KR20060058422A - Liquid crystal display - Google Patents

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KR20060058422A KR1020040097459A KR20040097459A KR20060058422A KR 20060058422 A KR20060058422 A KR 20060058422A KR 1020040097459 A KR1020040097459 A KR 1020040097459A KR 20040097459 A KR20040097459 A KR 20040097459A KR 20060058422 A KR20060058422 A KR 20060058422A
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Abstract

컬러필터 기판과 TFT기판 간의 접착력(adhesion)을 향상시킬 수 있는 액정표시장치가 제공된다. 액정표시장치는, 공통 전극 및 컬러필터를 포함하는 컬러필터 기판과, 컬러필터 기판과 대향하여 배치되며 박막 트랜지스터 어레이 및 화소 전극을 포함하는 TFT 기판과, 컬러필터 기판과 TFT 기판의 가장자리에 개재되어 컬러필터 기판과 TFT 기판을 결합시키며 상단이 컬러필터 기판의 공통 전극과 직접 접촉하는 실라인(seal line)과, 실라인의 하단과 직접 접촉하며 TFT 기판 상에 형성된 도전막을 포함한다.A liquid crystal display device capable of improving the adhesion between a color filter substrate and a TFT substrate is provided. The liquid crystal display device includes a color filter substrate including a common electrode and a color filter, a TFT substrate disposed to face the color filter substrate, the TFT substrate including a thin film transistor array and a pixel electrode, and interposed at edges of the color filter substrate and the TFT substrate. The color filter substrate and the TFT substrate are coupled to each other, and a seal line having an upper end in direct contact with a common electrode of the color filter substrate and a conductive film formed on the TFT substrate in direct contact with a lower end of the seal line.

LCD, 실라인, seal line, ITOLCD, seal line, seal line, ITO

Description

액정표시장치{Liquid crystal display}Liquid crystal display

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 분해 사시도이다. 1 is an exploded perspective view illustrating a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 단면도이다. 2 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 액정표시장치의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)

10: 전방 커버 11: 후방 커버10: front cover 11: rear cover

20: 샤시 30: 액정표시패널 어셈블리20: chassis 30: liquid crystal display panel assembly

31: 게이트 테이프 캐리어 패키지 32: 데이터 테이프 캐리어 패키지31: gate tape carrier package 32: data tape carrier package

33: TFT 기판 34: 컬러필터 기판33: TFT substrate 34: color filter substrate

35: 통합 인쇄회로기판 40: 백라이트 유닛35: integrated printed circuit board 40: backlight unit

41: 광학시트들 42: 도광판41: optical sheets 42: light guide plate

43: 램프 어셈블리 44: 반사판43: lamp assembly 44: reflector

45: 몰드프레임 100: 액정표시장치45: mold frame 100: liquid crystal display device

110: 상부 기판 112: 블랙 매트릭스110: upper substrate 112: black matrix

114: 칼라필터 116: 공통 전극114: color filter 116: common electrode

120: 편광판 130: 액정층 120: polarizer 130: liquid crystal layer                 

132: 실라인 140: 편광판132: seal line 140: polarizer

150: 하부 기판 152: 게이트 전극150: lower substrate 152: gate electrode

154: 게이트 절연막 156: 액티브층154: gate insulating film 156: active layer

158: 소스 전극 160: 드레인 전극158: source electrode 160: drain electrode

162: 보호막 164: 화소 전극162: protective film 164: pixel electrode

264, 364: 도전막264, 364: conductive film

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 액정표시패널 어셈블리를 구성하는 컬러필터 기판과 TFT기판 간의 접착력(adhesion)을 향상시킬 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device capable of improving adhesion between a color filter substrate and a TFT substrate constituting a liquid crystal display panel assembly.

일반적으로 사용되고 있는 표시장치들 중의 하나인 음극선관(CRT; Cathode Ray Tube)은 텔레비전을 비롯해서 계측기기, 정보 단말기기 등의 모니터에 주로 이용되고 있으나, 음극선관의 자체 무게와 크기로 인하여 전자 제품의 소형화, 경량화의 요구에 적극 대응할 수 없었다.Cathode ray tube (CRT), which is one of the display devices that are generally used, is mainly used for monitors such as televisions, measuring devices, information terminal devices, etc., but due to its own weight and size, It could not actively respond to the demand for miniaturization and weight reduction.

이러한 음극선관을 대체하기 위해서 소형, 경량화 및 저소비전력 등과 같은 장점을 가지고 있으며, 액정패널의 내부에 주입된 액정의 전기, 광학적 성질을 이용하여 정보를 표시하는 액정표시장치가 활발하게 개발되어 왔고, 최근에는 평판 표시장치로서의 역할을 수행하고 있다. 일반적으로 액정표시장치는 저소비전력 및 경량, 적은 부피를 갖는 디스플레이 장치로, 액정표시장치는 이와 같은 특유의 장점으로 인하여 산업 전반 예를 들어, 컴퓨터 산업, 전자 산업, 정보통신 산업 등에 폭넓게 응용되고 있는 실정으로, 이와 같은 장점을 갖는 액정표시장치는 휴대용 컴퓨터의 디스플레이 장치 및 데스크 톱 컴퓨터의 모니터, 고화질 영상 기기의 모니터 등의 폭넓은 분야에 다양하게 적용되고 있다.In order to replace the cathode ray tube, it has advantages such as small size, light weight, low power consumption, and the like, and a liquid crystal display device that displays information by using the electrical and optical properties of the liquid crystal injected into the liquid crystal panel has been actively developed. Recently, it plays a role as a flat panel display device. In general, a liquid crystal display device is a display device having low power consumption, light weight, and small volume. The liquid crystal display device has been widely applied to a wide range of industries, for example, the computer industry, the electronics industry, and the information and communication industry due to such unique advantages. As a matter of fact, the liquid crystal display device having such advantages has been applied to various fields such as a display device of a portable computer, a monitor of a desktop computer, a monitor of a high-definition video device, and the like.

액정표시장치는 크게 TN(Twisted Nematic) 방식과 STN(Super-Twisted Nematic)방식으로 나뉘고, 구동방식의 차이로 스위칭 소자 및 TN액정을 이용한 액티브 매트릭스(Active matrix) 표시방식과 STN 액정을 이용한 패시브 매트릭스(passive matrix) 표시방식이 있다.The liquid crystal display is divided into TN (Twisted Nematic) and STN (Super-Twisted Nematic) methods, and the difference between the driving methods is the active matrix display method using the switching element and the TN liquid crystal and the passive matrix using the STN liquid crystal. There is a passive matrix display method.

이 두 방식의 큰 차이점은 액티브 매트릭스 표시 방식은 TFT-LCD에 사용되며, 이것은 TFT를 스위치로 이용하여 LCD를 구동하는 방식이며, 패시브 매트릭스 표시방식은 트랜지스터를 사용하지 않기 때문에 이와 관련한 복잡한 회로를 필요로 하지 않는다. TFT를 이용한 LCD는 최근에 휴대용 컴퓨터의 보급에 따라 널리 사용되고 있다.The big difference between these two methods is that the active matrix display method is used for TFT-LCD, which drives the LCD using the TFT as a switch, and the passive matrix display method does not use transistors, thus requiring a complicated circuit. Do not LCDs using TFTs are widely used in recent years with the spread of portable computers.

액정표시장치는 컬러필터를 포함하는 컬러필터 기판과 박막 트랜지스터 어레이를 포함하는 TFT기판을 포함한다. 컬러필터 기판과 TFT 기판은 서로 대향하며 두 기판 사이에 개재된 실라인(seal line)에 의해 서로 접합되고, 그 사이에 형성된 일정한 공극에 액정층이 형성된다. 이와 같이 액정표시장치는 전극이 형성되어 있는 두 장의 기판(컬러필터 기판과 TFT 기판)과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어지며, 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시켜 투과 되는 빛의 양을 조절함으로써 소정의 영상을 디스플레이할 수 있도록 구성된 장치이다.The liquid crystal display device includes a color filter substrate including a color filter and a TFT substrate including a thin film transistor array. The color filter substrate and the TFT substrate face each other and are bonded to each other by a seal line interposed between the two substrates, and a liquid crystal layer is formed in a constant gap formed therebetween. As described above, the liquid crystal display device is composed of two substrates (color filter substrate and TFT substrate) on which electrodes are formed and a liquid crystal layer interposed therebetween. The liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are rearranged by applying a voltage to the electrode. It is a device configured to display a predetermined image by adjusting the amount of light transmitted.

최근 초 슬림(slim)형 액정표시장치가 요구되는 추세를 반영하여, 컬러필터 기판과 TFT 기판을 접합하는 실라인의 선폭도 줄어들고 있다. 이와 같이, 실라인의 선폭은 줄어들지만 컬러필터 기판과 TFT 기판 간의 분리는 방지하기 위해 접착력은 그대로 유지되어야 한다. 그러나, 액정표시장치의 패널의 크기는 커져가는 반면에 두 기판을 접합하는 실라인의 선폭은 줄어들어 두 기판이 분리되기 쉬운 문제가 발생한다.Reflecting the recent trend for ultra-slim liquid crystal display devices, the line width of the seal line joining the color filter substrate and the TFT substrate is also decreasing. As such, the line width of the seal line is reduced, but the adhesion force must be maintained in order to prevent separation between the color filter substrate and the TFT substrate. However, while the size of the panel of the liquid crystal display device increases, the line width of the seal line joining the two substrates decreases, causing a problem that the two substrates are easily separated.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 컬러필터 기판과 TFT 기판 간의 접착력을 향상시킬 수 있는 액정표시장치를 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a liquid crystal display device capable of improving adhesion between a color filter substrate and a TFT substrate.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치는, 공통 전극 및 컬러필터를 포함하는 컬러필터 기판과, 상기 컬러필터 기판과 대향하여 배치되며 박막 트랜지스터 어레이 및 화소 전극을 포함하는 TFT 기판과, 상기 컬러필터 기판과 TFT 기판의 가장자리에 개재되어 상기 컬러필터 기판과 TFT 기판을 결합시키며 상단이 상기 컬러필터 기판의 상기 공통 전극과 직접 접촉하는 실라인(seal line)과, 상기 실라인의 하단과 직접 접촉하며 상기 TFT 기판 상에 형성된 도전막을 포함한다.According to an aspect of the present invention, a liquid crystal display device includes a color filter substrate including a common electrode and a color filter, and a thin film transistor array and a pixel electrode disposed to face the color filter substrate. A TFT substrate, a seal line interposed between edges of the color filter substrate and the TFT substrate to couple the color filter substrate and the TFT substrate, and a top end of which is in direct contact with the common electrode of the color filter substrate; And a conductive film formed on the TFT substrate in direct contact with the bottom of the seal line.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various forms. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3.

첨부된 도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치를 나타내는 분해 사시도이다. 1 is an exploded perspective view illustrating a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치(100)는 전체적으로 보아 액정표시패널 어셈블리(30), 백라이트 유닛(40), 샤시(20), 전방 커버(10) 및 후방 커버(11)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the liquid crystal display device 100 according to an exemplary embodiment of the present invention generally has a liquid crystal display panel assembly 30, a backlight unit 40, a chassis 20, a front cover 10, and a rear cover. And (11).

여기서, 액정표시패널 어셈블리(30)는 TFT 기판(33), 컬러필터 기판(34)을 포함하는 액정표시패널, 액정(미도시), 게이트 테이프 캐리어 패키지(31), 데이터 테이프 캐리어 패키지(32) 및 통합 인쇄회로기판(35) 등으로 구성된다. Here, the liquid crystal display panel assembly 30 includes a TFT substrate 33, a liquid crystal display panel including a color filter substrate 34, a liquid crystal (not shown), a gate tape carrier package 31, and a data tape carrier package 32. And an integrated printed circuit board 35.                     

액정표시패널은 게이트 라인(미도시) 및 데이터 라인(미도시)과 박막 트랜지스터 어레이, 화소전극 등을 포함하는 TFT 기판(33)과, TFT 기판(33)의 상부에 위치하여 TFT 기판(33)에 대향하도록 설치된 컬러필터 기판(34)을 포함한다.The liquid crystal display panel includes a TFT substrate 33 including a gate line (not shown) and a data line (not shown), a thin film transistor array, a pixel electrode, and the like, and a TFT substrate 33 disposed above the TFT substrate 33. It includes a color filter substrate 34 installed to face.

그리고, 게이트 테이프 캐리어 패키지(31)는 TFT 기판(33)에 형성된 각 게이트 라인에 접속되고, 데이터 테이프 캐리어 패키지(32)는 TFT 기판(33)에 형성된 각 데이터 라인(미도시)에 접속된다. The gate tape carrier package 31 is connected to each gate line formed on the TFT substrate 33, and the data tape carrier package 32 is connected to each data line (not shown) formed on the TFT substrate 33.

한편, 통합 인쇄회로기판(35)에서는 게이트 테이프 캐리어 패키지(31)에 게이트 구동신호 및 데이터 테이프 캐리어 패키지(32)에 데이터 구동 신호가 입력가능하도록, 게이트 구동신호 및 데이터 구동신호를 모두 처리할 수 있는 여러 구동 부품이 실장된다. Meanwhile, the integrated printed circuit board 35 may process both the gate driving signal and the data driving signal so that the gate driving signal can be input to the gate tape carrier package 31 and the data driving signal can be input to the data tape carrier package 32. Several moving parts are mounted.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 백라이트 유닛(40)은 광학시트들(41), 도광판(42), 램프 어셈블리(43), 반사판(44), 몰드프레임(45) 등으로 구성된다.Referring to FIG. 1, a backlight unit 40 according to an embodiment of the present invention may include optical sheets 41, a light guide plate 42, a lamp assembly 43, a reflective plate 44, a mold frame 45, and the like. It is composed.

여기서, 도광판(42)은 액정표시패널 어셈블리(30)로 공급되는 빛을 안내하는 역할을 한다. 램프 어셈블리(43)는 도광판(42)의 측면에 삽입되어 이러한 빛을 발산한다. Here, the light guide plate 42 serves to guide the light supplied to the liquid crystal display panel assembly 30. The lamp assembly 43 is inserted into the side of the light guide plate 42 to emit this light.

반사판(44)은 도광판(42)의 하부면에 설치되어 도광판(42)의 하부로 방출되는 빛을 상부로 반사한다. 광학시트들(41)은 도광판(42)의 상부면에 설치되어 도광판(42)으로부터 전달되는 빛을 확산하고 집광하는 역할을 한다. 몰드프레임(45)은 이러한 백라이트 유닛(40)을 이루는 부품들을 수납하고 고정하는 역할을 한다. 여 기서, 소형의 액정표시장치(100)의 경우 도광판(42)의 측면에 보통 하나의 램프가 설치되지만, 액정표시장치(100)가 대형화될수록 충분한 휘도를 얻기 위하여 하나의 램프 어셈블리(43)에 복수의 램프들을 설치할 수 있다.The reflective plate 44 is installed on the lower surface of the light guide plate 42 to reflect the light emitted to the lower portion of the light guide plate 42 to the top. The optical sheets 41 are installed on the upper surface of the light guide plate 42 to diffuse and collect light transmitted from the light guide plate 42. The mold frame 45 stores and fixes the components of the backlight unit 40. Here, in the case of the small liquid crystal display device 100, one lamp is usually installed on the side of the light guide plate 42, but as the liquid crystal display device 100 becomes larger, one lamp assembly 43 is provided to obtain sufficient luminance. A plurality of lamps can be installed.

이하, 도 2를 참조하여 본 발명의 액정표시장치(100)를 구성하는 컬러필터 기판(34)과 TFT 기판(33)에 대하여 구체적으로 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 단면도이다.Hereinafter, the color filter substrate 34 and the TFT substrate 33 constituting the liquid crystal display device 100 of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 2. 2 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치는 TFT 기판(33), TFT 기판(33)과 대향하여 구비되는 컬러필터 기판(34) 및 TFT 기판(33)과 컬러필터 기판(34) 사이에 개재된 액정층(130)으로 이루어진다.Referring to FIG. 1, a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a color filter substrate 34, a TFT filter 33, and a color filter substrate provided opposite to the TFT substrate 33 and the TFT substrate 33. It consists of a liquid crystal layer 130 interposed between 34.

여기서, TFT 기판(33)은 절연성 재질의 하부 기판(150) 상에 다수의 박막 트랜지스터 어레이 및 화소 전극(164)이 구비된 기판이다. 여기서, 박막 트랜지스터 어레이는 하부 기판(150) 상에 형성된 게이트 전극(152), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160) 등으로 이루어진다. 게이트 전극(152), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)으로는 알루미늄(Al), 크롬(Cr) 또는 몰리브덴 텅스텐(MoW) 등의 도전막을 사용할 수 있다. Here, the TFT substrate 33 is a substrate provided with a plurality of thin film transistor arrays and pixel electrodes 164 on the lower substrate 150 of an insulating material. The thin film transistor array includes a gate electrode 152, a source electrode 158, a drain electrode 160, and the like formed on the lower substrate 150. As the gate electrode 152, the source electrode 158, and the drain electrode 160, a conductive film such as aluminum (Al), chromium (Cr), or molybdenum tungsten (MoW) may be used.

이러한 박막 트랜지스터 어레이 상부에는 드레인 전극(160)을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖는 보호막(162)이 형성된다. 보호막(162)은 유기 절연막으로 이루어질 수 있으며, 구체적으로 아크릴계 수지로 이루어진 감광성 절연 물질로 이루어진다.A passivation layer 162 having a contact hole for exposing the drain electrode 160 is formed on the thin film transistor array. The passivation layer 162 may be formed of an organic insulating layer. Specifically, the passivation layer 162 may be formed of a photosensitive insulating material made of acrylic resin.

보호막(162) 상에는 콘택홀을 통해 드레인 전극(160)과 전기적으로 접촉되는 화소 전극(164)이 균일한 두께로 적층된다. 화소 전극(164)은 투명성 도전 물질인 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide; 이하, ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide; 이하, IZO)로 이루어진다. 도 2에 도시된 바와 같이, TFT 기판(33)의 가장자리에 형성된 실라인(132) 하단에 해당되는 영역에 도전막(264)이 형성된다. 이러한 도전막(264)은 실라인(132)과 TFT 기판(33)과의 접착력을 높여주는 역할을 한다. 이에 대하여는 후술하도록 한다. 공정을 간소화하기 위해 도전막(264)은 화소 전극(164)과 같은 물질을 사용할 수 있다. 즉, 보호막(162) 상에 화소 전극(164)을 형성하면서 동시에 실라인(132) 하단에 해당하는 영역에도 ITO 재질의 도전막(264)을 형성할 수 있다.On the passivation layer 162, the pixel electrode 164 electrically contacting the drain electrode 160 through the contact hole is stacked to have a uniform thickness. The pixel electrode 164 is made of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), which is a transparent conductive material. As shown in FIG. 2, a conductive film 264 is formed in a region corresponding to the lower end of the seal line 132 formed at the edge of the TFT substrate 33. The conductive film 264 increases the adhesion between the seal line 132 and the TFT substrate 33. This will be described later. In order to simplify the process, the conductive layer 264 may use a material such as the pixel electrode 164. That is, while forming the pixel electrode 164 on the passivation layer 162, the conductive layer 264 made of ITO may be formed in the region corresponding to the lower end of the seal line 132.

그리고, 화소 전극(164) 상에는 배향막(orientation layer)(미도시)이 적층된다. 배향막은 유기질의 폴리이미드(polyimide) 계열이 주로 사용될 수 있다. 미설명된 도면 부호 154는 게이트 절연막이고, 도면 부호 156은 액티브층이며, 도면부호 140은 편광판이다.An orientation layer (not shown) is stacked on the pixel electrode 164. As the alignment layer, an organic polyimide series may be mainly used. Unexplained reference numeral 154 is a gate insulating film, reference numeral 156 is an active layer, and reference numeral 140 is a polarizing plate.

컬러필터 기판(34)은 상부 기판(110) 상에 블랙 매트릭스(112), 컬러필터(114), 공통 전극(116)이 구비된 기판이다.The color filter substrate 34 is a substrate including a black matrix 112, a color filter 114, and a common electrode 116 on the upper substrate 110.

구체적으로, 상부 기판(110) 상에 R(Red), G(Green), B(Blue)로 이루어진 컬러필터(114)가 구비된다. 그리고, 박막 트랜지스터 어레이와 대향하는 위치에는 블랙 매트릭스(112)가 형성되어 난반사되는 빛을 흡수하는 역할을 한다. 컬러필터(114) 상에는 공통 전극(116)이 균일한 두께로 적층된다. 여기서, 공통 전극(116)은 투명성 도전 물질인 ITO 또는 IZO로 이루어진다. In detail, the color filter 114 including R (Red), G (Green), and B (Blue) is provided on the upper substrate 110. In addition, the black matrix 112 is formed at a position opposite to the thin film transistor array to absorb diffusely reflected light. The common electrode 116 is stacked on the color filter 114 with a uniform thickness. Here, the common electrode 116 is made of ITO or IZO, which is a transparent conductive material.                     

그리고, 공통 전극(116) 상에는 배향막(미도시)이 적층된다. TFT 기판(33)과 컬러필터 기판(34) 상에 형성된 배향막(미도시)에 의해 TFT 기판(33)과 컬러필터 기판(34) 사이에 개재된 액정층(130) 내의 액정 분자들은 선택된 각으로 프리틸팅된다. 미설명된 도면부호 120은 편광판이다.An alignment film (not shown) is stacked on the common electrode 116. Liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 130 interposed between the TFT substrate 33 and the color filter substrate 34 by an alignment film (not shown) formed on the TFT substrate 33 and the color filter substrate 34 are selected at an angle. Pretilt. Unexplained reference numeral 120 denotes a polarizing plate.

도 2에 도시된 바와 같이, TFT 기판(33)과 컬러필터 기판(34)의 가장자리 결합부에는 실라인(seal line)(132)이 형성된다. 실라인(132)은 TFT 기판(33)과 컬러필터 기판(34) 사이에 액정 주입을 위한 갭을 형성하고 주입된 액정이 새지 않게 하는 기능을 수행한다. 이러한 실라인(132)은 열경화성 에폭시(epoxy) 수지 등을 일정하게 원하는 패턴으로 형성한 것이다.As shown in FIG. 2, a seal line 132 is formed at the edge coupling portion of the TFT substrate 33 and the color filter substrate 34. The seal line 132 forms a gap for liquid crystal injection between the TFT substrate 33 and the color filter substrate 34 and prevents the injected liquid crystals from leaking. The seal line 132 is formed of a thermosetting epoxy resin and the like in a desired pattern.

실라인(132)은 컬러필터 기판(34)에 형성된 공통 전극(116)과 접촉하게 되는데, 공통 전극(116)으로 사용되는 도전성 물질과 실라인(132)으로 사용되는 에폭시 수지 간에는 접착력이 좋다. 특히, 공통 전극(116)의 주재료인 투명성 도전 물질 ITO와 실라인(132)의 주재료인 열경화성 에폭시 수지 간에는 접착력이 매우 좋기 때문에 실라인(132)의 선폭이 줄어들더라도 실라인(132)과 컬러필터 기판(34) 사이에는 분리가 잘 일어나지 않는다. The seal line 132 is in contact with the common electrode 116 formed on the color filter substrate 34, and has good adhesion between the conductive material used as the common electrode 116 and the epoxy resin used as the seal line 132. In particular, since the adhesion between the transparent conductive material ITO, which is the main material of the common electrode 116, and the thermosetting epoxy resin, which is the main material of the seal line 132, is very good, the line width of the seal line 132 and the color filter are reduced even though the line width of the seal line 132 is reduced. Separation does not occur well between the substrates 34.

또한, 앞서 언급한 바와 같이, 실라인(132)은 TFT 기판(33)의 보호막(162) 상에 형성된 도전막(264)과 접촉하여 TFT 기판(33)과 결합하게 되는데, 유기물질로 구성된 보호막(162)과 실라인(132)의 결합력을 보강하기 위해 보호막(162)과 실라인(132) 사이에 도전막(264)을 개재시킨다. 도전막(264)으로 사용되는 도전성 물질과 보호막(162)으로 사용되는 에폭시 수지 간에는 접착력이 좋다. 특히, ITO를 주 재료로 사용하는 도전막(264)은 유기물질로 구성된 보호막(162)과의 결합력이 매우 좋고 이러한 도전막(264)은 에폭시 수지를 주재료로하는 실라인(132)과 결합력이 좋기 때문에, 실라인(132)의 선폭이 줄어들더라도 실라인(132)과 TFT 기판(33) 사이에는 분리가 잘 일어나지 않는다.In addition, as mentioned above, the seal line 132 contacts the conductive film 264 formed on the protective film 162 of the TFT substrate 33 to bond with the TFT substrate 33. A conductive film 264 is interposed between the protective film 162 and the seal line 132 to reinforce the bonding force between the 162 and the seal line 132. Adhesive force is good between the conductive material used for the conductive film 264 and the epoxy resin used for the protective film 162. In particular, the conductive film 264 using ITO as a main material has a good bonding force with the protective film 162 made of an organic material, and the conductive film 264 has a bonding force with the seal line 132 mainly containing an epoxy resin. Therefore, even if the line width of the seal line 132 is reduced, separation does not occur well between the seal line 132 and the TFT substrate 33.

이하, 도 2를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 의한 액정표시장치의 제조방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2.

TFT 기판(33)의 형성 방법을 설명하면, 유리 또는 세라믹과 같은 절연 물질로 이루어진 하부 기판(150) 상에 알루미늄(Al), 크롬(Cr) 또는 몰리브덴 텅스텐(MoW) 등의 금속막을 증착한 후, 이러한 금속막을 패터닝하여 게이트 라인(도시하지 않음) 및 상기 게이트 라인으로부터 분기되는 게이트 전극(152)을 형성한다. 이어서, 게이트 전극(152)을 포함하는 하부 기판(150)의 전면에 실리콘 질화물을 증착하여 게이트 절연막(154)을 형성한다.Referring to the method of forming the TFT substrate 33, after depositing a metal film such as aluminum (Al), chromium (Cr) or molybdenum tungsten (MoW) on the lower substrate 150 made of an insulating material such as glass or ceramic The metal film is patterned to form a gate line (not shown) and a gate electrode 152 branching from the gate line. Subsequently, silicon nitride is deposited on the entire surface of the lower substrate 150 including the gate electrode 152 to form a gate insulating layer 154.

게이트 절연막(154) 상에 비정질 실리콘막을 형성한 후, 패터닝하여 게이트 전극(152) 윗부분의 게이트 절연막(154) 상에 액티브층(156)을 형성한다.After the amorphous silicon film is formed on the gate insulating film 154, the active layer 156 is formed on the gate insulating film 154 over the gate electrode 152 by patterning.

계속해서, 상기 결과물의 전면에 알루미늄(Al), 크롬(Cr) 또는 몰리브덴 텅스텐(MoW) 등의 금속막을 증착한 후, 이러한 금속막을 패터닝하여 게이트 라인에 직교하는 데이터 라인(도시하지 않음)과, 데이터 라인으로부터 분기되는 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)을 형성한다. 따라서, 게이트 전극(152), 액티브층(156), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이가 완성된다. 이때, 게이트 라인과 데이터 라인 사이에는 게이트 절연막(154)이 개재 되어 게이트 라인이 데이터 라인과 접촉되는 것을 방지한다.Subsequently, a metal film such as aluminum (Al), chromium (Cr) or molybdenum tungsten (MoW) is deposited on the entire surface of the resultant, and then the metal film is patterned to orthogonal to the gate line (not shown), The source electrode 158 and the drain electrode 160 branching from the data line are formed. Accordingly, the thin film transistor array including the gate electrode 152, the active layer 156, the source electrode 158, and the drain electrode 160 is completed. In this case, a gate insulating layer 154 is interposed between the gate line and the data line to prevent the gate line from contacting the data line.

이어서, 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 하부 기판(150)의 전면에 레지스트를 약 1∼3㎛의 두께로 도포하여 유기물질의 보호막(162)을 형성한다. 그리고, 사진/식각 공정을 통하여 보호막(162) 상에 드레인 전극(160)을 부분적으로 노출시키는 콘택홀을 형성한다. Subsequently, a resist is applied to the entire surface of the lower substrate 150 on which the thin film transistor array is formed to have a thickness of about 1 to 3 μm to form a protective film 162 of an organic material. A contact hole for partially exposing the drain electrode 160 is formed on the passivation layer 162 through a photo / etch process.

그리고, 보호막(162) 상에 금속막, 예컨대 반사 도전막 또는 투명 도전막 또는 반사 도전막과 투명 도전막이 적층된 금속막을 증착한 후, 이러한 금속막을 소정의 화소 형상으로 패터닝하여 화소 전극(164)을 형성한다. 그리고, TFT 기판(33) 가장자리의 실라인(132)이 접합하는 부분에 도전막(264)을 형성한다. 도전막(264)은 화소 전극(164)과 동일한 공정에서 형성할 수도 있고, 별도의 공정을 통하여 형성할 수도 있다. 공정의 간소화를 위해, 화소 전극(164)와 도전막(264)을 동일한 공정에서 형성하는 경우, 도전막(264)은 화소 전극(164)와 동일 층의 동일 물질로 이루어지게 된다.After depositing a metal film, for example, a reflective conductive film or a transparent conductive film or a metal film on which the reflective conductive film and the transparent conductive film are stacked, the metal film is patterned into a predetermined pixel shape on the protective film 162 to form the pixel electrode 164. To form. Then, the conductive film 264 is formed at the portion where the seal line 132 at the edge of the TFT substrate 33 is joined. The conductive film 264 may be formed in the same process as the pixel electrode 164 or may be formed through a separate process. In order to simplify the process, when the pixel electrode 164 and the conductive film 264 are formed in the same process, the conductive film 264 is made of the same material as that of the pixel electrode 164.

계속해서, 화소 전극(164) 상에 레지스트를 도포하고 러빙(rubbing) 처리 등을 통해 액정층내의 액정 분자들을 선택된 각으로 프리틸팅시키는 배향막(도시하지 않음)을 형성한다. 배향막은 하부 기판(150) 상에 균일한 두께로 증착되어야하고, 러빙 또한 균일해야 한다. 또한 러빙은 액정의 초기 배열 방향을 결정하는 주요한 공정으로, 배향막의 러빙에 의해 정상적인 액정의 구동이 가능하고, 균일한 디스플레이 특성을 갖게 된다. 이러한 배향막은 유기질의 폴리이미드(polyimide) 계열이 주로 쓰이고 있다. Subsequently, an alignment film (not shown) is formed on the pixel electrode 164 to apply a resist and to pretilt the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer at a selected angle through a rubbing process or the like. The alignment layer should be deposited to a uniform thickness on the lower substrate 150, and rubbing should also be uniform. In addition, rubbing is a main process of determining the initial alignment direction of the liquid crystal. The rubbing of the alignment layer enables normal driving of the liquid crystal and has uniform display characteristics. Such alignment layers are mainly used in organic polyimide series.                     

상술한 공정을 수행하여, 게이트 전극(152), 게이트 절연막(154), 액티브층(156), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)을 포함하는 TFT 기판(33)이 완성된다. By performing the above process, the TFT substrate 33 including the gate electrode 152, the gate insulating film 154, the active layer 156, the source electrode 158, and the drain electrode 160 is completed.

또한, 하부 기판(150)과 동일한 물질로 구성된 상부 기판(110) 상에 컬러필터(114), 공통 전극(116) 및 배향막(미소시)을 형성하여, 상기 소자들을 포함하는 컬러필터 기판(34)을 형성한다. In addition, the color filter substrate 34 including the elements may be formed by forming the color filter 114, the common electrode 116, and the alignment layer on the upper substrate 110 formed of the same material as the lower substrate 150. ).

이어서, TFT 기판(33)의 가장자리에 열경화성 실라인(132)을 개재한다. 실라인(132)이 형성되는 영역은 TFT 기판(33)에서 박막 트랜지스터 어레이를 포함하지 않는 영역이다. Next, the thermosetting seal line 132 is interposed at the edge of the TFT substrate 33. The region where the seal line 132 is formed is a region in the TFT substrate 33 that does not include the thin film transistor array.

열경화성 실라인(132)은 열을 가함으로써 두 물체를 합착시킬 수 있는 물질이다. 다만, 본 발명의의 실라인(132)은 열경화성 수지뿐만 아니라, 광경화성 수지도 포함될 수 있으나, 열경화성 수지를 중심으로 설명하기로 한다. The thermosetting seal line 132 is a material that can bond the two objects by applying heat. However, the seal line 132 of the present invention may include not only a thermosetting resin but also a photocurable resin, but will be described based on the thermosetting resin.

실라인(132)이 도포된 TFT 기판(33)과 컬러필터 기판(34)을 서로 대향하도록 배치시켜 열을 가하면서 두 기판을 접합한다.The TFT substrate 33 coated with the seal line 132 and the color filter substrate 34 are disposed to face each other, and the two substrates are bonded while applying heat.

이후, 컬러필터 기판(34)과 TFT 기판(33)이 합착된 상태에서, 컬러필터 기판(34)과 TFT 기판(33) 사이 공간에 액정 물질을 주입하여 액정층(130)을 형성함으로써, 액정 표시 장치를 완성한다.Subsequently, in a state where the color filter substrate 34 and the TFT substrate 33 are bonded together, a liquid crystal material is injected into a space between the color filter substrate 34 and the TFT substrate 33 to form the liquid crystal layer 130. Complete the display device.

액정층(130)을 형성하는 단계는 컬러필터 기판(34)과 TFT 기판(33)을 합착시키기 이전에, 정확하게는 컬러필터 기판(34)과 TFT 기판(33)을 서로 대향하도록 배치시킨 이 후에 수행할 수도 있다. The forming of the liquid crystal layer 130 may be performed by arranging the color filter substrate 34 and the TFT substrate 33 so as to face each other before bonding the color filter substrate 34 and the TFT substrate 33 to each other. It can also be done.

이러한 방법에 의해 컬러필터 기판(34)과 TFT 기판(33)을 합착하여 액정표시 장치를 완성하는 경우, 두 기판과 실라인(132)이 접합하는 부분에 모두 도전막(264)이 개재되어 기판과 실라인(132)과의 접착력을 향상시킬 수 있다. 따라서, 실라인(132)의 선폭이 줄어들더라도 실라인(132)과 TFT 기판(33) 사이에 분리가 일어나는 것을 방지할 수 있다.In this way, when the color filter substrate 34 and the TFT substrate 33 are bonded to each other to complete the liquid crystal display device, the conductive film 264 is interposed between the two substrates and the seal line 132. And the adhesive force with the seal line 132 can be improved. Therefore, even if the line width of the seal line 132 is reduced, separation can be prevented from occurring between the seal line 132 and the TFT substrate 33.

이하 도 3을 참조하여 본 발명의 다른 실시예를 설명한다. 설명의 편의상, 이전 실시예의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. 본 실시예의 액정표시장치는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 이전 실시예의 액정표시장치와 다음을 제외하고는 기본적으로 동일한 구조를 갖는다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 실라인(132) 하단과 TFT 기판(33) 사이에 개재된 도전막(364)은 실라인(132)의 내측벽의 하단에 배치된다. 즉, 도전막(364)이 실라인(132)의 외측벽 하단을 통과하여 액정표시장치의 외부로 노출되어 형성되는 경우 컬러필터 기판(34) 상에 형성된 공통 전극(116)과 단락이 발생할 우려가 있으므로, 도전막(364)은 실라인(132)의 내측벽 하단과 오버랩되는 것이 더욱 바람직하다.Hereinafter, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 3. For convenience of description, members having the same functions as the members shown in the drawings of the previous embodiment are denoted by the same reference numerals, and therefore description thereof is omitted. As shown in Fig. 3, the liquid crystal display of this embodiment has a structure basically the same as the liquid crystal display of the previous embodiment except for the following. That is, as shown in FIG. 3, the conductive film 364 interposed between the lower end of the seal line 132 and the TFT substrate 33 is disposed at the lower end of the inner wall of the seal line 132. That is, when the conductive film 364 is formed by passing through the lower end of the outer wall of the seal line 132 and being exposed to the outside of the liquid crystal display device, there is a possibility that a short circuit occurs with the common electrode 116 formed on the color filter substrate 34. Therefore, it is more preferable that the conductive film 364 overlaps with the lower end of the inner wall of the seal line 132.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 액정표시장치에 의하면, 컬러필터 기판과 TFT 기판 간의 접착력을 향상시켜 신뢰성이 우수한 액정표시장치를 제공할 수 있다. As described above, according to the liquid crystal display device according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device excellent in reliability by improving the adhesion between the color filter substrate and the TFT substrate.

Claims (4)

공통 전극 및 컬러필터를 포함하는 컬러필터 기판;A color filter substrate including a common electrode and a color filter; 상기 컬러필터 기판과 대향하여 배치되며, 박막 트랜지스터 어레이 및 화소 전극을 포함하는 TFT 기판;A TFT substrate disposed to face the color filter substrate and including a thin film transistor array and a pixel electrode; 상기 컬러필터 기판과 TFT 기판의 가장자리에 개재되어 상기 컬러필터 기판과 TFT 기판을 결합시키며, 상단이 상기 컬러필터 기판의 상기 공통 전극과 직접 접촉하는 실라인(seal line); 및A seal line interposed at edges of the color filter substrate and the TFT substrate to couple the color filter substrate and the TFT substrate, the seal line having an upper end thereof in direct contact with the common electrode of the color filter substrate; And 상기 실라인의 하단과 직접 접촉하며, 상기 TFT 기판 상에 형성된 도전막을 포함하는 액정표시장치.And a conductive film in direct contact with a lower end of the seal line and formed on the TFT substrate. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 도전막은 상기 화소 전극과 동일 층의 동일 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the conductive layer is made of the same material as that of the pixel electrode. 제2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 도전막은 상기 실라인의 내측벽의 하단의 일부와 오버랩되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the conductive film overlaps a portion of a lower end of an inner wall of the seal line. 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 도전막은 ITO로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the conductive film is made of ITO.
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