KR20060073170A - Load lock chamber for manufacturing lcd - Google Patents

Load lock chamber for manufacturing lcd Download PDF

Info

Publication number
KR20060073170A
KR20060073170A KR1020040112041A KR20040112041A KR20060073170A KR 20060073170 A KR20060073170 A KR 20060073170A KR 1020040112041 A KR1020040112041 A KR 1020040112041A KR 20040112041 A KR20040112041 A KR 20040112041A KR 20060073170 A KR20060073170 A KR 20060073170A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shaft
main body
bellows assembly
load lock
plate
Prior art date
Application number
KR1020040112041A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이재현
윤성권
김용남
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020040112041A priority Critical patent/KR20060073170A/en
Publication of KR20060073170A publication Critical patent/KR20060073170A/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67201—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 액정표시장치 제조용 로드락 챔버에 관한 것으로, 본 발명의 액정표시장치 제조용 로드락 챔버는, 진공 상태로 유지되는 내부 공간을 갖는 본체와; 상기 본체에 상하로 승강 가능하게 설치되며, 기판이 안착되는 안착부와; 상기 본체의 하부에 구동유닛에 의해 상하로 승강하는 승강판과; 상기 본체의 하부와 상기 승강판 사이에 본체와 외부 공간 간의 기밀을 유지하도록 상,하단부가 각각 본체의 하부면과 승강판 상부면에 고정되게 설치되는 신축가능한 벨로우즈 어셈블리와; 그 하단부가 상기 벨로우즈 어셈블리의 하단부에 일체로 고정되며, 상기 벨우즈 어셈블리의 상단부 및 상기 본체의 하부면을 차례로 관통하여 그 상단부가 상기 안착부에 고정되게 연결되는 샤프트를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device includes: a main body having an internal space maintained in a vacuum state; A seating part installed on the main body so as to be movable up and down, and on which a substrate is mounted; An elevating plate which is lifted up and down by a driving unit in a lower portion of the main body; An elastic bellows assembly having upper and lower ends fixed to the lower surface of the main body and the upper surface of the elevating plate so as to maintain the airtightness between the main body and the external space between the lower part of the main body and the elevating plate; The lower end is integrally fixed to the lower end of the bellows assembly, characterized in that it comprises a shaft through which the upper end of the bellows assembly and the lower surface of the main body in turn and the upper end is fixed to the seating portion .

이와 같은 본 발명에 따르면, 상기 샤프트가 벨로우즈 어셈블리의 내측에 일체로 형성되므로 샤프트의 결합 부위를 통한 리크 현상이 완전히 방지될 수 있게 된다. According to the present invention as described above, since the shaft is integrally formed inside the bellows assembly, leakage through the coupling portion of the shaft can be completely prevented.

액정표시장치, 로드락 챔버, 샤프트, 벨로우즈 어셈블리, 리크LCD, Load Lock Chamber, Shaft, Bellows Assembly, Leak

Description

액정표시장치 제조용 로드락 챔버{Load Lock Chamber for Manufacturing LCD}Load Lock Chamber for Manufacturing LCD

도 1은 종래의 액정표시장치 제조용 로드락 챔버의 구조를 나타낸 요부 단면도1 is a cross-sectional view illustrating main parts of a conventional load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device.

도 2는 도 1의 로드락 챔버의 샤프트 및 벨로우즈의 결합구조를 보여주는 요부 단면도Figure 2 is a cross-sectional view showing the main portion showing the coupling structure of the shaft and the bellows of the load lock chamber of Figure 1

도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 로드락 챔버의 구조를 나타낸 요부 단면도3 is a cross-sectional view illustrating main parts of a load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 로드락 챔버의 샤프트 및 벨로우즈의 결합구조를 보여주는 요부 단면도4 is a cross-sectional view illustrating main parts of a coupling structure of a shaft and a bellows of the load lock chamber of FIG. 3.

도 5는 본 발명에 따른 로드락 챔버의 샤프트 및 벨로우즈의 결합구조의 다른 실시예를 보여주는 요부 단면도Figure 5 is a cross-sectional view of the main portion showing another embodiment of the coupling structure of the shaft and bellows of the load lock chamber according to the present invention;

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1 : 본체 2 : 안착부1 body 2 seating unit

3 : 승강판 4 : 공압실린더3: lifting plate 4: pneumatic cylinder

50 : 벨로우즈 어셈블리 501 : 상판50: bellows assembly 501: top plate

502 : 하판 503 : 벨로우즈 502: Bottom 503: Bellows                 

505 : 볼트 506 : 너트 505: bolt 506: nut

507 : 보스 60 : 샤프트507: boss 60: shaft

601 : 하부 샤프트 602 : 상부 샤프트601: lower shaft 602: upper shaft

603 : 암나사부 604 : 수나사부603: female thread part 604: male thread part

607 : 나사산부607: thread

본 발명은 액정표시장치의 기판을 제조하는 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정표시장치의 기판이 안착되는 안착부를 승강시키는 구동부의 샤프트와 벨로우즈의 결합 구조를 개선하여 상기 샤프트 및 벨로우즈의 결합부위를 통한 리크(leak) 현상을 방지할 수 있도록 한 액정표시장치 제조용 로드락 챔버에 관한 것이다. The present invention relates to a device for manufacturing a substrate of a liquid crystal display device, and more particularly, to improve the coupling structure of the shaft and the bellows of the drive unit for elevating the mounting portion on which the substrate of the liquid crystal display device is seated. The present invention relates to a load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device which can prevent a leak phenomenon through the liquid crystal display device.

일반적으로, 액정표시장치의 기판을 제조하기 위한 여러 공정들중 많은 공정들이 프로세스 챔버(process chamber)를 사용하여 이루어지고 있는데, 이러한 프로세스 챔버들의 내부에는 고진공, 고온, 고압 등과 같은 특수한 환경 조건이 조성된다. 이와 같은 프로세스 챔버의 특수한 환경조건은 그 내부로의 직접적인 기판 공급시 기판에 대한 스트레스(stress)로 작용하여 기판의 손상을 유발할 수 있으며, 아울러 프로세스 챔버 내부로의 직접적인 기판 공급은 정밀하게 유지되어야 할 프로세스 챔버 내부의 환경 조건을 불안정하게 만드는 요인으로 작용할 수 있다. In general, many of the processes for manufacturing a substrate of a liquid crystal display are performed using a process chamber, in which special environmental conditions such as high vacuum, high temperature, and high pressure are formed. do. Such special environmental conditions of the process chamber may act as a stress on the substrate when directly supplying the substrate into the substrate, which may cause damage to the substrate, and the supply of the substrate directly into the process chamber should be maintained precisely. It can act as an unstable factor in the environmental conditions inside the process chamber.                         

로드락 챔버(Load Lock Chamber)는 이러한 문제들을 방지하고자 사용되는 일종의 완충용 챔버로, 기판이 프로세스 챔버 내로 공급되기에 앞서 프로세스 챔버 내의 환경 조건에 근접한 환경 조건을 접할 수 있도록 하며, 또한 프로세스 챔버 내의 환경 조건이 외부로부터 영향을 받지 않도록 차단하는 차단 지역으로서의 역할을 할 수 있도록 구성되어 있다. A load lock chamber is a type of buffer chamber used to prevent these problems. The load lock chamber provides access to environmental conditions close to those in the process chamber before the substrate is fed into the process chamber. It is configured to act as a blocking area to block environmental conditions from being influenced from the outside.

로드락 챔버는 일반적으로 기판의 출입을 위한 도어가 구비된 본체와, 기판이 안착되는 안착부와, 상기 안착부를 상하로 일정 높이로 승강시키는 구동부와, 상기 구동부에 대한 제어를 수행하는 제어부 등을 포함한 구조를 하고 있다.The load lock chamber generally includes a main body having a door for entering and exiting a substrate, a seating portion on which the substrate is seated, a driving portion for elevating the seating portion to a predetermined height, a controller for controlling the driving portion, and the like. It has a structure to include.

이하, 첨부된 도면의 도 1과 도 2를 참조하여 종래의 액정표시장치 기판의 제조공정 중 스퍼터공정(sputter process)에 이용되고 있는 로드락 챔버의 구조에 대해 보다 상세히 설명한다. Hereinafter, a structure of a load lock chamber used in a sputter process of a conventional liquid crystal display substrate manufacturing process will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2 of the accompanying drawings.

도 1에 도시된 것과 같이, 로드락 챔버는 본체(1) 내부에 기판(P)이 안착되는 안착부(2)가 상하로 승강 운동 가능하게 설치되고, 본체(1)의 하부에 상기 안착부(2)를 승강 운동시키기 위한 구동부가 설치된 구성으로 이루어진다. 상기 본체(1)의 내부는 진공으로 유지된다.As shown in FIG. 1, in the load lock chamber, a seating part 2 on which the substrate P is seated is installed in the main body 1 so that the lifting part can be lifted up and down, and the seating part is located below the main body 1. It consists of the structure provided with the drive part for raising and lowering (2). The interior of the body 1 is maintained in vacuum.

상기 구동부는 공압실린더(4)와, 상기 공압실린더(4)의 작동에 의해 상하로 승강 운동하는 승강판(3)과, 상기 본체(1)의 하부면을 관통하여 상기 승강판(3)과 안착부(2)를 연결하는 샤프트(6)와, 상기 본체(1)의 하부면과 승강판(3) 사이에서 상기 각 샤프트(6)를 통한 공기의 누출을 방지하는 벨로우즈 어셈블리(5)로 구성된다. The driving part is a pneumatic cylinder (4), the lifting plate 3 to move up and down by the operation of the pneumatic cylinder (4), and the lifting plate (3) through the lower surface of the main body (1) A shaft 6 connecting the seating part 2 and a bellows assembly 5 which prevents leakage of air through the respective shafts 6 between the lower surface of the main body 1 and the elevating plate 3. It is composed.                         

도 2에 도시된 것과 같이, 상기 벨로우즈 어셈블리(5)는 본체(1)의 하부면에 고정되는 상판(51)과, 상기 승강판(3)의 상면에 고정되는 하판(52)과, 상단부 및 하단부가 각각 상기 상판(51)과 하판(52)에 밀폐되게 고정되며 상기 샤프트(6)를 둘러싸는 벨로우즈(53)로 이루어진다. As shown in FIG. 2, the bellows assembly 5 includes an upper plate 51 fixed to the lower surface of the main body 1, a lower plate 52 fixed to the upper surface of the elevating plate 3, an upper end portion, and The lower end is fixed to the upper plate 51 and the lower plate 52, respectively, and consists of a bellows 53 surrounding the shaft 6.

상기와 같이 구성된 벨로우즈 어셈블리(5)와 샤프트(6)는 다음과 같이 조립된다.The bellows assembly 5 and the shaft 6 configured as described above are assembled as follows.

먼저, 벨로우즈 어셈블리(5)의 상판(51)과 하판(52)을 각각 본체(1)의 하부면과 승강판(3)의 상부면에 볼트(55) 및 너트(56)를 이용하여 고정한다.First, the upper plate 51 and the lower plate 52 of the bellows assembly 5 are fixed to the lower surface of the main body 1 and the upper surface of the elevating plate 3 using bolts 55 and nuts 56, respectively. .

이어서, 상기 승강판(3)의 하측에서부터 벨로우즈 어셈블리(5)의 상판(51) 및 하판(52) 중앙에 형성된 샤프트 관통공을 통해 샤프트(6)를 삽입하여 관통시킨 다음, 샤프트(6) 하단부를 볼트(61)를 이용하여 승강판(3)에 하부면에 고정시킨다. Subsequently, the shaft 6 is inserted through the shaft through hole formed in the center of the upper plate 51 and the lower plate 52 of the bellows assembly 5 from the lower side of the elevating plate 3, and then the lower end of the shaft 6. Is fixed to the lower surface to the lifting plate (3) by using a bolt (61).

그런데, 상기와 같은 종래의 로드락 챔버는 상기 샤프트(6)가 볼트(61)에 의해 승강판(3) 하부에 결합된 구조로 되어 있기 때문에, 계속적으로 반복되는 승강판(3)의 승하강 운동에 의해 샤프트(6)와 승강판(3) 간의 결합부위에 틈이 생기는 경우가 발생한다.However, the conventional load lock chamber as described above has a structure in which the shaft 6 is coupled to the lower portion of the elevating plate 3 by the bolt 61, and thus the elevating plate 3 is continuously raised and lowered. There arises a case where a gap arises in the engaging part between the shaft 6 and the lifting plate 3 by a movement.

이와 같이 샤프트(6)와 승강판(3) 간에 틈이 발생하면 이를 통한 리크(leak) 현상이 발생하고, 이로 인하여 불량이 발생하는 문제가 있으며, 불량 발생에 따른 장비 보수 등으로 인해 수율이 저하되는 문제가 있다. As such, when a gap is generated between the shaft 6 and the lifting plate 3, a leak occurs, thereby causing a problem, and a yield decreases due to equipment maintenance due to the failure. There is a problem.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 로드락 챔버에서 기판을 승강시키는 구동부 중 샤프트와 벨로우즈 어셈블리의 결합 부위에서 틈이 생기는 방지하여, 리크(leak) 현상으로 인한 불량 발생을 억제할 수 있는 액정표시장치 제조용 로드락 챔버를 제공하는 것이다. The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to prevent the occurrence of a gap in the coupling portion of the shaft and the bellows assembly of the driving unit for lifting the substrate in the load lock chamber, due to the leak (leak) It is to provide a load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device capable of suppressing occurrence.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 진공 상태로 유지되는 내부 공간을 갖는 본체와; 상기 본체에 상하로 승강 가능하게 설치되며, 기판이 안착되는 안착부와; 상기 본체의 하부에 구동유닛에 의해 상하로 승강하는 승강판과; 상기 본체의 하부와 상기 승강판 사이에 본체와 외부 공간 간의 기밀을 유지하도록 상,하단부가 각각 본체의 하부면과 승강판 상부면에 고정되게 설치되는 신축가능한 벨로우즈 어셈블리와; 그 하단부가 상기 벨로우즈 어셈블리의 하단부에 일체로 고정되며, 상기 벨우즈 어셈블리의 상단부 및 상기 본체의 하부면을 차례로 관통하여 그 상단부가 상기 안착부에 고정되게 연결되는 샤프트를 포함하여 구성된 액정표시장치 제조용 로드락 챔버를 제공한다. The present invention to achieve the above object, the main body having an internal space that is maintained in a vacuum state; A seating part installed on the main body so as to be movable up and down, and on which a substrate is mounted; An elevating plate which is lifted up and down by a driving unit in a lower portion of the main body; An elastic bellows assembly having upper and lower ends fixed to the lower surface of the main body and the upper surface of the elevating plate so as to maintain the airtightness between the main body and the external space between the lower part of the main body and the elevating plate; And a shaft having a lower end integrally fixed to a lower end of the bellows assembly, and having a shaft connected to the upper end of the bellows assembly and the lower surface of the main body in turn, the upper end of which is fixed to the seating part. Provide a load lock chamber.

이와 같은 본 발명에 따르면, 상기 샤프트가 벨로우즈 어셈블리의 내측에 일체로 형성되므로 샤프트의 결합 부위를 통한 리크 현상이 완전히 방지될 수 있게 된다. According to the present invention as described above, since the shaft is integrally formed inside the bellows assembly, leakage through the coupling portion of the shaft can be completely prevented.

본 발명의 한 실시형태에 따르면, 상기 벨로우즈 어셈블리는 본체의 하부면에 밀착되게 고정되는 상판과, 승강판의 상부면에 고정되는 하판과, 양단부가 상기 상판과 하판에 기밀을 유지하도록 결합되며 신축가능하도록 된 벨로우즈를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다. According to an embodiment of the present invention, the bellows assembly has an upper plate fixed to be in close contact with the lower surface of the main body, a lower plate fixed to the upper surface of the elevating plate, and both ends are coupled to the upper plate and the lower plate to maintain the airtight It is characterized in that it comprises a bellows that is enabled.                     

또한, 본 발명의 다른 한 실시형태에 따르면, 상기 샤프트는 벨로우즈 어셈블리의 내측에 위치되는 하부 샤프트와, 상기 벨로우즈 어셈블리의 외측에서 상기 하부 샤프트의 상단에 결합되는 상부 샤프트의 2개로 분할 형성됨을 특징으로 한다. Further, according to another embodiment of the present invention, the shaft is divided into two, characterized in that the lower shaft located inside the bellows assembly, and the upper shaft coupled to the upper end of the lower shaft from the outside of the bellows assembly do.

이와 같은 본 발명의 특징에 따르면, 벨로우즈 어셈블리와 샤프트가 본체 및 승강판에 용이하게 설치될 수 있게 된다. According to this aspect of the invention, the bellows assembly and the shaft can be easily installed in the body and the lifting plate.

이하, 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 로드락 챔버의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이해를 돕기 위하여 액정표시장치 제조용 로드락 챔버의 구성 요소 중 종래와 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하여 설명한다. For the sake of understanding, the same components as those of the conventional components of the load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device will be described with the same reference numerals.

먼저, 도 3과 도 4를 참조하여 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 로드락 챔버의 일 실시예를 설명한다.First, an embodiment of a load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

도 3에 도시된 것과 같이, 본 발명의 로드락 챔버는 진공으로 유지되는 본체(1) 내부의 공간에 기판(P)이 안착되는 안착부(2)가 상하로 승강 운동 가능하게 설치되고, 본체(1)의 하부에 공압실린더(4)의 작동에 의해 상하로 승강 운동하는 승강판(3)이 설치된 구성으로 이루어진다. As shown in FIG. 3, in the load lock chamber of the present invention, a seating portion 2 on which a substrate P is seated in a space inside the main body 1 maintained in a vacuum is provided to be capable of lifting up and down, and the main body It consists of the structure which the lifting plate 3 which moves up and down by the operation of the pneumatic cylinder 4 is installed in the lower part of (1).

상기 공압실린더(4)는 베이스블록(7)에 설치되며, 이 베이스블록(7)에는 상기 승강판(3)의 승강 운동을 안내하는 가이드바아(8)가 상하 방향으로 수직하게 설치된다. The pneumatic cylinder (4) is installed in the base block (7), the guide bar (8) for guiding the lifting motion of the lifting plate (3) is installed vertically in the base block (7).

또한, 상기 본체(1)의 하부와 승강판(3) 사이에는 승강판(3)의 승강 운동을 안착부(2)에 전달하기 위한 복수개의 샤프트(60)와, 상기 샤프트(60)를 통한 공기의 누출을 방지하기 위한 벨로우즈 어셈블리(50)가 신축 가능하게 설치된다.In addition, between the lower portion of the main body 1 and the elevating plate 3, a plurality of shafts 60 for transmitting the elevating movement of the elevating plate 3 to the seating portion 2, and through the shaft 60 A bellows assembly 50 is installed flexibly to prevent leakage of air.

도 4에 도시된 것과 같이, 상기 벨로우즈 어셈블리(50)는 본체(1)의 하부면에 고정되는 상판(501)과, 상기 승강판(3)의 상면에 고정되는 하판(502)과, 그의 상단부 및 하단부가 각각 상기 상판(501)과 하판(502)에 밀착되게 고정되며 상기 샤프트(60)를 둘러싸는 신축가능한 벨로우즈(503)로 이루어진다. As shown in FIG. 4, the bellows assembly 50 includes an upper plate 501 fixed to the lower surface of the main body 1, a lower plate 502 fixed to the upper surface of the elevating plate 3, and an upper end thereof. And an elastic bellows 503 fixed at the lower end to be in close contact with the upper plate 501 and the lower plate 502, respectively, and surrounding the shaft 60.

여기서, 상기 샤프트(60)는 벨로우즈 어셈블리(50)의 내측에 위치하는 하부 샤프트(601)와, 벨로우즈 어셈블리(50)의 외측에서 상기 하부 샤프트(601)의 상단에 결합되는 상부 샤프트의 2부분으로 분할 형성된다. 상기 상부 샤프트(602)는 그의 상단부가 안착부(2)(도 3참조)에 고정된다. Here, the shaft 60 is a lower shaft 601 located inside the bellows assembly 50 and two parts of the upper shaft coupled to the upper end of the lower shaft 601 outside the bellows assembly 50. Divided is formed. The upper shaft 602 has its upper end fixed to the seating portion 2 (see FIG. 3).

상기 하부 샤프트(601)는 그의 하단부가 벨로우즈 어셈블리(50)의 하판(502)의 중앙에 용접에 의해 고정된다. 또한, 하부 샤프트(601)는 그의 길이가 벨로우즈 어셈블리(50)의 상판(501)을 지나지 않는 범위 내로 형성됨이 바람직하다.The lower shaft 601 has its lower end fixed by welding to the center of the lower plate 502 of the bellows assembly 50. In addition, the lower shaft 601 is preferably formed in a range whose length does not pass the top plate 501 of the bellows assembly 50.

한편, 상기 하부 샤프트(601)와 상부 샤프트(602) 간의 결합을 위해, 상기 하부 샤프트(601)의 상단부에 암나사부(603)가 형성되고, 상기 상부 샤프트(602)의 하단부에는 상기 암나사부(603)에 나사 결합되는 수나사부(604)가 일체로 형성된다. On the other hand, for coupling between the lower shaft 601 and the upper shaft 602, the female screw portion 603 is formed in the upper end of the lower shaft 601, the lower end of the upper shaft 602 the female screw portion ( The male screw portion 604 screwed to the 603 is integrally formed.

상기와 같이 구성된 샤프트(60) 및 벨로우즈 어셈블리(50)는 다음과 같이 조립된다.The shaft 60 and the bellows assembly 50 configured as described above are assembled as follows.

먼저, 상부 샤프트(602)가 분리된 상태에서 상기 벨로우즈 어셈블리(50)의 상판(501)과 하판(502)을 각각 본체(1)의 하부면과 승강판(3)의 상부면에 볼트(505) 및 너트(506)를 이용하여 고정한다. 이 때, 하부 샤프트(601)는 상기 벨로우즈 어셈블리(50)의 하판(502)에 일체로 고정된 상태이다.First, the upper plate 501 and the lower plate 502 of the bellows assembly 50 in the state in which the upper shaft 602 is separated from the bolt 505 on the lower surface of the body 1 and the upper surface of the elevating plate 3, respectively. ) And the nut 506 to fix it. At this time, the lower shaft 601 is integrally fixed to the lower plate 502 of the bellows assembly 50.

상기와 같이 벨로우즈 어셈블리(50)를 본체(1)의 하부와 승강판(3) 사이에 결합시킨 후, 본체(1)의 하부면 상측에서 상기 상부 샤프트(602)의 하단부의 수나사부(604)를 하부샤프트(60)의 암나사부(603)에 나사 결합시킴으로써 상부 샤프트(602)와 하부 샤프트(601)의 조립을 완성한다.After coupling the bellows assembly 50 between the lower part of the main body 1 and the lifting plate 3 as described above, the male screw portion 604 of the lower end of the upper shaft 602 above the lower surface of the main body 1. Is screwed to the female screw portion 603 of the lower shaft 60 to complete the assembly of the upper shaft 602 and the lower shaft 601.

한편, 이 실시예에서는 하부 샤프트(601)가 벨로우즈(503)의 하판(502)에 용접에 의해 고정되지만, 이와 다르게 하부 샤프트와 벨로우즈의 하판을 일체로 제작할 수 있을 것이다.Meanwhile, in this embodiment, the lower shaft 601 is fixed to the lower plate 502 of the bellows 503 by welding. Alternatively, the lower shaft and the lower plate of the bellows may be integrally manufactured.

또한, 도 5에 다른 실시예로 나타낸 것과 같이, 벨로우즈 어셈블리(50)의 하판(502)의 중앙에 나사산이 형성된 보스(507)를 일체로 형성하고, 하부 샤프트(601)의 하단부에 상기 보스(507)에 삽입되어 나사 결합되는 나사산부(607)를 형성하여, 상기 하부 샤프트(601)를 벨로우즈 어셈블리(50)의 하판(502)에 나사 결합으로 고정시킬 수도 있을 것이다. In addition, as shown in another embodiment in FIG. 5, a threaded boss 507 is integrally formed at the center of the lower plate 502 of the bellows assembly 50, and the boss (507) is provided at the lower end of the lower shaft 601. The lower shaft 601 may be fixed to the lower plate 502 of the bellows assembly 50 by screwing the thread portion 607 inserted into the screw 507 and screwed thereto.

물론, 전술한 실시예들과는 다른 임의의 방식으로 샤프트를 벨로우즈 어셈블리에 일체로 고정시킬 수 있을 것이다. Of course, the shaft may be integrally secured to the bellows assembly in any manner other than the embodiments described above.

이상에서와 같이 본 발명에 따르면, 로드락 챔버의 안착부를 구동시키는 샤프트가 벨로우즈 어셈블리의 하판에 기밀을 유지하면서 일체로 고정되므로, 샤프트 를 통한 리크(leak) 현상을 방지할 수 있고, 따라서 리크 현상으로 인한 불량 발생이 없어지고, 생산 수율이 향상되는 효과를 얻을 수 있다.As described above, according to the present invention, since the shaft driving the seating portion of the load lock chamber is fixed integrally while keeping airtight on the lower plate of the bellows assembly, a leak through the shaft can be prevented, and thus a leak phenomenon It is possible to obtain the effect that the occurrence of defects due to the improvement, the production yield is improved.

또한, 샤프트가 2개로 분할되어 형성되므로 샤프트 및 벨로우즈 어셈블리를 본체 및 승강판에 용이하게 조립할 수 있는 이점도 있다. In addition, since the shaft is divided into two parts, the shaft and the bellows assembly may be easily assembled to the main body and the lifting plate.

Claims (6)

진공 상태로 유지되는 내부 공간을 갖는 본체와;A main body having an internal space maintained in a vacuum state; 상기 본체에 상하로 승강 가능하게 설치되며, 기판이 안착되는 안착부와; A seating part installed on the main body so as to be movable up and down, and on which a substrate is mounted; 상기 본체의 하부에 구동유닛에 의해 상하로 승강하는 승강판과; An elevating plate which is lifted up and down by a driving unit in a lower portion of the main body; 상기 본체의 하부와 상기 승강판 사이에 본체와 외부 공간 간의 기밀을 유지하도록 상,하단부가 각각 본체의 하부면과 승강판 상부면에 고정되게 설치되는 신축가능한 벨로우즈 어셈블리와;An elastic bellows assembly having upper and lower ends fixed to the lower surface of the main body and the upper surface of the elevating plate so as to maintain the airtightness between the main body and the external space between the lower part of the main body and the elevating plate; 그 하단부가 상기 벨로우즈 어셈블리의 하단부에 기밀을 유지하면서 일체로 고정되며, 상기 벨우즈 어셈블리의 상단부 및 상기 본체의 하부면을 차례로 관통하여 그 상단부가 상기 안착부에 고정되게 연결되는 샤프트를 포함하여 구성된 액정표시장치 제조용 로드락 챔버.The lower end of the bellows assembly is integrally fixed to the lower end of the airtight assembly, and comprises a shaft which passes through the upper end of the bellows assembly and the lower surface of the main body in turn and the upper end is fixed to the seating portion Load lock chamber for liquid crystal display device manufacturing. 제 1항에 있어서, 상기 벨로우즈 어셈블리는 본체의 하부면에 밀착되게 고정되는 상판과, 승강판의 상부면에 고정되는 하판과, 양단부가 상기 상판과 하판에 기밀을 유지하도록 결합되며 신축가능하도록 된 벨로우즈를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 로드락 챔버.2. The bellows assembly of claim 1, wherein the bellows assembly is coupled to the upper plate and the lower plate fixed to the upper surface of the main body, the lower plate fixed to the upper surface of the elevating plate, and both ends of the upper plate and the lower plate to be airtight. Load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device comprising a bellows. 제 2항에 있어서, 상기 샤프트의 하단부는 벨로우즈의 하판에 용접에 의해 고정되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 로드락 챔버.The load lock chamber of claim 2, wherein the lower end of the shaft is fixed to the lower plate of the bellows by welding. 제 2항에 있어서, 상기 벨로우즈 어셈블리의 하판에 내주면에 나사산을 갖는 보스가 형성되고, 상기 샤프트의 하단부에 상기 보스에 나사결합되는 나사산부가 형성되어, 상기 샤프트가 벨로우즈 어셈블리의 하판에 나사 결합되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 로드락 챔버.3. The method of claim 2, wherein a boss having a thread is formed on an inner circumferential surface of the lower plate of the bellows assembly, and a threaded portion that is screwed to the boss is formed at a lower end of the shaft so that the shaft is screwed to the lower plate of the bellows assembly. A load lock chamber for manufacturing a liquid crystal display device. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 샤프트는 벨로우즈 어셈블리의 내측에 위치되는 하부 샤프트와, 상기 벨로우즈 어셈블리의 외측에서 상기 하부 샤프트의 상단에 결합되는 상부 샤프트의 2개로 분할 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 로드락 챔버.The liquid crystal of claim 1 or 2, wherein the shaft is divided into two parts: a lower shaft positioned inside the bellows assembly, and an upper shaft coupled to an upper end of the lower shaft outside the bellows assembly. Load lock chamber for manufacturing display device. 제 5항에 있어서, 상기 상부 샤프트의 하단부는 하부 샤프트의 상단부에 나사 결합되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 로드락 챔버.The load lock chamber of claim 5, wherein the lower end of the upper shaft is screwed to the upper end of the lower shaft.
KR1020040112041A 2004-12-24 2004-12-24 Load lock chamber for manufacturing lcd KR20060073170A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040112041A KR20060073170A (en) 2004-12-24 2004-12-24 Load lock chamber for manufacturing lcd

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040112041A KR20060073170A (en) 2004-12-24 2004-12-24 Load lock chamber for manufacturing lcd

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060073170A true KR20060073170A (en) 2006-06-28

Family

ID=37166290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040112041A KR20060073170A (en) 2004-12-24 2004-12-24 Load lock chamber for manufacturing lcd

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060073170A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI694534B (en) Lifting needle system, vacuum reaction chamber and semiconductor processing equipment
JP4951536B2 (en) Substrate mounting table and substrate processing apparatus
JP6709104B2 (en) Substrate lift pin actuator
KR100910750B1 (en) Lift pin module and device for manufacturing flat display device using the same
US20220336258A1 (en) Apparatus for controlling lift pin movement
KR20060073170A (en) Load lock chamber for manufacturing lcd
US20070240646A1 (en) Substrate treatment apparatus
CN101978307B (en) Vacuum processing apparatus
CN107919262B (en) Substrate processing apparatus
KR101312501B1 (en) Lift pin module and apparatus for manufacturing of FPD including the same
KR20060082091A (en) Equipment for treating substrate
KR20080075609A (en) Wafer lift assembly of semiconductor manufacturing apparatus
KR101468391B1 (en) Device for adjusting height of lift pin and FPD manufacturing machine having the same
KR20060026815A (en) Plasma treatment apparatus
KR20070011904A (en) Lift pin assembly and plasma processingg apparatus
KR101256485B1 (en) Processing chamber for substrate processing apparatus
KR101123670B1 (en) Gate valve
KR100524881B1 (en) Processing apparatus in low pressure condition comprising outer liftpin
US20040234361A1 (en) Positioning device
CN215747653U (en) Tool for replacing air cylinder assembly
US20230144827A1 (en) Substrate processing apparatus
CN112673218A (en) Cooling container for mounting refrigerator
KR102329142B1 (en) Gate valve assembly
US20220336259A1 (en) Substrate support assembly and substrate processing apparatus
CN209868482U (en) Glass vacuum coating equipment flap valve debugging device

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination