KR20060026686A - Varistor and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20060026686A KR1020040075518A KR20040075518A KR20060026686A KR 20060026686 A KR20060026686 A KR 20060026686A KR 1020040075518 A KR1020040075518 A KR 1020040075518A KR 20040075518 A KR20040075518 A KR 20040075518A KR 20060026686 A KR20060026686 A KR 20060026686A
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Abstract

본 발명은 써지 방어 및 정전기 방지 특성이 우수한 바리스터에 EMI 필터 특성을 추가한 바리스터 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 제1 내부 전극과 제2 내부 전극을 포함하는 한 쌍 이상의 내부 전극쌍과 그라운드 전극이 바리스터 재료층을 개재하여 교대로 일회 이상 적층되어 있는 바리스터부와, 바리스터부 상방에 배치되고 내부 전극쌍의 개수와 동일한 개수의 저항층을 포함하는 적층체와, 하나 이상의 제1 외부 전극과, 하나 이상의 제2 외부 전극과, 그라운드 외부 전극을 구비하고, 제1 내부 전극의 일단, 제2 내부 전극의 일단, 그라운드 전극의 일단, 및 저항층의 양단은 적층체의 외부로 노출되며, 노출된 제1 내부 전극의 일단과 저항층의 일단은 제1 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되며, 노출된 제2 내부 전극의 일단과 저항층의 타단은 제2 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되며, 노출된 그라운드 전극의 일단은 그라운드 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되는 바리스터 및 그 제조 방법을 제공한다.The present invention relates to a varistor in which EMI filter characteristics are added to a varistor having excellent surge protection and antistatic properties, and a method of manufacturing the varistor, wherein the pair of internal electrode pairs and ground electrodes including a first internal electrode and a second internal electrode are provided. A varistor portion that is alternately stacked one or more times through a varistor material layer, a laminate including a resistance layer disposed above the varistor portion and having the same number of resistance layers as the number of internal electrode pairs, one or more first external electrodes, and one The second external electrode and the ground external electrode are provided, and one end of the first internal electrode, one end of the second internal electrode, one end of the ground electrode, and both ends of the resistance layer are exposed to the outside of the laminate, and the exposed agent One end of the internal electrode and one end of the resistance layer are electrically connected by the first external electrode, and one end of the exposed second internal electrode and the other end of the resistance layer are second Unit is electrically connected by the electrode, one end of the exposed ground electrode provides a varistor and its manufacturing method which is electrically connected by the ground external electrode.

바리스터, EMIVaristors, EMI

Description

바리스터 및 그 제조 방법{VARISTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}Varistor and its manufacturing method {VARISTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터(1)의 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view of a chip varistor 1 according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터(1)의 사시도이다.2 is a perspective view of a chip varistor 1 according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터(1)의 한 쌍의 외부 전극(25a, 25b)과 그라운드 외부 전극(30a, 30b) 사이의 회로를 나타내는 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating a circuit between a pair of external electrodes 25a and 25b and ground external electrodes 30a and 30b of the chip varistor 1 according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터(1)를 회로에 실장한 경우의 연결도이다.4 is a connection diagram when the chip varistor 1 is mounted on a circuit according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 칩 바리스터 2 : 내부 전극층1 chip varistor 2 internal electrode layer

3 : 그라운드 전극층 4 : 더미 시트3: ground electrode layer 4: dummy sheet

5 : 저항층 6 : 저항 보호층5: resistive layer 6: resistive protective layer

7 : 바리스터 8 : 커패시터7: varistor 8: capacitor

20a, 20b : 제1, 제2 내부 전극 25a, 25b : 제1, 제2 외부 전극20a, 20b: first and second internal electrodes 25a, 25b: first and second external electrodes

30 : 그라운드 전극 30a, 30b : 그라운드 외부 전극30: ground electrode 30a, 30b: ground external electrode

본 발명은 바리스터 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 EMI 필터 기능을 갖는 바리스터와 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a varistor and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a varistor having an EMI filter function and a method of manufacturing the same.

EMI(Electromagnetic Interference, 전자파 간섭)란 불필요한 전자파 신호에 의해 원하는 신호의 탐지 및 해석에 간섭을 초래하거나 장비의 성능 저하를 일으키는 현상으로 전기전자 장비 사용시 항상 고려해야 하는 필수적인 문제이다. EMI 필터로는 주로 저역 통과 필터가 사용되며, 저항 R과 커패시터 C를 신호원에 직렬로 연결하고 C의 양단에서 출력을 취하는 방법으로 사용한다. 이 경우 신호의 주파수를 ω라 할 때, 저주파 성분에서는 1/√(1+ (ωR C)^2) 로 표현되는 이득율이 증가하는 반면, 주파수 ω가 높아지는 고주파 성분에서는 급격히 이득이 감쇄하는 성질을 나타낸다. 이와 같이 필터링되는 특성의 변화는 R과 C의 값을 조절하여 결정하게 된다.Electromagnetic Interference (EMI) is a phenomenon that can cause interference in the detection and interpretation of a desired signal due to unnecessary electromagnetic signals or degrades the performance of the equipment. Low pass filters are commonly used as EMI filters, by connecting resistor R and capacitor C in series with the signal source and taking the output across C. In this case, when the frequency of the signal is ω, the gain ratio expressed by 1 / √ (1+ (ω R C) ^ 2) increases in the low frequency component, while the gain decreases rapidly in the high frequency component in which the frequency ω increases. Indicates. The change of the filtered property is determined by adjusting the values of R and C.

전자기기의 신호선에서는, 이러한 EMI 필터의 기능과 더불어, 반도체 부품의 손상과 오동작 등을 확실하게 방지하기 위한 써지 방어 및 정전기 방지 기능 또한 필요하게 되어, 종래에는 EMI 필터와 별도의 부품인 바리스터를 연결하여 패키징하거나, EMI 필터 패키지와 별도의 부품인 칩 바리스터를 기판위에 각각 실장하였다. 그러나, 종래의 이러한 방법은 실장을 위한 공간 문제, 별도의 공정에 따르는 작업공수 증가 및 추가 부품 실장에 따르는 제조비용 증가 등의 문제점이 있었다.In addition to the function of the EMI filter, the signal line of the electronic device also requires surge protection and anti-static functions to reliably prevent damage and malfunction of semiconductor components, and conventionally connects a varistor which is a separate component to the EMI filter. The chip varistor, which is a separate component from the EMI filter package, was mounted on the substrate. However, such a conventional method has a problem such as a space problem for mounting, an increase in the labor of the separate process and an increase in manufacturing cost due to the mounting of additional parts.

본 발명은 상기 종래의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 써지 방어 및 정전기 방지 특성이 우수한 바리스터에 EMI 필터 특성을 추가하여, 내전압 특성인 ESD 특성과, 전자파 간섭을 최소화하는 EMI 필터 특성을, 하나의 소자에 동시에 갖고, 이러한 특성을 갖는 구성을 다수 어레이로 구현함으로써, 전자기기의 소형화 및 실장 비용 감소에 공헌할 수 있는 바리스터 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and adds an EMI filter characteristic to a varistor having excellent surge protection and antistatic characteristics, and has an ESD filter and EMI filter characteristics for minimizing electromagnetic interference. It is an object of the present invention to provide a varistor and a method of manufacturing the same, which can contribute to miniaturization of electronic equipment and reduction of mounting cost by simultaneously implementing a configuration having such characteristics in a plurality of arrays.

본 발명자들은 우수한 내전압 특성과 EMI 필터 특성을 동시에 구현하여, 회로 내의 공간 문제, 별도의 부품을 패키징하거나 실장하는데 드는 비용 문제 등을 해결하기 위해, EMI 필터 특성을 갖는 칩 바리스터에 대해 연구한 결과 본 발명을 완성하였다.The inventors have studied chip varistors having EMI filter characteristics in order to solve the space problem in the circuit, the cost of packaging or mounting separate components by simultaneously implementing excellent withstand voltage characteristics and EMI filter characteristics. The invention has been completed.

본 발명에 따른 바리스터는, 제1 내부 전극과 제2 내부 전극을 포함하는 한 쌍 이상의 내부 전극쌍과 그라운드 전극이 바리스터 재료층을 개재하여 교대로 일회 이상 적층되어 있는 바리스터부와, 바리스터부 상방에 배치되고 내부 전극쌍의 개수와 동일한 개수의 저항층을 포함하는 적층체와, 하나 이상의 제1 외부 전극과, 하나 이상의 제2 외부 전극과, 그라운드 외부 전극을 구비하고, 제1 내부 전극의 일단, 제2 내부 전극의 일단, 그라운드 전극의 일단, 및 저항층의 양단은 적층체의 외부로 노출되며, 노출된 제1 내부 전극의 일단과 저항층의 일단은 제1 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되며, 노출된 제2 내부 전극의 일단과 저항층의 타단은 제2 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되며, 노출된 그라운드 전극의 일단은 그라운드 외부 전극에 의해 전기적으로 접속된다.The varistor according to the present invention includes a varistor portion in which at least one pair of inner electrode pairs including the first inner electrode and the second inner electrode and the ground electrode are alternately stacked one or more times through the varistor material layer, and above the varistor portion. One end of the first internal electrode, comprising: a laminate including a plurality of resistance layers disposed and including the same number of resistance layers as the number of internal electrode pairs, at least one first external electrode, at least one second external electrode, and a ground external electrode; One end of the second internal electrode, one end of the ground electrode, and both ends of the resistance layer are exposed to the outside of the stack, and one end of the exposed first internal electrode and one end of the resistance layer are electrically connected by the first external electrode. One end of the exposed second internal electrode and the other end of the resistance layer are electrically connected by the second external electrode, and one end of the exposed ground electrode is transferred by the ground external electrode. It is ever connected to each other.

또한, 본 발명에 따른 바리스터는, 다수의 제1 내부 전극 및 제2 내부 전극의 일단이 각각 적층체의 동일면으로 노출되는 것이 바람직하고, 제1 내부 전극의 타단 및 제2 내부 전극의 타단이 간극을 두고 대향하는 것이 더욱 바람직하다.In the varistor according to the present invention, one end of the plurality of first internal electrodes and the second internal electrodes is preferably exposed to the same surface of the stack, and the other end of the first internal electrode and the other end of the second internal electrode are spaced apart. It is more preferable to face each other.

또한, 본 발명에 따른 바리스터는, 그라운드 전극의 일단이 적층체에서의 내부 전극의 노출면과 다른 면에서 노출되는 것이 바람직하고, 저항층과, 제1 및 제2 내부 전극은 상방에서 보아 대략 중첩되는 위치에 배치되는 것이 바람직하며, 저항층의 상방에 배치되어 저항층과 그라운드 외부 전극을 전기적으로 절연하는 저항 보호층을 더 구비하는 것이 바람직하다.In the varistor according to the present invention, it is preferable that one end of the ground electrode is exposed on a surface different from the exposed surface of the internal electrode in the laminate, and the resistive layer and the first and second internal electrodes overlap approximately when viewed from above. It is preferable to arrange | position to the position which becomes, and it is preferable to further provide the resistance protective layer which is arrange | positioned above the resistance layer and electrically insulates a resistance layer and a ground external electrode.

본 발명에 따른 바리스터의 제조 방법은, 바리스터 재료층 시트를 다수장 준비하는 단계와, 시트에 제1 내부 전극과 제2 내부 전극을 포함하는 내부 전극층을 형성하는 단계와, 시트에 그라운드 전극층을 형성하는 단계와, 내부 전극층과 그라운드 전극층을 교대로 일회 이상 적층하여 바리스터층을 형성하는 단계와, 바리스터층의 양면에 더미 시트를 적층한후 압착하여 적층체를 형성하는 단계와, 적층체를 소결하는 단계와, 적층체에서 제1 및 제2 내부 전극이 노출된 부분을 서로 접속시키는 제1 및 제2 외부 전극을 적층체의 외부에 형성하는 단계와, 적층체의 상부 표면에서 제1 외부 전극과 제2 외부 전극에 양단이 접속되는 저항층을 형성하는 단계와, 적층체에서 그라운드 전극이 노출된 부분을 서로 접속시키는 그라운드 외부 전극을 적층체의 외부에 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a varistor according to the present invention includes the steps of preparing a plurality of varistor material layer sheets, forming an inner electrode layer including a first inner electrode and a second inner electrode on the sheet, and forming a ground electrode layer on the sheet. Forming a varistor layer by alternately stacking the inner electrode layer and the ground electrode layer one or more times, laminating a dummy sheet on both sides of the varistor layer, and then pressing and forming a laminate, and sintering the laminate. Forming a first and a second external electrode on the outside of the laminate, the first and second external electrodes connecting the exposed portions of the first and second internal electrodes to each other in the laminate; Forming a resistance layer having both ends connected to the second external electrode, and a ground external electrode connecting the exposed portions of the ground electrode to each other in the stack; And a step of forming a.

또한, 본 발명에 따른 바리스터의 제조 방법은, 저항층이 형성된 적층체의 상부 표면에 저항 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the manufacturing method of the varistor which concerns on this invention further includes forming the resistance protective layer on the upper surface of the laminated body in which the resistance layer was formed.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터 및 그 제조 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a chip varistor and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터의 분해 사시도이다. 도 1에 도시된 층들이 적층된 후 도 2에 도시된 바와 같이 외부 전극 등을 형성하면 실제로 사용할 수 있는 칩 바리스터(1)가 된다. 이하에서는 설명의 간략화를 위해 칩 바리스터(1)는 외부 전극 등이 형성되기 전과 후를 통칭하는 것으로 한다.1 is an exploded perspective view of a chip varistor according to an embodiment of the present invention. After the layers shown in FIG. 1 are stacked, an external electrode or the like is formed as shown in FIG. 2 to form a practical chip varistor 1. Hereinafter, for the sake of simplicity, the chip varistor 1 will be referred to collectively before and after the external electrode is formed.

도 1에 도시한 층들을 아래부터 순서대로 설명하면, 더미 시트(4), 그라운드 전극층(3), 내부 전극층(2), 그라운드 전극층(3), 더미 시트(4), 저항층(5), 저항 보호층(6)이다. 이하에서는 각 층이 적층되는 것으로 설명하지만, 하나의 층의 표면에 인쇄 등의 방법으로 다른 층을 형성하는 것도 설명의 편의를 위해 적층이라고 표현한다. 여기서, 두 개의 그라운드 전극층(3)과 하나의 내부 전극층(2)은 하나의 바리스터층을 형성한다. 도 1에서는 하나의 내부 전극층(2)만이 도시되어 있지만, 바리스터의 전기적 특성을 소정값으로 하기 위하여 그라운드 전극층(3)과 내부 전극층(2)을 교대로 수회 적층하는 구성이 가능한 것은 당업자에게 자명한 것이다. 또한, 그라운드 전극층(3)과 내부 전극층(2)을 하나씩만 사용하는 것도 가능하다. 이하에서는 이해를 돕기 위하여, 본 도면에 도시된 바와 같이 한쌍의 그라운드 전극층(3) 사이에 내부 전극층(2)이 개재된 구성에 대하여 설명한다.Referring to the layers shown in FIG. 1 in order from below, the dummy sheet 4, the ground electrode layer 3, the internal electrode layer 2, the ground electrode layer 3, the dummy sheet 4, the resistance layer 5, Resistance protective layer 6. Hereinafter, each layer will be described as being laminated, but forming another layer on the surface of one layer by printing or the like is also referred to as lamination for convenience of explanation. Here, two ground electrode layers 3 and one internal electrode layer 2 form one varistor layer. Although only one inner electrode layer 2 is shown in FIG. 1, it is apparent to those skilled in the art that a structure in which the ground electrode layer 3 and the inner electrode layer 2 are alternately stacked several times in order to set the electrical characteristics of the varistor to a predetermined value is possible. will be. It is also possible to use only one ground electrode layer 3 and one internal electrode layer 2. Hereinafter, for the sake of understanding, the configuration in which the internal electrode layer 2 is interposed between the pair of ground electrode layers 3 will be described as shown in the drawing.

내부 전극층(2)은, ZnO를 주성분으로 하는 세라믹 시트(바리스터 재료층) 상에 네 쌍의 내부 전극(20a, 20b)이 형성되어 이루어진다. 제1 내부 전극(20a)의 일단은 제2 내부 전극(20b)의 일단과 대향하고 있고, 제1, 제2 내부 전극의 타단은 도 2의 외부 전극(25a, 25b)과 접속하기 위해 각각 칩 바리스터(1)의 대향하는 측면으로 노출되어 있다. 여기에서는 네 쌍의 내부전극이 도시되어 있는데, 이는 본 발명의 일 실시예에 따라, 하나의 칩 바리스터(1) 내에 동일한 역할을 하는 구성이 네 개의 어레이로 구현됨으로써, 네 쌍의 신호선을 연결할 수 있다는 것을 의미한다. 즉, 하나의 칩 바리스터(1)에 연결하고자 하는 신호선의 개수에 따라 내부 전극(20a, 20b)의 개수(저항층(5)의 개수도 마찬가지)를 정할 수 있다.The internal electrode layer 2 is formed by forming four pairs of internal electrodes 20a and 20b on a ceramic sheet (varistor material layer) mainly composed of ZnO. One end of the first internal electrode 20a faces the one end of the second internal electrode 20b, and the other ends of the first and second internal electrodes are chipped to connect with the external electrodes 25a and 25b of FIG. It is exposed to the opposite side of the varistor 1. Here, four pairs of internal electrodes are shown. According to an embodiment of the present invention, four pairs of signal lines may be connected by implementing four arrays having the same role in one chip varistor 1. It means that there is. That is, according to the number of signal lines to be connected to one chip varistor 1, the number of internal electrodes 20a and 20b (the number of resistor layers 5 may be the same) may be determined.

내부 전극층(2)의 상부와 하부에는 그라운드 전극층(3)이 적층된다. 그라운드 전극층(3)도 내부 전극층(2)과 마찬가지로 ZnO를 주성분으로 하는 세라믹 시트 상에 그라운드 전극(30)이 형성되어 이루어진다. 그라운드 전극(30)은 도 2의 그라운드 외부 전극(30a, 30b)과 접속하기 위해, 내부 전극(20a, 20b)의 노출 위치와 중첩되지 않는 위치에서 칩 바리스터(1)의 대향하는 측면으로 노출되어 있다. 본 실시형태에서는, 내부 전극(20a, 20b)의 노출 방향과 직교하는 방향으로 그라운드 전극(30)이 두 곳에서 노출되어 있지만, 내부 전극(20a, 20b)의 노출 방향과 중첩되지 않는다면 노출 부분의 위치 및 개수는 임의적으로 정할 수 있다.The ground electrode layer 3 is stacked on the upper and lower portions of the inner electrode layer 2. Similar to the internal electrode layer 2, the ground electrode layer 3 is formed by forming a ground electrode 30 on a ceramic sheet containing ZnO as a main component. The ground electrode 30 is exposed to the opposite side of the chip varistor 1 at a position which does not overlap with the exposed position of the inner electrodes 20a, 20b to connect with the ground outer electrodes 30a, 30b of FIG. have. In the present embodiment, the ground electrode 30 is exposed at two places in a direction orthogonal to the exposure direction of the internal electrodes 20a and 20b, but if it does not overlap with the exposure direction of the internal electrodes 20a and 20b, Position and number can be arbitrarily determined.

이와 같이, 내부 전극층(2)과 그라운드 전극층(3)이 적층되어 바리스터층이 형성된다. 여기서, 내부 전극(20a, 20b)의 각각의 노출 부분으로부터 세라믹 시트를 통해 그라운드 전극(30)의 노출 부분에 이르는 전기적 경로에서 바리스터 기능을 수행할 수 있게 된다. 이 때, 동일한 전기적 경로에서 커패시터(C)가 형성되게 되고, 이 커패시터 성분을 이용하여 EMI 필터 특성을 갖는 칩 바리스터를 구현할 수 있게 된다. 즉, 바리스터가 갖는 이 커패시터(C) 성분에 추후 설명하는 바와 같이 저항(R)을 연결하는 것에 의해 RC 회로를 형성하여, 데이터 전송시에 발생하는 노이즈를 감소시키는 EMI 필터를 칩 바리스터에 통합하여 형성시킬 수 있게 된다. 여기서, 바리스터의 전기적 특성과 커패시터의 용량값 등의 전기적 특성은 전극간 거리, 전극 면적, 적층 회수를 조절하여 원하는 값으로 할 수 있다. 한편, 내부 전극층(2)과 그라운드 전극층(3)이 1회 이상 적층된 바리스터층의 상부와 하부에는 더미 시트(4)가 적층된다. 더미 시트(4)의 적층 회수나 두께는 실시형태에 따라 적절하게 조정할 수 있다.In this way, the internal electrode layer 2 and the ground electrode layer 3 are stacked to form a varistor layer. Here, the varistor function can be performed in an electrical path from each exposed portion of the internal electrodes 20a and 20b to the exposed portion of the ground electrode 30 through the ceramic sheet. At this time, the capacitor (C) is formed in the same electrical path, it is possible to implement a chip varistor having an EMI filter characteristics using this capacitor component. In other words, by connecting the resistor R to the capacitor C component of the varistor as described later, an RC circuit is formed to integrate an EMI filter that reduces noise generated during data transmission to the chip varistor. It can be formed. Here, the electrical characteristics such as the electrical characteristics of the varistor and the capacitance value of the capacitor can be set to a desired value by adjusting the distance between the electrodes, the electrode area, and the number of stacks. On the other hand, the dummy sheet 4 is stacked on the upper and lower portions of the varistor layer in which the internal electrode layer 2 and the ground electrode layer 3 are stacked one or more times. The number of stacks and the thickness of the dummy sheet 4 can be appropriately adjusted according to the embodiment.

상부의 더미 시트(4) 위에는 내부 전극(20a, 20b)과 나란하게 저항층(5)이 네 개 적층된다. 상술한 바와 같이 도 1의 실시형태는 동일한 역할의 구성이 네 쌍 구현되어 있는 것이지만, 내부 전극(20a, 20b)의 개수에 따라 적층할 저항층(5)의 개수는 정해진다. 저항층(5)의 양 단은 도 2의 외부 전극(25a, 25b)과 접속하기 위해 내부 전극(20a, 20b)의 노출 위치와 동일한 위치에서 각각 칩 바리스터(1)의 대향하는 측면으로 노출되어 있다. 그리고, 저항층(5)의 상부에는 절연 등을 위한 저항 보호층(6)이 적층되어 있다.Four resistive layers 5 are stacked on the upper dummy sheet 4 in parallel with the internal electrodes 20a and 20b. As described above, although four pairs of configurations having the same role are implemented in the embodiment of FIG. 1, the number of resistance layers 5 to be stacked is determined according to the number of internal electrodes 20a and 20b. Both ends of the resistive layer 5 are exposed to opposite sides of the chip varistor 1 at the same positions as the exposed positions of the internal electrodes 20a and 20b, respectively, in order to connect with the external electrodes 25a and 25b of FIG. have. In addition, a resistive protective layer 6 for insulation or the like is laminated on the resistive layer 5.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터의 사시도이다. 도 1에 도시한 바와 같이 각각의 층이 적층된 칩 바리스터(1)에, 외부 회로와의 접속을 위한 네 쌍의 외부 전극(25a, 25b)과, 그라운드와의 접속을 위한 한 쌍의 그라운드 외부 전극(30a, 30b)이 형성되어 있다. 상술한 설명에서 알 수 있는 바와 같이, 제1 외부 전극(25a)에는 내부 전극층(2)의 제1 내부 전극(20a)이 접속되어 있고, 제2 외부 전극(25b)에는 내부 전극층(2)의 제2 내부 전극(20b)이 접속되어 있다. 또한, 제1 외부 전극(25a)과 제2 외부 전극(25b)에는 저항층(5)의 양단이 각각 접속되어 있다. 한 쌍의 외부 전극(25a, 25b)과 그라운드 외부 전극(30a, 30b) 사이에 형성된 회로를 회로도로 나타내면 도 3과 같다.2 is a perspective view of a chip varistor according to an embodiment of the present invention. As shown in Fig. 1, four layers of external electrodes 25a and 25b for connection with an external circuit and a pair of ground externals for connection to ground are provided in the chip varistor 1 in which each layer is stacked. Electrodes 30a and 30b are formed. As can be seen from the above description, the first inner electrode 20a of the inner electrode layer 2 is connected to the first outer electrode 25a, and the inner electrode layer 2 of the second outer electrode 25b is connected to the first outer electrode 25a. The second internal electrode 20b is connected. In addition, the both ends of the resistance layer 5 are connected to the 1st external electrode 25a and the 2nd external electrode 25b, respectively. 3 shows a circuit diagram formed between the pair of external electrodes 25a and 25b and the ground external electrodes 30a and 30b.

도 3에서 알 수 있는 바와 같이, 외부 전극(25a, 25b) 사이에는 저항층(5)에 의해 형성되는 저항(5')이 개재되어 있고, 각각의 외부 전극(25a, 25b)과 그라운드 외부 전극(30a, 30b) 사이에는 내부 전극층(2)과 그라운드 전극층(3)에 의해 형성되는 바리스터(7)와 커패시터(8)가 개재되어 있다. 따라서, 내전압 특성을 갖는 바리스터(7)와 EMI 필터 특성을 갖는 RC 회로(5', 8)가 칩 바리스터(1) 내에서 동시에 구현된다는 것을 알 수 있다. 또한, 외부 전극(25a, 25b)과 그라운드 사이에 각각 바리스터(7)와 커패시터(8)가 형성되어 있다. 즉, 한쌍의 외부 전극(25a, 25b) 사이에는 두 개의 바리스터(7)와 커패시터(8)가 대칭으로 형성되게 되고, 이에 따라 칩 바리스터(1)와 신호선의 연결에 있어서 방향성이 존재하지 않게 되는 효과 또한 가지게 된다.As can be seen in FIG. 3, a resistor 5 ′ formed by the resistive layer 5 is interposed between the external electrodes 25a and 25b, and the respective external electrodes 25a and 25b and the ground external electrode are interposed. The varistor 7 and the capacitor 8 which are formed by the internal electrode layer 2 and the ground electrode layer 3 are interposed between 30a and 30b. Therefore, it can be seen that the varistor 7 having the withstand voltage characteristic and the RC circuits 5 'and 8 having the EMI filter characteristic are simultaneously implemented in the chip varistor 1. In addition, a varistor 7 and a capacitor 8 are formed between the external electrodes 25a and 25b and the ground, respectively. That is, two varistors 7 and a capacitor 8 are symmetrically formed between the pair of external electrodes 25a and 25b, and thus there is no directivity in the connection between the chip varistor 1 and the signal line. It also has an effect.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 칩 바리스터를 회로에 실장한 경우의 연결도이다. 칩 바리스터(1)의 네 쌍의 외부 단자(25a, 25b)에는 신호선이 연결되고 한 쌍의 그라운드 외부 전극(30a, 30b)에는 그라운드 단자가 연결된다. 여기서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 칩 바리스터(1)는 하나의 칩 바리스터 내에서 EMI 필터 특성을 갖는 바리스터가 네 개의 어레이로서 구현된다.4 is a connection diagram when a chip varistor is mounted on a circuit according to an embodiment of the present invention. Signal lines are connected to the four pairs of external terminals 25a and 25b of the chip varistor 1, and ground terminals are connected to the pair of ground external electrodes 30a and 30b. As can be seen here, the chip varistor 1 according to the present invention is implemented as four arrays of varistors having EMI filter characteristics in one chip varistor.

이하 본 발명의 이해를 돕기 위하여 칩 바리스터의 제조 방법에 대한 바람직한 실시예를 제공한다. 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제 공하는 것이고, 본 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter to provide a preferred embodiment of the method of manufacturing a chip varistor to help the understanding of the present invention. The following examples are provided to more easily understand the present invention, and the present invention is not limited by these examples.

본 실시예에 따른 칩 바리스터의 제조 방법에 대해서 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다.A method of manufacturing the chip varistor according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

먼저, ZnO를 주원료로 하는 분말, 바인더 및 솔벤트를 혼합하여 슬러리를 얻고, 닥터 블레이드를 이용한 테이프 캐스팅법에 의해 10 ~ 60㎛의 두께를 가지는 시트를 다수 장 제작한다. 그리고, 하나의 시트 위에 팔라듐, 백금, 구리 등이 혼합된 금속 페이스트를, 도 1의 내부 전극층(2)에 도시한 패턴으로 스크린 프린팅법에 의해 내부 전극(20a, 20b)을 인쇄함으로써 내부 전극층(2)을 형성한다. 또, 다른 시트 위에 팔라듐, 백금, 구리 등이 혼합된 금속 페이스트를, 도 1의 그라운드 전극층(3)에 도시한 패턴으로 스크린 프린팅법에 의해 그라운드 전극(30)을 인쇄함으로써 그라운드 전극층(3)을 형성한다.First, a powder is obtained by mixing ZnO as a main raw material, a binder, and a solvent to obtain a slurry, and a plurality of sheets having a thickness of 10 to 60 µm are produced by a tape casting method using a doctor blade. Then, the internal electrode layers (by printing the internal electrodes 20a and 20b by screen printing) on a sheet of metal paste mixed with palladium, platinum, copper, etc. on one sheet in the pattern shown in the internal electrode layer 2 of FIG. 2) form. Further, the ground electrode layer 3 is formed by printing the ground electrode 30 on the other sheet by the screen printing method with a metal paste mixed with palladium, platinum, copper, and the like in the pattern shown in the ground electrode layer 3 of FIG. Form.

그리고, 내부 전극(20a, 20b)이 인쇄된 내부 전극층(2) 시트와, 그라운드 전극(30)이 인쇄된 그라운드 전극층(3) 시트를 교대로 적층하여 바리스터층을 형성하고, 그 적층된 양면에 더미 시트(4)를 적층하여, 전체 두께 200 ~ 2000㎛가 되도록 한 후, 50 ~ 500MPa의 압력으로 압착하여 적층체를 형성한다. 이 때 내부 전극층(2) 시트와 그라운드 전극층(3) 시트의 적층 회수는, 상술한 바와 같이, 바리스터의 원하는 전기적 특성에 따라 적절히 조절할 수 있다. 다음, 압착된 적층체를 소정 치수의 직사각형 형상으로 절단함으로써 다수의 그린 칩(green chip)을 제조한다. 그린 칩을 200 ~ 600 ℃에서 탈지 과정을 거친 후 800 ~ 1400 ℃의 온도에서 10 ~ 180분 동안 소결하여 원하는 전기적 특성을 가지는 바리스터를 제조한다.Then, the inner electrode layer 2 sheet on which the inner electrodes 20a and 20b are printed, and the ground electrode layer 3 sheet on which the ground electrode 30 is printed are alternately stacked to form a varistor layer, and on both sides of the stacked layers. The dummy sheets 4 are laminated to have a total thickness of 200 to 2000 µm, and then pressed at a pressure of 50 to 500 MPa to form a laminate. At this time, the number of laminations of the inner electrode layer 2 sheet and the ground electrode layer 3 sheet can be appropriately adjusted according to the desired electrical characteristics of the varistor as described above. Next, a plurality of green chips are manufactured by cutting the compressed laminate into a rectangular shape having a predetermined dimension. The green chip is degreased at 200 to 600 ° C. and then sintered at a temperature of 800 to 1400 ° C. for 10 to 180 minutes to produce a varistor having desired electrical characteristics.

다음으로, 바리스터의 측면 및 상면, 하면의 일부에 실버를 주원료로 하는 페이스트를 이용하여 내부 전극(20a, 20b)의 노출 부분을 서로 접속시키면서 외부 전극(25a, 25b)을 형성하고 500 ~ 900 ℃ 정도에서 소부한다. 그리고, Ru가 주원료인 저항 페이스트를 이용하여, 바리스터 상부 표면위의 제1 외부 전극(25a)과 제2 외부 전극(25b) 사이에서 도 1에 도시한 패턴으로 저항층(5)을 형성하고, 100 ~ 700 ℃ 사이에서 열처리한다. 여기서, 저항층(5)의 두께, 면적 등의 변경과 함께 열처리 온도를 조절함으로써 원하는 저항값을 설정하는 것이 가능하다.Next, the external electrodes 25a and 25b are formed by connecting the exposed portions of the internal electrodes 20a and 20b to each other by using a silver-based paste on a part of the side, top and bottom surfaces of the varistor, and forming a 500 to 900 ° C. Be quenched in degree. Then, using the resist paste whose main material is Ru, the resistive layer 5 is formed in the pattern shown in FIG. 1 between the first external electrode 25a and the second external electrode 25b on the varistor upper surface, Heat treatment between 100 ~ 700 ℃. Here, it is possible to set a desired resistance value by adjusting the heat treatment temperature with the change of the thickness, area, etc. of the resistance layer 5.

그리고, 저항층(5)과, 이후 형성되는 그라운드 외부 전극(30a, 30b)과의 절연을 위하여, 저항층(5)이 형성된 바리스터의 상부 표면에 에폭시, 실리콘, 폴리머 등으로 저항 보호층(6)을 형성한 후 100 ~ 400 ℃에서 열처리하여 경화시킨다. 그 다음, 실버를 주원료로 하는 경화용 페이스트를 이용하여 그라운드 전극(3)의 노출 부분을 서로 접속시키면서 그라운드 외부 전극(30a, 30b)을 형성한 후, 100 ~ 400 ℃에서 열처리하여 경화시키고, 유리 코팅과 일련의 도금 공정을 거쳐 본 발명에 따른 칩 바리스터(1)를 완성시킨다.In order to insulate the resistive layer 5 from the ground external electrodes 30a and 30b formed thereafter, the resistive protective layer 6 is made of epoxy, silicon, polymer, or the like on the upper surface of the varistor on which the resistive layer 5 is formed. ) And then hardened by heat treatment at 100 ~ 400 ℃. Next, the ground external electrodes 30a and 30b are formed by connecting the exposed portions of the ground electrodes 3 to each other using a curing paste composed mainly of silver, and then cured by heat treatment at 100 to 400 캜. The chip varistor 1 according to the invention is completed through a coating and a series of plating processes.

본 발명은 전술한 전형적인 바람직한 실시예에만 한정되는 것이 아니라 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 개량, 변경, 대체 또는 부가하여 실시할 수 있는 것임은 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 이러한 개량, 변경, 대체 또는 부가에 의한 실시가 이하에 첨부된 특허청구범위의 범주에 속하는 것이라면 그 기술사상 역시 본 발명에 속하는 것으로 보아야 한다.It is to be understood that the present invention is not limited to the above-described exemplary preferred embodiments but may be embodied in various ways without departing from the spirit and scope of the present invention. If you grow up, you can easily understand. If the implementation by such improvement, change, replacement or addition falls within the scope of the appended claims, the technical idea should also be regarded as belonging to the present invention.

본 발명의 바리스터 및 그 제조 방법에 따라 제조되는 바리스터에 의하면, 써지 방어 및 정전기 방지 특성이 우수한 바리스터에 EMI 필터 특성을 추가하여, 내전압 특성인 ESD 특성과 전자파 간섭을 최소화하는 EMI 필터 특성을 하나의 소자에 다수 어레이로서 구현할 수 있게 되어, 전자기기를 소형화시키고 실장 비용이 감소하게 되어, 내전압 특성과 EMI 필터 기능을 동시에 필요로 하는 전자, 통신 분야 등에 광범위하게 사용될 수 있다.      According to the varistor manufactured according to the varistor of the present invention and the method of manufacturing the same, an EMI filter characteristic is added to a varistor having excellent surge protection and antistatic characteristics, and thus the EMI filter characteristic of minimizing the withstand voltage characteristics and the electromagnetic interference is one. Since the device can be implemented as a large number of arrays, the electronic device can be miniaturized and the mounting cost can be reduced. Therefore, the electronic device can be widely used in electronics and communication fields that require both withstand voltage characteristics and EMI filter functions.

Claims (8)

제1 내부 전극과 제2 내부 전극을 포함하는 한 쌍 이상의 내부 전극쌍과 그라운드 전극이 바리스터 재료층을 개재하여 교대로 일회 이상 적층되어 있는 바리스터부와, 상기 바리스터부 상방에 배치되고 상기 내부 전극쌍의 개수와 동일한 개수의 저항층을 포함하는 적층체와,A pair of at least one inner electrode pair and a ground electrode including a first inner electrode and a second inner electrode and a varistor portion alternately stacked one or more times through a varistor material layer, and disposed above the varistor portion and having the inner electrode pair A laminate comprising a resistive layer equal to the number of 하나 이상의 제1 외부 전극과,At least one first external electrode, 하나 이상의 제2 외부 전극과,At least one second external electrode, 그라운드 외부 전극을 구비하고,With a ground external electrode, 상기 제1 내부 전극의 일단, 상기 제2 내부 전극의 일단, 상기 그라운드 전극의 일단, 및 상기 저항층의 양단은 적층체의 외부로 노출되며,One end of the first internal electrode, one end of the second internal electrode, one end of the ground electrode, and both ends of the resistance layer are exposed to the outside of the laminate, 노출된 상기 제1 내부 전극의 일단과 상기 저항층의 일단은 상기 제1 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되며,One end of the exposed first internal electrode and one end of the resistance layer are electrically connected by the first external electrode, 노출된 상기 제2 내부 전극의 일단과 상기 저항층의 타단은 상기 제2 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되며,One end of the exposed second internal electrode and the other end of the resistance layer are electrically connected by the second external electrode, 노출된 상기 그라운드 전극의 일단은 상기 그라운드 외부 전극에 의해 전기적으로 접속되는 바리스터.One end of the exposed ground electrode is electrically connected by the ground external electrode. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다수의 제1 내부 전극 및 제2 내부 전극의 일단은 각각 적층체의 동일 면으로 노출되는 것을 특징으로 하는 바리스터.One end of each of the plurality of first internal electrodes and the second internal electrode is exposed to the same surface of the laminate, respectively. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 내부 전극의 타단 및 제2 내부 전극의 타단은 간극을 두고 대향하고 있는 것을 특징으로 하는 바리스터.The other end of the first internal electrode and the other end of the second internal electrode are opposed to each other with a gap. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 그라운드 전극의 일단은 상기 적층체에서의 상기 내부 전극의 노출면과 다른 면에서 노출되는 것을 특징으로 하는 바리스터.One end of the ground electrode is exposed to a surface different from the exposed surface of the internal electrode in the laminate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저항층과, 상기 제1 및 제2 내부 전극은 상방에서 보아 대략 중첩되는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 바리스터.And the resistive layer and the first and second internal electrodes are disposed at substantially overlapping positions when viewed from above. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저항층의 상방에 배치되어 상기 저항층과 상기 그라운드 외부 전극을 전기적으로 절연하는 저항 보호층을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 바리스터.And a resistive protection layer disposed above the resistive layer to electrically insulate the resistive layer and the ground external electrode. 바리스터 재료층 시트를 다수장 준비하는 단계와,Preparing a plurality of varistor material layer sheets, 상기 시트에 제1 내부 전극과 제2 내부 전극을 포함하는 내부 전극층을 형성 하는 단계와,Forming an inner electrode layer on the sheet, the inner electrode layer including a first inner electrode and a second inner electrode; 상기 시트에 그라운드 전극층을 형성하는 단계와,Forming a ground electrode layer on the sheet; 상기 내부 전극층과 상기 그라운드 전극층을 교대로 일회 이상 적층하여 바리스터층을 형성하는 단계와,Forming a varistor layer by alternately stacking the inner electrode layer and the ground electrode layer one or more times; 상기 바리스터층의 양면에 더미 시트를 적층한후 압착하여 적층체를 형성하는 단계와,Stacking the dummy sheets on both sides of the varistor layer and then pressing them to form a laminate; 상기 적층체를 소결하는 단계와,Sintering the laminate; 상기 적층체에서 제1 및 제2 내부 전극이 노출된 부분을 서로 접속시키는 제1 및 제2 외부 전극을 적층체의 외부에 형성하는 단계와, Forming first and second external electrodes on the outside of the laminate to connect portions of the laminate to which the first and second internal electrodes are exposed; 상기 적층체의 상부 표면에서 제1 외부 전극과 제2 외부 전극에 양단이 접속되는 저항층을 형성하는 단계와,Forming a resistance layer having both ends connected to a first external electrode and a second external electrode on an upper surface of the laminate; 상기 적층체에서 그라운드 전극이 노출된 부분을 서로 접속시키는 그라운드 외부 전극을 적층체의 외부에 형성하는 단계를 포함하는 바리스터의 제조 방법.And forming a ground external electrode on the outside of the stack, which connects portions of the stack exposed by the ground electrodes to each other. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 저항층이 형성된 상기 적층체의 상부 표면에 저항 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 바리스터의 제조 방법.And forming a resistance protective layer on an upper surface of the laminate in which the resistance layer is formed.
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