KR20060068569A - 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트패턴 형성 장치 - Google Patents

원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트패턴 형성 장치 Download PDF

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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 관한 것임.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은 별도의 편파기를 사용하지 않고 마이크로스트립 패치 급전부를 이용하여 기본모드의 원형편파 신호를 직접 발생시켜 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성함으로써, 넓은 빔 스캐닝에 적용 가능하며 제작시 크기 및 무게를 줄일 수 있는, 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치를 제공하는데 그 목적이 있음.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은, 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 있어서, 기본모드의 원형편파 신호를 발생시키기 위한 마이크로스트립 패치 급전부; 상기 마이크로스트립 패치 급전부에서 발생시킨 기본모드의 원형편파 신호를 가이드하고 고차모드의 신호를 발생시키기 위한 원형도파관부; 및 상기 원형도파관부에서 발생시킨 고차모드의 신호간의 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴(FTEP)을 형성하기 위한 패턴 형성부를 포함함.
4. 발명의 중요한 용도
본 발명은 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치 등에 이용됨.
플랫-탑 엘리먼트 패턴, 마이크로스트립 패치 급전부, 원형편파, 패턴 형성부, 원형도파관부

Description

원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치{Device for shaping Flat-Topped Element Pattern using circular polarization microstrip patch}
도 1은 종래의 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치를 설명하기 위한 도면,
도 2는 본 발명에 따른 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 대한 일실시예 도면,
도 3은 본 발명에 따른 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에서 마이크로스트립 패치 급전부를 상세 설명하기 위한 일실시예 도면,
도 4a는 본 발명에 따른 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치의 상측면도,
도 4b는 본 발명에 따른 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에서 패턴 형성부를 상세 설명하기 위한 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
210 : 마이크로스트립 패치 급전부 211 : 마이크로스트립 패치
212 : 급전선 220 : 원형도파관부
230 : 패턴 형성부 231 : 중심 소자
232 : 제 1링 소자 233 : 제 2링 소자
234 : 지지수단
본 발명은 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 별도의 편파기를 사용하지 않고 마이크로스트립 패치 급전부를 이용하여 기본모드의 원형편파 신호를 직접 발생시켜 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성함으로써, 넓은 빔 스캐닝에 적용 가능하며 제작시 크기 및 무게를 줄일 수 있는, 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 관한 것이다.
본 발명에서 플랫-탑 엘리먼트 패턴(Flat-Topped Element Pattern : FTEP)이란, 안테나의 구형 빔 패턴을 의미하는 것으로서, 이 기술을 이용하게 되면 배열 안테나 시스템에서 위상제어 소자의 소자 수를 최소로 할 수 있으므로 최근의 배열 안테나 시스템에 많이 사용되고 있는 기술이다.
일반적으로 위상 제어 소자는 위상 배열 안테나(Phased array antenna)의 개발에 있어서 가장 핵심적이고 고가인 부품으로써, 안테나 배열 이득, 사이드 로브 레벨(Side lobe level), 섹터 빔 스캔 요구 규격에 따라 장착되어야 하는 개수가 결정된다. 여기서, 안테나 배열 이득, 사이드 로브 레벨 규격은 배열 개구면 모양이나 크기를 결정하는데 사용되고, 섹터 빔 스캔 요구 규격은 배열 소자 간격의 크기를 결정하는데 사용된다.
종래의 일반적인 방법을 이용하여 위상 제어 소자의 배열을 설계시에는 광범위한 빔 스캐닝을 위하여 배열 인자에 의한 그레이팅 로브(Grating lobe)가 실공간(real space)에 존재하지 않도록 위상제어 소자의 최대 배열 간격을 결정하였다.
반면에, 플랫-탑 엘리먼트 패턴 기술은 상대적으로 작은 빔 스캐닝 범위(±(5˚내지 25˚))를 갖기 때문에, 배열 인자에 의한 그레이팅 로브(Grating lobe)가 실공간(real space)에 존재하도록 최대 배열 간격을 결정할 수 있고, 플랫-탑 엘리먼트 패턴의 사이드 로브 특성에 의해 그레이팅 로브를 억압하는 특징이 있다.
이에 따라 상기 플랫-탑 엘리먼트 패턴 기술을 사용하면 종래의 일반적인 방법에 비해, 위상제어 소자의 소자간 간격이 상대적으로 증가하여 위상제어 소자 수를 최소로 할 수 있다. 예를 들어, 20˚의 원추형 빔 스캐닝을 요구하는 위상 배열 설계에서 상술한 플랫-탑 엘리먼트 패턴의 기술을 사용할 경우, 일반적인 방법에 비해 위상 제어 소자 수를 1/11로 감소시킬 수 있다.
여기서, 요구되는 스캐닝 범위 내에서 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성하기 위해서는 배열 개구면 진폭 분포 특성이, 겹쳐진 서브 배열(Overlapped subarray) 특성을 가짐과 동시에 1차원 배열의 경우
Figure 112004059472342-PAT00001
, 2차원 배열의 경우
Figure 112004059472342-PAT00002
,및 3차원 배열의 경우
Figure 112004059472342-PAT00003
에 의한 배열 특성을 만족하여야 한다.
종래에는 전술한 바와 같은 배열 특성을 가지는 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성하기 위해서, 수동 다단자망 배열구조, 전계(E) 또는 자계(H)-평면에서의 선형 배열 스캐닝 구조, 주름진 도파관 배열 구조, 유사광학망 배열 구조, 이차원 다층 원형 방사 배열 구조 등이 사용되었다.
그러나, 상기 수동 다단자망 배열 구조는 이차원 빔 스캐닝시 급전망이 복잡하여 효율이 떨어지고, 부피가 크고 무게가 무거우며 시스템 가격이 높은 문제점이 있었다. 그리고, 상기 전계(E) 또는 자계(H)-평면에서의 선형 배열 스캐닝 구조는 상대적으로 작은 대역폭 및 작은 빔 스캐닝 범위를 가지며, 일차원의 응용에 한정되는 문제점이 있었다. 또한, 상기 주름진 도파관 배열 구조는 낮은 주파수에서 상대적으로 무게가 무겁고, 유전체 재질의 높은 가격 때문에 시스템 가격이 상승하며, 유전체 간의 온도 변화 및 유전체 제품 생산에 따른 특성이 민감하여 안테나의 성능이 불균일해지는 문제점이 있었다. 그리고, 상기 유사광학망 배열 구조는 위상 천이기가 다수 개 필요하고 3% 이상의 배열 안테나 설계가 불가능하며, 부피가 크고 무게도 무거우며 시스템 가격이 높다는 문제점이 있었다. 마직막으로 상기 이차원 다층 원형 방사 배열 구조는 대규모 배열 안테나의 아주 좁은 빔 스캐닝에만 제한적으로 적용된다는 문제점이 있었다.
따라서, 이러한 종래기술의 문제점을 개선하기 위하여 제시된 육각배열 구조의 유전체봉을 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치가 도 1에 도시되어 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 육각배열 구조의 유전체봉을 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치는 원형편파를 발생하기 위해서 원형도파관내에 선형편 파를 발생시키는 선형편파 급전부(110)와 편파기(120), 및 강한 전자파 상호결합을 이용하는 육각배열 구조의 유전체봉(130)을 포함한다.
도 1에 도시된 구조를 이용하면 전술한 다섯 가지의 구조에 비해 방사 소자의 수를 줄임으로써, 소자수 증가에 따른 비용을 줄이는 동시에 급전손실을 감소시키고, 2차원적인 응용이 가능하여 상대적으로 넓은 빔 스캐닝에 적용할 수 있다는 장점이 있다.
그러나, 이는 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 원형편파 신호를 급전하기 위해서 선형편파 급전부(110)와 편파기(120)를 사용하므로, 제작이 복잡하고 크기가 크며 무게가 무겁다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 별도의 편파기를 사용하지 않고 마이크로스트립 패치 급전부를 이용하여 기본모드의 원형편파 신호를 직접 발생시켜 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성함으로써, 넓은 빔 스캐닝에 적용 가능하며 제작시 크기 및 무게를 줄일 수 있는, 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있으며, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 장치는, 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 있어서, 기본모드의 원형편파 신호를 발생시키기 위한 마이크로스트립 패치 급전부; 상기 마이크로스트립 패치 급전부에서 발생시킨 기본모드의 원형편파 신호를 가이드하고 고차모드의 신호를 발생시키기 위한 원형도파관부; 및 상기 원형도파관부에서 발생시킨 고차모드의 신호간의 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴(FTEP)을 형성하기 위한 패턴 형성부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 따른 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 대한 일실시예 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 원형편파 마이크로스트립 패치를 이용한 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치는 마이크로스트립 패치 급전부(210), 원형도파관부(220), 및 패턴 형성부(230)를 포함한다.
상기 마이크로스트립 패치 급전부(210)는 기본모드의 원형편파 신호를 발생 시키는 역할을 하며, 다수 개의 마이크로스트립 패치와 급전선을 포함한다.
이 때, 도 3을 참조하여 상기 마이크로스트립 패치 급전부(210)를 상세히 설명하면 다음과 같다. 여기서는 편의상 하나의 원형도파관에 연결되는 한 개의 마이크로스트립 패치를 이용하여 설명하기로 한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 마이크로스트립 패치 급전부(210)는 마이크로스트립 패치(211)와 급전선(212)을 포함하며, 원형도파관부(220) 내부에 수직으로 배치된다. 따라서, 마이크로스트립 패치(211)가 원형도파관부(220) 내에 삽입되어 급전선(212)을 통해 급전된 신호를 이용하여 원형편파 신호를 발생시키는 것이다.
이 때, 원형편파 신호는 상기 마이크로스트립 패치(211)의 길이(L), 섭동(perturbation) 길이(dl), 급전선(212)의 위치에 따라 주파수, 축비, 반사손실 등이 결정된다.
따라서, 상기 마이크로스트립 패치(211)의 길이(L), 섭동(perturbation) 길이(dl), 급전선(212)의 위치는 한 가지 값으로 정해진 것이 아니라 원형편파 신호가 사용되는 시스템의 사양에 맞추어 얼마든지 변경이 가능함을 밝혀둔다.
또한, 도 3에서는 상기 마이크로스트립 패치(211)를 사각 마이크로스트립 형태로 나타내었으나, 이는 일실시예에 불과할 뿐 본 발명은 그에 한정되지 않으며, 원형편파를 발생시킬 수 있는 마이크로스트립 패치라면 어떤 형태로 구현되어도 무방함을 밝혀둔다.
한편, 상기 원형도파관부(220)는 상기 마이크로스트립 패치 급전부(210)로부터 발생되는 기본모드 원형편파 신호를 가이드하며, 고차모드의 신호를 발생시키는 역할을 한다.
그리고, 상기 패턴 형성부(230)는 상기 원형도파관부(220)에서 발생되는 고차모드의 신호간 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성하는 역할을 한다.
이 때, 상기 패턴 형성부(230)는 상기 원형도파관부(220)를 통해 전달받은 고차모드 신호의 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴의 단위 방사 패턴을 형성하기 위한 중심 소자부터 6(N-1)개의 (N-1)링까지의 소자, 동일한 간격으로 장착되어 인접한 소자와 전자파 상호결합하여 단위 방사 패턴을 형성하기 위한 6N 개의 N링 소자, 및 상기 중심 소자부터 상기 (N-1)링까지의 소자 및 상기 6N 개의 N링 소자를 지지하기 위한 지지수단을 포함한다.
이 때, 본 발명의 일실시예로서, 상기 N 값이 2인 경우의 패턴 형성부(230)를 도 4를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 4a에 도시된 바와 같이, 상기 패턴 형성부(230)는 중심 소자(231), 제 1링 소자(232), 제 2링 소자(233), 및 지지수단(234)을 포함한다.
여기서, 상기 패턴 형성부(230)는 한 개의 중심 소자(231), 여섯 개의 제 1링 소자(232)와 12 개의 제 2링 소자(233)를 포함하며, 상기 중심소자(231)와 각각의 제 1링 소자(232)는, 제 2링 소자(233)와 전자파 상호결합하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴(FTEP)의 단위 방사 패턴을 만드는 역할을 한다.
이 때, 상기 중심소자(231)는 원형도파관부(220)를 통해 전달받은 신호를 이용하여 단위 방사 패턴을 형성한다.
그리고, 상기 제 1링 소자(232)는 상기 중심 소자(231)를 중심점으로 하는 정육각형의 꼭지점 상에 구비되어, 상기 중심 소자(231)와의 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴(FTEP)을 형성한다.
그리고, 상기 제 2링 소자(233)는 상기 제 1링 소자(232) 하나 또는 두 개를 꼭지점으로 하는 정삼각형 격자의 나머지 꼭지점에 위치하며, 정육각형의 모양을 형성하면서 상기 중심 소자(231), 및 상기 제 1링 소자(232)와 상호결합하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴(FTEP)을 형성한다.
여기서, 도 4b를 참조하여 상기 제 1링 소자(232)와 상기 제 2링 소자(233)의 위치를 살펴보면 다음과 같다.
상기 제 1링 소자(232)는 상기 중심 소자(231)를 하나의 중심점으로 하여 주위에 정육각형의 모양으로 여섯 개가 구비되며, 그 간격은 dx , dy 이다.
이에 따라 각각의 xy좌표 상에서의 위치는 (dx, 0), (-dx, 0), (dx/2, dy), (-dx/2, dy), (dx/2, -dy), (-dx/2, -dy)가 된다.
그리고, 상기 제 2링 소자(233)는 상기 제 1링 소자(231) 하나 또는 두 개를 꼭지점으로 하는 정삼각형 격자의 나머지 꼭지점 상에 구비되어 상기 중심 소자(231)로부터 두 번째 정육각형의 모양을 형성하며, 그 간격은 상기 제 1링 소자(231)와 마찬가지로 dx , dy 이다.
이에 따라, 각각의 xy 좌표상에서의 위치는 (2dx, 0), (-2dx, 0), (3dx/2, dy), (-3dx/2, dy), (3dx/2, -dy), (-3dx/2, -dy), (dx, 2dy), (-dx, 2dy), (dx, -2dy), (-dx, -2dy), (0, 2dy), (0, -2dy)가 된다.
한편, 상기 지지수단(234)은 상기 중심 소자(231), 상기 제 1링 소자(232), 및 상기 제 2링 소자(233)를 지지해주는 역할을 한다.
그리고, 본 발명에서는 원형도파관부(220) 중 상기 중심 소자(231)와 상기 여섯 개의 제 1링 소자(232)와 연결된 원형도파관 내부에는 원형편파를 발생시키는 마이크로스트립 패치가 수직으로 구비되며, 열두 개의 제 2링 소자(233)와 연결된 원형도파관 내부에는 상기 마이크로스트립 패치가 구비되지 않는다.
이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.
상기와 같은 본 발명은, 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 유전체봉 육각배열 구조를 사용함으로써, 그레이팅 로브를 억압하여 방사 소자의 수를 줄여 소자수 증가에 따른 비용을 줄이는 동시에 급전 손실을 감소시켜, 상대적으로 넓은 빔 스캐닝에 적용할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에서 별도의 편파기를 사용하지 않고 마이크로스트립 패치 급전부를 이용하여 기본모드의 원형편파 신호를 직접 발생시킴으로써, 크기 및 무게를 줄일 수 있는 장점이 있으며, 밀리미터파 대역(약 10GHz 이상)에서 쉽고 가볍게 제작할 수 있는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치에 있어서,
    기본모드의 원형편파 신호를 발생시키기 위한 마이크로스트립 패치 급전부;
    상기 마이크로스트립 패치 급전부에서 발생시킨 기본모드의 원형편파 신호를 가이드하고 고차모드의 신호를 발생시키기 위한 원형도파관부; 및
    상기 원형도파관부에서 발생시킨 고차모드의 신호간의 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴(FTEP)을 형성하기 위한 패턴 형성부
    를 포함하는 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 마이크로스트립 패치 급전부는,
    급전선을 통해 급전된 신호를 이용하여 원형편파 신호를 발생시키기 위한 소정 개수의 마이크로스트립 패치; 및
    입력 신호를 상기 마이크로스트립 패치에 전달하기 위한 소정 개수의 급전선
    을 포함하는 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 패턴 형성부는,
    상기 원형도파관부를 통해 전달받은 신호를 이용하여 단위 방사 패턴을 형성하기 위한 중심 소자;
    상기 중심 소자와의 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성하기 위한 다수 개의 제 1링 소자;
    상기 중심소자, 및 상기 다수 개의 제 1링 소자와 상호결합하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴을 형성하기 위한 다수 개의 제 2링 소자; 및
    상기 중심소자, 상기 다수 개의 제 1링 소자, 및 상기 다수 개의 제 2링 소자를 지지하기 위한 지지수단
    을 포함하는 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 각 제 1링 소자는,
    상기 중심 소자를 중심점으로 하는 정육각형의 꼭지점 상에 구비되는 것을 특징으로 하는 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 각 제 2링 소자는,
    상기 제 1링 소자 하나 또는 두 개를 꼭지점으로 하는 정삼각형 격자의 나머지 꼭지점에 위치하여 정육각형의 모양을 형성하는 것을 특징으로 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치.
  6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 패턴 형성부는,
    상기 원형도파관부를 통해 전달받은 고차모드 신호의 전자파 상호결합을 통하여 플랫-탑 엘리먼트 패턴의 단위 방사 패턴을 형성하기 위한 중심 소자부터 6(N-1)개의 (N-1)링까지의 소자;
    동일한 간격으로 장착되어 인접한 소자와 전자파 상호결합하여 단위 방사 패턴을 형성하기 위한 6N 개의 N링 소자; 및
    상기 중심 소자부터 상기 (N-1)링까지의 소자 및 상기 6N 개의 N링 소자를 지지하기 위한 지지수단
    을 포함하는 플랫-탑 엘리먼트 패턴 형성 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210017668A (ko) * 2019-08-09 2021-02-17 홍익대학교 산학협력단 다중 급전을 이용한 안테나

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006019688B4 (de) * 2006-04-27 2014-10-23 Vega Grieshaber Kg Patchantenne mit Keramikscheibe als Abdeckung
FR2939568B1 (fr) 2008-12-05 2010-12-17 Thales Sa Antenne a partage de sources et procede d'elaboration d'une antenne a partage de sources pour l'elaboration de multi-faisceaux
US20100226006A1 (en) * 2009-03-04 2010-09-09 American Polarizers, Inc. Acrylic circular polarization 3d lens and method of producing same
US11745025B2 (en) 2018-11-07 2023-09-05 Electronics And Telecommunications Research Institute Deep body spread microwave hyperthermia device for personal uses and operating method thereof
CN109742531A (zh) * 2019-03-22 2019-05-10 四川若航天宇科技有限公司 一种用于辐射场测量的微带介质延伸型圆极化天线
CN112290234A (zh) 2019-07-24 2021-01-29 台达电子工业股份有限公司 通信装置
CN112290235A (zh) 2019-07-24 2021-01-29 台达电子工业股份有限公司 天线阵列

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6891513B2 (en) * 2001-11-26 2005-05-10 Vega Greishaber, Kg Antenna system for a level measurement apparatus
KR100447680B1 (ko) * 2002-03-05 2004-09-08 한국전자통신연구원 Ｆｔｅｐ를 형성하기 위한 이차원 다층 원형 방사 배열 구조
EP1555721B1 (en) * 2002-10-25 2007-09-05 National Institute of Information and Communications Technology Incorporated Administrative Agency Antenna device
DE10346847B4 (de) * 2003-10-09 2014-04-10 Robert Bosch Gmbh Mikrowellenantenne
KR100626666B1 (ko) * 2003-11-22 2006-09-22 한국전자통신연구원 평판형 방사소자를 이용한 원형편파용 혼 안테나

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210017668A (ko) * 2019-08-09 2021-02-17 홍익대학교 산학협력단 다중 급전을 이용한 안테나

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