KR20060085507A - Levelling sensing unit for susceptor of single wafer type thermal process apparatus - Google Patents

Levelling sensing unit for susceptor of single wafer type thermal process apparatus Download PDF

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KR20060085507A KR1020050006404A KR20050006404A KR20060085507A KR 20060085507 A KR20060085507 A KR 20060085507A KR 1020050006404 A KR1020050006404 A KR 1020050006404A KR 20050006404 A KR20050006404 A KR 20050006404A KR 20060085507 A KR20060085507 A KR 20060085507A
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Abstract

본 발명은 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛에 관한 것으로서, 서셉터 가장자리에 걸쳐 안착되는 원판형의 유닛 몸체와 유닛 몸체에 장착되어 서셉터의 수평유무를 감지하는 수평감지부를 포함하되, 수평감지부는 서셉터 상면과의 거리값을 감지하는 다수개의 거리감지센서와, 서셉터의 수평을 감지하는 수평감지센서와, 거리감지센서들과 수평감지센서로부터 감지값을 표시기에 표시하는 제어부를 구비함으로써, 서셉터 정기점검시, 작업자가 웨이퍼가 안착되는 서셉터 상부의 수평을 표시기를 실시간으로 관찰하여 조절가능하여 서셉터 수평 불량으로 인한 제품 불량을 최소화하는 효과가 있다.The present invention relates to a horizontal sensing unit for a susceptor of a sheet type heat treatment facility, and includes a disc-shaped unit body seated across a susceptor edge and a horizontal sensing unit mounted on the unit body to sense whether the susceptor is horizontal or not. The horizontal sensing unit includes a plurality of distance sensing sensors for sensing a distance value from the upper surface of the susceptor, a horizontal sensing sensor for sensing the horizontality of the susceptor, and a control unit for displaying the detected values from the distance sensing sensors and the horizontal sensing sensor on the display. In this case, when the susceptor is periodically checked, the operator can adjust the horizontal level of the susceptor on which the wafer is seated by adjusting the indicator in real time, thereby minimizing product defects due to the susceptor horizontal failure.

Description

매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛{LEVELLING SENSING UNIT FOR SUSCEPTOR OF SINGLE WAFER TYPE THERMAL PROCESS APPARATUS}LEVELLING SENSING UNIT FOR SUSCEPTOR OF SINGLE WAFER TYPE THERMAL PROCESS APPARATUS}

도 1은 종래의 매엽식 열처리설비를 개략적으로 보여주는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a conventional sheet type heat treatment equipment.

도 2는 본 발명에 따른 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛을 보여주는 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing a susceptor horizontal sensing unit of the sheet-type heat treatment equipment according to the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 선 I-I′를 따르는 단면도이다.3 is a cross-sectional view along the line I-I 'shown in FIG.

도 4는 본 발명에 따른 수평감지유닛의 동작을 보여주는 블록도이다.4 is a block diagram showing the operation of the horizontal sensing unit according to the present invention.

** 도면의 주요부분에 대한 부호설명 **** Explanation of Signs of Major Parts of Drawings **

200 : 서셉터200: susceptor

400 : 수평감지유닛400: horizontal sensing unit

410 : 유닛 몸체410: unit body

450 : 거리감지센서450: distance sensor

440 : 수평감지센서440: horizontal sensor

460 : 제어부460: control unit

470 : 표시기470 indicator

480 : 경보기480: Alarm

490 : 수평감지부
490 horizontal sensing unit

본 발명은 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 매엽식 열처리설비 내부에 장착되는 서셉터의 수평을 맞춰 서셉터 상에 안착되는 웨이퍼의 수평을 유지시키기 위한 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a susceptor horizontal sensing unit of a single wafer heat treatment equipment, and more particularly, to maintain the level of the wafer seated on the susceptor by leveling the susceptor mounted inside the single heat treatment equipment. It relates to a horizontal sensing unit for susceptors of lobe heat treatment equipment.

일반적으로 웨이퍼 표면에 성막을 처리설비에는 한 번에 다수 매의 웨이퍼에 성막처리를 하는 배치식(Batch type) 열처리설비와, 한 매씩 처리하는 매엽식(Single wafer type) 열처리설비가 있다. 따라서 성막의 종류나 제조량등에 따라 설비를 적절하게 분간하여 사용해야 한다.In general, there are a batch type heat treatment facility for forming a film on a wafer surface and a single wafer type heat treatment facility for processing a plurality of wafers at a time, and a single wafer type heat treatment facility for processing one by one. Therefore, it is necessary to use the equipment appropriately according to the type of film formation and the production amount.

도 1을 참조로 하면, 통상, 매엽식 열처리설비는 웨이퍼(W) 한 매를 이송장치(미도시)를 통해 챔버(100) 내의 반응실(120)로 인입시킨 후, 서셉터(200) 상에 안착시키고, 이와 같이 서셉터(200) 상에 안착된 웨이퍼(W)에 대해 서셉서(200) 자체 또는 서셉터(200) 하부에 설치된 내부히터(250)와 챔버(100)내부에 내설된 외부히터(130)를 가열함으로써 반응실(120) 내부를 공정온도로 형성시켜 웨이퍼(W)에 대한 열처리 공정을 수행한다.Referring to FIG. 1, in general, a sheet type heat treatment apparatus introduces a wafer W into a reaction chamber 120 in a chamber 100 through a transfer device (not shown), and then onto the susceptor 200. The internal heater 250 installed inside the susceptor 200 itself or the lower susceptor 200 with respect to the wafer W seated on the susceptor 200 is installed inside the chamber 100. By heating the external heater 130, the inside of the reaction chamber 120 is formed at a process temperature to perform a heat treatment process on the wafer (W).

상기와 같은 설비는 공정을 진행 한 후, 또는 공정을 진행하기 전에 챔버(100)에 대한 정기점검을 실시한다. 이때, 서셉터(200)를 세팅하게 되는데, 서셉터 (200)의 상부는 그 하부의 내부히터(250)로 부터의 열을 용이하게 전달하기 위하여 석영 또는 흑연판등으로 형성된다.Such a facility performs a periodic inspection of the chamber 100 after the process or before the process. At this time, to set the susceptor 200, the upper part of the susceptor 200 is formed of a quartz or graphite plate or the like in order to easily transfer the heat from the lower inner heater 250.

그러나 일반적으로 서셉터(200)는 상기와 같은 석영판등과 더불어 다수개의 구성품이 결합되는 형태로 조립되고, 이와 같이 조립된 서셉터(200)는 챔버(100) 내부에 장착됨으로써 공정 준비를 마친다. 이때, 작업자는 웨이퍼(W)가 서셉터(200) 상에서 슬라이딩 되는지 유무를 확인하는 작업을 한다.However, in general, the susceptor 200 is assembled in such a manner that a plurality of components are combined with the quartz plate as described above. . At this time, the worker checks whether the wafer (W) is sliding on the susceptor (200).

웨이퍼(W) 슬라이딩 확인 작업은 서셉터(200) 상에 웨이퍼(W)를 안착시킨 후, 서셉터(200) 하부에 장착된 웨이퍼 리프터(290)를 승하강 구동시킴으로써 웨이퍼(W)가 서셉터(200)상에서 슬라이딩되는지 유무를 확인한다. 그러나 웨이퍼(W)의 슬라이딩이 발생하는 경우, 상기와 같은 방법으로서는 웨이퍼(W)와 서셉터(200) 상의 공기마찰로 인한 슬라이딩인지, 서셉터(200) 자체가 미세하게 경사져서 발생하는 슬라이딩인지 판별하기가 난해한 문제점이 발생한다.In the wafer W sliding check operation, the wafer W is seated on the susceptor 200, and then the wafer W is susceptor by driving the wafer lifter 290 mounted below the susceptor 200 up and down. Check if the sliding on the (200). However, when the sliding of the wafer (W) occurs, as described above, whether the sliding due to the air friction on the wafer (W) and the susceptor 200, or whether the susceptor 200 itself is a sliding caused by a slight inclination A problem that is difficult to determine occurs.

또한, 서셉터(200)가 미세하게 경사진 상태에서 웨이퍼(W)에 대한 공정이 진행되면, 웨이퍼(W)가 기울어진 상태에서 웨이퍼(W) 표면에 성막이 형성되므로 웨이퍼(W) 표면 상 어느 한쪽에만 지나치게 많은 양의 성막이 형성되어 제품불량을 야기하는 문제점이 있다.In addition, if a process is performed on the wafer W in a state in which the susceptor 200 is inclined finely, a film is formed on the surface of the wafer W while the wafer W is inclined and thus on the surface of the wafer W. There is a problem that an excessively large amount of film formation is formed on only one side, causing product defects.

따라서 본 발명의 목적은 정기점검시 챔버내에 장착되어 웨이퍼가 안착되는 서셉터 상에 별도의 수평감지유닛을 사용하여 서셉터의 수평을 조절한 후, 웨이퍼에 대한 성막처리를 진행하게 함으로써 웨이퍼 상에 균일하게 성막처리를 하게 함 은 물론, 이로 인해 제품수율의 향상을 도모하도록 한 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛을 제공함에 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to adjust the susceptor horizontally using a separate horizontal sensing unit on the susceptor on which the wafer is seated in the chamber during the periodic inspection, and then perform a film forming process on the wafer. It is to provide a horizontal sensing unit for the susceptor of the single-sheet heat treatment equipment to facilitate the film formation process, thereby improving the product yield.

전술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛은 서셉터 가장자리에 걸쳐 안착되는 원판형의 유닛 몸체; 및 상기 유닛 몸체에 장착되어 상기 서셉터의 수평유무를 감지하는 수평감지부를 포함한다.Susceptor horizontal sensing unit of the sheet-type heat treatment equipment of the present invention for solving the above problems is a disk-shaped unit body seated across the susceptor edge; And a horizontal sensing unit mounted on the unit body to sense whether the susceptor is horizontal.

여기서 상기 수평감지부는 상기 유닛 몸체 저면에 장착되어 상기 서셉터 가장자리를 제외한 상기 서셉터 상면과의 거리값을 감지하는 다수개의 거리감지센서인 것이 바람직하다.The horizontal sensing unit may be a plurality of distance sensing sensors mounted on the bottom of the unit body to sense distance values from the susceptor upper surface except for the susceptor edge.

그리고 상기 수평감지부에는 상기 거리감지센서들로부터 감지된 거리값을 표시기로 표시하는 제어부를 구비하는 것이 바람직하다. 따라서 제어부는 상기 거리감지센서들로부터의 상기 서셉터 상면과의 거리값들을 작업자에게 실시간으로 알려준다.In addition, the horizontal sensing unit preferably includes a control unit for displaying the distance values detected by the distance detecting sensors with an indicator. Therefore, the controller informs the operator of the distance values from the distance sensors to the susceptor upper surface in real time.

또한 상기 거리감지센서들은 상기 유닛 몸체 저면 가장자리를 따라 균등 간격으로 장착된 것이 바람직하다.In addition, the distance sensors are preferably mounted at equal intervals along the bottom edge of the unit body.

여기서 상기 거리감지센서들은 수광부와 발광부로 구성된 광센서와, 초음파센서와, 적외선센서 중 어느 하나인 것이 바람직하다.Here, the distance sensors are preferably any one of an optical sensor, an ultrasonic sensor, and an infrared sensor composed of a light receiving unit and a light emitting unit.

한편 상기 수평감지부는 상기 유닛 몸체 상면 중앙에 장착되어 상기 서셉터의 수평을 감지하는 수평감지센서인 것이 바람직하다. On the other hand, the horizontal sensing unit is preferably mounted on the center of the upper surface of the unit body is a horizontal sensing sensor for sensing the horizontal of the susceptor.                     

여기서 상기 수평감지부에는 상기 수평감지센서에서 감지된 수평값을 표시기로 표시하는 제어부를 구비하는 것이 바람직하다. 따라서 작업자는 서셉터의 수평정도를 실시간 확인할 수 있다.Here, the horizontal sensing unit preferably includes a control unit for displaying the horizontal value detected by the horizontal sensing sensor as an indicator. Therefore, the operator can check the level of susceptor in real time.

또한 상기 수평감지센서는 전자식 수평게이지와 물방울 수평게이지 중 어느 하나인 것이 바람직하다.In addition, the horizontal sensor is preferably any one of the electronic horizontal gauge and the droplet horizontal gauge.

그리고 상기 수평감지부의 제어부에는 상기 거리감지센서들로부터 감지된 거리값 중 어느 하나의 거리값이 다르거나, 상기 전자식 수평감지센서의 수평값이 어느 소정값으로 되는 경우 작업자에게 경보를 알리는 경보기가 추가로 장착되는 것이 바람직하다.In addition, an alarm for notifying an operator is added to the controller of the horizontal detection unit when a distance value of any one of the distance values detected by the distance detection sensors is different or the horizontal value of the electronic horizontal detection sensor becomes a predetermined value. It is preferable to be equipped with.

또 한편, 상기 수평감지부는 상기 거리감지센서들과 상기 수평감지센서를 구비하는 것이 바람직하다.
On the other hand, the horizontal sensing unit is preferably provided with the distance sensor and the horizontal sensor.

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여, 본 발명의 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛의 실시예들을 설명하도록 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described embodiments of the susceptor horizontal sensing unit of the sheet-type heat treatment equipment of the present invention.

먼저, 본 발명에 따르는 제 1실시예를 설명하도록 한다.First, the first embodiment according to the present invention will be described.

도 2 및 도 3을 참조로 하면, 본 발명에 따르는 제 1실시예는 도 1에 도시된 원형의 서셉터(200) 가장자리에 걸쳐 안착되는 원판형의 유닛 몸체(410)가 마련되고, 유닛 몸체(410)에 장착되어 서셉터(200)의 수평유무를 감지하는 수평감지부(490)를 구비한다(도 4참조.).2 and 3, the first embodiment according to the present invention is provided with a disc-shaped unit body 410 seated over the edge of the circular susceptor 200 shown in FIG. It is mounted to the 410 is provided with a horizontal detecting unit 490 for detecting the presence or absence of the susceptor 200 (see Fig. 4).

도 4에 도시된 수평감지부(490)는 유닛 몸체(410) 저면에 장착되되, 유닛 몸 체(410) 저면 외주부를 따라 균등 간격으로 바람직하게는 4개가 장착된 거리감지센서들(450)이며, 이 거리감지센서들(450)은 수광부와 발광부로 구성된 광센서와, 초음파센서와, 적외선센서 중 어느 하나를 채용할 수 있다.The horizontal sensing unit 490 illustrated in FIG. 4 is mounted on the bottom of the unit body 410, and is preferably four distance detecting sensors 450 mounted at equal intervals along the outer circumference of the bottom of the unit body 410. The distance sensors 450 may employ any one of an optical sensor, a light sensor, an infrared sensor, and an infrared sensor.

또한, 도 4를 참조하면, 수평감지부(490)에는 상기와 같은 거리감지센서들(450)로부터 각각의 장착위치에서 거리값을 전달받아 표시기(470)에 표시시켜주는 제어부(460)가 장착되고, 제어부(460)는 상기 4개의 거리감지센서들(450)에서 감지된 거리값들 중 어느 하나의 거리값이 다른 경우, 작업자에게 경보를 알려주는 경보기(480)가 더 장착된다.In addition, referring to Figure 4, the horizontal detection unit 490 is equipped with a control unit 460 for receiving the distance value from each of the mounting position from the above-described distance sensor 450 to display on the display 470 The controller 460 is further equipped with an alarm 480 for notifying an operator of an alarm when any one of the distance values detected by the four distance sensors 450 is different.

물론, 제어부(460)에는 4개의 거리감지센서들(450)로 부터의 거리값들을 비교할 경우, 최소한의 오차값이 기설정되어 있다. 이러한 오차값은 거리값으로 주어지며, 서셉터(200) 상에 안착되는 도 1에 도시된 웨이퍼(W)가 성막 공정 등을 진행할 때, 제품불량이 발생하지 않은 조건의 값이다. 즉, 서셉터(200)의 최소한의 경사값인 것이다.Of course, when comparing the distance values from the four distance sensors 450 in the controller 460, a minimum error value is preset. This error value is given as a distance value, and is a value of a condition in which product defects do not occur when the wafer W shown in FIG. 1 seated on the susceptor 200 performs a film forming process or the like. That is, it is the minimum inclination value of the susceptor 200.

따라서 공정전 정기점검시, 서셉터(200) 상부에 상기와 같은 수평감지유닛(400)을 장착하여, 유닛 몸체(410) 저면과 서셉터(200) 상면과의 다수 지점에서의 거리값을 표시해 줌으로써 작업자는 서셉터(200)의 어느 위치에서 경사지게 되었는지를 판단할 수 있다. 또한, 거리감지센서(450)는 실시간으로 장착위치에서의 상기 거리값들을 표시기(470)에 표시해 줌으로써 작업자는 표시기(470)를 통해 거리감지센서(450)들이 장착된 부분의 서셉터(200)를 조절함으로써 서셉터(200)의 수평을 조절할 수 있다. 따라서 서셉터(200) 상부에 안착되는 웨이퍼(W)를 수평으로 유지 한 상태에서 성막 공정을 진행하게 하여, 웨이퍼(W) 표면 상에 균일한 성막을 형성시킬 수 있고, 이에 따라 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.
Therefore, during the periodic inspection before the process, by mounting the above-described horizontal sensing unit 400 on the susceptor 200, and displays the distance value at a plurality of points between the bottom of the unit body 410 and the upper surface of the susceptor 200 By zooming in, the operator can determine at which position of the susceptor 200 the inclination is made. In addition, the distance sensor 450 displays the distance values at the mounting position in real time on the indicator 470, so that the operator can display the susceptor 200 at the portion where the distance sensors 450 are mounted through the indicator 470. By adjusting the horizontal level of the susceptor 200 can be adjusted. Therefore, the film forming process may be performed while the wafer W seated on the susceptor 200 is horizontally formed to form a uniform film formation on the surface of the wafer W, thereby increasing the yield of the product. Can be improved.

다음은 본 발명에 따른 제 2실시예를 설명하도록 한다.Next will be described a second embodiment according to the present invention.

도 2 및 도 3을 참조로 하면, 본 발명에 따르는 제 2실시예는 상기 제 1실시예에서와 같이 서셉터(200) 상부에 안착되는 원판형의 유닛 몸체(410)가 구비되되, 유닛 몸체(410) 중앙 상면에 전기적으로 수평을 감지하는 수평감지센서(440)를 구비한 수평감지부(490)(도 4참조.)가 설치되고, 서셉터(200) 상부에 유닛 몸체(410)가 안착된 상태에서 서셉터(200)의 수평을 감지하도록 된다. 여기서 수평감지센서(440)는 전자식 수평게이지인 것이 좋다.2 and 3, the second embodiment according to the present invention is provided with a disc-shaped unit body 410 seated on the susceptor 200 as in the first embodiment, the unit body A horizontal detecting unit 490 (see FIG. 4) having a horizontal detecting sensor 440 electrically detecting a horizontal level is installed on a central upper surface, and a unit body 410 is provided on the susceptor 200. In the seated state it is to detect the horizontality of the susceptor 200. The horizontal sensor 440 is preferably an electronic horizontal gauge.

여기서 도 4를 참조 하면, 수평감지부(490)에는 수평감지센서(440)로부터 감지된 수평값을 표시기(470)에 표시해주는 제어부(460)가 더 설치된다. 그리고 제어부(460)는 상기 수평값을 기설정된 최소한의 수평오차값과 비교하여, 감지된 수평값이 최소한의 수평오차값 범위 내에서 벗어나면 작업자에게 경보를 알리는 경보기(480)가 추가로 설치된다.Referring to FIG. 4, the horizontal sensing unit 490 is further provided with a controller 460 which displays the horizontal value detected by the horizontal sensing sensor 440 on the display 470. In addition, the controller 460 compares the horizontal value with a predetermined minimum horizontal error value and additionally installs an alarm 480 for notifying an operator when the detected horizontal value is out of the minimum horizontal error value range. .

여기서 최소한의 수평오차값은 상기 제 1실시예에서 설명한 거리감지센서들(450)로부터의 최소한의 오차값과의 목적과 부합된다. 즉, 감지된 수평값이 최소한의 수평오차값 범위 안에 포함되는 값인 경우, 웨이퍼(W)에 대한 성막공정을 진행함에 있어 웨이퍼(W)에 영향을 미치지 않는 값이다.Here, the minimum horizontal error value corresponds to the purpose of the minimum error value from the distance detection sensors 450 described in the first embodiment. That is, when the detected horizontal value is a value within the minimum horizontal error value range, the value does not affect the wafer W in the film forming process for the wafer W.

따라서 서셉터(200) 정기점검시 서셉터(200) 상부에 유닛 몸체(410)를 올려 놓고, 제어부(460)는 유닛 몸체(410) 상에 장착된 전자식 수평게이지등의 수평감지센서(440)로부터 감지된 수평값을 표시기(470)에 실시간으로 표시해 줌으로써 작업자가 상기 제 1실시예에서와 같이 서셉터(200)의 수평을 조절할 수 있게 한다.
Accordingly, when the susceptor 200 is periodically checked, the unit body 410 is placed on the susceptor 200, and the controller 460 is a horizontal sensor 440 such as an electronic horizontal gauge mounted on the unit body 410. By displaying the detected horizontal value on the display 470 in real time, the operator can adjust the level of the susceptor 200 as in the first embodiment.

다음은 본 발명에 따른 제 3실시예를 설명하도록 한다.Next will be described a third embodiment according to the present invention.

도 2 및 도 3을 참조로 하면, 본 발명에 따르는 제 3실시예는 상기 제 1,2실시예에서 설명한 다수개의 거리감지센서들(450)과, 수평감지센서(440)를 구비한 수평감지부(490)가 유닛 몸체(410) 상에 설치되는데, 다수개의 거리감지센서들(450)은 상기 제 1실시예에서와 같이 4개가 유닛 몸체(410) 저면 외주부를 따라 균등하게 장착되고, 수평감지센서(440)는 상기 제 2실시예에서와 같이 장착된다.2 and 3, the third embodiment according to the present invention is a horizontal sensing having a plurality of distance sensing sensors 450 and the horizontal sensing sensor 440 described in the first and second embodiments. The unit 490 is installed on the unit body 410. The plurality of distance detection sensors 450 are equally mounted along the outer periphery of the bottom of the unit body 410 as in the first embodiment, and horizontally. The detection sensor 440 is mounted as in the second embodiment.

여기서, 수평감지센서(440)는 상기 제 1실시예에서와 같은 전자식 수평게이지인 것이 좋다.Here, the horizontal sensor 440 is preferably an electronic horizontal gauge as in the first embodiment.

그리고 수평감지부(490)에는 제어부(460)가 더 설치되는데, 이는 거리감지센서들(450)로부터 감지된 거리값들과 수평감지센서(440)로부터 감지된 수평값을 전달받아 표시기(470)에 표시해 준다.In addition, the control unit 460 is further installed in the horizontal detection unit 490, which receives the distance values detected by the distance detection sensors 450 and the horizontal values detected by the horizontal detection sensor 440, and then displays the indicator 470. Mark on

또한, 제어부(460)는 상기 제 1,2실시예에서와 같이 감지되는 거리값에 따른 최소한의 오차값과, 감지되는 수평값에 따른 최소한의 수평오차값이 모두 기설정된 상태로 되고, 감지되는 거리값과 수평값이 상기 오차값과 수평오차값의 범위를 벗어나게 되면 경보를 알리는 경보기(480)를 더 갖는다.In addition, the control unit 460 is the minimum error value according to the detected distance value and the minimum horizontal error value according to the detected horizontal value as in the first and second embodiments are all set in a predetermined state, It further has an alarm 480 for notifying the alarm when the distance value and the horizontal value are out of the range of the error value and the horizontal error value.

따라서 서셉터(200) 정기점검시, 상기와 같이 구성되는 수평감지유닛(400)을 그 상부에 유닛 몸체(410)를 안착시킨 상태에서, 작업자가 표시기(470)를 보면서 서셉터(200)의 수평상태를 확인 할 수 있게 한다. 즉, 제어부(460)는 표시기(470)를 통해 실시간으로 감지되는 상기 거리값과, 수평값이 표시하고, 오차값들과 비교하여 수평상태를 경보기(480)를 통해 알림으로써, 작업자가 경보가 멈출 수 있는 조건으로 서셉터(200)의 수평을 조절할 수 있게 하고, 이어, 그리고 경보가 멈출 수 있도록 상기 서셉터(200)의 수평을 조절하게되어 상기 거리값과, 수평값이 각각에 해당하는 오차값 범위 안에 들게 하는 것이다.
Therefore, when the susceptor 200 is periodically inspected, in a state in which the unit body 410 is seated on the upper portion of the horizontal sensing unit 400 configured as described above, the operator looks at the indicator 470 of the susceptor 200. Allows you to check the level. That is, the controller 460 displays the distance value and the horizontal value detected in real time through the indicator 470, and notifies the horizontal state through the alarm 480 in comparison with the error values, so that the operator is alerted. It is possible to adjust the level of the susceptor 200 in a condition that can be stopped, and then to adjust the level of the susceptor 200 so that the alarm can be stopped, the distance value and the horizontal value corresponding to each It is to be within the error range.

한편, 상기 제 2,3실시예에서 설명한 거리감지센서들(450)은 유닛 몸체(410) 저면 외주부를 따라 균등 간격으로 4개를 배치하도록 하였으나, 3개로 배치하여, 서셉터(200)의 수평상태를 조절하게 할 수도 있다.Meanwhile, although the four distance detection sensors 450 described in the second and third embodiments are arranged at equal intervals along the outer periphery of the bottom surface of the unit body 410, the distance detection sensors 450 are arranged in three and horizontally of the susceptor 200. You can also control the condition.

또 한편, 상기 제 2,3실시예에서 설명한 수평감지센서(440)는 전자식 수평게이지지를 바람직하게 채용하였으나, 이외에, 물방울 수평게이지를 사용할 수도 있다. 이와 같이 물방울 수평게이지를 상기 제 2실시예에 채용하는 경우, 작업자가 육안으로 물방울이 게이지 내부 중심부에 위치하도록 서셉터(200)의 수평을 조절하며, 상기 제 3실시예에 채용하는 경우, 제어부(460)는 거리감지센서들(450)로 부터의 거리값을 표시기(470) 및 경보기(480)를 통해 작업자에게 알려주어 상기와 같이 서셉터(200)의 수평을 조절함과 아울러 물방울 수평게이지를 보면서 수평을 조절하게 한다.
On the other hand, the horizontal detection sensor 440 described in the second and third embodiments preferably employs the electronic horizontal gauge support, in addition, it is also possible to use a water droplet horizontal gauge. As described above, in the case where the water droplet horizontal gauge is employed in the second embodiment, the operator visually adjusts the level of the susceptor 200 so that the water droplets are located in the center of the gauge. 460 notifies the operator of the distance values from the distance sensors 450 through the indicator 470 and the alarm 480, and adjusts the level of the susceptor 200 as described above. To adjust the level.

따라서 본 발명에 의하면, 매엽식 열처리설비의 챔버내에서 공정을 진행하기 전 서셉터 정기점검시, 작업자가 웨이퍼가 안착되는 서셉터를 표시기 및 경보기를 통해 실시간으로 관찰하면서 수평을 조절하게 함으로써, 종래의 실제 웨이퍼를 서셉터에 안착시킨 상태에서 육안으로 수평을 조절하는 불편함 및 그로인한 서셉터의 수평 오차를 해소하였으며, 서셉터 수평 불량으로 인한 제품 불량을 최소화하여 제품의 수율을 향상시키도록 하는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, when the susceptor regular inspection before the process in the chamber of the single-layer heat treatment equipment, the operator adjusts the horizontal while observing the susceptor on which the wafer is seated in real time through the indicator and alarm, It eliminates the inconvenience of horizontal leveling and the susceptor's horizontal error caused by the actual wafer seated on the susceptor, and improves the product yield by minimizing product defects caused by the susceptor's horizontal defect. It works.

Claims (8)

서셉터 가장자리에 걸쳐 안착되는 원판형의 유닛 몸체; 및A disc shaped unit body seated across the susceptor edge; And 상기 유닛 몸체에 장착되어 상기 서셉터의 수평유무를 감지하는 수평감지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.And a horizontal sensing unit mounted to the unit body to sense a horizontal presence of the susceptor. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수평감지부는 상기 유닛 몸체 저면에 장착되어 상기 서셉터 가장자리를 제외한 상기 서셉터 상면과의 거리값을 감지하는 다수개의 거리감지센서인 것을 측징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.And the horizontal sensing unit is a plurality of distance sensing sensors mounted on the bottom of the unit body to sense distance values from the upper surface of the susceptor except for the susceptor edge. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 수평감지부에는 상기 거리감지센서들로부터 감지된 거리값을 표시기로 표시하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.The horizontal sensing unit has a horizontal sensing unit for a susceptor of a sheet type heat treatment facility, characterized in that it comprises a control unit for displaying the distance value detected by the distance sensing sensors as an indicator. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 거리감지센서들은 상기 유닛 몸체 저면 가장자리를 따라 균등 간격으로 장착된 것을 특징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.The distance detecting sensor is a horizontal sensing unit for a susceptor of a single-leaf type heat treatment facility, characterized in that mounted at equal intervals along the edge of the bottom surface of the unit body. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 거리감지센서들은 수광부와 발광부로 구성된 광센서와, 초음파센서와, 적외선센서 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.The distance sensing sensor is a horizontal sensor unit for a susceptor of a single-leaf heat treatment equipment, characterized in that any one of the light sensor, the light sensor and the light emitting unit consisting of a light emitting unit, infrared sensor. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수평감지부는 상기 유닛 몸체 상면 중앙에 장착되어 상기 서셉터의 수평을 감지하는 수평감지센서인 것을 특징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.The horizontal sensing unit is a horizontal sensing unit for a single wafer heat treatment equipment, characterized in that the horizontal sensing sensor mounted on the center of the upper surface of the unit body for detecting the horizontal of the susceptor. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 수평감지부에는 상기 수평감지센서에서 감지된 수평값을 표시기로 표시하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.The horizontal sensing unit has a horizontal sensing unit for a susceptor of a single-leaf type heat treatment equipment, characterized in that it comprises a control unit for displaying the horizontal value detected by the horizontal sensing sensor with an indicator. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 수평감지센서는 전자식 수평게이지와 물방울 수평게이지 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 매엽식 열처리설비의 서셉터용 수평감지유닛.The horizontal sensor is a horizontal sensing unit for a susceptor of the single-leaf heat treatment equipment, characterized in that any one of the electronic horizontal gauge and the droplet horizontal gauge.
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KR101388226B1 (en) * 2011-12-09 2014-04-23 주식회사 케이씨텍 Atomic layer deposition apparatus to detect deformation of susceptor
KR101471548B1 (en) * 2011-03-23 2014-12-12 세메스 주식회사 Substrate processing apparatus and substrate position detecting method

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