KR20060013879A - Temperature control unit management system for exposure apparatus - Google Patents

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KR20060013879A
KR20060013879A KR1020040062490A KR20040062490A KR20060013879A KR 20060013879 A KR20060013879 A KR 20060013879A KR 1020040062490 A KR1020040062490 A KR 1020040062490A KR 20040062490 A KR20040062490 A KR 20040062490A KR 20060013879 A KR20060013879 A KR 20060013879A
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홍일선
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Abstract

노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템이 제공된다. 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템은 적어도 하나 이상의 온도 제어 장치 내에 포함된 냉각수 저장부에 저장된 냉각수의 수면 높이를 감지하고 수면 높이에 대한 정보 신호를 발생시키는 센서부 및 센서부로부터 전송받은 정보 신호에 담긴 정보 신호를 분석하여 모니터에 표시하는 메인 컴퓨터를 포함한다.A temperature control device management system for an exposure apparatus is provided. The temperature control device management system for the exposure apparatus detects the water level of the coolant stored in the coolant storage unit included in the at least one temperature control device and generates an information signal for the water level, and the information signal received from the sensor unit. It includes a main computer that analyzes the information signal contained and displays it on a monitor.

온도 제어 장치, 노광 장치, 리소그래피 Temperature control, exposure equipment, lithography

Description

노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템{Temperature control unit management system for exposure apparatus} Temperature control unit management system for exposure apparatus {Temperature control unit management system for exposure apparatus}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템의 구성도이다. 1 is a block diagram of a temperature control device management system for an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 노광 장치의 동작 순서를 나타낸 흐름도이다. FIG. 2 is a flowchart illustrating an operation procedure of the exposure apparatus of FIG. 1.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명> <Explanation of symbols on main parts of the drawings>

10: 메인 컴퓨터 20: 중계기10: main computer 20: repeater

30: 온도 제어 장치 40: 노광 장치 30: temperature control device 40: exposure device

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 반도체 제조 과정에서 마스크의 패턴을 웨이퍼 상에 투사하는 노광 장치에 사용되는 온도 제어 장치 관리 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly, to a temperature control device management system used for an exposure apparatus that projects a pattern of a mask onto a wafer in a semiconductor manufacturing process.

최근 인터넷의 보급과 확산으로 컴퓨터의 수요가 폭발적으로 증가하고 있고 셀롤라폰이나 PCS폰과 같은 이동통신 단말기가 전국적으로 보급되면서 이에 사용되는 반도체 칩이 점점 소형화되고 대용량화되고 있다. 따라서 이와 관련된 반도체 칩의 소형화, 대용량화 및 고속화를 지지해 온 리소그래피(lithography) 기술에 대한 관심이 높아지고 있으며 특히 광원으로 마스크 상의 회로 패턴을 웨이퍼에 투영시켜 회로 패턴을 형성함으로써 회로 패턴의 해상도와 반도체 소자의 생산성을 향상시킬 수 있는 반도체 제조용 노광 장치가 크게 각광을 받고 있다. Recently, the demand for computers is exploding due to the spread and spread of the Internet, and as the mobile communication terminals such as cell phones and PCS phones are distributed nationwide, the semiconductor chips used for them are becoming smaller and larger. Therefore, interest in lithography technology, which has been supporting miniaturization, large capacity, and high speed of semiconductor chips, is increasing. In particular, the circuit pattern resolution and the semiconductor device are formed by projecting a circuit pattern on a mask onto a wafer with a light source. The exposure apparatus for semiconductor manufacture which can improve the productivity of this is attracting much attention.

이러한 노광 장치 가운데 가장 널리 사용되는 스텝퍼(stepper)는 마스크에 광을 공급하는 광원부, 광원부에서 나오는 광을 균일한 면광원으로 확산시키는 동시에 일정한 크기로 접속시키는 조명부, 웨이퍼 상에 형성하려는 회로패턴이 설계된 마스크(또는 레티클), 마스크와 웨이퍼를 원하는 위치에 정렬시키는 위치 정렬부, 마스크를 통과한 광이 웨이퍼에 원하는 위치에 형성되도록 하는 렌즈부 등으로 구성된다. The most widely used stepper includes a light source unit for supplying light to a mask, an illumination unit for diffusing light from the light source unit into a uniform surface light source and connecting at a constant size, and a circuit pattern to be formed on a wafer. A mask (or reticle), a position alignment portion for aligning the mask and the wafer at a desired position, and a lens portion for allowing light passing through the mask to be formed at the desired position on the wafer.

한편, 이와 같은 노광 장치는 주변 환경에 의한 공정 영향성을 제거하고자 온도, 습도, 파티클, 화학 오염(chemical contamination) 등을 제어할 수 있는 보조 장치를 복합시켜 사용하고 있다. On the other hand, such an exposure apparatus is used in combination with an auxiliary device that can control the temperature, humidity, particles, chemical contamination, etc. in order to remove the process influence due to the surrounding environment.

상기한 바와 같은 보조 장치들 중 노광 장치의 온도를 제어하기 위한 온도 제어 장치(Temperature Control Unit: TCU)는 램프 및 모터를 이용하여 온도를 올리고 수냉식 코일을 이용하여 냉각함으로써 노광 장치 내의 온도를 일정한 온도로 제어한다. 특히 냉각을 위해, 온도 제어 장치는 그 내부에 냉각수를 저장하게 되는데, 일정 레벨까지 냉각수의 수위가 떨어지게 되면 노광 장치의 동작이 정지하게 되므로, 냉각수의 수위가 일정 레벨까지 떨어지기 전에 냉각수를 공급해야만 한다. Among the auxiliary devices described above, a temperature control unit (TCU) for controlling the temperature of the exposure apparatus increases the temperature by using a lamp and a motor and cools it by using a water-cooled coil to maintain a constant temperature in the exposure apparatus. To control. In particular, for cooling, the temperature control device stores the coolant therein. When the level of the coolant drops to a certain level, the exposure apparatus stops operating. Therefore, the coolant must be supplied before the coolant level drops to a certain level. do.

그런데 종래 기술의 온도 제어 장치에서는 냉각수의 레벨 확인을 관리자의 육안 확인에 의존하였으며, 이로 인해 일정 레벨 이하로 냉각수의 수위가 떨어짐으로써 설비가 다운(down)되는 경우가 종종 있었다. 또한 다수의 노광 장치가 사용됨에 따라 다수의 온도 제어 장치가 필요한데, 다수의 온도 제어 장치 내의 냉각수 저장 상태를 관리자가 일일이 점검하기 위해서 많은 시간이 소모되는 문제가 있었다. However, in the temperature control apparatus of the prior art, the checking of the coolant level was dependent on the visual confirmation of the manager. As a result, the facility was often down because the level of the coolant fell below a certain level. In addition, as a plurality of exposure apparatuses are used, a plurality of temperature control apparatuses are required, and there is a problem in that a large amount of time is required for an administrator to check the coolant storage state in the plurality of temperature control apparatuses.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 다수의 온도 제어 장치 내의 냉각수 저장 상태를 동시에 모니터링할 수 있는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템을 제공하고자 하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a temperature control device management system for an exposure apparatus capable of simultaneously monitoring cooling water storage states in a plurality of temperature control devices.

본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The object of the present invention is not limited to the above-mentioned object, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템은 적어도 하나 이상의 온도 제어 장치 내에 포함된 냉각수 저장부에 저장된 냉각수의 수면 높이를 감지하고 수면 높이에 대한 정보 신호를 발생시키는 센서부 및 센서부로부터 전송받은 정보 신호에 담긴 정보 신호를 분석하여 모니터에 표시하는 메인 컴퓨터를 포함한다.The temperature control device management system for an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above technical problem is to detect the surface height of the coolant stored in the coolant storage unit included in at least one or more temperature control device and the information signal for the surface height And a main computer for analyzing the information signal contained in the information signal received from the sensor unit for generating a display on the monitor.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다 Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various forms. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 대해 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템의 구성도이다. 1 is a block diagram of a temperature control device management system for an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템은 메인 컴퓨터(10), 중계기(20) 및 다수의 온도 제어 장치(30)로 구성된다. 여기서 다수의 온도 제어 장치(30)는 노광 장치에 각각 연결되어 있다.The temperature control device management system for the exposure apparatus is composed of a main computer 10, a repeater 20, and a plurality of temperature control devices 30. Here, the plurality of temperature control devices 30 are respectively connected to the exposure apparatus.

메인 컴퓨터(10)는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템을 제어하는 역할을 한다. 이를 위해 메인 컴퓨터(10)는 데이터를 연산처리하는 중앙 처리 장치(CPU) 및 데이터를 기억하는 각종 기억장치(ROM, RAM, 하드 디스크 등)와 기타 주변 장치(pheripheral) 등을 포함한다. 이러한 구성으로 이루어진 메인 컴퓨터(10)의 저장장치, 가령 하드디스크 내에는 다수의 온도 제어 장치(30) 내에 저장된 냉각수의 양에 대한 정보를 수신하여 메인 컴퓨터(10)의 모니터에 표시하고 온도 제어 장치(30) 내의 냉각수가 부족할 경우 이러한 사실을 알리기 위한 프로그램이 저 장되어 있는데, 상기와 같이 저장된 프로그램에 의해 온도 제어 장치 관리 시스템의 제어가 가능하도록 되어 있다. The main computer 10 serves to control the temperature control device management system for the exposure apparatus. To this end, the main computer 10 includes a central processing unit (CPU) for computing data, various storage devices (ROM, RAM, hard disk, etc.) for storing data, and other peripheral devices. In the storage device of the main computer 10 having such a configuration, for example, a hard disk, information on the amount of coolant stored in the plurality of temperature control devices 30 is received and displayed on a monitor of the main computer 10 and the temperature control device If there is a lack of coolant in the 30, a program for informing this fact is stored, and the program stored as described above enables the control of the temperature control device management system.

중계기(20)는 상호 연결된 온도 제어 장치(30)와 메인 컴퓨터(10) 사이에 설치되어 다수의 온도 제어 장치(30)로부터 오는 정보 신호, 즉 온도 제어 장치(30) 내에 저장된 냉각수의 양에 대한 정보 신호를 메인 컴퓨터(10)에서 인식가능한 신호로 변환하여 메인 컴퓨터(10)로 중계하는 역할을 한다. 나중에 다시 설명되겠지만, 정보 신호는 각 온도 제어 장치(30)의 냉각수 저장부에 설치되어 냉각수의 양을 측정하는 센서에서 발생된 신호이며, 그 신호에는 냉각수 저장부에 저장된 냉각수의 양과 냉각수를 보충해야할지 여부를 알려주기 위한 정보가 포함되어 있다. The repeater 20 is installed between the interconnected temperature control device 30 and the main computer 10 to provide information signals from the plurality of temperature control devices 30, namely the amount of coolant stored in the temperature control device 30. The information signal is converted into a signal recognizable by the main computer 10 and relays the information signal to the main computer 10. As will be described later, the information signal is a signal generated by a sensor installed in the coolant storage unit of each temperature control device 30 and measuring the amount of coolant, and the signal should be supplemented with the amount of coolant stored in the coolant storage unit and the coolant. Contains information to indicate whether or not.

참고로, 메인 컴퓨터(10)와 중계기(20) 사이의 통신은 RS-232C 통신으로 이루어질 수 있다. For reference, the communication between the main computer 10 and the repeater 20 may be made by RS-232C communication.

한편, 다수의 온도 제어 장치(30)로부터 오는 정보 신호를 메인 컴퓨터(10)가 판독 가능한 경우에는 중계기(20)가 반드시 필요한 것은 아니며 없어도 무방할 것이다. On the other hand, when the main computer 10 can read the information signals from the plurality of temperature control device 30, the repeater 20 is not necessarily necessary, but may be necessary.

온도 제어 장치(30)는 반도체 제조 공정 중 리소그래피 공정에 주로 사용되는 노광 장치의 보조 장치로서, 노광 장치 내의 온도를 공정에 적합한 온도, 가령 20℃ 내지 22℃로 유지하는 역할을 한다. 이를 위해 노광 장치에 사용되는 모터나 광원을 이용하여 온도를 높이고 냉각수를 이용하여 온도를 낮추는 메커니즘을 구비하고 있다. 전술한 온도 제어 메커니즘에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 목적과는 관련성이 적으므로 구체적인 설명은 생략하지만, 본 발명의 기술분야에 종사하 는 사람이라면 누구나 알 것이다. The temperature control device 30 is an auxiliary device of the exposure apparatus mainly used in the lithography process in the semiconductor manufacturing process, and serves to maintain the temperature in the exposure apparatus at a temperature suitable for the process, for example, 20 ° C to 22 ° C. To this end, a mechanism for increasing the temperature using a motor or a light source used in the exposure apparatus and lowering the temperature using the cooling water is provided. The detailed description of the above-described temperature control mechanism has little relevance to the purpose of the present invention, so a detailed description thereof will be omitted, but it will be understood by anyone skilled in the art.

계속하여 온도 제어 장치(30)는 내부에 냉각수를 저장하기 위한 저장부(미도시)를 포함한다. 또한 냉각수 저장부 내에는 유량을 점검할 수 있는 유량 점검 수단과 측정된 유량을 전기 신호로 변환하여 중계기로 전송할 수 있는 변환기를 포함한다. Subsequently, the temperature control device 30 includes a storage unit (not shown) for storing the cooling water therein. In addition, the cooling water storage unit includes a flow rate checking means for checking the flow rate and a converter for converting the measured flow rate into an electrical signal and transmitted to the repeater.

참고로, 유량 점검 수단으로 다양한 센서가 사용가능할 것이다. 예를 들면, 냉각수 저장부 내에 높이를 달리하여 다수의 유량 감지 센서를 부착함으로써 냉각수의 양을 측정할 수 있을 것이다. 이 경우, 두 가지 경우를 상정해 볼 수 있는데, 다수의 유량 감지 센서가 주기적으로 작동시켜 냉각수의 높이를 측정하는 경우와 냉각수의 유량 변동에 따라 다수의 센서 중 일부가 그 변동을 감지한 경우가 그러하다. 이 외에도, 센서는 유량을 측정할 수 있는 장치라면 어떤 것이라도 가능하나 본 발명의 일 실시예에서는 유량 감지 센서 4개를 냉각수 저장부 내에 높이를 달리하여 설치하여 사용하는 것으로 한다. 여기서 4개의 유량 감지 센서는 저장부의 하부에 설치되어 냉각수가 남지 않았음을 파악하기 위한 제 1 센서, 제 1 센서보다 위에 설치되며 냉각수가 조금밖에 남지 않았음을 나타내는 파악하기 위한 제 2 센서, 냉각수의 재충전이 필요함을 알리기 위한 제 3 센서, 냉각수가 가득찼음을 파악하기 위한 제 4 센서를 포함한다. 이 경우 각각의 센서는 냉각수와 접촉시 소정의 전기 신호를 발생시키고 중계기(20)를 통해 메인 컴퓨터(10)로 그 정보 신호를 전송한다. For reference, various sensors may be used as the flow rate checking means. For example, it may be possible to measure the amount of coolant by attaching multiple flow rate sensors at different heights within the coolant reservoir. In this case, two cases can be assumed: when a plurality of flow sensing sensors periodically operate to measure the height of the coolant, and when some of the sensors detect the fluctuation according to the fluctuation of the coolant flow rate. It is true. In addition to this, the sensor may be any device capable of measuring the flow rate, but in one embodiment of the present invention, four flow rate sensors may be installed by using different heights in the coolant storage unit. Here, the four flow rate sensors are installed at the lower part of the storage unit to detect that there is no coolant remaining, the first sensor installed above the first sensor, and the second sensor to identify that only a little coolant is left and the coolant is left. And a third sensor for notifying that the recharging is necessary, and a fourth sensor for identifying that the coolant is full. In this case, each sensor generates a predetermined electrical signal upon contact with the coolant and transmits the information signal to the main computer 10 through the repeater 20.

예를 들어, 냉각수의 수위가 제 3 센서와 제 4 센서 사이에 위치하다가 제 2 센서와 제 3 센서 사이로 떨어진 경우를 생각해보자. 여기서 유량 감지 센서가 주기적으로 작동되는 방법을 사용하면, 측정 시점 마다 그 수위를 알 수 있을 것이다. 또, 냉각수의 유량 변동에 따라 다수의 센서 중 일부가 그 변동을 감지하여 신호를 발생시키는 방법을 사용한 경우에는 냉각수 수위의 변동 순간마다 수위를 알 수 있을 것이다. 여기서는 제 3 센서가 수위의 변동을 감지하는 순간 제 3 센서와 냉각수가 접촉하고 있지 않다는 것을 알리는 신호를 발생시킬 것이다. 이로써, 제 3 센서와 제 4 센서 사이의 수위가 제 2 센서와 제 3 센서 사이로 떨어졌음을 알 수 있다. For example, consider a case where the coolant level is located between the third sensor and the fourth sensor and then falls between the second sensor and the third sensor. Here, if the flow sensor is operated periodically, the level will be known at each measurement point. In addition, when some of the plurality of sensors detect a change in accordance with the flow rate of the coolant and generate a signal, the level may be known at every instant of the change in the coolant level. Here, a moment when the third sensor detects a change in the water level, it will generate a signal indicating that the third sensor and the coolant are not in contact. Thus, it can be seen that the water level between the third sensor and the fourth sensor dropped between the second sensor and the third sensor.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 동작 순서를 나타낸 흐름도이다. 2 is a flowchart illustrating an operation sequence of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

먼저, 온도 제어 장치(30) 내의 냉각수 저장부 내에 설치된 센서가 냉각수 유량에 대한 정보 신호를 발생시키면, 발생된 정보 신호가 중계기(20)를 통해 메인 컴퓨터(10)에서 인식가능한 정보 신호로 변환하게 되고, 그 변환된 정보 신호를 메인 컴퓨터(10)에서 수신한다(S10). 이어서 수신된 정보 신호는 메인 컴퓨터(10)에 의해 분석되고, 그 분석 결과가 모니터에 표시되는데, 분석 결과는 각 온도 제어 장치(30)의 유량을 나타내는 그래프 또는 수치로 표시된다(S12). 이러한 분석 결과 표시는 실시간으로 이루어지는데, 여기서 특정 온도 제어 장치(30)에 냉각수 보충이 필요하다는 분석 결과가 얻어질 경우에는 모니터에 특정 표시와 경고음으로써 그 사실을 통지하게 된다(S14). 이에 따라 공정 작업자는 특정 온더 제어 장치(30)에 냉각수를 보충하면 된다. First, when a sensor installed in the coolant storage unit in the temperature control device 30 generates an information signal for the coolant flow rate, the generated information signal is converted into an information signal recognizable by the main computer 10 through the repeater 20. The converted information signal is received by the main computer 10 (S10). Subsequently, the received information signal is analyzed by the main computer 10, and the analysis result is displayed on the monitor. The analysis result is displayed by a graph or numerical value representing the flow rate of each temperature control device 30 (S12). This analysis result display is made in real time, when the analysis result that the cooling water needs to be added to the specific temperature control device 30 is obtained, the fact is notified to the monitor by a specific indication and a warning sound (S14). As a result, the process worker may replenish the cooling water to the specific onder control device 30.                     

이상과 같이 본 발명에 따른 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템을 예시된 도면을 참조로 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명은 한정되지 않으며 그 발명의 기술사상 범위 내에서 당업자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다. As described above, the temperature control device management system for an exposure apparatus according to the present invention has been described with reference to the illustrated drawings. However, the present invention is not limited by the embodiments and drawings disclosed herein, and the person skilled in the art within the technical scope of the present invention. Of course, various modifications may be made.

상기한 바와 같은 본 발명의 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템을 사용하면, 온도 제어 장치 내의 냉각 수 유량을 일일이 눈으로 확인하는 작업이 필요없고, 냉각수 미보충으로 인한 노광장치의 다운을 막을 수 있다느 장점이 있다. When the temperature control device management system for exposure apparatus of the present invention as described above is used, it is not necessary to visually check the flow rate of the cooling water in the temperature control apparatus, and the downtime of the exposure apparatus due to the lack of cooling water can be prevented. There is an advantage.

Claims (6)

적어도 하나 이상의 온도 제어 장치 내에 포함된 냉각수 저장부에 저장된 냉각수의 수면 높이를 감지하고 상기 수면 높이에 대한 정보 신호를 발생시키는 센서부; 및A sensor unit configured to detect a surface height of the coolant stored in the coolant storage unit included in at least one temperature control device and to generate an information signal about the surface height; And 상기 센서부로부터 전송받은 정보 신호에 담긴 정보 신호를 분석하여 모니터에 표시하는 메인 컴퓨터를 포함하는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템.And a main computer for analyzing and displaying the information signal contained in the information signal received from the sensor unit on a monitor. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 센서부로부터 발생된 정보 신호를 상기 메인 컴퓨터가 인식가능한 신호로 변환하여 상기 메인 컴퓨터로 전송하는 중계기를 포함하는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템. And a repeater for converting the information signal generated from the sensor unit into a signal recognizable by the main computer and transmitting the information signal to the main computer. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 센서부는 액체의 존재 유무를 감지하여 신호를 발생시킬 수 있는 다수개의 센서가 상기 적어도 하나 이상의 온도 제어 장치 내에 포함된 냉각수 저장부 내에서 각각 높이를 달리하여 설치됨으로써 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템.The sensor unit may include a plurality of sensors configured to detect a presence of a liquid and generate a signal, respectively, having different heights in the coolant storage unit included in the at least one temperature control device. Temperature control device management system. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 메인 컴퓨터의 모니터에 표시되는 정보는 상기 적어도 하나 이상의 온도 제어 장치 내에 포함된 냉각수 저장부에 저장된 냉각수의 양이 그래프 또는 수치로 표시되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템.The information displayed on the monitor of the main computer is a temperature control device management system for an exposure apparatus, characterized in that the amount of the coolant stored in the coolant storage unit included in the at least one temperature control device is displayed in a graph or numerical value. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 센서부로부터 전송받은 정보 신호에 담긴 정보를 분석한 결과, 냉각수 보충이 필요한 온도 제어 장치가 발생하였을 경우, 상기 냉각수 보충이 필요한 온도 제어 장치를 상기 모니터에 표시함과 동시에 경고음을 발생시키는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템.As a result of analyzing the information contained in the information signal received from the sensor, when the temperature control device that needs to be added to the cooling water occurs, the temperature control device that needs to be added to the cooling water is displayed on the monitor and at the same time generates a warning sound A temperature control device management system for exposure apparatus. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 메인 컴퓨터와 상기 중계기 사이의 통신은 RS-232C 통신에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 온도 제어 장치 관리 시스템.Communication between the main computer and the repeater is performed by the RS-232C communication temperature control device management system for the exposure apparatus.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101460163B1 (en) * 2013-06-14 2014-11-11 (주)피플레이저테크 Apparatus for laser beam processing

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