 기판(1) 상에 다수의 ITO층(2)을 형성하고, ITO층(2)의 일부(유기 EL층 및 금속층으로 이루어진 발광 영역)을 제외한 전체 영역에 절연막(4a)을 형성한다. 그 후, ITO층(2)을 가로지르는 형태로 다수의 격벽(5)을 형성하며, 이후 격벽(5)을 포함한 전체 구조 상부에 유기 EL층(3)과 금속층(4)을 순차적으로 형성한다.First, a plurality of ITO layers 2 are formed on the glass substrate 1, and the insulating film 4a is formed in the entire region except for a part of the ITO layer 2 (light emitting region composed of an organic EL layer and a metal layer). . Thereafter, a plurality of barrier ribs 5 are formed in the form of crossing the ITO layer 2, and then the organic EL layer 3 and the metal layer 4 are sequentially formed on the entire structure including the barrier ribs 5. .

유기 전계 발광 소자의 제조 공정 중에서, 소정 면적의 글라스 기판 상에 한 정된 각 액티브 영역 상에 유기 EL층을 형성하는 공정에서는 마스크(mask)가 이용된다. In the manufacturing process of an organic electroluminescent element, a mask is used at the process of forming an organic electroluminescent layer on each defined active area | region on the glass substrate of a predetermined area.

도 3은 유기 전계 발광 소자의 제조 공정에서 사용되는 일반적인 마스크의 평면도이다.3 is a plan view of a general mask used in the manufacturing process of the organic electroluminescent device.

글라스 기판의 전체 면적과 대응하는 규격의 마스크(10)에는 글라스 기판의 예정된 액티브 영역들과 각각 대응하는 다수의 그릴(grille)부(12)들이 형성되어 있다. 각 그릴부(12)는 마스크 기본 부재(11)를 관통하여 형성된 다수의 그릴(패턴)로 이루어진다.In the mask 10 having a standard corresponding to the total area of the glass substrate, a plurality of grill portions 12 respectively corresponding to predetermined active regions of the glass substrate are formed. Each grill 12 is composed of a plurality of grills (patterns) formed through the mask base member 11.

이와 같은 구성을 갖는 마스크(10)를 유기 EL층 형성 공정에 투입하기에 앞서 마스크(10)에 대한 스트레칭(stretching) 공정 및 마스크 프레임으로의 부착 공정을 실시한다. Prior to introducing the mask 10 having such a configuration into the organic EL layer forming process, a stretching process for the mask 10 and an attaching process to the mask frame are performed.

마스크(10)는 얇은 금속 박막(薄膜) 형태로 제조되며, 따라서 마스크(10)는 부분적으로 장력(tension)이 다르게 나타난다. 부분적으로 다른 장력을 갖는 마스크(10)를 이용하여 좁은 폭의 유기 EL층을 글라스 기판의 각 액티브 영역 상의 정확한 위치에 형성하기 어려우며, 따라서 스트레칭 장치(stretcher)를 이용하여 마스크(10)를 잡아당겨 마스크(10)의 전체 면에 걸쳐 균일한 장력을 갖도록 한다.The mask 10 is manufactured in the form of a thin metal thin film, and thus the mask 10 is partially different in tension. It is difficult to form a narrow organic EL layer at the correct position on each active region of the glass substrate using a mask 10 having a partly different tension, and thus the mask 10 is pulled out using a stretcher. It is to have a uniform tension over the entire surface of the mask (10).

그립퍼(도시되지 않음)에 의하여 전체 면에 균일한 장력을 갖는 마스크(10)를 마스크 프레임에 (용접) 고정시킨다. A gripper (not shown) fixes (welds) the mask 10 having a uniform tension on the entire surface to the mask frame.

도 4는 도 3에 도시된 마스크가 고정되는 마스크 프레임의 평면도, 도 5는 도 4의 선 B-B를 따라 절취한 상태의 단면도로서, 도 5에서는 편의상 마스크를 함 께 도시하였다.  4 is a plan view of a mask frame to which the mask shown in FIG. 3 is fixed, FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line B-B of FIG. 4, and FIG.

마스크 프레임(20)은 소정 두께의 부재로 이루어지며, 중앙부에는 소정 면적의 개방부(21)가 형성되어 있다. 개방부(21)의 외곽부 내측에는 마스크(도 3의 10)의 외곽부(즉, 절단 예정선(L) 외측부)가 놓이는 재치부(22)가 형성되며, 재치부(22)의 각 모서리부에는 재치부(22)보다 낮은 높이의 턱부(23)가 형성된다. The mask frame 20 is formed of a member having a predetermined thickness, and an opening 21 having a predetermined area is formed in the center portion. Inside the outer part of the opening part 21, a mounting part 22 on which an outer part of the mask (10 in FIG. 3) (that is, an outer part of the cutting schedule line L) is formed is formed, and each corner of the mounting part 22 is formed. The jaw portion 23 having a lower height than the placement portion 22 is formed in the portion.

도 4에 도시된 바와 같이, 마스크(10)를 마스크 프레임(20) 상에 위치시키면, 마스크(10)의 저면, 즉 절단 예정선(L) 내측부의 저면이 프레임(20)의 재치부(22) 상에 놓이며, 마스크(10)의 각 그릴부(12)는 프레임(20)의 개방부(21)를 통하여 외부로 노출된다. As shown in FIG. 4, when the mask 10 is positioned on the mask frame 20, the bottom surface of the mask 10, that is, the bottom surface inside the cut line L, is placed on the mounting portion 22 of the frame 20. ), Each grill part 12 of the mask 10 is exposed to the outside through the opening part 21 of the frame 20.

재치부(22)와 마스크(10)의 기본 부재(11)를 소정 위치에서 부분적으로 용접하여 마스크(10)를 프레임(20)을 고정시킨 후, 마스크(10)의 절단 예정선(L)을 따라 마스크(10)의 외곽부를 절단함으로서 증착 공정에 이용되는 마스크(10)가 최종적으로 형성된다.After the mounting part 22 and the base member 11 of the mask 10 are partially welded at a predetermined position to fix the mask 10 to the frame 20, the cut line L of the mask 10 is cut off. Accordingly, the mask 10 used in the deposition process is finally formed by cutting the outer portion of the mask 10.

프레임(20)에 고정된 마스크(10)를 이용하여 일정 시간 동안의 증착 공정이 진행되면, 마스크(10)와 프레임(20)에도 유기물질이 증착되며, 세정 공정을 통하여 이를 제거한 후 마스크(10)를 다시 증착 공정에 투입하게 된다. 마스크(10)와 프레임(20)의 세정 공정에서는 세정액이 이용되며, 세정액을 통하여 마스크(10)와 프레임(20)에 증착된 유기물질을 제거한 후, 건조시킨다.  When the deposition process is performed for a predetermined time using the mask 10 fixed to the frame 20, an organic material is also deposited on the mask 10 and the frame 20, and then removed through the cleaning process to remove the mask 10. ) Is put back into the deposition process. In the cleaning process of the mask 10 and the frame 20, a cleaning liquid is used. The organic material deposited on the mask 10 and the frame 20 is removed through the cleaning liquid and then dried.

이러한 세정 과정에서, 재치부(22)와 마스크(10)의 기본 부재(11)가 부분적으로 용접, 고정되어 있기 때문에 마스크(10)와 프레임(20)에서 분리된 유기물질이 포함된 세정액은 마스크(10) 표면을 따라서 그 외곽부의 저면과 프레임(20)의 재치부(22) 표면 사이에 형성된 공간으로 흘러들어가게 된다.In this cleaning process, since the mounting part 22 and the base member 11 of the mask 10 are partially welded and fixed, the cleaning liquid containing the organic material separated from the mask 10 and the frame 20 is masked. (10) It flows along the surface into the space formed between the bottom face of the outer part and the surface of the mounting part 22 of the frame 20. As shown in FIG.

이와 같이 마스크(10) 저면과 프레임(20)의 재치부(22) 표면 사이의 공간에 유기물질이 포함된 세정액이 존재하는 상태에서 건조 과정이 이루어진다면, 입자 형태로 존재하는 유기 물질로 인하여 박막(薄膜) 형태의 마스크(10)는 그 표면에 굴곡부(요철부)가 형성된다. As such, if the drying process is performed while the cleaning solution containing the organic material is present in the space between the bottom surface of the mask 10 and the surface of the mounting portion 22 of the frame 20, the thin film may be formed due to the organic material present in the form of particles. In the mask 10 of the (i) form, a bent portion (uneven portion) is formed on the surface thereof.

마스크와 글라스 기판이 밀접하게 위치하는 상태에서 증착 공정이 진행되기 때문에 마스크(10) 표면 형성된 굴곡부(요철부)는 정밀한 증착 공정을 방해하는 요인으로 작용하게 된다.Since the deposition process is performed in a state where the mask and the glass substrate are closely located, the bent portion (uneven portion) formed on the surface of the mask 10 acts as a factor that hinders the precise deposition process.

본 발명은 마스크의 세정 공정에서 발생하는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 세정액을 이용한 세정 공정시 세정액을 완전하게 외부로 배출시킬 수 있는 구조를 갖는 마스크 프레임을 제공하는데 그 목적이 있다. An object of the present invention is to solve the above-described problems occurring in the cleaning process of a mask, and to provide a mask frame having a structure capable of completely discharging the cleaning liquid to the outside during the cleaning process using the cleaning liquid.

본 발명에 따른 마스크 프레임은 중앙부에는 개방부가 형성되며, 개방부의 외곽부에는 마스크의 외곽부가 고정되는 재치부가 형성되고, 재치부에는 개방부와 외부 공간을 연결하는 다수의 홈이 형성되어 있다. 또한, 홈들은 어느 한 변의 재치부 및 그에 인접한 다른 한 변의 재치부에 형성되어 있다.In the mask frame according to the present invention, an opening portion is formed in a central portion, a placement portion at which an outer portion of the mask is fixed is formed at an outer portion of the opening portion, and a plurality of grooves are formed at the placement portion connecting the opening portion and the external space. In addition, the grooves are formed in the mounting portion on one side and the mounting portion on the other side adjacent thereto.

이하, 본 발명에 따른 마스크 프레임의 구조를 첨부한 도면을 참고하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a structure of a mask frame according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 6은 본 발명에 따른 마스크 프레임의 평면도, 도 7은 도 6의 선 C-C를 따라 절취한 상태의 단면도로서, 도 7에서는 이해를 돕기 위하여 기판(10)을 마스크 프레임(30)과 함께 도시하였다.6 is a plan view of the mask frame according to the present invention, FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 6, and in FIG. 7, the substrate 10 is shown together with the mask frame 30 for clarity. .

본 발명에 따른 마스크 프레임(30) 역시 소정 두께의 부재로 이루어지며, 중앙부에는 소정 면적의 개방부(31)가 형성되어 있다. 개방부(31)의 외곽부에는 마스크(도 3의 10)의 외곽부(즉, 절단 예정선(L) 외측부)가 놓이는 재치부(32)가 형성되며, 재치부(32)의 각 모서리부에는 보다 낮은 높이의 턱부(33)가 형성된다. The mask frame 30 according to the present invention is also made of a member having a predetermined thickness, and an opening 31 having a predetermined area is formed in the center portion. In the outer part of the opening part 31, a mounting part 32 on which an outer part of the mask (10 in FIG. 3) (that is, an outer part of the cutting schedule line L) is formed is formed, and each corner part of the mounting part 32 is formed. In the lower jaw portion 33 is formed.

본 발명에 따른 마스크 프레임(30)의 가장 큰 특징은 재치부(32)에 다수의 홈(32A)을 형성한 것으로서, 각 홈(32A)은 재치부(32)를 가로지르는 형태, 즉 개방부(31)와 프레임의 외부 공간을 연결하는 형태로 구성된다. 참고로, 도 6에서는 홈(32A)들을 다른 부분들과 구분하여 더욱 명확하게 나타내기 위하여 사선으로 처리하였다. The biggest feature of the mask frame 30 according to the present invention is that a plurality of grooves 32A are formed in the mounting portion 32, and each of the grooves 32A crosses the mounting portion 32, that is, the opening portion. 31 and the external space of the frame. For reference, in FIG. 6, the grooves 32A are treated with diagonal lines in order to distinguish them from other parts more clearly.

마스크(10)를 재치부(32)에 다수의 홈(32A)이 형성된 마스크 프레임(30) 상에 위치시키면, 마스크(10)의 저면, 즉 절단 예정선(L) 내측부의 저면이 프레임(30)의 재치부(32) 상에 놓여짐과 동시에 홈(32A)들에 의하여 마스크(10)의 외곽부 하부에는 다수의 통로들이 형성된다.When the mask 10 is placed on the mask frame 30 having a plurality of grooves 32A formed in the mounting portion 32, the bottom surface of the mask 10, that is, the bottom surface inside the cut line L, is formed on the frame 30. A plurality of passages are formed at the bottom of the outer portion of the mask 10 by the grooves 32A at the same time as being placed on the mounting portion 32.

프레임(30)에 고정된 마스크(10)를 이용하여 일정 시간 동안의 증착 공정을 진행한 후, 세정액을 이용하여 마스크(10)와 프레임(30)에 증착된 유기물질을 제거한 후, 건조시킨다. After the deposition process is performed for a predetermined time using the mask 10 fixed to the frame 30, the organic material deposited on the mask 10 and the frame 30 is removed using a cleaning solution and then dried.

이러한 세정 과정 후, 홈(32A)들이 형성된 재치부(32)가 아래를 향하도록 마 스크 프레임(30)을 기울이면, 마스크(10)와 프레임(30)에서 분리된 유기물질이 포함된 세정액은 마스크(10) 저면을 따라서 홈(32A)들이 형성된 재치부(32)를 향하여 유동한다. 재치부(32)에 도달한 세정액은 재치부(32)에 형성된 홈(32A)을 통과하여 프레임(30)의 외부로 배출될 수 있다.After the cleaning process, when the mask frame 30 is inclined so that the mounting part 32 on which the grooves 32A are formed is faced downward, the cleaning liquid containing the organic material separated from the mask 10 and the frame 30 is Along the bottom surface of the mask 10, the grooves 32A flow toward the mounting portion 32 in which the grooves 32A are formed. The cleaning liquid that has reached the mounting part 32 may be discharged to the outside of the frame 30 through the groove 32A formed in the mounting part 32.

결국, 유기물질이 포함된 세정액은 마스크(10) 저면과 프레임(30)의 재치부(32) 표면 사이의 공간으로 유입되지 않고 모두 프레임(30) 외부로 배출됨으로써 프레임(30) 및 마스크(10)의 건조 과정후, 마스크(10)의 변형과 같은 문제점은 발생하지 않는다.As a result, the cleaning liquid containing the organic material does not flow into the space between the bottom surface of the mask 10 and the surface of the mounting portion 32 of the frame 30, but is discharged to the outside of the frame 30 so that the frame 30 and the mask 10 may be discharged. After the drying process, the problem such as deformation of the mask 10 does not occur.

한편, 이상의 설명에서는 프레임(30)의 어느 한 변의 재치부(32)에 홈(32A)이 형성된 상태를 설명하였으나, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이 프레임(30)의 서로 인접한 2개의 변의 재치부(32)에 홈(32A)을 형성하는 것이 바람직하다.Meanwhile, in the above description, a state in which the groove 32A is formed in the mounting part 32 of one side of the frame 30 has been described, but as shown in FIGS. 6 and 7, two adjacent sides of the frame 30 are formed. It is preferable to form the groove 32A in the mounting part 32.

일반적으로, 유기 전계 발광 소자를 제조하는데 사용되는 글라스 기판은 사각 형상이며, 이에 따라 마스크 및 마스크 프레임도 도 3, 도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이 사각형이다.In general, the glass substrate used to manufacture the organic electroluminescent device has a rectangular shape, and thus the mask and the mask frame are also rectangular as shown in FIGS. 3, 4 and 6.

따라서, 사각 마스크 프레임(30)의 어느 한 변과 그에 인접한 한 변의 재치부(32)에만 홈(32A)을 형성하면 마스크(10)에 잔류하는 모든 세정액을 프레임(30)의 외부로 배출시킬 수 있다. Therefore, when the grooves 32A are formed only on one side of the rectangular mask frame 30 and the mounting portion 32 on one side thereof, all the cleaning liquid remaining in the mask 10 can be discharged to the outside of the frame 30. have.

즉, 세정 과정 후, 홈(32A)들이 형성된 제 1 변의 재치부(32)가 아래를 향하도록 마스크 프레임(30)을 기울여 홈(32A)들을 통하여 유기물질이 포함된 세정액을 외부로 배출시킨 뒤, 제 1 변에 인접한 다른 변의 재치부가 아래를 향하도록 마 스크 프레임(30)을 기울임으로써 나머지 세정액은 홈들을 통하여 외부로 모두 배출된다. That is, after the cleaning process, the mask frame 30 is inclined so that the mounting portion 32 of the first side on which the grooves 32A are formed is downward, and the cleaning liquid containing the organic material is discharged to the outside through the grooves 32A. By tilting the mask frame 30 so that the mounting portion of the other side adjacent to the first side faces downward, all remaining cleaning liquid is discharged to the outside through the grooves.

이상과 같은 본 발명에 따른 마스크 프레임은 세정 공정 후, 홈들이 형성된 재치부가 아래로 향하도록 마스크 프레임을 기울임으로써 잔류하는 (유기물질이 포함된) 세정액을 홈을 통하여 외부로 배출할 수 있다. 따라서 마스크와 프레임 사이의 공간에 유기 물질이 존재할 수 없어 건조 공정 후 유기물질에 의한 마스크의 변형을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In the mask frame according to the present invention as described above, after the cleaning process, the remaining cleaning liquid (containing the organic material) may be discharged to the outside through the groove by tilting the mask frame such that the mounting portion having the grooves is directed downward. Therefore, the organic material may not exist in the space between the mask and the frame, thereby obtaining an effect of preventing deformation of the mask by the organic material after the drying process.

위에 설명된 예시적인 실시예는 제한적이기보다는 본 발명의 모든 관점들 내에서 설명적인 것이 되도록 의도되었다. 따라서 본 발명은 본 기술 분야의 숙련된 자들에 의하여 본 명세서 내에 포함된 설명으로부터 얻어질 수 있는 많은 변형과 상세한 실행이 가능하다. 다음의 청구범위에 의하여 한정된 바와 같이 이러한 모든 변형과 변경은 본 발명의 범위 및 사상 내에 있는 것으로 고려되어야 한다. The illustrative embodiments described above are intended to be illustrative within all aspects of the invention rather than limiting. Accordingly, the present invention is capable of many modifications and implementations that can be made by those skilled in the art from the description contained herein. All such modifications and variations are considered to be within the scope and spirit of the invention as defined by the following claims.

Claims (2)

증착 공정에 이용되는 마스크 고정용 프레임에 있어서,In the frame for fixing the mask used in the deposition process, 중앙부에는 개방부가 형성되며, 개방부의 외곽부에는 마스크의 외곽부가 고정되는 재치부가 형성되며, 재치부에는 개방부와 외부 공간을 연결하는 다수의 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임.An opening is formed in the central portion, and a mounting portion for fixing the outer portion of the mask is formed at the outer portion of the opening portion, and the mounting portion has a plurality of grooves connecting the opening and the external space. 제 1 항에 있어서, 상기 홈들은 어느 한 변의 재치부 및 그에 인접한 다른 한 변의 재치부에 형성되어 있는 마스크 프레임.2. The mask frame according to claim 1, wherein the grooves are formed on one side of the one side and the other side of the side.
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