KR20060095479A - Visual inspection apparatus and visual inspection method - Google Patents

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KR20060095479A
KR20060095479A KR1020060018372A KR20060018372A KR20060095479A KR 20060095479 A KR20060095479 A KR 20060095479A KR 1020060018372 A KR1020060018372 A KR 1020060018372A KR 20060018372 A KR20060018372 A KR 20060018372A KR 20060095479 A KR20060095479 A KR 20060095479A
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board
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히로유키 오카히라
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올림푸스 가부시키가이샤
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Abstract

광원이나 광학 소자 등의 문제 성분인기인하는 의사 결함과 기판 자체의 실제적 결함을 식별 가능한 외관 검사 장치 및 이것을 사용한 외관 검사 방법을 제공한다. 기판(6)의 표면(6a)에 조사된 조명광의 반사광을 관찰함으로써 기판(6)의 검사를 행하는 외관 검사 장치(1)에 있어서, 광원(2), 및 광원(2)으로부터 출사된 광의 방향을 편향시키는 제2 거울(3) 및 제1 거울(4)이나, 편향된 광을 집중시키는 프레넬 렌즈(5) 등의 광학 소자 중에서 적어도 1개를 주기적 또는 불규칙하게 요동 또는 만곡시켜 광축 또는 초점 위치를 변위시키는 것으로, 조명 광학 시스템의 문제 성분에 기인하여 기판(6) 상에 출현하는 의사 결함을 요동시켜, 의사 결함과 기판(6) 자체에 생긴 실제적 결함을 식별한다.Provided are an appearance inspection apparatus capable of identifying pseudo defects, which are problem components such as a light source and an optical element, and actual defects of the substrate itself, and an appearance inspection method using the same. In the appearance inspection apparatus 1 which inspects the board | substrate 6 by observing the reflected light of the illumination light irradiated to the surface 6a of the board | substrate 6, the light source 2 and the direction of the light radiate | emitted from the light source 2 Optical axis or focal position by oscillating or bending at least one of optical elements such as the second mirror 3 and the first mirror 4 for deflecting the light, or the Fresnel lens 5 for focusing the deflected light By displacing, oscillates the pseudo defects appearing on the substrate 6 due to the problem component of the illumination optical system, thereby identifying the pseudo defects and the actual defects occurring on the substrate 6 itself.

광원, 광학 소자, 기판, 외관 검사, 결함, 거울, 편향, 광축, 초점, 렌즈 Light source, optical element, substrate, visual inspection, defect, mirror, deflection, optical axis, focus, lens

Description

외관 검사 장치 및 외관 검사 방법 {VISUAL INSPECTION APPARATUS AND VISUAL INSPECTION METHOD}Appearance Inspection Device and Appearance Inspection Method {VISUAL INSPECTION APPARATUS AND VISUAL INSPECTION METHOD}

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 관한 외관 검사 장치를 나타내는 도면이다.1 is a diagram showing an appearance inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제2 실시예에 관한 외관 검사 장치를 나타내는 도면이다.2 is a diagram showing an appearance inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention.

[부호의 설명][Description of the code]

1 외관 검사 장치 2 광원1 Appearance inspection device 2 Light source

3 제2 반사 거울(광학 소자) 4 제1 반사 거울(광학 소자)3 Second reflection mirror (optical element) 4 First reflection mirror (optical element)

5 초점 렌즈(프레넬 렌즈)(광학 소자)5 Focus Lens (Fresnel Lens) (Optical Element)

6 기판 6a 기판의 표면6 Substrate 6a Surface of the substrate

7 기판 홀더 8 관찰자7 Board Holder 8 Observer

9 장치 외곽체 10 회전 구동 수단(구동 수단)9 Device Enclosure 10 Rotation Drive Means (Drive Means)

11 조작부 20 외관 검사 장치11 Control panel 20 Appearance inspection device

21 구동 수단 O2 광축 21 drive means O2 optical axis

O3 광축 04 광축 O3 optical axis 04 optical axis

A 초점 위치 B 초점 위치 A focus position B focus position

C 초점 위치C focus position

[특허 문헌 1] 일본국 특개2000-97864호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-97864

본 발명은 액정 디스플레이 등에 사용되는 유리 기판의 외관 검사 장치 및 외관 검사 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the external appearance inspection apparatus and external appearance inspection method of a glass substrate used for a liquid crystal display etc.

종래의 액정 유리 기판 등의 검사에서는, 기판 표면에 광을 조사하고, 그 반사광의 광학적 변화를 관찰자가 육안으로 관찰하여, 표면에 도포된 레지스트의 막 얼룩, 핀홀 등의 결함이나, 먼지 부착의 유무 등을 확인하고 있다. 이러한 종류의 검사에 사용되는 외관 검사 장치에는, 광원으로부터 조사된 광을 편향시키기 위한 거울과 거울에 의해 편향된 광을 집중시켜 기판 표면에 조사시키는, 예를 들면 프레넬 렌즈(frenel lens) 등의 초점 렌즈와, 초점 렌즈에 의해 집중된 매크로 조명광이 기판 표면에 조사되도록 기판을 유지하는 기판 홀더로 이루어지는 것이 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 이러한 외관 검사 장치에서는, 기판 표면에 조사된 매크로 조명광이 결함부에서 미소한 산란광이 생기면서 반사되기 때문에 관찰자는 난반사된 반사광(산란광)을 육안으로 관찰함으로써 기판 표면의 결함을 검사할 수 있다.In the inspection of the conventional liquid crystal glass substrate or the like, the surface of the substrate is irradiated with light, and the observer visually observes the optical change of the reflected light, and there are defects such as film stains, pinholes, etc. of the resist applied to the surface, and presence of dust. Check the back. In the appearance inspection apparatus used for this kind of inspection, a focal point such as a fresnel lens or the like, which focuses and irradiates the surface of the substrate, for example, a fresnel lens, to concentrate the light deflected by the mirror and a mirror for deflecting the light emitted from the light source There exists a lens and the substrate holder which hold | maintains a board | substrate so that the macro illumination light concentrated by the focus lens may be irradiated to the substrate surface (for example, refer patent document 1). In such an appearance inspection apparatus, since the macro illumination light irradiated on the surface of the substrate is reflected while generating minute scattered light at the defect portion, the observer can inspect the defect on the surface of the substrate by visually observing the diffusely reflected reflected light (scattered light).

그러나, 종래의 외관 검사 장치에서는, 렌즈나 거울 등의 광학 소자(조명 광학 시스템)에 불균일이나 미세한 상처, 먼지 부착 등의 문제가 발생된 경우에, 이 문제 성분에 의해 혼탁해진 조명광이 기판 표면에 조사되어 버린다. 관찰자는 조명광이 조사된 기판 표면을 육안으로 관찰하여 기판 표면상의 결함을 검지하고 있으므로, 기판 표면에 발현한 광의 변화가 기판 자체의 결함에 의한 것인지 조명 광학 시스템의 문제 성분에 기인하는 것인지를 식별할 수 없다는 문제가 있었다. 이 때문에, 조명 광학 시스템의 문제 성분에 기인하는 의사 결함상(擬似缺陷像)(의사 결함)을 기판 자체의 결함으로 오인한다는 문제가 있었다.However, in the conventional visual inspection apparatus, when problems such as unevenness, minute scratches, and dirt adhere to an optical element (lighting optical system) such as a lens or a mirror, illumination light clouded by this problem component is applied to the substrate surface. It is investigated. The observer visually observes the surface of the substrate to which the illumination light is irradiated and detects a defect on the surface of the substrate. Therefore, the observer can identify whether the change of light expressed on the surface of the substrate is caused by a defect of the substrate itself or a problem component of the illumination optical system. There was a problem that could not. For this reason, there existed a problem that the pseudo defect image (pseudo defect) resulting from the problem component of an illumination optical system was mistaken for the defect of the board | substrate itself.

본 발명은, 상기 사정을 감안하여, 광원이나 광학 소자 등의 문제 성분에 기인하는 의사 결함과 기판 자체의 실제적 결함을 식별 가능한 외관 검사 장치 및 이것을 사용한 외관 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide an appearance inspection apparatus capable of identifying pseudo defects caused by problem components such as a light source and an optical element and actual defects of the substrate itself, and an appearance inspection method using the same.

상기의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 이하의 수단을 제공하고 있다.In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.

본 발명은 기판의 표면으로부터의 반사광을 관찰함으로써 상기 기판의 검사를 행하는 외관 검사 장치에 있어서, 광원과, 상기 광원으로부터 출사되는 조명광에 대해서 매크로(macro) 검사에 적절한 각도로 상기 기판을 유지하는 기판 홀더와, 상기 광원과 함께 조명 광학 시스템을 구성하고, 상기 광원으로부터 출사된 상기 조명광의 광축 또는 초점 위치를 변위시킬 수 있는 적어도 1개의 광학 소자와, 상기 광원 또는 상기 적어도 1개의 광학 소자 중에서 적어도 1개를 요동시켜서 상기 광축 또는 상기 초점 위치를 변위시키는 구동 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.The present invention is an appearance inspection apparatus for inspecting the substrate by observing the reflected light from the surface of the substrate, comprising: a substrate holding the substrate at an angle suitable for macro inspection with respect to the light source and the illumination light emitted from the light source; At least one optical element configured to form an illumination optical system together with a holder, the light source and capable of displacing an optical axis or a focal position of the illumination light emitted from the light source, and at least one of the light source or the at least one optical element. And a drive means for swinging the dog to displace the optical axis or the focal position.

또한, 본 발명은, 기판의 표면으로부터의 반사광을 관찰함으로써 상기 기판 의 검사를 행하는 외관 검사 장치에 있어서, 광원과, 상기 광원으로부터 출사되는 조명광에 대해서 매크로 검사에 적절한 각도로 상기 기판을 유지하는 기판 홀더와, 상기 광원과 상기 광원으로부터 출사되는 상기 조명광을 상기 기판을 향해 편향시키는 반사 거울과, 상기 반사 거울에 의해 반사되는 조명광을 집중시켜 상기 기판의 표면에 조사하는 초점 렌즈로 이루어지는 매크로 조명 광학 시스템과, 상기 초점 렌즈 또는 상기 반사 거울의 판형 광학 소자를 요동시켜서 상기 매크로 조명 광학 시스템의 광축 또는 초점 위치를 변위시키는 구동 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.Moreover, this invention is the external appearance inspection apparatus which test | inspects the said board | substrate by observing the reflected light from the surface of a board | substrate, WHEREIN: The board | substrate which hold | maintains the said board | substrate at an angle suitable for macro inspection with respect to a light source and the illumination light emitted from the said light source. A macro illumination optical system comprising a holder, a reflection mirror for deflecting the light source and the illumination light emitted from the light source toward the substrate, and a focus lens for concentrating the illumination light reflected by the reflection mirror and irradiating the surface of the substrate. And driving means for oscillating the plate-shaped optical element of the focus lens or the reflecting mirror to shift the optical axis or the focus position of the macro illumination optical system.

또한, 본 발명은, 기판 홀더에 유지된 기판의 표면에 대하여 광원으로부터 출사되는 조명광을 소정의 입사 각도로 조사하고, 상기 기판의 표면으로부터의 반사광을 육안으로 관찰함으로써 상기 기판상의 결함을 검사하는 외관 검사 방법에 있어서, 상기 광원 또는 상기 광원으로부터 출사된 조명광의 광축을 변위시킬 수 있는 적어도 1개의 광학 소자 중에서 적어도 1개를 상기 조명광의 광축 방향과 교차하는 방향으로 요동시켜서 상기 조명광을 상기 기판의 표면에 조사함으로써, 상기 광원 및 상기 적어도 1개의 광학 소자로 이루어지는 조명 광학 시스템에 기인하는 의사 결함상을 상기 기판의 표면에서 요동시켜, 의사 결함과, 상기 기판의 표면상에 고정되어 출현하는 실제적 결함을 식별 가능하게 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention is the appearance of inspecting the defect on the substrate by irradiating the illumination light emitted from the light source to the surface of the substrate held by the substrate holder at a predetermined incidence angle and visually observing the reflected light from the surface of the substrate. In the inspection method, at least one of the at least one optical element capable of displacing the optical axis of the light source or the illumination light emitted from the light source is oscillated in a direction crossing the optical axis direction of the illumination light to the surface of the substrate By irradiating on, the pseudo defect image resulting from the illumination optical system composed of the light source and the at least one optical element is oscillated on the surface of the substrate, and the pseudo defect and the actual defect appearing fixed on the surface of the substrate are fixed. It is characterized by enabling identification.

또한, 본 발명은, 기판 홀더에 유지된 기판의 표면에 대해서 광원으로부터 출사되는 조명광을 소정의 입사 각도로 조사하고, 상기 기판의 표면으로부터의 반사광을 육안으로 관찰함으로써 상기 기판상의 결함을 검사하는 외관 검사 방법에 있어서, 상기 광원 또는 상기 광원으로부터 출사된 조명광의 초점 위치를 변위시킬 수 있는 적어도 1개의 광학 소자 중에서 적어도 1개를 광축 방향으로 요동시켜서 상기 조명광의 초점 위치를 변위시키면서 상기 기판의 표면에 조사함으로써, 상기 광원 및 상기 적어도 1개의 광학 소자로 이루어지는 조명 광학 시스템에 기인하는 의사 결함상의 초점 상태를 상기 기판의 표면에서 변화시켜서, 의사 결함과, 상기 기판의 표면상에 고정되어 출현하는 실제적 결함을 식별 가능하게 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention is the appearance of inspecting the defect on the substrate by irradiating the illumination light emitted from the light source to the surface of the substrate held by the substrate holder at a predetermined incidence angle and visually observing the reflected light from the surface of the substrate. In the inspection method, at least one of the at least one optical element capable of displacing the focal position of the light source or the illumination light emitted from the light source is oscillated in the optical axis direction to displace the focal position of the illumination light on the surface of the substrate. By irradiating, the focus state of the pseudo defect image resulting from the illumination optical system which consists of the said light source and the said at least 1 optical element is changed on the surface of the said board | substrate, and the pseudo defect and the actual defect which appear fixed on the surface of the said board | substrate It is characterized by making it possible to identify.

이하, 도 1을 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 관한 외관 검사 장치 및 외관 검사 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, an appearance inspection apparatus and an appearance inspection method according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1.

본 발명의 제1 실시예는 도 1에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 액정 유리 기판의 검사에 사용되는 외관 검사 장치(1)이며, 이 외관 검사 장치(1)는 예를 들면 메탈할라이드(metal halide) 램프 등의 광원(2)과, 광원(2)으로부터 출사되는 광을 제2 거울(제2 반사 거울)(3) 측으로 편향시키는 제1 거울(4)(광학 소자)과, 제1 거울(제1 반사 거울)(4)에 의해 편향된 광을 초점 렌즈(5) 측으로 편향시키는 제2 거울(3)(광학 소자)과, 제2 거울(3)에 의해 편향된 광을 집중시켜 기판(6)의 표면(6a)의 전체면 또는 일부의 넓은 검사 영역에 조사시키는 초점 렌즈(5)(광학 소자)와, 초점 렌즈(5)의 하방에 배치되어 검사 대상이 되는 기판(6)으로서 예를 들면 플랫 패널 디스플레이(FPD)용의 유리 기판을 유지하는 기판 홀더(7)로 구성되어 있다. 여기서, 광원(2), 제1 거울(4), 제2 거울(3), 초점 렌즈(5), 및 기판 홀더(7)는 관찰자(8)가 기판(6)의 표면(6a)을 육안으로 관찰할 수 있도록 관찰자 측의 일 측면(정면)(9a)의 일부를 개구시킨 직사각형 상자 모양의 장치 외곽체(9)에 수납되어 있다. 그리고, 부호 9b는, 정면이 되는 일 측면(9a) 이외의 장치 외곽체(9)를 구성하는 타 측면(배면, 우측면, 좌측면)이다.As shown in Fig. 1, the first embodiment of the present invention is an appearance inspection apparatus 1 used for inspection of, for example, a liquid crystal glass substrate, and the appearance inspection apparatus 1 is, for example, a metal halide. Light source 2, such as a lamp, the 1st mirror 4 (optical element) which deflects the light radiate | emitted from the light source 2 to the 2nd mirror (2nd reflection mirror) 3 side, and the 1st mirror ( The second mirror 3 (optical element) for deflecting the light deflected by the first reflective mirror 4 to the focal lens 5 side, and the light deflected by the second mirror 3 to concentrate the substrate 6. For example, the focal lens 5 (optical element) to irradiate the entire surface or a part of a large inspection area of the surface 6a of the optical lens 6 and the substrate 6 disposed under the focal lens 5 and subjected to inspection, for example It consists of the board | substrate holder 7 holding a glass substrate for flat panel displays (FPD). Here, the light source 2, the first mirror 4, the second mirror 3, the focusing lens 5, and the substrate holder 7 are provided by the observer 8 with the naked eye on the surface 6a of the substrate 6. It is accommodated in the rectangular box-shaped apparatus outer body 9 which opened a part of one side (front surface) 9a of the observer side so that it may be observed. Reference numeral 9b denotes other side surfaces (back surface, right side surface, left side surface) constituting the device outer body 9 other than the one side surface 9a that becomes the front surface.

제1 거울(4)은 직사각형 박판형으로 형성되고, 광원(2)의 출사광 축 상에 설치되는 동시에 거울면(4a)이 제2 거울(3) 측으로 향하도록 경사지게 설치되어 광원(2)으로부터 출사되는 조명광을 장치 외곽체(9)의 상방에 배치된 제2 거울(3)을 향해 반사(편향)시킨다. 또한, 제1 거울(4)에는 예를 들면 모터 등의 회전 구동 수단(10)이 장착되어 있고, 장치 외곽체(9)의 개구 측에 설치된 조작부(11)의 구동 스위치(11a)의 조작에 의해, 회전 구동 수단(10)의 축선(O1) 중심에 소정의 회전 각도의 범위에서 정회전, 역회전(요동)을 반복하여 행하는 것으로 되어 있다. 예를 들면, 조명광의 광축과 교차하는 축 상에서 제1 거울(4)을 주기적으로 수 차례의 미소한 ± 각도로 왕복 회전(요동)시킴으로써, 제2 거울(3)에서 반사되어 기판(6)에 조사되는 조명광의 광축(O2)은 광축(O2)의 직교 방향으로 주기적으로 변위 가능하게 된다. 이 조명광의 광축(O2)의 주기적인 변위(요동)에 의해 기판(6)의 표면에서 조명광의 광속이 요동된다. 여기서, 제1 거울(4)의 주기적인 회전은 광축(O2)이 기판(6)의 표면(6a)에서 10㎜∼100㎜ 정도 변위될 수 있는 미소한 각도로 회전시키도록 행하여진 것이며, 관찰자(8)의 검사 효율의 관점으로부터, 바람직하게는 평면 거리로 30㎜∼70㎜, 보다 바람직하게는 평면 거리로 50㎜ 정도 변위시키도록 주기운동 되는 것이다.The first mirror 4 is formed in a rectangular thin plate shape, is installed on the emission light axis of the light source 2 and is inclined so that the mirror surface 4a faces the second mirror 3 side and exits from the light source 2. The illumination light to be reflected is reflected (deflected) toward the second mirror 3 disposed above the device outer body 9. In addition, the first mirror 4 is equipped with rotation drive means 10 such as a motor, for example, and for operation of the drive switch 11a of the operation portion 11 provided on the opening side of the device outer body 9. Therefore, forward rotation and reverse rotation (swing) are repeatedly performed at the center of the axis line O1 of the rotation drive means 10 in a range of a predetermined rotation angle. For example, by periodically reciprocating (swinging) the first mirror 4 at several small ± angles on an axis intersecting with the optical axis of the illumination light, it is reflected by the second mirror 3 and reflected on the substrate 6. The optical axis O2 of the illumination light which is irradiated becomes periodically displaceable in the orthogonal direction of the optical axis O2. The luminous flux of illumination light fluctuates on the surface of the board | substrate 6 by periodic displacement (swing) of the optical axis O2 of this illumination light. Here, the periodic rotation of the first mirror 4 is done so as to rotate the optical axis O2 at a minute angle that can be displaced by about 10 mm to 100 mm from the surface 6a of the substrate 6, and the observer From the viewpoint of the inspection efficiency of (8), it is a periodic movement so that it may displace about 30 mm-70 mm at plane distance, More preferably, about 50 mm at plane distance.

제2 거울(3)은 직사각형 박판형으로 형성되고, 광원(2)보다 상방의 제1 거울 (4)의 반사광 축 상에 배치되어 있으며, 거울면(3a)이 초점 렌즈(5)로 향하도록 경사지게 설치되어 있다. 또한, 제2 거울(3)은, 장치 외곽체(9)의 관찰자(8) 측의 일 측면(9a)에 평행하게 연장 설치된 회전축(3b)에 회전 가능하게 지지되어 있고, 이 회전축(3b)은 모터 등의 회전 구동 수단(12)에 접속되어 있다. 이 회전 구동 수단(12)은 조작부(11)의 조작에 따라 제2 거울(3)을 회전 제어하여, 초점 렌즈(5)를 통해 조사되는 조명광의 기판(6)의 표면(6a)에 대한 조사 범위를 변경하기 위한 것이며, 예를 들면 제2 거울(3)을 ±30°의 커다란 각도로 회전시킨다.The second mirror 3 is formed in a rectangular thin plate shape and is disposed on the reflected light axis of the first mirror 4 above the light source 2, and is inclined such that the mirror surface 3a faces the focus lens 5. It is installed. Moreover, the 2nd mirror 3 is rotatably supported by the rotating shaft 3b extended in parallel with the one side surface 9a of the observer 8 side of the apparatus outer body 9, This rotating shaft 3b Is connected to rotation drive means 12 such as a motor. The rotation drive means 12 controls the second mirror 3 in accordance with the operation of the operation unit 11 to irradiate the surface 6a of the substrate 6 of the illumination light irradiated through the focus lens 5. For changing the range, for example, the second mirror 3 is rotated at a large angle of ± 30 °.

초점 렌즈(5)는, 예를 들면 직사각형 판형으로 형성된 프레넬 렌즈로 이루어지고, 제2 거울(3)에서 반사된 광을 집중시켜 기판(6)의 표면(6a)을 조사시키기 위한 것이다. 본 실시예에서는, 초점 렌즈(5)를, 광원(2)으로부터 출사된 확산광을 평행 광속으로 변환시키는 제1 프레넬 렌즈와, 이 제1 프레넬 렌즈에 근접하여 배치되고 평행 광속을 집중시키는 제2 프레넬 렌즈로 구성되어 있지만, 1개의 프레넬 렌즈로 구성하는 것도 가능하다. 이하, 이 초점 렌즈(5)를 프레넬 렌즈라고 부르기로 한다.The focus lens 5 is made of, for example, a Fresnel lens formed in a rectangular plate shape, and is for irradiating the surface 6a of the substrate 6 by concentrating the light reflected from the second mirror 3. In the present embodiment, the focusing lens 5 includes a first Fresnel lens for converting the diffused light emitted from the light source 2 into a parallel light beam, and a light beam disposed close to the first Fresnel lens to concentrate the parallel light beam. Although it is comprised by the 2nd Fresnel lens, it is also possible to comprise one Fresnel lens. Hereinafter, this focusing lens 5 will be referred to as a Fresnel lens.

기판 홀더(7)는 직사각형 판형으로 형성되고, 그 상면(7a)에서 기판(6)을 흡착 수단(도시하지 않음)에 의해 지지 가능하게 되어 있다. 또한, 기판 홀더(7)는 프레넬 렌즈(5)에 의해 집중된 조명광이 기판(6)의 표면(6a)에 조사되도록 프레넬 렌즈(5)의 하방에 배치되어 있다. 또한, 기판 홀더(7)는 장치 외곽체(9)의 관찰자(8) 측의 일 측면(9a)에 평행하게 연장 설치된 회전축(7b)에 회전 가능하게 지지 되어 있다. 이 회전축(7b)에는 모터 등의 회전 구동 수단(13)이 접속되고, 조작부 (11)의 구동 스위치(11a)의 조작에 의해, 조명광 아래에서 기판 홀더(7)가 수평 자세로부터 매크로 검사에 적절한 소정의 경사각도로 틸트(tilt) 또는 배면 검사를 위해 반전된다.The board | substrate holder 7 is formed in rectangular plate shape, and can support the board | substrate 6 by the adsorption means (not shown) in the upper surface 7a. Further, the substrate holder 7 is disposed below the Fresnel lens 5 so that the illumination light concentrated by the Fresnel lens 5 is irradiated onto the surface 6a of the substrate 6. In addition, the substrate holder 7 is rotatably supported by a rotating shaft 7b extending in parallel to the one side surface 9a of the observer 8 side of the device outer body 9. Rotation drive means 13, such as a motor, is connected to this rotation shaft 7b, and by the operation of the drive switch 11a of the operation part 11, the board | substrate holder 7 is suitable for macro inspection from a horizontal position under illumination light. Inverts for tilt or backside inspection at a predetermined tilt angle.

이어서, 상기의 구성으로 이루어지는 외관 검사 장치(1)를 이용하여 기판(6)의 검사를 행하는 방법에 대하여 설명한다.Next, the method of inspecting the board | substrate 6 using the external appearance inspection apparatus 1 which consists of said structure is demonstrated.

처음에, 기판 홀더(7)의 상면(7a)의 기준 위치에 기판(6)을 탑재하여 흡착 유지하고, 기판(6)의 원점 좌표의 취득을 행하고, 기판 홀더(7)를 소정의 경사각도로 일으켜세운다. 그 다음에, 광원(2)으로부터 출사된 조명광을 제1 거울(4)과 제2 거울(3)과 프레넬 렌즈(5)를 통하여 기판 홀더(7)에 탑재된 기판(6)에 조사시킨다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 기판 홀더(7)에 탑재된 기판(6)이 크고, 프레넬 렌즈(5)에 의해 집중된 조명광이 기판(6) 전체면을 조사할 수 없는 경우에는, 제2 거울(3)을 회전 구동하고, 제2 거울(3)에서 반사된 조명광을 기판(6) 상에서, 소정의 경사각도로 일으켜세운 기판(6)의 상하 방향으로 주사한다. 기판(6)의 표면(6a)에 조사된 광의 반사광을 관찰자(8)가 관찰하고, 기판(6)의 표면(6a) 상의 결함의 유무를 검사한다. 여기서, 기판(6)의 표면(6a)에 예를 들어 손상이 발생된 경우에는 조사된 조명광은 그 결함에서 난반사되어, 다른 정상적인 부분과는 상이하게 되어 보인다.Initially, the substrate 6 is mounted and adsorbed and held at the reference position of the upper surface 7a of the substrate holder 7, the origin coordinates of the substrate 6 are acquired, and the substrate holder 7 is at a predetermined inclination angle. Raise up. Then, the illumination light emitted from the light source 2 is irradiated to the substrate 6 mounted on the substrate holder 7 via the first mirror 4, the second mirror 3, and the Fresnel lens 5. . As shown in FIG. 1, when the board | substrate 6 mounted in the board | substrate holder 7 is large, and the illumination light concentrated by the Fresnel lens 5 cannot irradiate the board | substrate 6 whole surface, a 2nd mirror (3) is rotationally driven, and the illumination light reflected by the 2nd mirror 3 is scanned on the board | substrate 6 in the up-down direction of the board | substrate 6 which produced | generated at the predetermined inclination-angle. The observer 8 observes the reflected light of the light irradiated onto the surface 6a of the substrate 6, and inspects the presence or absence of a defect on the surface 6a of the substrate 6. Here, when damage occurs, for example, on the surface 6a of the board | substrate 6, the irradiated illumination light is diffusely reflected in the defect, and looks different from other normal parts.

이 매크로 검사 시, 관찰자(8)는 조작부(11)의 조이스틱(11b)을 조작하여 회전 구동 수단(13)을 정역 회전시켜, 조명 하에서 기판(6) 상의 결함이 보이기 쉬운 경사 각도로 기판 홀더(7)를 회전시킨다. 기판 홀더(7)를 관찰자(8)의 관찰에 적 절한 경사 각도로 설정한 후, 조이스틱(11b)을 전후 방향으로 미동시켜 기판 홀더(7)를 전후로 요동시킴으로써, 기판(6)의 표면(6a)에 발생된 결함을 양호하게 검출하는 것이 가능해진다.During this macro inspection, the observer 8 operates the joystick 11b of the operation unit 11 to rotate the rotation drive means 13 forward and backward, so that the substrate holder (at an inclination angle at which the defect on the substrate 6 is easily visible under illumination) is observed. 7) Rotate After setting the substrate holder 7 to an inclination angle suitable for the observation of the observer 8, the joystick 11b is moved back and forth to rock the substrate holder 7 back and forth, thereby allowing the surface 6a of the substrate 6 to be moved. It becomes possible to detect the defect which generate | occur | produced at satisfactorily.

이 육안관찰에 의해 기판(6)의 표면(6a)에 결함이 검출된 경우, 관찰자(8)는 기판 홀더(7)의 미동을 정지시킨다. 이 단계에서 제1 거울(4)에 장착된 회전 구동 수단(10)을 구동시켜, 제1 거울(4)을 소정 각도 범위 내에서 주기적으로 왕복 회전(미소하게 요동)시킨다. 이 제1 거울(4)의 주기적인 요동 운동에 의해, 기판(6)의 표면(6a)에 조사되는 조명광의 광축(O2)은 요동 운동에 종동되어 광축(O3)으로부터 광축(O4)까지의 범위 내에서 변위한다. 관찰자(8)는 이 광축의 주기 변위에 따라 육안관찰에 의해 검출된 결함이 기판(6)의 표면(6a) 상에서 이동되어 있는지 고정되어 있는지를 관찰한다. 즉, 기판(6) 자체에 생긴 실제적 결함이라면, 조명광의 광축(O2)이 광축(O3)으로부터 광축(O4)으로 변위되어도 그 위치는 변화하지 않는 것에 대하여, 조명 광학 시스템의 문제 성분(예를 들면 광학 소자의 표면에 부착된 이물질)에 의해 기판(6)의 표면(6a)에 투영된 의사 결함의 경우에는, 그 의사 결함은 광축의 변위에 의해 기판(6) 상에서 요동된다. 따라서, 육안관찰에 의해 검출된 결함이 주기적으로 요동되고 있는 경우에는 조명 광학 시스템의 문제 성분에 의한 의사 결함인 것으로 판단하고, 기판(6) 상의 실제적 결함이라고 식별할 수 있다. 한편, 광축의 주기 변위에 종동되지 않고, 육안관찰에 의해 검출된 결함이 이동하지 않는 경우에는 이 검출된 결함은 기판(6) 자체의 실제적 결함이라고 판단하고, 예를 들면 레이저-포인터 등을 이용하여 이 실제적 결함의 위치 좌표를 취득( 등록)한다.When a defect is detected on the surface 6a of the substrate 6 by this visual observation, the observer 8 stops the fine movement of the substrate holder 7. In this step, the rotation driving means 10 mounted on the first mirror 4 is driven to periodically reciprocally rotate (slightly swing) the first mirror 4 within a predetermined angle range. By the periodic rocking motion of the first mirror 4, the optical axis O2 of the illumination light irradiated onto the surface 6a of the substrate 6 is driven by the rocking motion and is from the optical axis O3 to the optical axis O4. Displace within the range. The observer 8 observes whether the defect detected by visual observation according to the periodic displacement of this optical axis is moved or fixed on the surface 6a of the substrate 6. That is, if it is a practical defect which arose in the board | substrate 6 itself, even if the optical axis O2 of illumination light is displaced from optical axis O3 to optical axis O4, the position will not change, but the problem component of an illumination optical system (for example, For example, in the case of a pseudo defect projected onto the surface 6a of the substrate 6 by foreign matter adhering to the surface of the optical element, the pseudo defect is oscillated on the substrate 6 by displacement of the optical axis. Therefore, when the defect detected by visual observation is fluctuating periodically, it is judged that it is a pseudo defect by the problem component of an illumination optical system, and can identify that it is an actual defect on the board | substrate 6. As shown in FIG. On the other hand, if it is not driven by the periodic displacement of the optical axis and the defect detected by visual observation does not move, it is determined that the detected defect is an actual defect of the substrate 6 itself, for example, using a laser pointer or the like. To obtain (register) the position coordinates of the actual defect.

검사 되는 기판(6)이 크고, 전체면에 광을 조사하지 못하고, 검사 범위를 분할하여 검사를 행하고 있을 때는, 제2 거울(3)의 각도를 조정하여 각 분할 범위에 조명광을 조사시켜, 전술한 것과 동일한 조작을 반복 행하여, 기판(6) 전체면의 검사를 실시한다.When the board | substrate 6 to be inspected is large and it does not irradiate light to the whole surface, and is inspecting by dividing an inspection range, the angle of the 2nd mirror 3 is adjusted and an illumination light is irradiated to each division range, The same operation as that described above is repeatedly performed to inspect the entire surface of the substrate 6.

따라서, 상기의 구성으로 이루어지는 외관 검사 장치(1)에 있어서는, 제2 거울(3)에 비해 작은 제1 거울(4)에 회전 구동 수단(10)을 설치함으로써, 회전 구동 수단(10)의 축선(01) 중심으로 정회전, 역회전(요동)을 주기적으로 반복하여, 제1 거울(4)을 미소 각도로 왕복 회전시킬 수 있어, 프레넬 렌즈(5)에 의해 집중되어 기판(6)의 표면(6a)에 조사되는 조명광의 광축(O2)을 광축(O3)으로부터 광축(O4)까지의 범위 내에서 주기적으로 변위시킬 수 있다. 이로써, 육안관찰에 의해 검출된 결함 중, 광축(O2)의 주기 변위에 종동되어 기판(6) 상에서 주기적으로 요동되어 조명 광학 시스템의 문제 성분에 기인하는 의사 결함과 기판(6) 자체에 생긴 실제적 결함을 식별할 수 있다.Therefore, in the external appearance inspection apparatus 1 which consists of said structure, by providing the rotation drive means 10 in the 1st mirror 4 smaller than the 2nd mirror 3, the axis of the rotation drive means 10 is provided. (01) It is possible to periodically rotate the first mirror 4 reciprocally at a slight angle by periodically repeating the forward rotation and the reverse rotation (swing) about the center, and concentrated by the Fresnel lens 5 to The optical axis O2 of the illumination light irradiated to the surface 6a can be periodically displaced within the range from the optical axis O3 to the optical axis O4. Thereby, among the defects detected by visual observation, it is driven by the periodic displacement of the optical axis O2 and periodically fluctuates on the substrate 6 to cause the pseudo defects caused by the problem components of the illumination optical system and the actual occurrence of the substrate 6 itself. Defects can be identified.

상기의 구성으로 이루어지는 외관 검사 장치(1)를 사용한 외관 검사 방법에 의하면, 종래의 방법에서는 할 수 없었던, 조명 광학 시스템의 문제 성분에 기인하는 의사 결함과 기판(6) 자체의 실제적 결함을 확실하게 식별할 수 있어, 외관 검사에서의 결함의 검출 정밀도를 향상시킬 수 있다.According to the external appearance inspection method using the external appearance inspection apparatus 1 which consists of said structure, the pseudo defect resulting from the trouble component of the illumination optical system and the actual defect of the board | substrate 6 itself which cannot be performed by the conventional method are reliably ensured. It can identify and improve the detection precision of the defect in an external inspection.

이와 같이 조명 광학 시스템을 요동시킴으로써, 조명 광학 시스템에 기인하는 의사 결함과 기판(6) 상의 실제적 결함을 확실하게 식별하여 기판(6) 상의 실제 적 결함만을 검출하는 것이 가능하게 되어, 예를 들면, 다음 공정에서 행하는 현미경 등을 사용한 결함의 상세 관찰의 수고를 줄일 수 있고, 기판 검사에 필요한 시간을 줄일 수 있다.By oscillating the illumination optical system in this manner, it is possible to reliably identify pseudo defects caused by the illumination optical system and actual defects on the substrate 6, so that only the actual defects on the substrate 6 can be detected, for example, The trouble of detailed observation of the defect using the microscope etc. which are performed in the next process can be reduced, and the time required for board | substrate inspection can be reduced.

그리고, 본 발명은 상기의 제1 실시예에 한정되지 않고, 그 취지를 벗어나지 않는 범위에서 적절히 변경 가능하다. 예를 들면, 기판(6)의 표면(6a)에 조사되는 조명광의 광축(O2) 또는 조명광의 초점 위치를 주기적으로 변위시키는 수단으로서, 제1 거울(4) 외에, 광원(2), 또는 제2 거울(3)이나, 광원(2)의 가까이에 배치된 렌즈나, 프레넬 렌즈(5) 등의 조명 광학 시스템에 배치되는 광학 소자 중에서 적어도 하나를 요동시키면 된다. 예를 들면 제1 거울(4), 제2 거울(3), 프레넬 렌즈(5) 등의 판형 광학 소자의 주변을 주기적으로 가압하여 만곡시켜, 조명광의 광축 또는 초점 위치(A)를 변위시키거나 조명 광학 시스템을 구성하는 적어도 1개의 광학 소자를 광축(O2)과 교차하는 평면 내에서 일 방향 또는 타 방향으로, 연속 또는 간헐적으로 이동시켜 조명광의 광축을 변위시켜도 된다. 또한, 회전 구동 수단(10)에 의해 각 광학 소자를 주기적으로 요동하는 것으로 했지만, 조명 광학 시스템에 기인하여 기판(6) 상에 출현하는 의사 결함이 관찰자(8)의 육안으로 인식할 수 있으면 주기적으로 요동시킬 필요가 없고 불규칙하게 요동시켜도 된다. 또한, 제1 실시예에서는, 제1 거울(4) 및 제2 거울(3)을 이용하여 광원(2)으로부터 출사되는 조명광을 편향시키는 구성으로 하고 있지만, 제1 거울(4)을 이용하지 않고 광원(2)으로부터의 조명광을 직접 제2 거울(3)에 조사시키는 구성으로 해도 된다. 이들 구성에 있어서, 조명 광학 시스템을 구성하는 적어도 1개의 광학 소자를 요동시켜, 기판(6)에 조사되는 조명광의 광축을 변위시키거나 조명광의 초점 위치(A)를 변위시키는 구동 수단을 설치함으로써, 조명 광학 시스템의 문제 성분에 기인한 의사 결함 여부를 식별하는 것이 가능하다.In addition, this invention is not limited to said 1st Example, It can change suitably in the range which does not deviate from the meaning. For example, as a means for periodically displacing the optical axis O2 of the illumination light irradiated onto the surface 6a of the substrate 6 or the focal position of the illumination light, in addition to the first mirror 4, the light source 2, or the first What is necessary is just to oscillate at least one of the two mirrors 3, the lens arrange | positioned near the light source 2, and the optical element arrange | positioned at illumination optical systems, such as the Fresnel lens 5 and the like. For example, the periphery of the plate-shaped optical elements such as the first mirror 4, the second mirror 3, and the Fresnel lens 5 is periodically pressed to bend to displace the optical axis or the focus position A of the illumination light. Alternatively, the optical axis of the illumination light may be displaced by moving at least one optical element constituting the illumination optical system continuously or intermittently in one direction or the other in the plane crossing the optical axis O2. In addition, although each optical element was made to rock | flux periodically by the rotation drive means 10, if the pseudo defect which appears on the board | substrate 6 due to the illumination optical system can be recognized visually by the observer 8, it will periodically. It is not necessary to rock it, and it may be made to swing it irregularly. In the first embodiment, the first and second mirrors 4 and 3 are used to deflect the illumination light emitted from the light source 2, but without using the first mirror 4. It is good also as a structure which irradiates the 2nd mirror 3 with the illumination light from the light source 2 directly. In these configurations, by oscillating at least one optical element constituting the illumination optical system and providing driving means for displacing the optical axis of the illumination light irradiated onto the substrate 6 or displacing the focal position A of the illumination light, It is possible to identify whether a pseudo defect is due to a problem component of the illumination optical system.

다음에, 도 2를 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 관한 외관 검사 장치 및 외관 검사 방법에 대하여 설명한다.Next, with reference to FIG. 2, the external appearance inspection apparatus and external appearance inspection method which concerns on the 2nd Example of this invention are demonstrated.

본 발명의 제2 실시예는, 도 1에 나타낸 제1 실시예와 마찬가지로, 예를 들면 FPD용의 유리 기판의 검사에 이용되는 외관 검사 장치(20)에 관한 것이다. 여기서, 제1 실시예에 관한 외관 검사 장치(1)와 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하고 상세한 설명을 생략하는 것으로 한다. 그리고, 도 2에서는 관찰자(8)(도 2에서는 도시하지 않음) 측으로부터 외관 검사 장치(20)의 내부를 보았을 때의 형태를 나타내고 있다. 또한, 도 2에서는 기판(6)이 매크로 검사에 적절한 소정의 경사각도(45°~60°)가 되도록 축선(O5)을 중심으로 하여 회전시킨 상태를 나타내고 있다.The second embodiment of the present invention, like the first embodiment shown in FIG. 1, relates to an appearance inspection apparatus 20 used for inspection of a glass substrate for FPD, for example. Here, about the structure similar to the appearance inspection apparatus 1 which concerns on 1st Example, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted. In addition, in FIG. 2, the form at the time of seeing the inside of the external appearance inspection apparatus 20 from the observer 8 (not shown in FIG. 2) is shown. In addition, in FIG. 2, the board | substrate 6 has shown the state rotated centering on the axis line O5 so that it may become predetermined angle of inclination (45 degrees-60 degrees) suitable for macro inspection.

도 2에 나타낸 외관 검사 장치(20)는 제1 실시예와 달리, 광원(2)으로부터 출사되는 광의 광축을 편향시키기 위한 거울은 설치되어 있지 않다. 한편, 기판(6)의 표면(6a)에 조명광을 조사 가능하게 하기 위해 소정의 각도로 고정된 2개의 프레넬 렌즈(5)와, 각각의 프레넬 렌즈(5)에 광을 조사시키는 2개의 광원(2)이 설치되어 있다. 또한, 각각의 광원(2)은 프레넬 렌즈(5)에 대향하여 설치되고, 프레넬 렌즈(5)보다도 장치 외곽체(9)의 상방 위치에 배치되어 있다. 또한, 광원(2)에는, 예를 들면 직동 액츄에이터 등의 구동 수단(21)이 장착되어 있어, 이 구동 수 단(21)에 의해 광원(2)이 X 방향(광축 방향)으로 왕복이동(요동)되어, 주기적으로 미동하는 것으로 되어 있다. 그리고, 구동 수단(21)은, 예를 들면 도 1에 나타낸 조작부(11)의 구동 스위치(11a)(도 2에서는 도시하지 않음)의 조작에 따라 제어된다. 여기서, 광원(2)의 주기적인 미동은 프레넬 렌즈(5)의 초점 위치가 광축(O2) 선상에서 예를 들면 50㎜ 내지 150㎜ 정도 변위시키도록 행해지는 것이며, 관찰자의 검사 효율의 관점으로부터, 바람직하게는 초점 위치의 변위 거리로서 100㎜ 정도 변위시키도록 광원(2)을 광축(02) 선상을 따라 주기적으로 왕복이동시키는 것이다. 그리고, 참조부호 2b는 광원(2)의 커버이다.Unlike the first embodiment, the appearance inspection apparatus 20 shown in FIG. 2 is not provided with a mirror for deflecting the optical axis of the light emitted from the light source 2. On the other hand, two Fresnel lenses 5 fixed at a predetermined angle to enable illumination of light to the surface 6a of the substrate 6, and two Fresnel lenses 5 for irradiating light to the respective Fresnel lenses 5 The light source 2 is provided. In addition, each light source 2 is provided opposite to the Fresnel lens 5, and is disposed at an upper position of the device outer body 9 than the Fresnel lens 5. The light source 2 is also equipped with drive means 21 such as a linear actuator, for example, and the light source 2 reciprocates in the X direction (optical axis direction) by this drive means 21. It is supposed to slow down periodically. And the drive means 21 is controlled by operation of the drive switch 11a (not shown in FIG. 2) of the operation part 11 shown in FIG. 1, for example. Here, the periodic fine movement of the light source 2 is performed so that the focal position of the Fresnel lens 5 is shifted, for example, about 50 mm to 150 mm on the optical axis O2 line, from the viewpoint of the inspection efficiency of the observer. Preferably, the light source 2 is periodically reciprocated along the line of the optical axis 02 so as to displace about 100 mm as the displacement distance of the focal position. Reference numeral 2b denotes a cover of the light source 2.

이하에서는, 상기의 구성으로 이루어지는 외관 검사 장치(20)를 이용하여 기판(6)의 검사를 행하는 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the method of inspecting the board | substrate 6 using the external appearance inspection apparatus 20 which consists of said structure is demonstrated.

각 광원(2)으로부터 광을 출사시켜, 각 프레넬 렌즈(5)를 통하여 기판 홀더(7)에 탑재된 기판(6)에 광을 조사시킨다. 기판 홀더(7)에 탑재된 기판(6)에는 2개의 프레넬 렌즈(5)에 의해 집중된 조명광이 조사된다. 광원(2)에 장착된 구동 수단(21)을 구동시키지 않을 때의 프레넬 렌즈(5)에 의한 조명광의 초점 위치는, 각각 초점 위치(B)로 되어 있다.Light is emitted from each light source 2, and light is irradiated to the substrate 6 mounted on the substrate holder 7 via each Fresnel lens 5. Illumination light concentrated by two Fresnel lenses 5 is irradiated onto the substrate 6 mounted on the substrate holder 7. The focal positions of the illumination light by the Fresnel lens 5 when the drive means 21 attached to the light source 2 are not driven are the focal positions B, respectively.

그 다음에, 기판 홀더(7)를 관찰에 적절한 경사 각도로 회전 구동시킨 상태에서, 기판(6)의 표면(6a)을 조명광 아래에서 관찰하고, 결함이 검출된 경우에는 각각의 광원(2)에 장착된 구동 수단(21)을 구동하고, 광원(2)을 광축(O2) 선상에서 주기적으로 요동시키고, 또한 미소한 범위에서 왕복이동시킨다. 이 광원(2)의 왕복이동에 의해 기판(6)의 표면(6a)에 조사되는 조명광의 초점 위치(B)는, 광축(O2) 의 방향을 유지하면서 초점 위치(C)까지 변위한다. 관찰자는 이 초점 위치(B)로부터 초점 위치(C)의 주기 변위에 따라, 기판(6) 상에 출현한 결함이 기판(6)의 표면(6a) 상에서, 예를 들면 대소 변화(확대, 축소)하거나, 선명도의 변화 등 초점 상태가 변화하고 있는지, 또는 전혀, 또는 거의 변화가 없는지를 관찰한다. 변화가 인지된 경우에는, 조명 광학 시스템의 광학 소자의 문제 성분에 의해 기판(6) 상에 투영된 의사 결함인 것이라고 판단한다. 한편, 광원(2)의 왕복이동에 종동되지 않고, 육안관찰에 의해 검출한 결함이 기판(6)의 표면(6a) 상에서 변화하지 않는 경우에는, 이 육안관찰로 검출된 결함은 기판(6) 상의 실제적 결함인 것으로 판단하고, 예를 들면 레이저-포인터 등을 이용하여 실제적 결함의 위치 좌표를 취득(등록)한다.Then, in the state in which the substrate holder 7 is rotationally driven at an inclination angle suitable for observation, the surface 6a of the substrate 6 is observed under illumination light, and each light source 2 when a defect is detected. The drive means 21 mounted in the drive unit is driven to periodically swing the light source 2 on the optical axis O2 line and to reciprocate in a small range. By the reciprocating movement of this light source 2, the focus position B of illumination light irradiated to the surface 6a of the board | substrate 6 displaces to the focal position C, maintaining the direction of the optical axis O2. The observer observes that, in accordance with the periodic displacement of the focal position C from this focal position B, the defects appearing on the substrate 6 are changed on the surface 6a of the substrate 6, for example, in small and large variations (magnification, reduction). Or if the focus state such as the change in sharpness is changing, or if there is little or no change at all. When a change is recognized, it is judged that it is a pseudo defect projected on the board | substrate 6 by the problem component of the optical element of the illumination optical system. On the other hand, when the defect detected by visual observation does not change on the surface 6a of the board | substrate 6, and is not driven by the reciprocating movement of the light source 2, the defect detected by this visual observation is the board | substrate 6 It is determined that the image is an actual defect, and the position coordinates of the actual defect are acquired (registered) using, for example, a laser pointer.

따라서, 상기의 구성으로 이루어지는 외관 검사 장치(20)에서는, 광원(2)에 구동 수단(21)을 설치하고, 광축 상에서 왕복이동을 주기적으로 반복함으로써, 프레넬 렌즈(5)에 의해 집중되는 조명광의 초점 위치를 B와 C의 사이에서 주기적으로 변위시킬 수 있다. 이로써, 기판(6)의 표면(6a)에 출현한 결함 중, 초점 위치의 주기 변위에 종동되어 변화하는 조명 광학 시스템의 문제 성분에 의한 의사 결함과, 종동되지 않아 변화하지 않는 기판(6) 자체의 실제적 결함을 식별할 수 있다.Therefore, in the external appearance inspection apparatus 20 which consists of the said structure, the illumination means concentrated by the Fresnel lens 5 by providing the drive means 21 in the light source 2, and repeating reciprocating movement periodically on an optical axis. The focal position of can be periodically displaced between B and C. Thereby, the pseudo defect by the problem component of the illumination optical system which changes and follows the periodic displacement of a focal position among the defect which appeared in the surface 6a of the board | substrate 6, and the board | substrate 6 itself which does not follow and does not change The actual defect of can be identified.

그리고, 본 발명은 상기의 제2 실시예에 한정되지 않고, 그 취지를 벗어나지 않는 범위에서 적절히 변경 가능하다. 예를 들면, 기판(6)의 표면(6a)에 조사되는 광의 초점 위치(초점 거리)를 주기적으로 변위시키는 수단으로서, 광원(2)에 구동 수단(21)을 설치하는 것으로 했지만, 광원(2)의 렌즈(2a)나 프레넬 렌즈(5)를 광축 (O2) 방향으로 왕복이동시켜서 조명광의 초점 위치를 변위시키거나, 광축(O2) 방향을 유지하면서 프레넬 렌즈(5)를 주기적으로 만곡시켜서 조명광의 초점 위치를 변위시켜도 되는 것이다. 또한, 제2 실시예에서는, 광원(2) 및 프레넬 렌즈(5)를 복수 개 구비하는 구성으로 하고 있지만, 각각의 수량은 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 광원(2)으로부터 출사되는 조명광을 편향시키기 위한 거울을 구비하고, 이 거울을 광축 방향으로 왕복이동 또는 만곡 변위시켜 초점 위치를 변위시켜도 되는 것이다. 또한, 제2 실시예에서는 조명 광학 시스템을 구성하는 적어도 1개의 광학 소자를 이동시켜 조명광의 초점 위치를 주기적으로 변위시키는 것에 한정되지 않고, 관찰자가 조명 광학 시스템의 문제 성분에 기인하는 의사 결함을 식별 가능하도록 초점 위치가 변위되면 된다.In addition, this invention is not limited to said 2nd Example, It can change suitably in the range which does not deviate from the meaning. For example, although the driving means 21 is provided in the light source 2 as a means for periodically displacing the focal position (focal length) of the light irradiated onto the surface 6a of the substrate 6, the light source 2 The lens 2a or Fresnel lens 5 in the optical axis (O2) to reciprocate to shift the focus position of the illumination light, or periodically curved the Fresnel lens (5) while maintaining the optical axis (O2) direction It is also possible to shift the focus position of the illumination light. In the second embodiment, the light source 2 and the Fresnel lens 5 are provided in plural, but the respective quantities are not particularly limited. In addition, a mirror for deflecting the illumination light emitted from the light source 2 may be provided, and the mirror may be reciprocated or bent in the optical axis direction to displace the focus position. Further, the second embodiment is not limited to periodically shifting the focus position of the illumination light by moving at least one optical element constituting the illumination optical system, and the observer identifies a pseudo defect due to a problem component of the illumination optical system. The focal position may be shifted as much as possible.

본 발명에 관한 외관 검사 장치에 의하면, 광원과 광학 소자 중에서 적어도 1개를 요동시켜, 광축 또는 초점 위치를 변위시킬 수 있다. 이로써, 육안관찰에 의해 검출된 결함 중, 광축 또는 초점 위치의 변위에 종동되어 요동되는 기판상에 투영된 의사 결함과 기판 자체에 발생된 실제적 결함을 식별할 수 있다.According to the appearance inspection apparatus which concerns on this invention, at least 1 of a light source and an optical element can be rocked | shifted, and an optical axis or a focal position can be displaced. Thereby, among the defects detected by visual observation, it is possible to identify pseudo defects projected on the substrate which is driven by the displacement of the optical axis or the focal position and the actual defects generated on the substrate itself.

Claims (10)

기판의 표면으로부터의 반사광을 관찰함으로써 상기 기판의 검사를 행하는 외관 검사 장치에 있어서,In the appearance inspection apparatus which inspects the said board | substrate by observing the reflected light from the surface of a board | substrate, 광원,Light Source, 상기 광원으로부터 출사되는 조명광에 대해서 매크로(macro) 검사에 적절한 각도로 상기 기판을 유지하는 기판 홀더,A substrate holder for holding the substrate at an angle suitable for macro inspection with respect to the illumination light emitted from the light source, 상기 광원과 함께 조명 광학 시스템을 구성하고, 상기 광원으로부터 출사된 상기 조명광의 광축 또는 초점 위치를 변위시킬 수 있는 하나 이상의 광학 소자, 및At least one optical element that constitutes an illumination optical system together with the light source and capable of displacing an optical axis or focal position of the illumination light emitted from the light source, and 상기 광원 또는 상기 하나 이상의 광학 소자 중에서 적어도 하나를 요동시켜서 상기 광축 또는 상기 초점 위치를 변위시키는 구동 수단Drive means for displacing the optical axis or the focal position by oscillating at least one of the light source or the one or more optical elements 을 포함하는 외관 검사 장치.Appearance inspection device comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 수단은, 상기 광원 또는 상기 하나 이상의 광학 소자 중에서 적어도 하나를 상기 조명광의 광축과 교차하는 방향으로 요동시켜서 상기 조명 광학 시스템의 상기 광축을 변위시키는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치.And the driving means oscillates at least one of the light source or the one or more optical elements in a direction crossing the optical axis of the illumination light to displace the optical axis of the illumination optical system. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 수단은, 상기 광원 또는 상기 하나 이상의 광학 소자 중에서 적어도 하나를 상기 광축의 방향으로 요동시켜서 상기 초점 위치를 변위시키는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치.And the driving means shifts the focal position by swinging at least one of the light source or the one or more optical elements in the direction of the optical axis. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 구동 수단은, 상기 광원 또는 상기 하나 이상의 광학 소자 중에서 적어도 하나를 주기적으로 미동(微動)시키는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치.And the driving means periodically fine-tunes at least one of the light source and the one or more optical elements. 기판의 표면으로부터의 반사광을 관찰함으로써 상기 기판의 검사를 행하는 외관 검사 장치에 있어서,In the appearance inspection apparatus which inspects the said board | substrate by observing the reflected light from the surface of a board | substrate, 광원,Light Source, 상기 광원으로부터 출사되는 조명광에 대해서 매크로 검사에 적절한 각도로 상기 기판을 유지하는 기판 홀더,A substrate holder for holding the substrate at an angle suitable for macro inspection with respect to the illumination light emitted from the light source, 상기 광원과 상기 광원으로부터 출사되는 상기 조명광을 상기 기판을 향해 편향시키는 반사 거울, 및 상기 반사 거울에 의해 반사되는 조명광을 집중시켜 상기 기판의 표면에 조사하는 초점 렌즈로 이루어지는 매크로 조명 광학 시스템, 및A macro illumination optical system comprising a reflection mirror for deflecting the light source and the illumination light emitted from the light source toward the substrate, and a focus lens for concentrating the illumination light reflected by the reflection mirror and irradiating the surface of the substrate; 상기 초점 렌즈 또는 상기 반사 거울의 판형 광학 소자를 요동시켜서 상기 매크로 조명 광학 시스템의 광축 또는 초점 위치를 변위시키는 구동 수단Drive means for oscillating the plate-shaped optical element of the focus lens or the reflecting mirror to shift the optical axis or the focal position of the macro illumination optical system 을 포함하는 외관 검사 장치.Appearance inspection device comprising a. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 반사 거울은, 상기 광원과 상기 초점 렌즈 사이에 배치되고, 상기 매크로 조명 광학 시스템의 광축을 굴절시키는 제1 반사 거울 및 상기 제1 반사 거울 보다 큰 제2 반사 거울로 이루어지며,The reflecting mirror is disposed between the light source and the focus lens, and comprises a first reflecting mirror that refracts an optical axis of the macro illumination optical system and a second reflecting mirror larger than the first reflecting mirror, 상기 구동 수단은 상기 제1 반사 거울 및 상기 제2 반사 거울의 한쪽을 요동시키는The driving means oscillates one of the first reflecting mirror and the second reflecting mirror. 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치.Appearance inspection apparatus, characterized in that. 제5항 또는 제6항에 있어서,The method according to claim 5 or 6, 상기 구동 수단은, 상기 조명광의 반사 각도가 변위되도록 상기 반사 거울을 소정의 회전 각도의 범위 내에서 요동시키는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치.And said driving means oscillates said reflection mirror within a range of a predetermined rotational angle such that the reflection angle of said illumination light is displaced. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 구동 수단은, 상기 판형 광학 소자 중 하나를 주기적으로 만곡시켜서 상기 초점 위치를 변위시키는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치.And the drive means is configured to periodically bend one of the plate-shaped optical elements to displace the focal position. 기판 홀더에 유지된 기판의 표면에 대하여 광원으로부터 출사되는 조명광을 소정의 입사 각도로 조사하고, 상기 기판 표면으로부터의 반사광을 육안으로 관찰함으로써 상기 기판상의 결함을 검사하는 외관 검사 방법에 있어서,In the external appearance inspection method which inspects the defect on the said board | substrate by irradiating the illumination light radiate | emitted from a light source with a predetermined incidence angle with respect to the surface of the board | substrate hold | maintained at the board | substrate holder, and visually observing the reflected light from the said board | substrate surface, 상기 광원 또는 상기 광원으로부터 출사된 조명광의 광축을 변위시킬 수 있 는 하나 이상의 광학 소자 중에서 적어도 하나를 상기 조명광의 광축 방향과 교차하는 방향으로 요동시켜서 상기 조명광을 상기 기판의 표면에 조사함으로써, 상기 광원 및 상기 하나 이상의 광학 소자로 이루어지는 조명 광학 시스템에 기인하는 의사 결함상(擬似缺陷像)을 상기 기판의 표면에서 요동시켜, 의사적 결함과 상기 기판의 표면상에 고정되어 출현하는 실제적 결함을 식별 가능하게 하는Irradiating the surface of the substrate with the illumination light by oscillating at least one of the light source or one or more optical elements capable of displacing the optical axis of the illumination light emitted from the light source in a direction crossing the optical axis direction of the illumination light. And a pseudo defect image caused by the illumination optical system consisting of the one or more optical elements is oscillated on the surface of the substrate, so that the pseudo defect and the actual defect appearing fixed on the surface of the substrate can be identified. Letting 외관 검사 방법.Appearance inspection method. 기판 홀더에 유지된 기판의 표면에 대하여 광원으로부터 출사되는 조명광을 소정의 입사 각도로 조사하고, 상기 기판 표면으로부터의 반사광을 육안으로 관찰함으로써 상기 기판상의 결함을 검사하는 외관 검사 방법에 있어서, In the external appearance inspection method which inspects the defect on the said board | substrate by irradiating the illumination light radiate | emitted from a light source with a predetermined incidence angle with respect to the surface of the board | substrate hold | maintained at the board | substrate holder, and visually observing the reflected light from the said board | substrate surface, 상기 광원 또는 상기 광원으로부터 출사된 조명광의 초점 위치를 변위시킬 수 있는 하나 이상의 광학 소자 중에서 적어도 하나를 광축 방향으로 요동시켜서 상기 조명광의 초점 위치를 변위시키면서 상기 기판의 표면에 조사함으로써, 상기 광원 및 상기 하나 이상의 광학 소자로 이루어지는 조명 광학 시스템에 기인하는 의사 결함상의 초점 상태를 상기 기판의 표면에서 변화시켜, 의사적 결함과 상기 기판의 표면상에 고정되어 출현하는 실제적 결함을 식별 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 외관 검사 방법.At least one of the light source or one or more optical elements capable of displacing the focal position of the illumination light emitted from the light source is oscillated in the optical axis direction to irradiate the surface of the substrate while displacing the focal position of the illumination light, thereby causing the light source and the The focal state of the pseudo defect caused by the illumination optical system composed of one or more optical elements is changed on the surface of the substrate, so that the pseudo defect and the actual defect appearing fixed on the surface of the substrate can be identified. Appearance inspection method.
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