KR20060015262A - 무선 통신 시스템에서의 백홀 빔 형성의 조정 - Google Patents

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Abstract

무선 통신 시스템내의 2 개의 통신 엔티티 (90, 92) 사이에서 빔 형성 (94, 96) 의 사용을 조정하기 위한 방법 및 시스템을 개시한다. 2 개의 엔티티는 빔 형성의 각각의 이용에 관한 제어 정보를 통신할 수도 있다. 하나 이상의 엔티티에 대한 교정 인자를 제공하며, 여기서 상기 엔티티는, 이것이 통신하고 있는 다른 엔티티의 빔에 대하여 그것의 빔의 정렬시에 측정되는 임의의 오차를 교정하기 위하여 그 빔 조정을 감소 또는 억제할 수도 있다. 빔들을 조정하기 위한 조정 파라미터들은 통신을 둘러싼 상황에 기초하여 선택된다.
무선 통신 시스템

Description

무선 통신 시스템에서의 백홀 빔 형성의 조정{COORDINATION OF BACKHAUL BEAM FORMING IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEMS}
발명의 분야
본 발명은 무선 통신 시스템에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 무서 통신 시스템에서의 빔 성형의 조정에 관한 것이다.
배경
일반적으로, 빔 형성은 의도된 각각의 수신기 또는 송신기의 방향으로 신호 전력의 송신 또는 수신이 집중되는 경우에 행해진다. 신호의 송신 및 수신은 전방향성 패턴과 비교하여 빔 형성 패턴들로부터 이점을 가질 수 있다. 송신기 관점으로 부터, 빔 형성은 송신을 수행하는데 필요한 전력을 감소시키고, 비의도적인 수신기들로 지향된 간섭을 야기하는 전력을 감소시킨다. 수신기의 관점으로부터, 빔 형성은 원하는 수신 신호를 강화시키고, 다른 송신기 또는 신호 소스로 인한 간섭을 감소시키고, 게다가 이들은 제 1 송신축으로부터 제거된다.
도 1 을 참조하면, 빔 형성은 통상적으로 예를 들어 마이크로웨이브 타워 (10, 12) 와 같은 고정된 인프라스트럭처와 연관된다. 이는 도 1 에 나타낸 바와 같이 서로를 향하여 마이크로웨이브 타워 (10, 12) 의 고정 송신 및 수신 빔들을 포인팅하는 것이 비교적 용이하기 때문이다. 타워들이 설치되는 구조들 및 간단히 이용되는 빔 폭들은 빔들이 중첩되어 남겨져서 신뢰성 높은 송신을 제공하도록 충 분히 안정하게 되어야 한다. 타워들 또는 빔들은 구조적 또는 전기적 불안정성으로 인하여 불안정하며, 그 빔들은 도 2 에 나타낸 바와 같이 적절하게 중첩되지 않을 수도 있다. 그러나, 이러한 상황에서, 빔들이 2 개의 일정한 로케이션로부터 송신되고 오정렬의 정도가 통상 비교적 작기 때문에 교정은 비교적 쉽다.
그러나, 무선 통신 시스템의 용량 및 커버리지 조건이 급속하게 증가함에 따라, 빔 형성도 또한 기지국과 무선 송/수신 유닛 (WTRU) 사이에 사용될 수도 있다. 다음으로 도 3 을 참조하면, 빔 형성을 이용하는 기기국 (20) 및 전방향성 패턴을 이용하는 WRTU (22) 이 도시되어 있다. 빔에 대하여 발생가능한 외부 영향 (즉, 물리적 장애물) 을 무시하면, 기지국 (20) 은 적당히 일정한 (static) 패턴 위치를 가져야 한다. 한편, WTRU (22) 는 임의의 방향으로 회전 및 위치 이동된다. WTRU (22) 의 송신 패턴이 실제로 전방향성이면 (즉, 원으로 근사화되면), 회전은 통신 링크에 영향을 주지 않는다. 그러나, 위치 이동은 이것이 WTRU (22) 와 기지국 (20) 통신 링크의 관계를 변경시킬 수 있다는 점에서 문제를 가진다. 예를 들어, 도 3 에서, WTRU (22) 는 초기에 전방향성 패턴 (24) 을 송출한 후, 위치를 변경시키고, 전방향성 패턴 (26) 을 송출하기 시작한다. 따라서, 기지국 (20) 은 접촉을 유지하기 위하여 그 빔을 변경시킬 필요가 있다. 물론, 극단적인 변경은 또 다른 기지국으로의 스위칭을 요구하며, 이는 핸드오프 (또는 핸드오버) 로 불리며, 현존 무선 통신 시스템에서 자연적으로 발생한다.
도 4 를 참조하면, 기지국 (30) 은 전방향성 패턴을 이용하며, WTRU (32) 는 빔 형성을 이용한다. 여기서, 추가적인 문제는, WTRU (32) 가 빔 형성을 이용하기 때문에, 회전 뿐만 아니라 위치 이동이 기지국 (30) 과 WTRU (32) 사이의 패턴 중첩을 저하시킬 수 있다는 점에 발생된다. 예를 들어, 이러한 상황에서, WTRU (32) 는 초기에 빔 패턴 (34) 을 송출한 후, 회전 또는 위치 이동 또는 양자의 결과로서 위치를 변경시키고, 빔 패턴 (36) 의 송출을 개시한다. 그러나, 이러한 상황은 언급된 바와 같이 현존 시스템들의 현존 능력인 핸드오프를 이용하여 처리될 수 있다. 기지국 (30) 의 전방향성 패턴은, 무선 시스템들에서 종종 발견되는 바와 같이 섹터화된 패턴에 의해 대체될 수 있다. 키 포인트는, WTRU (32) 의 회전 및 위치 이동이 섹터들 사이의 핸드오프를 요구하는 동안에, 이것이 현존 무선 시스템들의 현존 능력이 되도록 기지국 (30) 이 그 위치를 둘러싸는 완전한 커버리지를 제공한다는 점이다.
그러나, 도 5 에 나타낸 바와 같이, 2 개의 엔티티 (즉, 기지국 및 WTRU) 가 빔 형성을 이용하는 경우에, WTRU (40)(점선 패턴을 참조) 에 의한 이동은 더욱 패턴 중첩을 붕괴시키기 쉽다. 즉, 빔 형성은, 적절히 정렬된 패턴들이 사용되는 경우의 통신을 개선시키는 반면에, 오정렬은 WTRU 와 기지국이 빔 형성을 이용하여 링크 확립 및 유지에 더 많은 시간을 소비하며 작업이 어렵게 되는 경우에 더 발생하기 쉽다.
예를 들어, 도 6 에서, "사전 조정" 상태는 2 개의 오정렬 빔들을 나타낸다. 종래 기술에서, 이러한 빔들이 Xa, Xb (이들 양자는 기지국 또는 WTRU 일 수도 있음) 를 생성하는 엔티티들은 빔들을 더 보다 좋게 정렬하기 위하여 조정을 결정하지만, 이 엔티티들은 다른 것이 행하고 있는 것을 알지 못하기 때문에, 이들은 요 청된 조정을 수행한다. 따라서, 네트 조정은 정렬시에 원래의 오차에 대략 동등한 결과적인 (resultant) 오차를 야기하지만, 빔들은 "사후 조정" 상태에서 나타낸 바와 같이 다른 방향들로 포인팅된다. 다음 번에, 조정이 시도되고, 동일한 동작이 발생하여 빔들을 최적 정렬된 빔 주위에서 발진 패턴이 되게 한다. 빔들의 측정 또는 실제 조정 사이의 내포된 타이밍 관계가 없음에 주목하는 것이 중요하다. 따라서, 이러한 문제를 야기하는데 요구되는 유일한 상황은 하나의 엔티티에 의해 행해지는 측정 및 수행되는 결과적인 조정이 또 다른 엔티티에서 발생하는 동일한 측정 및 결과적인 조정과 시간 중복되는 경우이다.
따라서, 필요한 것은 무선 통신 시스템에서 빔 형성을 조정하기 위한 방법 및 시스템이다.
개요
본 발명은 무선 통신 시스템내의 2 개의 통신 엔티티 사이에서 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다. 2 개의 엔티티는 빔 형성의 각각의 사용에 관한 제어 정보를 통신할 수도 있다. 하나 이상의 엔티티에 대한 교정 인자가 제공되며, 여기서 상기 엔티티는 통신중인 다른 엔티티에 대하여 그 빔을 정렬시키는 경우에 측정되는 임의의 오차를 교정하기 위하여 그 빔 조정을 감소 또는 억제할 수도 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태는, 다른 엔티티가 빔을 형성할 수 있는지에 대하여 엔티티들 중 하나 또는 양자가 알지 못하는 경우에 적용될 수 있다. 따라서, 교정 인자가 계산되며 다른 엔티티가 빔을 형성할 수 있는지 여부, 또는 다른 엔티 티가 본 발명을 사용할 수 있는지 여부에 대하여 실용적인 방식으로 하나의 엔티티에 의해 사용된다.
빔들은 빔들을 조정하기 위한 임의의 적절한 조정 파라미터들 또는 이들의 임의의 결합물을 사용하여 조정될 수도 있다. 즉, 빔은 측정 오차를 교정하기 위하여 단일의 조정 파라미터, 이용가능한 조정 파라미터들의 특정 결합물, 또는 이용가능한 파라미터들 모두를 조정함으로써 조정될 수도 있다. 또한, 동일한 또는 다른 조정 파라미터들이 고도 및 방위 차원에서 사용될 수도 있다. 이와 유사하게, 동일한 또는 다른 조정 파라미터들이 2 개의 통신 엔티티에 의해 사용될 수도 있다.
도면(들)의 간단한 설명
도 1 은 종래 기술에 따라 적절하게 정렬된 빔 형성 송신을 갖는 고정 송신기 및 고정 수신기를 나타낸다.
도 2 는 종래 기술에 따라 오정렬되어진 빔 형성 송신을 갖는 고정 송신기 및 고정 수신기를 나타낸다.
도 3 은 종래 기술에 따른 전방향성 패턴을 이용한 WTRU 및 빔 형성을 이용한 기지국을 나타낸다.
도 4 는 종래 기술에 따른 빔 형성을 이용한 WTRU 및 전방향성 패턴을 이용한 기지국이다.
도 5 는 종래 기술에 따른 WTRU 의 이동으로 인하여 각각의 빔들이 오정렬되게 되는 기지국 및 WTRU 를 나타낸다.
도 6 은 종래 기술에 따라 각각의 빔들의 오정렬을 교정하는 것을 시도하는 2 개의 엔티티 Xa, Xb (이들 양자는 기지국 또는 WTRU 일 수도 있다) 를 나타낸다.
도 7 은 기지국 및 WTRU 가 빔을 형성할 수 있는 송신 패턴 시나리오의 일례를 나타내는 표이다.
도 8a 는 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 각각의 빔들의 오정렬을 방위 차원에서 교정하는 WTRU 및 기지국을 나타낸다.
도 8b 는 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 각각의 빔들의 오정렬을 고도 차원에서 교정하는 WTRU 및 기지국을 나타낸다.
도 9a 는 본 발명의 제 2 실시형태에 따른 각각의 빔들의 오정렬을 방위 차원에서 교정하는 WTRU 및 기지국을 나타낸다.
도 9b 는 본 발명의 제 2 실시형태에 따른 각각의 빔들의 오정렬을 고도 차원에서 교정하는 WTRU 및 기지국을 나타낸다.
도 10 은 시스템내에 동작하는 무선 엔티티들이 시스템내의 통신을 강화하기 위하여 그들의 빔들을 조정할 수도 있는 무선 통신 시스템을 나타낸다.
도 11 은 WTRU 가 메시 네트워크 모드에서 동작하고, 시스템의 관점에서 기지국으로서 기능하고, 본 발명에 따른 빔 형성의 이용을 협의할 수도 있는 무선 통신 시스템을 나타낸다.
도 12 는 커버리지 영역이 무선 네트워크 제어기에 직접적인 유선 접속 없이 배치된 기지국들을 포함하고, WTRU 뿐만 아니라 본 발명에 따라 무선 네트워크 제어기에 직접적인 배선 접속을 가지는 다른 기지국들을 빔 형성의 이용을 협의할 수 도 있는 무선 통신 시스템의 커버리지 영역을 나타낸다.
바람직한 실시형태(들)의 상세한 설명
여기서, 무선 송/수신 유닛 (WTRU) 는 사용자 장비, 이동체, 이동국, 수신기, 송신기, 고정 또는 이동 가입자 유닛, 페이저, 또는 무선 환경에서 동작할 수 있는 임의의 다른 타입의 디바이스를 포함하지만 이것들로 제한되지는 않는다. 기지국은 여기서 참조되는 경우에, 노드-B, 수신기, 송신기, 사이트 제어기, 액세스 포인트 또는 무선 환경에서의 임의의 다른 타입의 인터페이싱 디바이스를 포함하지만 이것들로 제한되지는 않는다.
또한, 임의의 유사한 안테나 패턴과 같이 도면에 나타낸 빔의 아웃트라인은, 단지 패턴내의 최대 에너지로부터 지정된 량을 감쇠시킨 신호를 나타낸다. 신호는 실제로 아웃트라인을 넘어서 지속되지만 부가적으로 감소된 레벨에 있다. 여기서 도면들에 나타낸 패턴들은, 통신들이 가능하게 되는 레벨들을 나타내는 것을 의미한다. 이 레벨들은 실제로 송신기 및 수신기 능력과 관련된다. 중복을 나타내는 경우에, 우세한 조건하에서 목적지향 통신을 수용하는 것이 적합한 패턴들을 나타내는 것을 의미한다.
간략하게, 1 차원 송신 패턴을 여기에 나타내고 설명한다. 그러나, 여기서 나타내고 설명한 빔들의 오정렬 및 그것에 기초하여 행해진 임의의 조정은 방위(즉, 수평) 또는 고도 (즉, 수직) 차원 뿐만 아니라 이들의 결합물일 수도 있다. 즉, 여기서 나타내고 설명한 오정렬된 빔들은 방위 차원, 고도 차원, 또는 이들의 결합에서 오정렬될 수도 있다. 이와 유사하게, 본 발명에 따른 오정렬된 빔들을 교정하도록 행해진 조정들은 방위 차원, 수직 차원, 또는 이들의 결합으로 수행될 수도 있다. 또한, 여기서 사용되는 빔 폭은 수평 빔 폭 또는 수직 빔 폭 일 수도 있다. 즉, 빔 폭을 조정함으로써 빔을 조정하는 경우에, 빔은 그것의 수평 빔 폭, 수직 빔 폭, 또는 이들의 결합을 조정할 수도 있다.
편의상, 본 발명을 기지국과 WTRU 사이에서 설명하지만, 빔 형성의 이용을 협의할 수도 있는 임의의 2 개의 엔티티 사이에서 실행할 수도 있음은 물론이다. 일단 2 개의 엔티티 즉, 기지국과 WTRU 사이에 접촉이 확립되면, 이들은 빔 형성의 사용을 협의한다. 2 개의 엔티티는 WTRU 의 회전과 위치 (방위 및 고도) 가 충분히 안정한 것으로 간주되는 경우에만 빔 형성을 동의한다. 예를 들어, 이는 사용자와의 상호작용, WTRU 내의 움직임 센서, 또는 통신 채널의 특성들의 모니터링에 의해 확립된 WTRU 내의 설정일 수 있다. 각 엔티티로부터의 빔 형성의 실제 정도는 이용가능한 전력, 거리, 및 트랜시버 (예를 들어, 페이딩, 다중경로, 환경 조건) 의 제어를 벗어난 완화 인자의 함수이며, 전력 소비 및 다른 트랜시버로부터의 간섭, 및 다른 트랜시버로의 간섭에 대하여 최적화되는 것이 바람직하다.
도 7 의 표는 빔 형성의 사용에 대한 업 링크와 다운 링크에 대한 4 개의 시나리오의 예를 제공한다. 각 방향에 사용되는 시나리오는 요구되는 애플리케이션의 기능, 디바이스 능력, RF 환경, 및 각 디바이스의 물리적 안정성이다. 일부 환경에서, 사용법은 주어진 방향에서 서로 다르게 될 수도 있다. 예를 들어, 고속 목표의 다운로드는 전송기 및 수신기 (시나리오 72, 74) 에서 간결한 (tight) 다운링크 빔에 의해 최적으로 제공될 수도 있는 반면에 업링크 액크널리지 채널은 액크 또는 낵크 제어 신호의 고속 및 신뢰성 검출을 보증하기 위하여 전방향성 송신 및 빔 형성 수신기 (시나리오 76) 에 의해 보다 양호하게 제공될 수도 있다.
제 1 실시형태에서, 무선 통신 시스템들 및 거기서 동작하는 WTRU들은 빔 형성의 각각의 사용의 제어를 통신 및 협의할 수 없다. 이는 예를 들어 주어진 영역내의 사용을 알리거나 또는 협의하지 않는 네트워크 또는 디바이스들에서의 빔 형성 배치의 결과일 수도 있다. 따라서, 양 엔티티에 의한 빔 형성의 사용법은 도 6 과 관련하여 이전에 설명된 바와 같이 문제가 될 수 있다.
따라서, 제 1 실시형태에서, 시나리오 72 및 74 와 같은 상황에서의 빔 형성의 제어는, 종래 기술과 관련하여 설명한 바와 같이, 오정렬된 빔들의 조정을 최적화하고 빔들이 발진 패턴으로 되는 것을 방지하기 위하여 비조정된 방식으로 수행된다. 다음으로, 2 개의 엔티티 및 이들의 빔들의 평면도인 도 8a 의 "사전 조정" 부분을 참조하면, 2 개의 통신 엔티티 (80, 82) 중 적어도 하나 즉, 엔티티 (80) 는 이들 각각의 빔들 (84, 86) 이 오정렬되는 등급의 일부와 동일한 교정 (즉, 조정) 을 수행한다. 즉, 엔티티 (80) 는 오차 측정의 일부인 조정을 수행한다. 이 경우에, 첫번째의 교정의 몇몇 반복 이후의 오정렬의 등급일 수 있다. 예를 들어, 하나의 엔티티가 완전한 교정을 시도하고, 다른 엔티티가 본 발명을 실행하는 경우, 원하는 정렬 정도를 달성하기 이전의 임의의 반복은 도 8 의 "사후 조정"에 나타낸 바와 같이 오버슈트 상태를 만든다. 다른 방법으로, 하나의 엔티티가 그 빔을 조정하지 않거나 또는 양 엔티티가 본 발명의 프로세스를 이용하는 경우에, 조정의 일부는 오차의 1/2 보다 작고, 빔들은 각 조정에 의해 언더슈트한다. 종래의 문장의 교정 인자가 오차의 1/2 보다 크면, 빔들은 오버슈트한다. 측정시에 교정 인자와 오차들의 다른 퍼센티지 결합은 언더-슈트 또는 오버-슈트를 야기한다. 그러나, 오정렬의 정도는 하나의 엔티티가 본 발명을 구현 (즉, 측정된 오차의 일부인 조정을 수행함) 하고, 원하는 정렬 정도에서의 수렴 (convergence) 이 발생하는 모든 경우에 각각의 반복을 감소시킨다. 일단 원하는 정도의 정렬이 달성되는 경우에, 원하는 정도 보다 작은 정렬 등급이 다시 검출될 때 까지 조정을 중지할 수 있다. 물론, 원하는 정렬 등급은 동작자의 선호도에 따라 설정될 수도 있다.
제 1 실시형태에서 빔 정렬이 어떻게 달성되는지를 추가적으로 예시하기 위하여, 다음으로 아래에 나타낸 표 1 을 참조한다. 표 1 에서, 3 개의 예의 시나리오는 사용되는 조정 인자 (즉, 교정 인자) 가 1/2(0.5) 임을 나타낸다. 오차 측정 및 조정은 등급을 가진다. 각 시나리오에서, 엔티티 "A" 는 본 발명을 이용하고, 엔티티 "B" 는 본 발명을 이용하지 않는다.
시나리오 1 : 중복 조정 주기
반복 측정된 오차 엔티티 A 조정 엔티티 B 조정
0 32 16 32
1 16 8 16
2 8 4 8
3 4 2 4
4 2 1 2
5 1 0.5 1
6 0.5 0 0
시나리오 2 : A 이전에 B 조정
반복 측정된 오차 엔티티 A 조정 엔티티 B 조정
0 32 32
1 0 0 0
시나리오 3 : B 이전에 그리고 B 보다 자주 A 를 조정
반복 측정된 오차 엔티티 A 조정 엔티티 B 조정
0 32 16
1 16 8
2 8 4 8
3 4 2
4 2 1
5 1 0.5 1
6 0.5 0
표 1
제 1 시나리오에서, 엔티티 A 및 B 는 중복 조정 주기를 가진다. 즉, 이들은 이들 사이의 통신을 최적화하기 위하여 오버랩되도록 이들이 오정렬 (즉, 오차) 의 정도를 동시에 (또는 거의 그렇게) 측정하고, 그 각각의 빔들을 조정한다. 그러나, 설명한 바와 같이, 이들은 이들 각각의 빔 형성의 사용에 관하여 통신할 수 없다. 따라서, 발진 패턴으로 되는 것을 피하기 위하여, 엔티티 A 는 그 조정값을 측정되는 오차의 0.5 로 감소시킨다. 반복 0 에 있어서, 32 등급 (degree) 의 오차 측정은 엔티티 A 가 16 등급의 조정을 수행하고, 엔티티 B 가 전체 32 등급의 조정을 수행한다. 이 조정에 의해 반복 1 (즉, 도 8a 의 사후 조정 시나리오에 나타낸 바와 같은 오버슈트 조건) 의 16 등급의 오차 측정을 수행한다. 따라서, 반복 1 에서, 엔티티 A 는 측정된 오차 (즉, 8 등급) 의 절반 만큼 엔티티 A 의 빔을 다시 조정하고, 엔티티 B 는 측정된 오차 (즉, 16 등급) 와 동일한 량으로 그 빔을 다시 조정한다. 패턴은 반복 6 까지 지속하고 여기서 0.5 등급은 이 시나리오에서 원하는 정렬 등급이다.
제 2 시나리오에서, 엔티티 B 는 엔티티 A 이전에 조정한다. 반복 0 에서, 엔티티 B 는 32 등급의 오차를 측정하고, 그 빔을 32 등급 조정한다. 따라서, 반복 1 에서, 엔티티 A 가 그 오차 측정을 수행하면, 이는 오차를 검출하지 않고, 조 정을 행하지 않는다.
제 3 시나리오에서, 엔티티 A 는 엔티티 B 이전에 그리고 엔티티 B 보다 더욱 자주 조정한다. 반복 0 및 1 동안에, 상술한 바와 같이, 엔티티 B 는 액션을 가지지 않고, 엔티티 A 는 간단히 그 오차 측정을 수행하고, 측정된 오차의 0.5 만큼 그 빔을 조정한다. 반복 2 에서, 8 등급의 오차 측정이 있다. 엔티티 A 는 측정된 오차 (즉, 4 등급) 의 절반을 조정하며, 엔티티 B 는 측정된 오차 (즉, 8 등급) 와 동일한 량으로 그 빔을 조정한다. 이 패턴은 원하는 정도의 정렬이 반복 6 에서 획득될 때까지 지속된다.
도 8a 에서, 오차 측정 및 조정은 방위 차원에서 수행된다. 그러나, 도 8b 에 나타낸 바와 같이, 고도 차원에서 오차 측정 및 조정을 수행하는 것도 가능해 진다. 도 8b 는 수평면을 빗금 표시로 나타낸 입면도이다. 도 8b 에서, 행해진 오차 측정 및 조정은 도 8a 및 표 1 과 관련하여 설명된 바와 동일하지만, 이들은 고도 차원에서 발생할 수도 있다.
원하는 정렬 등급을 달성하기 위해 행해진 오차 측정 및 조정은, 방위 및 고도 차원에서 행질 필요가 있음을 아는 것이 중요하다. 방위 및 고도 차원에서 조정이 행해지는 시나리오를 나타내기 위하여, 다음으로 아래에 나타낸 표 2 를 참조한다. 오차 측정 및 조정은 등급으로 되어 있다. 표 2 에서, 제 1 시나리오의 표 1 에서 처럼, 중복하는 조정 기간이 있고 엔티티 A 는 본 발명을 사용하는 반면, 엔티티 B 는 본 발명을 사용하지 않는다. 그러나, 표 2 에서, 방위 차원과 고도 차원 모두에서 오정렬이 있다. 방위 및 고도 차원에서 요구되는 정렬 등급에 수렴하는 것은 상술한 바와 동일하며, 여기서 엔티티 A 는 그들 각각의 오차 측정의 부분 (이 경우 0.5) 이 되는 방위 및 고도 조정을 수행한다.
반복 1 에서, 32 등급의 방위 오차가 측정되고 40 등급의 고도 오차가 측정된다. 그러므로, 양 차원에 대한 0.5 의 교정 인자를 가정하면, 엔티티 A 는 방위 방향에서 그것의 빔을 16 등급 만큼 조정하고 엔티티 B 는 방위 방향에서 그것의 빔을 전체 32 등급 만큼 조정한다. 마찬가지로, 엔티티 A 및 B 는 또한 그들의 각각의 빔을 고도차원에서 각각 20 등급 및 40 등급 만큼 조정한다. 표 2 에서 도시한 것처럼, 이러한 패턴은 요구되는 정렬 등급이 양 차원에서 달성될 때 (즉, 반복 6)까지 방위 및 고도 차원 모두에서 엔티티 A 및 B 에 대하여 계속된다.
중복 조정 기간(방위 및 고도)
반복 측정된 방위 오차 엔티티 A 방위 조정 엔티티 B 방위 조정 측정된 고도 오차 엔티티 A 고도 조정 엔티티 B 고도 조정
0 32 16 32 40 20 40
1 16 8 16 20 10 20
2 8 4 8 10 5 10
3 4 2 4 5 2.5 5
4 2 1 2 2.5 1.75 2.5
5 1 0.5 1 1.75 .875 1.75
6 0.5 0 0 .875 0 0
표 2
비록 표 2 에서는 동일한 교정 인자 (즉, 0.5) 가 양 차원에서 사용되었지만, 서로 다른 교정 인자가 방위 및 고도 차원에서 사용될 수 있다는 점을 주목하는 것이 중요하다. 더욱이, 비록 용이성을 위해 표 2 에서 수렴이 양 차원에서 같은 반복(즉, 반복 6)에서 달성되는 것처럼 도시되었지만, 방위 및 고도 차원에서의 수렴은 다른 반복에서 달성될 수 있다.
비록 상기 제공된 일례가 본 발명을 설명하기 위한 목적으로 특정 시나리오에 적용되었지만, 오차 측정이 그들 각각의 빔 형성의 사용에 관한 제어 정보를 통신할 수 없는 두 개의 엔티티 사이에서 오차 측정이 수행되거나 수행되지 않는 무한한 수의 시나리오가 물론 존재한다. 그러나, 그 시나리오에 관계없이, 본 발명에 따라 하나의 엔티티가 그것의 조정을 감소시키는 한 빔은 수렴할 것이다(즉, 요구되는 정렬 등급을 획득할 것이다).
제 1 실시예의 상기 설명에서, 본 발명을 구현하는 엔티티는 교정 인자 0.5 를 사용하였다. 즉, 상기 설명에서, 본 발명을 사용하는 엔티티는 측정된 오차가 얼마든지 그 오차의 0.5 로 그것의 조정을 감소시켰다. 교정 인자 0.5 가 양호한 반면에, 본 발명을 사용하는 엔티티가 오차 측정을 감소시키는 크기는 0 과 1 사이의 임의의 수가 될 수 있다.
제 2 실시예에서, 무선 통신 시스템 및 WTRU 는 빔 형성의 그들 각각의 제어를 통신하고 협의할 수 있다. 이 실시예에서, 두 개의 엔티티는 적절한 교정 인자에 대하여 간단히 동의할 수 있다. 예를 들어, 제 2 실시예에서, 엔티티 A 및 B 는, 이유가 무엇이든지 그에 대하여, 엔티티 A 는 측정된 오차의 0.2 와 동일한 조정을 수행할 것이고 엔티티 B 는 측정된 오차의 0.8 과 동일한 조정을 수행할 것에 동의할 수 있다. 그러므로, 아래 표 3 에 도시된 것처럼, 32 등급의 오차가 측정된 반복 0 에서, 엔티티 A 는 6.4 등급의 조정을 수행하고 엔티티 B 는 25.6 등급의 조정을 수행한다. 그 후, 반복 1 에서, 0 의 오차가 측정되고 더 이상 어떠한 액션도 요구되지 않는다. 이러한 상황은 도 9a 의 방위 차원과 도 9b의 고도 차원 에서 설명된다. 도 9a는 평면도이고, 도 9b는 수평 표면이 빗금으로 도시된 입면 도이다.
중복 조정 기간
반복 측정된 오차 엔티티 A 조정 엔티티 B 조정
0 32 6.4 25.6
1 0 0 0
표 3
이러한 실시예에서, 두 개의 엔티티가 그들의 빔 형성의 각각의 사용을 협의할 수 있기 때문에, 각 엔티티에 의하여 사용되는 특정 교정 인자는 그들의 통신에 영향을 미치는 인자를 고려할 수 있다. 예를 들어, 보정은 엔티티의 능력, 두 개의 통신하는 엔티티 사이의 각도, 엔티티가 그들의 각각의 빔을 송신하고 있는 전력에 따라 조정될 수 있다.
엔티티의 능력에 관련하여, 기지국은 전형적으로 WTRU 보다 더 우수한 위상 어레이 안테나를 가져 그로 인해 기지국으로 하여금 그들의 빔에 더 양호한 조정을 하는 것을 가능하게 한다. 사실 이러한 경우에서, 기지국이 그것과 통신하는 WTRU보다 더 큰 교정 인자를 사용함으로써 기지국이 더 큰 부분의 조정을 수행하는 것이 바람직할 수 있다.
두 개의 통신하는 엔티티 사이의 각도와 관련하여, 하나의 엔티티에 대하여 다른 엔티티보다 더 큰 각도가 필요한 경우, 그 더 큰 각도의 조정을 하는 엔티티는 더 큰 교정 인자를 가질 수 있다. 예를 들어, 통신하고 있는 기지국을 지나 이동하고 있는 자동차에서 사용되고 있는 WTRU 에 대하여, 그 기지국은, 더 넓은 빔 을 사용하고 있기 때문에, 단지 그것의 빔을 1 또는 2 등급 만큼 조정할 필요가 있을 수 있는 반면에, 그 WTRU는 보정을 위하여 그것의 안테나를 대략 5 또는 6등급 만큼 조정할 필요가 있을 수 있다. 그러므로, 이러한 경우에, WTRU 가 기지국보다 더 큰 교정 인자를 사용함으로써 대다수의 조정이 WTRU 에 할당될 수 있다.
엔티티들이 그들의 빔을 전송하고 있는 전력과 관련하여, 더 큰 교정 인자는 가장 높은 전력으로 송신하고 있는 엔티티로 할당될 수 있다. 즉, 기지국이 그것과 통신하고 있는 WTRU 보다 더 높은 전력으로 송신하고 있다고 가정하면, WTRU 의 신호의 추가적인 감쇠를 피하기 위해 대다수의 임의의 필요한 조정이 기지국에 의하여 수행되는 것이 바람직할 수 있다. 사실상, 다른 인자가 다른 것을 요구하지 않는다면, 단순히 WTRU 가 그것의 빔을 조금이라도 움직이는 것을 억제하도록 지시하고 기지국이 측정된 오차의 100% 동일한 조정을 수행하도록 하는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 경우, WTRU 에 대한 교정 인자는 0.0 이고, 기지국에 대한 교정 인자는 1.0 이다.
측정된 오차 및 본 발명에 따라 이루어진 조정은 오차 측정 및/또는 조정을 수행하는 엔티티의 배향 (방위 및/또는 고도) 을 고려하도록 이루어질 수 있다. 예를 들어, 만약 안테나가 고도 차원에서 45 등급 아래로 향하고 있어 그것의 빔을 지면으로 초점을 맞추게 된다면, 고도 차원에서의 임의의 측정 및/또는 조정은 안테나의 배향을 고려한다. 더욱이, 본 발명이 방위 (즉, 수평) 및 고도 (즉, 수직)의 용어를 사용하여 특정 배향을 언급하였지만, 본 발명은 이러한 공칭 배향으로부터 그 축을 회전시켜 동등하게 적용할 수 있음을 주목해야 한다. 예를 들어, 안테 나가 의도적으로 설정되어 그 안테나가 공칭 수직 또는 수평면에 관련한 각도 오프셋에서 특정하게 사용되는 예가 있다. 예를 들어, 교차 편파 (cross polarization) 구현은 45도 각에서 종종 이루어진다. 마찬가지로, 임의로 배치된 또는 이동하는 장치는 사용된 용어와 일반적으로 관련된 배향에 대하여 알려지거나 고정된 관계를 갖지 않을 수 있다. 부가적으로, 폭 조정 및 조준선 (boresight) 에 대한 자유도는 이상적으로 서로에 대하여 90 등급으로 구현될 수 있는 반면에, 또한 서로에 대하여 0 등급과는 다른 제어할 수 있는 임의의 자유도를 갖고 본 발명을 구현할 수 있다.
본 발명에 따라 이루어진 빔 조정은 빔을 조정하기 위한 임의의 적절한 파라미터를 사용하여 이루어질 수 있다. 즉, 빔을 조정할 수 있는 임의의 파라미터를 조정함으로써 오정렬된 빔의 보정이 수행되어 빔들은 적절히 중복할 수 있다.
예를 들어, 빔 조정은 빔의 조준, 빔이 전송되고 있는 전력, 신호가 수신되고 있는 이득, 또는 빔의 폭 (즉, 빔 폭) 을 조정함으로써 전형적으로 수행된다. 물론, 빔은 이러한 세 개의 파라미터들 모두 또는 그들의 특정 조합물을 조정함으로써 조정될 수도 있다. 또한, 2 개의 통신 엔티티는 이들 각각의 빔들을 조정하기 위하여 동일한 조정 파라미터를 이용하거나 또는 이용하지 않을 수도 있다.
조정 파라미터는 방위 차원, 고도 차원 또는 그들의 결합에서 수행될 수 있다. 하나의 차원에서 조정을 수행하는 것은 다른 차원에서 빔에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 빔의 폭을 조정하여 (그리고 전력 및 조준선을 조정하지 않음) 고도 차원에서 오정렬된 빔을 교정하는 경우, 고도 차원에서의 빔의 폭의 증가 또 는 감소는 수평 위치에서의 빔의 폭의 동일한 감소 또는 증가를 발생시킨다. 또한, 동일한 또는 다른 조정 파라미터들은 고도 및 방위 차원에서 사용될 수도 있다.
빔 또는 빔들을 조정하여 오정렬을 교정하기 위하여 사용되는 특정 조정 파라미터 또는 파라미터들은, 요구되는 것처럼, 운영자 선택에 따라 선택될 수 있다. 즉, 일 실시예로 조준선 조정이 오정렬된 빔을 교정하기 위한 주 (primary) 파라미터이고, 빔의 조준선을 조정함으로써 이루어진 임의의 조정을 향상시키거나 그렇지 않으면 지원하기 위하여 전력과 빔 폭이 사용되는 제 2 역할로서 전력과 빔 폭이 사용되는 것이 있다. 예를 들어, 이러한 실시예에서, 이를테면 7 등급의 교정은 이를테면 방위 차원에서 수행될 필요가 있는 경우, 조준선을 사용하여 그 빔을 5 등급 만큼 조정하고 전력을 증가/감소시키고 (그 빔이 더 크게 또는 더 작게 만들어질 필요가 있는지 여부에 의존) 그리고/또는 남은 2 등급에 대하여 그 폭을 증가/감소시키는 것이 바람직할 수 있다.
다른 실시예에서, 모든 파라미터들은, 빔의 오정렬을 교정하기 위하여 모두 동일하게 이용할 수 있는 옵션이 되기 위하여 주 옵션이 될 수 있다. 이러한 경우, 조준선, 전력 및 빔 폭을 이용가능한 파라미터로서 다시 사용하여, 교정이 이루어질 필요가 있을 때, 교정을 수행하는데 가장 효과적인 파라미터(들)이 사용될 수도 있다. 예를 들어, 조준선 제어에서 양호한 해상도가 없는 상황 (즉, 특정 안테나가 조준선 제어에 관하여 고 해상도를 갖지 않는 경우) 에서, 임의의 필요한 조정 또는 그것의 대다수는 빔의 전력 또는 폭, 또는 이들의 결합물을 조정함으로 써 이루어질 수 있다.
도 10 에서, 빔이 조정되어 무선 통신 시스템 (100) 내에서 동작하는 무선 엔티티 (즉, 기지국 및 WTRU) 사이의 무선 통신을 향상시킬 수 있는 무선 통신 시스템 (100) 을 도시한다. 그 시스템 (100) 은 복수의 무선 엔티티들 (104, 106, 108, 110) 과 적어도 하나의 무선 네트워크 제어기 (radio network controller, RNC) (102) 를 포함한다. 물론, 시스템 엔티티는 본 발명이 구현되고 있는 시스템의 유형에 따라 변할 수 있다. 시스템 (100) 에서, 무선 엔티티들 (104 및 106) 은 기지국인 반면에, 무선 엔티티 (108 및 110) 는 WTRU이다. 그 엔티티는 빔 형성된 송신 및 수신 패턴을 사용하여 통신할 수 있고, 그들 자신의 빔과 그들과 통신하고 있는 다른 엔티티의 빔의 정렬시에 오차를 측정하기 위한 프로세서 (WTRU(110) 에 대하여는 112a 를 기지국 (104) 에 대하여는 112b 를 참조) 를 포함한다. 두 개의 엔티티 (즉, 104 및 110) 가 통신을 하고 있고 그들 각각의 빔의 정렬시에 오차가 검출된 때, 그들 중 적어도 하나는 그들의 빔을 상기 언급한 것처럼 측정된 오차의 부분 만큼 조정할 것이다. 프로세서 (112a, 112b) 들은 빔 조정이 수행되는 모두를 수행하기 위한 조정 파라미터(들)을 선택하도록 구성되는 것이 바람직하다. 조정 파라미터들의 선택은 하나 이상의 파라미터를 포함할 수도 있고, 상술한 바와 같이 통신을 둘러싸는 환경에 기초하는 것이 바람직하다. 부가적인 프로세서(들)(114a, 114b) 가 제공되어 그 부분을 계산하고 그 부분과 측정된 오차와의 곱에 동일한 양으로 그 빔을 조정할 수도 있다. 하나의 프로세서는 본 발명에 관하여 수행된 모든 기능에 대하여 사용될 수 있다. 두 개의 통신하는 엔 티티가 그들 각각의 빔 형성의 사용을 협의하지 않거나 달리 조정하지 않는 경우, 계산된 부분은, 상기 언급한 것처럼, 0.5 인 것이 바람직하다.
양호한 실시예에서, 무선 엔티티는 그들 각각의 빔 형성의 사용을 협의할 수 있고 그 결과 통신하여, 예를 들어, 그들 각각의 빔을 조정하기 위하여 각 엔티티에 의하여 사용된 부분들이 하나로 합쳐질 수 있다. 본 발명의 설명이 WTRU (110)와 관련하고 있는 반면에, 임의의 엔티티 (즉, 시스템(100) 내의 임의의 WTRU 및 임의의 기지국) 에 동일하게 적용할 수 있다. 언급한 것처럼, WTRU (110) 는 WTRU (110) 와 WTRU (110) 가 통신하고 있는 다른 무선 엔티티, 즉 기지국 (104) 으로부터 발산하는 빔의 정렬에서 오차를 측정하도록 구성된 프로세서 (112a) 를 포함한다. WTRU (110) 는, 그 부분을 계산하고 그 부분과 측정된 오차의 곱과 동일한 양으로 그것의 빔을 조정하도록 구성된 프로세서 (114a) 를 포함한다.
이러한 실시예에서, 두 개의 통신하는 엔티티는 그들 각각의 빔 형성의 사용을 협의하기 때문에, 적어도 하나의 엔티티가 통신의 조건에 기초한 (즉, 예를 들어, 거리 및/또는 두 개의 엔티티 사이의 각도 또는 다른 엔티티의 안테나에 대비한 하나의 엔티티의 안테나의 능력에 기초하여) 부분을 사실상 계산하고 하나의 엔티티가 1 에서 계산된 부분을 감산한 것과 동일한 일부분을 간단히 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, WTRU (110) 가 기지국 (104) 와 통신하고 있다고 가정하면, WTRU (110) 는 통신의 조건에 기초한 부분을 계산하고 기지국 (104) 으로 그 부분을 통신할 것이다. 그 후, 기지국 (104) 은 1 에서 WTRU (110) 에 의하여 제공된 부분을 감산함으로써 간단히 그 부분을 계산할 것이다. 이것은 각 엔티티 (110, 104) 각각의 빔이 도 9a 및 9b 와 관련하여 설명된 것처럼 수렴할 수 있게 한다.
무선 엔티티 사이의 빔 형성의 협의를 수행하기 위하여, 엔티티는 빔 형성의 사용에 관한 제어 정보를 통신하기 위한 송신기 및 수신기를 포함하는 것이 바람직하다. 즉, 예로써 WTRU (110) 를 계속해서 들면, WTRU (110) 는 WTRU (110) 가 WTRU 가 통신하는 엔티티에 그것의 빔을 조정할 부분을 포함하는 임의의 유형의 제어 정보를 송신하도록 구성된 송신기 (116) 를 포함하는 것이 바람직하다. WTRU (110) 는 또한 WTRU (110) 가 통신하고 있는 다른 무선 엔티티로부터 임의의 유형의 제어 정보를 수신하도록 구성된 수신기 (118) 를 포함하는 것이 바람직하다. 제어 정보는 WTRU (110) 가 통신하고 있는 엔티티에 의하여 사용되고 있는 부분을 포함할 수 있다. 물론 WTRU (110) 가 부분을 수신 또는 송신하고 있는지 여부는 WTRU (110) 가, 다른 엔티티가 사용하고 있는 부분이 무엇이든지 1 에서 그것을 감산한 것을 사용하는 것과는 반대로, 통신 둘러싸는 상황에 기초하여 부분을 계산하는 엔티티인지 여부에 의존한다.
상기 언급한 것처럼, 본 발명은 기초 설비 및 이동 (즉, WTRU 및 기지국) 통신의 배경에서 설명된다. 그러나, WTRU 들 사이 및 인프라스트럭쳐를 가진 엔티티 사이에의 빔 형성의 사용은 본 발명의 자연스러운 확장이며 당연히 본 발명의 범위 내의 것이다. 예를 들어, 만약 2 개의 통신하고 있는 WTRU 중 하나가 정지한 위치가 되도록 할 수 있다면, 본 발명은 상기 개요처럼 구현될 수 있다. 만약 두 개의 WTRU 가 서로에 관하여 각각의 움짐임이 있다면, 빔 형성 사용과 오정렬된 빔의 교 정은 또한 상기 언급한 것과 동일하지만, WTRU 의 각각의 움직임의 적용을 받는다. 추가로, 이러한 실시예에서, 상기 설명된 실시예와 함께, 측정된 오차와 이루어진 조정은 방위 차원, 고도 차원 또는 두 차원 모두에서 수행될 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이, 본 발명은 빔 형성의 사용을 협의하는 임의의 2 개의 엔티티 사이에 구현될 수도 있다. 예를 들어, 본 발명은 시스템 용량을 증가시키고 기지국의 빠른 배치를 용이하게 하기 위하여 백홀 (backhaul) 애플리케이션들에 사용될 수도 있다. 2 개의 보다 특정한 예는 메시 네트워크 모드에서 기능하는 WTRU 및 백홀 네트워크에의 직접적인 접속없이 배치되는 기지국들 (즉, WTRU 에 무선 접속할 뿐만 아니라 무선 네트워크의 다른 부분에 무선 접속하는 무선 기지국) 을 사용하여 본 발명을 구현하는 것을 포함한다.
다음으로, 도 11 을 참조하면, 예를 들어, 무선 통신 시스템 (200) 이 도시되어 있으며, 여기서 WTRU (202) 는, 단순히 예로서 커버리지가 기지국들 (204 내지 210) 에 의해 제공되지 않은 영역에서 커버리지를 제공하기 위하여 메시 네트워크 모드에서 동작한다. WTRU 는 바람직하기로는 전체 무선 메시 토폴로지 또는 부분 무선 메시 토롤로지로 동작할 수도 있다. 각각의 사용자들의 관점에서 WTRU 로서 기능하는 WTRU (202) 들은, 무선 통신 시스템 (200) 의 관점에서 기지국으로도 기능한다. 메시 네트워크 기능성을 지원하기 위하여, 위에서 상세히 설명되는 빔 형성의 협의는 WTRU (202) 자신들 사이에, 또는 그룹 (202) 내의 WTRU 와 기지국 (204 내지 210) 들 중 하나와 인터페이싱하는 또 다른 WTRU (212 내지 218) 사이에서 이용될 수도 있다. 또한 상술한 바와 같이, 2 개의 WTRU 는 서로에 대하여 상 대적 움직임 상태에 있고, 빔 형성 사용 및 오정렬된 빔들의 교정은 WTRU 의 상대적 움직임을 받는다.
WTRU (202) 는 커버리지가 기지국 (204 내지 210) 에 의해 제공되지 않은 영역에 도시되지만, 그룹 (202) 에 유사한 WTRU 의 그룹은 커버리지가 이용가능한 영역에 제공될 수도 있다. 예를 들어, 그룹은 제 1 시스템 타입 (예를 들어, 셀룰라 타입 시스템) 에 대한 영역내에 개선된 서비스를 제공하기 위하여, 또는 제 2 시스템 타입 (예를 들어, WLAN 타입 시스템) 에의 액세스를 제공하기 위하여 제 1 시스템 타입의 현존 커버리지 영역에 제공될 수도 있다. 어느 하나의 경우에, 2 개의 엔티티 사이의 빔 형성의 협의는 원하는 대로 이용될 수도 있다.
다음으로, 도 12 를 참조하면, 백홀 타입 환경에서 본 발명을 구현하는 또 다른 예를 나타낸다. 도 12 에서, 커버리지 영역 (300) 이 도시되며, 여기서 커버리지 영역은 RNC (310, 312) 에 직접적인 유선 접속 상태로 배치되는 기지국 (302 내지 308) 을 포함한다. 그러나, 부가적인 커버리지 영역을 제공하기 위하여, RNC 로의 고가의 직접적인 유선 접속을 피하면서, 부가적인 기지국 (314 내지 320) 을 제공한다. 이 기지국 (314 내지 320) 들은, RNC 또는 RNC 에 직접적으로 접속되는 또 다른 기지국 중 어느 하나에의 직접적인 유선 접속 없이 배치된다. 무선 기지국 (314 내지 320) 은 통상적으로 RNC (310, 312) 에 직접적인 (또는 간접적인) 유선 접속을 가지는 기지국 (302 내지 308) 과 같은 다른 네트워크 구성엔티티들에 접속하기 위한 다른 RF 링크 능력 또는 이들의 예비 능력을 이용한다. 이 실시형태에서, 엔티티들 사이의 빔 형성의 협의는, 위에서 상세히 설명한 바와 같이 기지 국들과 WTRU 사이에 사용될 뿐만 아니라 무선 기지국 (314 내지 320) 자신들 사이에, 및/또는 무선 기지국 (314 내지 320) 들과 유선 기지국 (302 내지 308) 사이에 사용되어 통신을 개선시킨다.
도 11 및 도 12 와 관련하여 설명되는 바와 같이 백홀 링크에서 본 발명을 구현함에 의해 이러한 링크들이 초기 설명과 링크 유지에 대한 최소 사용자 간섭으로 확립되게 한다. 예를 들어, 엔티티들의 존재의 변경, 엔티티의 이동 및/또는 용량, 서비스의 품질, 또는 사용자 재구성으로 인한 사용의 실행 가능성은 본 발명에 따라 빔 형성을 협의함으로써 개선될 수도 있다. 즉, 본 발명은 빔 형성을 통하여 시스템 용량을 최대화하면서 백홀 네트워크 (즉, 기지국 등) 의 구성 엔티티들을 자동 구성 및 재구성에 의해 구현할 수 있다.
본 발명의 특징 및 엘리먼트들은 바람직한 실시형태의 특정 결합에서 설명되지만, 각각의 특징 또는 엘리먼트는 단독으로 (바람직한 실시형태들의 다른 특징 및 엘리먼트 없이) 또는 본 발명의 다른 특징 및 엘리먼트들과의 다양한 결합 또는 이들 없이 사용될 수 있다.
본 발명은, 필요하다면, 임의의 유형의 통신 시스템에서 구현될 수 있다는 점을 주목하는 것이 중요하다. 예를 들면, 본 발명은 UMTS-FDD, UMTS-TDD, TDSCDMA, CDMA2000 (EV-DO 및 EV-DV), 임의의 타입의 WLAN (wireless local area network) 또는 임의의 다른 유형의 무선 통신 시스템에서 구현될 수 있다. 추가로, 본 발명은 다양한 실시예에서 설명되었지만, 청구항에서 설명한 본 발명의 범위 내의 다른 변형이 당업자에게 명백할 것이다.

Claims (26)

  1. 하나 이상의 엔티티는 무선 기지국이며, 빔 형성의 사용에 관한 제어 정보는 2 개의 통신 엔티티 사이에서 통신되지 않는, 2 개의 통신 엔티티 사이에서 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법으로서,
    상기 2 개의 통신 엔티티 중 하나를 선택하고 그 선택된 엔티티가 상기 2 개의 엔티티로부터 발산하는 빔들 사이의 오정렬에 응답하여 그것의 빔을 조정할 량을 감소시키는 단계;
    상기 2 개의 통신 엔티티로부터 발산하는 빔들의 정렬시에 오차를 측정하는 단계;
    상기 선택된 엔티티의 빔을 조정하기 위하여 하나 이상의 조정 파라미터를 선택하는 단계; 및
    상기 선택된 조정 파라미터를 이용하여 상기 선택된 엔티티의 빔을 조정하는 단계를 포함하는 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 2 개의 통신 엔티티는 무선 기지국과 WTRU 이며,
    상기 WTRU 는 적어도 부분적으로 기지국으로서 기능하는 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 2 개의 통신 엔티티는 2 개의 무선 기지국인 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 2 개의 통신 엔티티는 무선 기지국 및 무선 네트워크 제어기 (RNC) 에 유선 접속되는 기지국인 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 하나 이상의 조정 파라미터는 조준선 (boresight) 배향 (orientation), 빔 폭, 및 전력 이득으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 측정된 오차가 소정의 값 보다 아래에 있을 때 까지 상기 측정 단계 및 조정 단계를 반복하는 단계를 더 포함하는 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  7. 하나 이상의 엔티티는 무선 기지국이고, 빔 형성의 사용에 관한 제어 정보를 2 개의 통신 엔티티 사이에서 통신하는, 2 개의 통신 엔티티 사이에서 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법으로서,
    상기 2 개의 통신 엔티티로부터 발산하는 빔들의 정렬시에 오차를 측정하는 단계;
    상기 2 개의 통신 엔티티 중 제 1 엔티티에 대하여 하나 이상의 조정 파라미 터를 선택하는 단계;
    상기 제 1 엔티티에 대한 제 1 교정 인자를 식별하는 단계;
    상기 2 개의 통신 엔티티 중 제 2 엔티티에 대하여 하나 이상의 조정 파라미터를 선택하는 단계;
    상기 제 2 엔티티에 대한 제 2 교정 인자를 식별하는 단계; 및
    상기 엔티티들의 각각의 교정 인자와 상기 측정된 오차를 곱한 것과 동일한 양으로 상기 2 개의 통신 엔티티의 빔을 조정하는 단계를 포함하는 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 2 개의 통신 엔티티는 무선 기지국과 WTRU 이고,
    상기 WTRU 는 적어도 부분적으로 기지국으로서 기능하는 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 2 개의 통신 엔티티는 2 개의 무선 기지국인 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 2 개의 통신 엔티티는 무선 기지국과 무선 네트워크 제어기 (RNC) 에 유선 접속되는 기지국인 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 하나의 엔티티의 교정 인자는 0 이며 그에 의하여 상기 엔티티로 하여금 상기 엔티티의 빔을 조정하는 것을 억제하게 하는 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  12. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 엔티티에 대한 하나 이상의 조정 파라미터는 조준선 배향, 빔 폭, 및 전력 이득으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  13. 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 엔티티에 대한 하나 이상의 조정 파라미터는 조준선 배향, 빔 폭, 및 전력 이득으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 빔 형성의 사용을 조정하기 위한 방법.
  14. 무선 통신 시스템에서 동작하는 무선 엔티티들 사이의 무선 통신을 강화하도록 빔을 조정할 수 있는 무선 통신 시스템으로서,
    빔 형성 송신 및 수신 패턴들을 이용하여 통신하고, 무선 기지국들 자신의 빔과 무선 엔티티들이 통신하고 있는 또 다른 엔티티의 빔의 정렬시에 오차를 측정하는 프로세서를 포함할 수 있는 복수의 무선 기지국을 포함하며,
    통신하는 2 개의 무선 기지국 중 하나 이상은 하나 이상의 조정 파라미터를 선택하여 다른 무선 엔티티의 빔에 대한 그것의 빔의 정렬시에 측정된 오차의 부분 만큼 그것의 빔을 조정하는 무선 통신 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 통신하는 하나 이상의 무선 기지국의 프로세서는 상기 부분과 상기 측정된 오차를 곱한 것과 동일한 양으로 하나 이상의 무선 기지국의 빔을 조정하도록 구성되는 것인 무선 통신 시스템.
  16. 제 14 항에 있어서, 상기 통신하는 하나 이상의 무선 기지국의 프로세서는 상기 조정을 수행하기 위하여 하나 이상의 조정 파라미터를 선택하도록 구성되는 것인 무선 통신 시스템.
  17. 제 16 항에 있어서, 상기 하나 이상의 조정 파라미터는 조준선 배향, 빔 폭 및 전력 이득으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 무선 통신 시스템.
  18. 제 14 항에 있어서, 상기 무선 기지국들 중 하나 이상은 적어도 부분적으로 기지국으로서 기능하는 WTRU 인 것인 무선 통신 시스템.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 WTRU 는 메시 네트워크의 부분으로서 기능하는 것인 무선 통신 시스템.
  20. 또 다른 무선 기지국의 빔에 대하여 무선 기지국의 빔의 정렬을 유지하도록 구성되는 무선 기지국으로서,
    상기 기지국으로부터 발산하는 제 1 빔과 다른 무선 엔티티로부터 발산하는 제 2 빔의 정렬시에 오차를 측정하도록 구성된 제 1 프로세서로서, 상기 제 1 프로세서는 상기 제 1 빔을 조정하기 위한 하나 이상의 조정 파라미터를 선택하도록 추가적으로 구성되는, 제 1 프로세서; 및
    제 1 부분을 계산하고 상기 제 1 부분과 상기 측정된 오차를 곱한 것과 동일한 양으로 하나 이상의 선택된 파라미터를 이용하여 제 1 빔을 조정하도록 구성되는 제 2 프로세서를 포함하는 무선 기지국.
  21. 제 20 항에 있어서, 기지국이 그것의 빔을 조정하는 측정된 오차의 부분을 무선 기지국이 통신하는 무선 엔티티에 송신하도록 구성되는 송신기를 더 포함하는 무선 기지국.
  22. 제 21 항에 있어서, 기지국이 통신하는 무선 엔티티로부터, 상기 엔티티가 그것의 빔을 조정하는데 사용하는 제 2 부분을 수신하도록 구성되는 수신기를 더 포함하며,
    상기 제 2 부분이 수신되는 경우, 제 2 프로세서는 1 에서 제 2 부분을 감산하여 제 1 부분을 계산하고 상기 제 1 부분과 측정된 오차를 곱한 것과 동일한 양으로 제 1 빔을 조정하도록 구성되는 것인 무선 기지국.
  23. 제 22 항에 있어서, 상기 기지국과 통신하는 상기 무선 엔티티는 또 다른 무 선 기지국인 것인 무선 기지국.
  24. 제 22 항에 있어서, 상기 기지국과 통신하는 상기 무선 엔티티는 WTRU 인 것인 무선 기지국.
  25. 제 22 항에 있어서, 상기 기지국과 통신하는 상기 무선 엔티티는 무선 네트워크 제어기 (RNC) 에 유선 접속되는 기지국인 것인 무선 기지국.
  26. 제 20 항에 있어서, 상기 하나 이상의 조정 파라미터는 조준선 배향, 빔 폭, 및 전력 이득으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 무선 기지국.
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