KR20060012379A - Semiconductor device package and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

써지 방어특성과 정전기 방지특성이 우수한 바리스터를 발광 다이오드와 일체로 형성한 반도체 소자 패키지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 기판(5)과, 기판의 하부에 형성되고, 적어도 하나의 제1 내부전극(13)과 적어도 하나의 제2 내부전극(14)이 바리스터 재료층(10)을 개재하여 교대로 적층되어 있는 바리스터부(1)와, 기판의 상부에 실장되며, 제1 단자와 제2 단자를 갖는 반도체 소자(2)와, 제1 외부전극(3)과, 제2 외부전극(4)을 구비하고, 제1 외부전극과, 제1 내부전극과, 제1 단자는 전기적으로 접속되고, 제2 외부전극과, 제2 내부전극과, 제2 단자는 전기적으로 접속되어 있는 반도체 소자 패키지 및 그 제조방법을 제공한다.The present invention relates to a semiconductor device package in which a varistor having excellent surge protection and antistatic characteristics is integrally formed with a light emitting diode, and a method of manufacturing the same. The present invention relates to a substrate 5 and a lower portion of the substrate, the at least one first internal electrode ( 13 and the at least one second internal electrode 14 are mounted on the varistor portion 1 alternately stacked via the varistor material layer 10 and the substrate, and the first terminal and the second terminal are connected to each other. And a first external electrode 3, a second external electrode 4, and a first external electrode, a first internal electrode, and a first terminal are electrically connected. The second external electrode, the second internal electrode, and the second terminal are electrically connected to each other, and a semiconductor device package and a method of manufacturing the same are provided.

바리스터, 발광 다이오드, 패키지Varistors, Light Emitting Diodes, Package

Description

반도체 소자 패키지 및 그 제조방법{SEMICONDUCTOR DEVICE PACKAGE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}Semiconductor device package and its manufacturing method {SEMICONDUCTOR DEVICE PACKAGE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

도 1은 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지의 단면도,1 is a cross-sectional view of a semiconductor device package according to the present invention,

도 2는 본 발명에 따라 제1 내부전극과 제2 내부전극이 형성되어 있는 바리스터부의 일부를 나타내는 사시도,2 is a perspective view showing a part of a varistor part in which a first internal electrode and a second internal electrode are formed according to the present invention;

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 소자 패키지의 상부 평면도,3 is a top plan view of a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명에 일 실시예에 따른 반도체 소자 패키지의 저면도,4 is a bottom view of a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 바리스터 일체형 발광 다이오드의 회로도,5 is a circuit diagram of a varistor integrated light emitting diode according to the present invention;

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 소자 패키지의 제조방법을 나타내는 흐름도이다.6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1: 바리스터부 2: 발광 다이오드1: Varistor part 2: Light emitting diode

3: 제1 외부전극 4: 제2 외부전극3: first external electrode 4: second external electrode

5: 알루미나 기판 6: 몰드부5: alumina substrate 6: mold part

10: 바리스터 재료층 13: 제1 내부전극10: varistor material layer 13: first internal electrode

14: 제2 내부전극 21, 22: 접속 와이어14: second internal electrode 21, 22: connection wire

100: 바리스터 200: 발광 다이오드100: varistor 200: light emitting diode

본 발명은 반도체 소자 패키지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 써지 방어특성과 정전기 방지특성이 우수한 바리스터를 발광 다이오드와 일체로 형성한 반도체 소자 패키지 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device package and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a semiconductor device package and a method of manufacturing the same, in which a varistor having excellent surge protection and antistatic properties is integrally formed with a light emitting diode.

최근, LCD 백라이트, 단말기 키패드, 카메라폰 플래쉬, 자동차 등에 발광 다이오드(LED, Light Emitting Diode)의 적용분야가 급속히 증가하고 있고, 향후에도 발광 다이오드는 고휘도를 필요로 하는 조명 등의 분야에 무한한 적용 가능성을 가지고 있어서, 발광 다이오드에 관한 많은 연구 및 개발이 이루어지고 있다.Recently, the application fields of light emitting diodes (LEDs) are rapidly increasing in LCD backlights, terminal keypads, camera phone flashlights, automobiles, etc., and in the future, the light emitting diodes may have infinite applications in fields such as lighting requiring high brightness. Therefore, many researches and developments regarding light emitting diodes have been made.

발광 다이오드는 전극에 순방향 전압을 가하면 전도대의 전자가 가전자대의 정공과 재결합을 위하여 천이될 때 그 에너지만큼 빛으로 발광되는 다이오드로서, 비소화갈륨, 인화갈륨, 갈륨비소인, 질화갈륨 등의 화합물 반도체로 주로 이루어져 있다. 이와 같이 발광 다이오드는 저전력, 고효율, 고휘도 및 장수명 등의 장점이 있어서 널리 이용되고 있으나, 한편으로는 정전기 또는 역전압에 취약하다는 단점이 있다.A light emitting diode is a diode that emits light by its energy when electrons in the conduction band transition to recombine with holes in the valence band when a forward voltage is applied to the electrode. Compounds such as gallium arsenide, gallium phosphide, gallium arsenide, and gallium nitride It consists mainly of semiconductors. As described above, the light emitting diode is widely used because of its advantages such as low power, high efficiency, high brightness, and long life, but on the other hand, it is vulnerable to static electricity or reverse voltage.

종래에는, 이러한 발광 다이오드의 정전압 특성을 개선하기 위하여 정전기 방지용으로 정전압 다이오드(제너 다이오드)를 병렬로 연결하여 발광 다이오드 패 키지 내에 일체로 패키징을 하거나, 써지 방어특성과 정전기 방지특성이 우수한 별도의 소형 칩 바리스터를 발광 다이오드와 병렬로 연결하여 기판위에 실장하는 방법을 사용하고 있었다.Conventionally, in order to improve the constant voltage characteristics of such a light emitting diode, a constant voltage diode (zener diode) is connected in parallel to prevent static electricity and packaged integrally in the light emitting diode package, or a separate small compact having excellent surge protection and antistatic characteristics. A chip varistor was connected in parallel with a light emitting diode and mounted on a substrate.

그러나, 발광 다이오드를 별도의 부품인 제너 다이오드와 일체로 패키징을 하거나, 별도의 수동부품인 칩 바리스터와 병렬로 연결하여 실장하는 종래의 방법은, 추가되는 공정에 따르는 공간의 제약, 공정수의 증가 및 추가 부품 실장에 따르는 사이즈의 증가, 제조 비용 증가 등의 문제점이 있었다.However, the conventional method of packaging a light emitting diode integrally with a zener diode, which is a separate component, or in parallel with a chip varistor, which is a separate passive component, is mounted, and thus, space is limited and the number of processes is increased according to an additional process. And there is a problem such as an increase in the size, manufacturing cost increases due to additional component mounting.

본 발명은 상술한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 본 발명의 목적은, 바리스터를 발광 다이오드와 일체로 패키징하여 사이즈를 소형화시키고, 별도의 부품 실장 공정이 필요없게 되어 공간의 제약을 줄이고, 공정에 드는 노력을 저감할 수 있으며, 동시에 매우 우수한 내전압 특성을 갖는 발광 다이오드 패키지 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to package a varistor integrally with a light emitting diode to reduce the size, to eliminate the need for a separate component mounting process, to reduce space constraints, It is possible to reduce the effort, and at the same time to provide a light emitting diode package having excellent withstand voltage characteristics and a method of manufacturing the same.

본 발명자들은 내전압 특성이 우수한 발광 다이오드를 제공하는데 있어서, 종래의 제조방법의 단점, 즉 별도의 제너 다이오드를 발광 다이오드와 함께 패키징하는데 드는 비용, 별도의 칩 바리스터를 기판에 병렬로 실장하는데 드는 비용, 공간 문제 등을 해결하기 위하여 정전기 방지 특성이 우수한 바리스터 재료를 페이스트화하여 신뢰성 및 양산성이 우수한 알루미나 기판 위에 인쇄하여 바리스터를 형성한 후 여기에 발광 다이오드를 패키징하는 것에 대해 연구한 결과 본 발명을 완성하였다.The inventors of the present invention provide a light emitting diode having excellent withstand voltage characteristics, the disadvantages of the conventional manufacturing method, that is, the cost of packaging a separate Zener diode with a light emitting diode, the cost of mounting a separate chip varistor in parallel to the substrate, In order to solve the space problem and the like, the varistor material having excellent antistatic properties is pasted, printed on an alumina substrate having excellent reliability and mass production, and formed into a varistor, and then the light emitting diodes are packaged therein. It was.

본 발명에 따른 반도체 소자 패키지는, 기판과, 기판의 하부에 형성되고, 적어도 하나의 제1 내부전극과 적어도 하나의 제2 내부전극이 바리스터 재료층을 개재하여 교대로 적층되어 있는 바리스터부와, 기판의 상부에 실장되며, 제1 단자와 제2 단자를 갖는 반도체 소자와, 제1 외부전극과, 제2 외부전극을 구비하고, 제1 외부전극과, 제1 내부전극과, 제1 단자는 전기적으로 접속되고, 제2 외부전극과, 제2 내부전극과, 제2 단자는 전기적으로 접속되어 있다.A semiconductor device package according to the present invention includes a substrate, a varistor portion formed under the substrate, and at least one first internal electrode and at least one second internal electrode alternately stacked via a varistor material layer; A semiconductor device mounted on the substrate and having a first terminal and a second terminal, the first external electrode, the second external electrode, the first external electrode, the first internal electrode, and the first terminal It is electrically connected, and the 2nd external electrode, the 2nd internal electrode, and the 2nd terminal are electrically connected.

또한, 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지는, 기판 상부의 반도체 소자가 형성되어 있는 면에서 반도체 소자와 기판의 상부면을 몰딩하는 몰드부를 더 구비하는 것이 바람직하다. 또, 반도체 소자는 발광 다이오드인 것이 바람직하다.In addition, the semiconductor device package according to the present invention preferably further comprises a mold portion for molding the semiconductor device and the upper surface of the substrate from the surface on which the semiconductor device on the substrate is formed. Moreover, it is preferable that a semiconductor element is a light emitting diode.

또한, 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지는, 제1 외부전극이, 기판의 상부에 형성된 제1 상부전극과 기판의 측면에 형성된 제1 측면전극을 포함하며, 제1 상부전극은 제1 단자에 접속되고, 제1 측면전극은 제1 내부전극과 접속되며, 제2 외부전극은, 기판의 상부에 형성된 제2 상부전극과 기판의 측면에 형성된 제2 측면전극을 포함하며, 제2 상부전극은 제2 단자에 접속되고, 제2 측면전극은 제2 내부전극과 접속되는 것이 바람직하다. 또, 제1 외부전극은, 기판의 하부측인 바리스터부의 하부에 형성된 제1 하부전극을 더 포함하고, 제2 외부전극은, 기판의 하부측인 바리스터부의 하부에 형성된 제2 하부전극을 더 포함하는 것이 더욱 바람직하다.In addition, the semiconductor device package according to the present invention, the first external electrode includes a first upper electrode formed on the substrate and a first side electrode formed on the side of the substrate, the first upper electrode is connected to the first terminal The first side electrode is connected to the first internal electrode, and the second external electrode includes a second upper electrode formed on an upper portion of the substrate and a second side electrode formed on a side of the substrate, and the second upper electrode is formed of a first upper electrode. It is preferable that it is connected to two terminals, and the 2nd side electrode will be connected with the 2nd internal electrode. The first external electrode may further include a first lower electrode formed under the varistor portion on the lower side of the substrate, and the second external electrode further includes a second lower electrode formed under the varistor portion on the lower side of the substrate. More preferably.

본 발명에 따른 반도체 소자 패키지의 제조방법은, 기판의 일면에, 내부전극 을 형성하고, 바리스터 재료층을 형성하는 단계를 반복하여, 제1 내부전극과 제2 내부전극을 바리스터 재료층을 개재해서 교대로 적층하는 것에 의해, 기판의 일면에 바리스터부를 형성하는 바리스터부 형성 단계와, 기판의 타면에 제1 상부전극, 제2 상부전극을 형성하는 상부전극 형성 단계와, 기판을 일렬로 분할하여, 분할된 기판의 양 측면에 제1 측면전극과 제2 측면전극을 형성하는 것에 의해, 제1 상부전극, 제1 측면전극이 접속되어 제1 외부전극을 형성하고, 제2 상부전극, 제2 측면전극이 접속되어 제2 외부전극을 형성하는 외부전극 형성 단계와, 기판의 타면에 반도체 소자를 실장하고, 반도체 소자의 두 전극과 제1 상부전극 및 제2 상부전극을 전기적으로 접속시키는, 반도체 소자 실장 단계와, 실장된 반도체 소자를 몰딩하는 몰딩 단계와, 기판을 반도체 소자 패키지 단위의 크기로 절단하여 반도체 소자 패키지를 제조하는 단계를 포함한다.In the method of manufacturing a semiconductor device package according to the present invention, the steps of forming an internal electrode and forming a varistor material layer on one surface of the substrate are repeated, and the first internal electrode and the second internal electrode are interposed with the varistor material layer. By alternately stacking, a varistor part forming step of forming a varistor part on one surface of the substrate, an upper electrode forming step of forming a first upper electrode and a second upper electrode on the other surface of the substrate, and dividing the substrate in a row, By forming the first side electrode and the second side electrode on both side surfaces of the divided substrate, the first upper electrode and the first side electrode are connected to form a first external electrode, and the second upper electrode and the second side electrode. An external electrode forming step of connecting the electrodes to form a second external electrode, mounting a semiconductor device on the other surface of the substrate, and electrically connecting two electrodes of the semiconductor device to the first upper electrode and the second upper electrode, A semiconductor device mounting step, a molding step of molding the mounted semiconductor device, and cutting the substrate to the size of the semiconductor device package unit to manufacture a semiconductor device package.

또한, 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지의 제조방법은, 기판의 타면에 형성된 바리스터부의 상면에 제1 하부전극, 제2 하부전극을 형성하는 하부전극 형성 단계를 더 포함하고, 외부전극 형성단계에 있어서, 제1 외부전극은 제1 하부전극을 더 포함하고, 제2 외부전극은 제2 하부전극을 더 포함하는 것이 바람직하다. 또, 제1 측면전극과 제2 측면전극의 형성은 분할된 기판의 양 측면을 금속 페이스트에 딥핑하여 이루어지는 것이 바람직하다.In addition, the method of manufacturing a semiconductor device package according to the present invention may further include forming a lower electrode on the upper surface of the varistor portion formed on the other surface of the substrate to form a first lower electrode and a second lower electrode. The first external electrode may further include a first lower electrode, and the second external electrode may further include a second lower electrode. In addition, the first side electrode and the second side electrode is preferably formed by dipping both sides of the divided substrate to the metal paste.

또한, 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지의 제조방법은, 바리스터 재료층을 형성하는 단계가, 고형분 함량이 60-70 중량%인 ZnO를 포함하는 바리스터 페이스트를 인쇄하여 이루어지는 것이 바람직하다.In addition, in the method of manufacturing a semiconductor device package according to the present invention, it is preferable that the step of forming the varistor material layer is performed by printing a varistor paste containing ZnO having a solid content of 60-70 wt%.

본 발명에 따른 반도체 소자 패키지의 제조방법은, 기판의 일면에, 은/팔라듐을 포함하는 금속 페이스트를 인쇄, 건조하여 내부전극을 형성하고, 고형분 함량이 60-70 중량%인 ZnO를 포함하는 바리스터 페이스트를 인쇄, 건조해서 바리스터 재료층을 형성하는 단계를 반복하여, 제1 내부전극과 제2 내부전극을 바리스터 재료층을 개재해서 교대로 적층하는 것에 의해, 기판의 일면에 바리스터부를 형성하여 소결하는 바리스터부 형성 단계와, 기판의 타면에 은 페이스트를 인쇄하여 제1 상부전극, 제2 상부전극, 및 반도체 소자를 실장하기 위한 전극패턴을 형성하는 상부전극 형성 단계와, 기판의 타면에 형성된 바리스터부의 상면에 은 페이스트를 인쇄하여 제1 하부전극, 제2 하부전극을 형성하는 하부전극 형성 단계와, 기판을 일렬로 분할하여, 분할된 기판의 양 측면을 은 페이스트에 딥핑하여 제1 측면전극과 제2 측면전극을 형성하는 것에 의해, 제1 상부전극, 제1 측면전극, 및 제1 하부전극이 접속되어 제1 외부전극을 형성하고, 제2 상부전극, 제2 측면전극, 및 제2 하부전극이 접속되어 제2 외부전극을 형성하는 외부전극 형성 단계와, 반도체 소자를 실장하기 위한 전극패턴에 반도체 소자를 실장하고, 반도체 소자의 두 전극과 제1 상부전극 및 제2 상부전극을 접속 와이어에 의해 각각 접속시키는, 반도체 소자 실장 단계와, 실장된 반도체 소자를 몰딩하는 몰딩 단계와, 기판을 반도체 소자 패키지 단위의 크기로 절단하여 반도체 소자 패키지를 제조하는 단계를 포함한다.In the method of manufacturing a semiconductor device package according to the present invention, a varistor including a ZnO having a solid content of 60-70 wt% by forming an internal electrode by printing and drying a metal paste containing silver / palladium on one surface of a substrate. The paste is printed and dried to form a varistor material layer, and the first internal electrode and the second internal electrode are alternately laminated through the varistor material layer to form a varistor part on one surface of the substrate and sintered. A varistor portion forming step, an upper electrode forming step of printing a silver paste on the other surface of the substrate to form an electrode pattern for mounting the first upper electrode, the second upper electrode, and the semiconductor element, and a varistor portion formed on the other surface of the substrate A lower electrode forming step of forming a first lower electrode and a second lower electrode by printing a silver paste on the upper surface; and dividing the substrate by dividing the substrate in a row. The first upper electrode, the first side electrode, and the first lower electrode are connected to form a first external electrode by dipping both side surfaces of the first and second side electrodes by dipping the silver paste. An external electrode forming step of connecting the second upper electrode, the second side electrode, and the second lower electrode to form a second external electrode, and mounting the semiconductor element on an electrode pattern for mounting the semiconductor element; A semiconductor element mounting step of connecting the electrode, the first upper electrode and the second upper electrode, respectively by a connection wire, a molding step of molding the mounted semiconductor element, and cutting the substrate into the size of the semiconductor element package unit Manufacturing the package.

또한, 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지의 제조방법은, 반도체 소자가 발광 다이오드인 것이 바람직하다.Moreover, in the manufacturing method of the semiconductor element package which concerns on this invention, it is preferable that a semiconductor element is a light emitting diode.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지 및 그 제조방법에 대하여 설명한다. 이하의 설명에서는 발광 다이오드를 예로 들어 설명하지만, 정전압 특성의 개선이 필요한 다른 반도체 소자에도 본 발명을 적용할 수 있는 것은 명백하다.Hereinafter, a semiconductor device package and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following description, a light emitting diode is taken as an example, but it is obvious that the present invention can be applied to other semiconductor devices that require improvement in constant voltage characteristics.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지의 단면도이다. 반도체 소자 패키지는 바리스터부(1)와, 바리스터부(1)의 상부에 적층된 알루미나 기판(5), 알루미나 기판(5)의 상부에 실장된 발광 다이오드(2), 제1 외부전극(3) 및 제2 외부전극(4)으로 이루어진다.1 is a cross-sectional view of a semiconductor device package according to the present invention. The semiconductor device package includes a varistor unit 1, an alumina substrate 5 stacked on the varistor unit 1, a light emitting diode 2 mounted on the alumina substrate 5, and a first external electrode 3. And a second external electrode 4.

바리스터부(1)는 제1 외부전극(3)과 접속된 다수의 제1 내부전극(13), 제2 외부전극(4)과 접속된 다수의 제2 내부전극(14)을 구비하고, 이들 제1 내부전극(13)과 제2 내부전극(14)은 바리스터 재료층(10)을 개재하여 교대로 적층되어 있다. 이러한 바리스터부(1)의 구조에 관해서 도 2를 참조하여 설명한다.The varistor part 1 includes a plurality of first internal electrodes 13 connected to the first external electrode 3, and a plurality of second internal electrodes 14 connected to the second external electrode 4. The first internal electrodes 13 and the second internal electrodes 14 are alternately stacked via the varistor material layer 10. The structure of such a varistor part 1 is demonstrated with reference to FIG.

도 2는 본 발명에 따라 제1 내부전극(13)과 제2 내부전극(14)이 형성되어 있는 바리스터부(1)의 일부를 나타내는 사시도이다. 본 도에 도시된 바와 같이 제2 내부전극(14)의 상부에 바리스터 재료층(10)이 적층되고, 바리스터 재료층(10)의 상부에 제1 내부전극(13)이 적층되며, 이러한 구조가 반복되어 적층됨으로써, 본 발명의 바리스터부(1)를 형성하게 된다. 도 1을 참조하면, 알루미나 기판(5)과 최상부 내부전극(13) 사이에 바리스터 재료층(10)이 개재되어 있지만, 알루미나 기판(5)과 내부전극(13)이 바리스터 재료층(10)을 개재하지 않고 상호 인접해 있어도 된다.2 is a perspective view showing a part of the varistor portion 1 in which the first internal electrode 13 and the second internal electrode 14 are formed according to the present invention. As shown in FIG. 1, the varistor material layer 10 is stacked on the second internal electrode 14, and the first internal electrode 13 is stacked on the varistor material layer 10. By repeating lamination, the varistor part 1 of this invention is formed. Referring to FIG. 1, although the varistor material layer 10 is interposed between the alumina substrate 5 and the uppermost internal electrode 13, the alumina substrate 5 and the internal electrode 13 may form the varistor material layer 10. They may be adjacent to each other without being interposed.

바리스터부(1)를 형성하기 위해서는, 우선 ZnO를 주원료로 하는 분말 재료를 에틸셀룰로오즈 등과 같은 수지, 터피놀 등과 같은 솔벤트 등과 3-롤 밀링으로 균일하게 혼합하여 페이스트화한다. 그리고, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 이 바리스터 페이스트를, 은/팔라듐이 주 원료인 금속 내부전극(13, 14)과 교대로, 알루미나 기판 상에 스크린 프린팅법으로 인쇄하여 형성한다.In order to form the varistor part 1, first, a powder material containing ZnO as a main raw material is uniformly mixed by three-roll milling with a resin such as ethyl cellulose, a solvent such as terpinol, or the like, to form a paste. 1 and 2, this varistor paste is formed by printing on the alumina substrate by screen printing alternately with the metal internal electrodes 13 and 14 whose silver / palladium is a main raw material.

이 때, 형성되는 바리스터부(1)의 내전압 특성 및 용량은 인쇄 횟수 및 내부전극(13, 14)의 적층 회수로써 조절할 수 있다. 즉, 바리스터부(1)에 있어서 내부전극(13, 14) 사이의 두께를 이용하여 바리스터의 특성을 조절할 수 있게 되고, 내부전극(13, 14)의 수를 증가시킴으로써 바리스터의 용량을 조절할 수 있게 된다. 이를 통해, 본 발명에 따른 반도체 소자 패키지는 원하는 특성과 용량을 갖는 바리스터를 제공할 수 있게 된다. 도 1에 있어서는 내부전극(13, 14)이 두 쌍 형성되어 있는 것으로 도시되어 있지만, 내부전극의 수에는 제한이 없고, 원하는 바리스터의 특성 및 용량에 따라 변경가능하다.At this time, the breakdown voltage characteristic and the capacity of the varistor part 1 to be formed can be adjusted by the number of times of printing and the number of stacking of the internal electrodes 13 and 14. That is, in the varistor part 1, the characteristics of the varistor can be controlled by using the thickness between the internal electrodes 13 and 14, and the capacity of the varistor can be controlled by increasing the number of the internal electrodes 13 and 14. do. Through this, the semiconductor device package according to the present invention can provide a varistor having a desired characteristic and capacity. In FIG. 1, two pairs of internal electrodes 13 and 14 are illustrated, but the number of internal electrodes is not limited and may be changed according to desired characteristics and capacity of the varistor.

상술한 바와 같이 내부 전극(13, 14)과 바리스터 페이스트(10)를 알루미나 기판(5) 상에 인쇄하여 형성한 후에는, 이를 동시에 소결한다. 동시 소결을 통해 바리스터부(1)가 완성된 후, 발광 다이오드(2)를 본딩할 패키지의 상부, 즉 알루미나 기판 상부에 다이 본딩용 전극 패턴과 와이어 본딩용 전극 패턴을 형성한다.As described above, after the internal electrodes 13 and 14 and the varistor paste 10 are printed and formed on the alumina substrate 5, they are sintered simultaneously. After the varistor part 1 is completed through simultaneous sintering, an electrode pattern for die bonding and an electrode pattern for wire bonding are formed on the upper portion of the package, that is, on the alumina substrate, to which the light emitting diode 2 is to be bonded.

도 3에, 본 발명의 일 실시형태에 따른 반도체 소자 패키지의 상부 평면도를 도시하고 있다. 외부전극(3, 4)의 상부전극(3a, 4a)이, 다이 본딩용 전극 패턴(2a)과 와이어 본딩용 전극 패턴을 형성하고 있다. 이러한 상부전극(3a, 4a) 패턴 은 Ag 페이스트를 인쇄, 건조하고 800℃ 로 소부하여 형성한다.3 shows a top plan view of a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention. The upper electrodes 3a and 4a of the external electrodes 3 and 4 form the die bonding electrode pattern 2a and the wire bonding electrode pattern. The upper electrodes 3a and 4a patterns are formed by printing and drying Ag paste at 800 ° C.

그리고, 이 패키지를 외부 회로와 연결할 수 있는 외부전극을 형성하여야 하는데, 외부전극(3, 4)은 하부전극(3c, 4c)과 측면전극(3b, 4b)의 두 부분으로 나누어 각각 형성한다. 하부 전극(3c, 4c)은 상부 전극과 동일한 Ag 전극을 사용하여 도 4와 같은 패턴으로 인쇄, 건조, 소부하여 형성한다. 하부전극이 형성된 후에 칩 레지스터 제조 공정과 동일하게 Ag 페이스트에 기판을 딥핑하고 건조, 소부하여 측면전극(3b, 4b)을 형성한다. 측면전극(3b, 4b)이 형성됨으로써, 상부전극(3a, 4a), 하부전극(3c, 4c) 및 내부전극(13, 14)이 상호 전기적으로 접속되게 된다. 즉, 제1 외부전극(3)이 다수의 제1 내부전극(13)과 접속되고, 제2 외부전극(4)이 다수의 제2 내부전극(14)과 접속된다.In addition, an external electrode capable of connecting the package to an external circuit should be formed. The external electrodes 3 and 4 are divided into two parts, the lower electrodes 3c and 4c and the side electrodes 3b and 4b, respectively. The lower electrodes 3c and 4c are formed by printing, drying and baking in the same pattern as in FIG. 4 using the same Ag electrode as the upper electrode. After the lower electrode is formed, the substrates are dipped in Ag paste, dried and baked in the same manner as in the chip resistor manufacturing process to form side electrodes 3b and 4b. By forming the side electrodes 3b and 4b, the upper electrodes 3a and 4a, the lower electrodes 3c and 4c and the internal electrodes 13 and 14 are electrically connected to each other. That is, the first external electrode 3 is connected to the plurality of first internal electrodes 13, and the second external electrode 4 is connected to the plurality of second internal electrodes 14.

ZnO를 주원료로 하는 바리스터는 일반적으로 검은색을 나타내므로 발광 다이오드(2)와 동일면에 형성된다면 발광 휘도를 열화시키기 때문에, 본 발명에서는 도 1에 도시한 바와 같이 알루미나 기판(5)을 중심으로 바리스터부(1)가 형성된 반대측, 즉 도면 방향으로 보아 알루미나 기판(5)의 상부에 발광 다이오드 칩을 다이 접착하였다. 그리고, 발광 다이오드(2)의 전극과 상부전극(3a, 4a)을 접속 와이어(21, 22)에 의해 접속시키고, 도 1의 몰드부(6)로 도시한 바와 같이 이를 몰딩하여 본 발명에 따른 바리스터 일체형 발광 다이오드 패키지를 완성한다.Varistors containing ZnO as the main raw material generally exhibit black color, so that if they are formed on the same plane as the light emitting diode 2, the light emitting luminance deteriorates. Therefore, in the present invention, the varistor mainly around the alumina substrate 5 is shown in FIG. The light emitting diode chip was die-bonded on the opposite side where the part 1 was formed, that is, in the drawing direction, on top of the alumina substrate 5. In addition, the electrodes of the light emitting diode 2 and the upper electrodes 3a and 4a are connected by the connection wires 21 and 22 and molded as shown in the mold part 6 of FIG. The varistor integrated LED package is completed.

본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 소자 패키지의 상부 평면도를 도시하는 도 3을 다시 참조하여, 패키지의 상부에서의 발광 다이오드(2)와 외부전극(3, 4)간의 접속을 설명하면 다음과 같다. Ag 전극 페이스트를 인쇄, 건조, 소부하여 형성 한 전극 패턴인 상부전극(3a, 4a)의 다이 본딩용 전극 패턴(2a)에 발광 다이오드(2)를 다이 부착하고, 기판상의 와이어 본딩 위치(21b, 22b)와 발광 다이오드(2)의 와이어 본딩 위치(21a, 22a)가, 도 1에 도시한 바와 같이 접속 와이어(21, 22)에 의해 접속되어 있다. 도 3의 발광 다이오드(2)의 와이어 본딩 위치(21a, 22a)는 알루미나 기판(5) 상에 표시되어 있지만, 실제로는 발광 다이오드(2) 상부의 와이어 본딩 패드상에 형성된 것이다. 이로써 발광 다이오드(2)와 바리스터부(1)는 병렬 연결이 이루어지게 된다. 이러한 병렬연결을 나타내는 회로도를 도 5에 도시하였다.Referring back to FIG. 3, which shows a top plan view of a semiconductor device package according to an embodiment of the present invention, the connection between the light emitting diodes 2 and the external electrodes 3 and 4 at the top of the package will be described as follows. . The light emitting diodes 2 are die-attached to the die bonding electrode patterns 2a of the upper electrodes 3a and 4a, which are formed by printing, drying and baking the Ag electrode paste, and the wire bonding positions 21b, 22b and the wire bonding positions 21a and 22a of the light emitting diode 2 are connected by the connection wires 21 and 22 as shown in FIG. The wire bonding positions 21a and 22a of the light emitting diode 2 of FIG. 3 are shown on the alumina substrate 5, but are actually formed on the wire bonding pad above the light emitting diode 2. As a result, the LED 2 and the varistor unit 1 are connected in parallel. A circuit diagram illustrating such a parallel connection is shown in FIG. 5.

도 5는 본 발명에 따른 바리스터 일체형 발광 다이오드의 회로도로서, 도시한 바와 같이 바리스터(100)와 발광 다이오드(200)가 병렬로 접속되어 단자(300, 400)를 통해 기타 회로와 접속되게 된다.FIG. 5 is a circuit diagram of a varistor integrated light emitting diode according to the present invention, in which the varistor 100 and the light emitting diode 200 are connected in parallel to each other through terminals 300 and 400.

이하 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제공한다. 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공하는 것이고, 본 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, preferred examples are provided to aid in understanding the present invention. The following examples are provided to more easily understand the present invention, and the present invention is not limited by these examples.

(실시예)(Example)

본 실시예에 따른 반도체 소자 패키지의 제조방법에 대해서는 도 1 내지 도 4, 및 도 6의 흐름도를 참조하여 설명한다.A method of manufacturing a semiconductor device package according to the present embodiment will be described with reference to the flowcharts of FIGS. 1 to 4 and 6.

먼저, 전체 사이즈가 3' ㅧ 3' 로서, 1608 사이즈 (1.6mm ㅧ 0.8mm)의 단위 크기로 스크라이빙된 두께 0.3mm의 알루미나 기판(5)을 준비한다. 본 실시예에서는 하나의 알루미나 기판(5)을 이용하여 다수의 반도체 소자 패키지를 동시에 제조하는 방법을 설명하지만, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 단일의 반도체 소자 패키지를 별개로 제조하는 것도 물론 가능하다.First, an alumina substrate 5 having a thickness of 0.3 mm scribed in a unit size of 1608 size (1.6 mm × 0.8 mm) as a total size of 3 ′ × 3 ′ is prepared. In the present embodiment, a method of simultaneously manufacturing a plurality of semiconductor device packages using one alumina substrate 5 is described, but of course, a single semiconductor device package may be separately manufactured within the technical idea of the present invention. Do.

기판(5)의 일면에 바리스터부(1)를 형성하는 단계 S1로서, 우선 알루미나 기판(5) 상에 Ag/Pd 금속 페이스트를 도 2에 도시한 바와 같이 일정한 패턴으로 인쇄하고 100℃ ~ 150℃ 에서 10분간 건조하여 제1 내부전극(13)을 형성한다. 실제로 제1 내부전극(13)은 알루미나 기판(5)상에서 다수의 반도체 소자 패키지를 형성할 각각의 부분에 반복되어 형성되게 되며, 이하의 기타 부분의 설명에서도 마찬가지이므로 설명을 간략하기 위해서 이를 생략하고 설명한다.As the step S1 of forming the varistor portion 1 on one surface of the substrate 5, first, the Ag / Pd metal paste is printed on the alumina substrate 5 in a constant pattern as shown in FIG. After drying for 10 minutes to form a first internal electrode (13). In fact, the first internal electrode 13 is repeatedly formed on each part of the semiconductor device package 5 to form a plurality of semiconductor device packages, and the same will be omitted in the following description of other parts. Explain.

다음에, 제1 내부전극(13)이 형성되어 있는 알루미나 기판(5) 상에, 바리스터 재료층(10)을 형성한다. 바리스터 재료층(10)은 고형분 함량 약 60 - 70 중량% 로 제조된 ZnO 주성분의 바리스터 페이스트를 일정 패턴으로 인쇄함으로써 형성된다. 이 때 바리스터 재료층(10)의 두께를 약 0.1 mm에서 0.2 mm까지 인쇄 횟수로 적절하게 조절하여 바리스터 특성을 조절할 수 있다. 바리스터 재료층(10)을 위한 상기의 성분 및 조성 이외에, 바리스터 재료층(10)에 이용할 수 있는 공지의 성분 및 조성을 이용하는 것도 가능하다.Next, the varistor material layer 10 is formed on the alumina substrate 5 on which the first internal electrodes 13 are formed. The varistor material layer 10 is formed by printing a varistor paste of ZnO main component made of a solid content of about 60 to 70 wt% in a predetermined pattern. At this time, the thickness of the varistor material layer 10 may be appropriately adjusted by the number of prints from about 0.1 mm to 0.2 mm to adjust the varistor characteristics. In addition to the above components and compositions for the varistor material layer 10, it is also possible to use known components and compositions that can be used for the varistor material layer 10.

바리스터 페이스트를 인쇄하여 건조시킨 후, 그 위에 Ag/Pd 금속 페이스트를 도 2와 같이 일정한 패턴으로 인쇄하고 건조시켜, 제1 내부전극(13)의 형성방법과 마찬가지로 제2 내부전극(14)을 형성한다. 또, 마찬가지로 그 위에 바리스터 재료 층(10)을 형성하며, 원하는 바리스터의 특성 및 용량에 따라, 내부전극(13, 14)에 바리스터 재료층(10)을 개재시켜 적층하는 상기의 과정을 반복한다. 이렇게 형성한 내부전극(13, 14)과 바리스터 재료층(10)의 적층체를 약 1,100℃ 에서 20 시간 소결하여 바리스터부(1)를 형성한다. 이러한 동시 소결에 의하여 알루미나 기판(5) 상에 바리스터부(1)가 형성되게 되고, 도 1에서 보면 알루미나 기판(5)의 하면에 바리스터부(1)가 형성된 것이다(단계 S1).After printing and drying the varistor paste, the Ag / Pd metal paste is printed and dried on the substrate in a predetermined pattern as shown in FIG. 2 to form the second internal electrode 14 in the same manner as the method of forming the first internal electrode 13. do. Similarly, the varistor material layer 10 is formed thereon, and the above-described process of laminating the varistor material layer 10 on the internal electrodes 13 and 14 is repeated in accordance with the desired varistor characteristics and capacities. The laminated body of the internal electrodes 13 and 14 and the varistor material layer 10 thus formed is sintered at about 1,100 ° C. for 20 hours to form the varistor portion 1. By this co-sintering, the varistor part 1 is formed on the alumina substrate 5, and as shown in FIG. 1, the varistor part 1 is formed in the lower surface of the alumina substrate 5 (step S1).

다음으로, 기판(5)의 타면에 상부전극(3a, 4a)을 형성하는 단계 S2로서, 바리스터부(1)가 형성된 반대측의 알루미나 기판(5)면, 즉 도 1에서 보면 알루미나 기판(5)의 상면에, 상부전극(3a, 4a)을 형성시킨다. 발광 다이오드(2)가 실장되는 측인 알루미나 기판(5) 상에, 도 3에 도시한 바와 같이 Ag 페이스트를 인쇄, 건조하여, 상부전극(3a, 4a) 및 발광 다이오드(2)를 본딩할 수 있는 다이 본딩용 전극 패턴(2a)을 형성하고, 이를 800℃ 에서 소부한다(단계 S2).Next, as the step S2 of forming the upper electrodes 3a and 4a on the other surface of the substrate 5, the alumina substrate 5 as seen from the surface of the alumina substrate 5 on the opposite side where the varistor portion 1 is formed, that is, in FIG. 1. Upper electrodes 3a and 4a are formed on the upper surface of the substrate. On the alumina substrate 5 on the side where the light emitting diode 2 is mounted, Ag paste can be printed and dried as shown in FIG. 3 to bond the upper electrodes 3a and 4a and the light emitting diode 2 to each other. The die bonding electrode pattern 2a is formed and baked at 800 占 폚 (step S2).

다음으로, 반도체 소자 패키지를 외부의 회로와 연결할 수 있는 외부전극(3, 4) 중 하부전극(3c, 4c)과 측면전극(3b, 4b)을 형성하는데, 기존의 칩 레지스터의 외부전극 형성 공정과 동일한 공정으로 형성한다. 외부전극(3, 4)을 형성하는 공정은, 하부전극(3c, 4c)을 형성하는 공정인 단계 S3과, 측면전극(3b, 4b)을 형성하는 공정인 단계 S4로 나누어진다.Next, the lower electrodes 3c and 4c and the side electrodes 3b and 4b of the external electrodes 3 and 4 that can connect the semiconductor device package to an external circuit are formed. It is formed in the same process as. The process of forming the external electrodes 3 and 4 is divided into step S3, which is a process of forming the lower electrodes 3c, 4c, and step S4, which is a process of forming the side electrodes 3b, 4b.

하부전극(3c, 4c)은 바리스터부(1)가 형성되어 있는 면, 즉 도 1에서 보아 반도체 소자 패키지 하면의 양 단에 도 4와 같이 형성한다. 하부전극은 일정한 패턴으로 외부전극용 Ag 페이스트를 스크린 인쇄하고, 건조하여 800℃에서 소부한다( 단계 S3). 그리고, 칩 레지스터 제조 공정과 동일하게 기판을 일렬로 분할하여, 분할된 기판의 양 측면, 즉 도 1에서 보아 반도체 소자 패키지의 좌우 양 측면을, Ag 페이스트에 딥핑하고 건조, 소부하여 측면 전극(3b, 4b)을 형성한다. 측면전극(3b, 4b)이 형성됨으로써, 상부전극(3a, 4a), 하부전극(3c, 4c) 및 내부전극(13, 14)이 상호 전기적으로 접속되게 된다(단계 S4).The lower electrodes 3c and 4c are formed on both surfaces of the varistor portion 1, that is, on both ends of the lower surface of the semiconductor device package as shown in FIG. The lower electrode is screen-printed, dried, and baked at 800 ° C. in a predetermined pattern with an Ag paste for external electrodes (step S3). Subsequently, the substrates are divided in a line as in the chip resistor manufacturing process, and both side surfaces of the divided substrates, that is, the left and right sides of the semiconductor device package, as shown in FIG. , 4b). By forming the side electrodes 3b and 4b, the upper electrodes 3a and 4a, the lower electrodes 3c and 4c and the internal electrodes 13 and 14 are electrically connected to each other (step S4).

다음으로, 기판의 타면에 반도체 소자를 실장하는 단계 S5로서, 상기와 같이 제조한 기판을 Au로 도금한 후, 발광 다이오드(2) 칩을 다이 본딩용 전극 패턴(2a)에 부착하고, 기판상의 와이어 본딩 위치(21b, 22b)와 발광 다이오드(2)의 와이어 본딩 위치(21a, 22a)를 접속 와이어(21, 22)에 의해 접속시킨다(단계 S5). 그리고, 몰딩 공정을 거쳐 도 1에 도시한 바와 같은 몰드부(6)를 형성한 후, 단위 크기로 절단하여 1608 크기의 바리스터 일체형 발광 다이오드 패키지를 완성한다(단계 S6, S7).Next, in step S5 of mounting the semiconductor element on the other side of the substrate, the substrate prepared as described above is plated with Au, and then the light emitting diode 2 chip is attached to the die bonding electrode pattern 2a. The wire bonding positions 21b and 22b and the wire bonding positions 21a and 22a of the light emitting diode 2 are connected by the connection wires 21 and 22 (step S5). After forming the mold 6 as shown in FIG. 1 through the molding process, the mold unit 6 is cut into unit sizes to complete a varistor integrated light emitting diode package having a size of 1608 (steps S6 and S7).

본 발명은 전술한 전형적인 바람직한 실시예에만 한정되는 것이 아니라 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 개량, 변경, 대체 또는 부가하여 실시할 수 있는 것임은 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 이러한 개량, 변경, 대체 또는 부가에 의한 실시가 이하의 첨부된 특허청구범위의 범주에 속하는 것이라면 그 기술사상 역시 본 발명에 속하는 것으로 보아야 한다.It is to be understood that the present invention is not limited to the above-described exemplary preferred embodiments but may be embodied in various ways without departing from the spirit and scope of the present invention. If you grow up, you can easily understand. If the implementation by such improvement, change, replacement or addition falls within the scope of the appended claims, the technical idea should also be regarded as belonging to the present invention.

본 발명에 따른 반도체 소자 패키지는 별도의 제너 다이오드 또는 칩 바리스 터를 실장하지 않고도 우수한 내전압 특성을 나타낸다. 따라서 내전압 특성이 요구되는 휴대폰, LCD 모니터등의 분야에 광범위하게 사용될 수 있다.The semiconductor device package according to the present invention exhibits excellent withstand voltage characteristics without mounting a separate zener diode or chip varistor. Therefore, it can be widely used in fields such as mobile phones and LCD monitors that require high voltage resistance.

본 발명은, 바리스터와 반도체 소자의 실장 면적을 감소시키고, 우수한 내전압 특성을 갖는 바리스터 일체형 반도체 소자 패키지 및 그 제조방법을 제공하며, 특히 정전기 방지 특성이 우수한 바리스터를 패키지 내에 내장함으로써, 정전기에 취약한 발광 다이오드의 내압 특성을 획기적으로 향상시키고, 발광 다이오드와 별도로 칩 바리스터를 실장하는데 따른 단점을 해결할 수 있으며, 저비용, 소형화 그리고 일체화에 의해 소자의 오차를 저하시킬 수 있게 된다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a varistor integrated semiconductor device package and a method of manufacturing the same, which reduces the mounting area of the varistor and the semiconductor device, and has excellent withstand voltage characteristics. The breakdown characteristics of the diode can be dramatically improved, and the disadvantages of mounting the chip varistor separately from the light emitting diode can be solved, and the error of the device can be reduced by the low cost, miniaturization, and integration.

Claims (11)

기판과,Substrate, 상기 기판의 하부에 형성되고, 적어도 하나의 제1 내부전극과 적어도 하나의 제2 내부전극이 바리스터 재료층을 개재하여 교대로 적층되어 있는 바리스터부와,A varistor portion formed under the substrate, in which at least one first internal electrode and at least one second internal electrode are alternately stacked via a varistor material layer; 상기 기판의 상부에 실장되며, 제1 단자와 제2 단자를 갖는 반도체 소자와,A semiconductor device mounted on the substrate and having a first terminal and a second terminal; 제1 외부전극과,A first external electrode, 제2 외부전극을 구비하고,Having a second external electrode, 상기 제1 외부전극과, 제1 내부전극과, 제1 단자는 전기적으로 접속되고,The first external electrode, the first internal electrode, and the first terminal are electrically connected to each other, 상기 제2 외부전극과, 제2 내부전극과, 제2 단자는 전기적으로 접속되어 있는 반도체 소자 패키지.And the second external electrode, the second internal electrode, and the second terminal are electrically connected to each other. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판 상부의 반도체 소자가 형성되어 있는 면에서 반도체 소자와 기판의 상부면을 몰딩하는 몰드부를 더 구비한 반도체 소자 패키지.The semiconductor device package further comprises a mold unit for molding the semiconductor device and the upper surface of the substrate on the surface on which the semiconductor device on the substrate is formed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반도체 소자는 발광 다이오드인 반도체 소자 패키지.The semiconductor device package is a semiconductor device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 외부전극은, 상기 기판의 상부에 형성된 제1 상부전극과 상기 기판의 측면에 형성된 제1 측면전극을 포함하며, 상기 제1 상부전극은 상기 제1 단자에 접속되고, 상기 제1 측면전극은 상기 제1 내부전극과 접속되며,The first external electrode includes a first upper electrode formed on an upper portion of the substrate and a first side electrode formed on a side surface of the substrate, wherein the first upper electrode is connected to the first terminal and is connected to the first side surface. An electrode is connected to the first internal electrode, 상기 제2 외부전극은, 상기 기판의 상부에 형성된 제2 상부전극과 상기 기판의 측면에 형성된 제2 측면전극을 포함하며, 상기 제2 상부전극은 상기 제2 단자에 접속되고, 상기 제2 측면전극은 상기 제2 내부전극과 접속되는 반도체 소자 패키지.The second external electrode includes a second upper electrode formed on an upper portion of the substrate and a second side electrode formed on a side surface of the substrate, wherein the second upper electrode is connected to the second terminal, and the second side electrode is formed. The electrode is a semiconductor device package is connected to the second internal electrode. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제1 외부전극은, 상기 기판의 하부측인 상기 바리스터부의 하부에 형성된 제1 하부전극을 더 포함하고,The first external electrode further includes a first lower electrode formed under the varistor portion, which is a lower side of the substrate, 상기 제2 외부전극은, 상기 기판의 하부측인 상기 바리스터부의 하부에 형성된 제2 하부전극을 더 포함하는 반도체 소자 패키지.The second external electrode further includes a second lower electrode formed under the varistor portion, which is a lower side of the substrate. 기판의 일면에, 내부전극을 형성하고, 바리스터 재료층을 형성하는 단계를 반복하여, 제1 내부전극과 제2 내부전극을 상기 바리스터 재료층을 개재해서 교대로 적층하는 것에 의해, 기판의 일면에 바리스터부를 형성하는 바리스터부 형성 단계와,By repeating the steps of forming an internal electrode on one surface of the substrate and forming a varistor material layer, alternately laminating the first internal electrode and the second internal electrode via the varistor material layer, thereby to the one surface of the substrate. A varistor part forming step of forming a varistor part, 상기 기판의 타면에 제1 상부전극, 제2 상부전극을 형성하는 상부전극 형성 단계와,An upper electrode forming step of forming a first upper electrode and a second upper electrode on the other surface of the substrate; 상기 기판을 일렬로 분할하여, 분할된 기판의 양 측면에 제1 측면전극과 제2 측면전극을 형성하는 것에 의해, 상기 제1 상부전극, 제1 측면전극이 접속되어 제1 외부전극을 형성하고, 상기 제2 상부전극, 제2 측면전극이 접속되어 제2 외부전극을 형성하는 외부전극 형성 단계와,The first upper electrode and the first side electrode are connected to form a first external electrode by dividing the substrate in a row to form first side electrodes and second side electrodes on both sides of the divided substrate. An external electrode forming step of connecting the second upper electrode and the second side electrode to form a second external electrode; 상기 기판의 타면에 반도체 소자를 실장하고, 상기 반도체 소자의 두 전극과 상기 제1 상부전극 및 제2 상부전극을 전기적으로 접속시키는, 반도체 소자 실장 단계와,A semiconductor element mounting step of mounting a semiconductor element on the other surface of the substrate and electrically connecting two electrodes of the semiconductor element and the first upper electrode and the second upper electrode; 실장된 상기 반도체 소자를 몰딩하는 몰딩 단계와,A molding step of molding the mounted semiconductor device; 상기 기판을 반도체 소자 패키지 단위의 크기로 절단하여 반도체 소자 패키지를 제조하는 단계를 포함하는 반도체 소자 패키지의 제조방법.And manufacturing a semiconductor device package by cutting the substrate to a size of a semiconductor device package unit. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 기판의 타면에 형성된 바리스터부의 상면에 제1 하부전극, 제2 하부전극을 형성하는 하부전극 형성 단계를 더 포함하고,A lower electrode forming step of forming a first lower electrode, a second lower electrode on the upper surface of the varistor portion formed on the other surface of the substrate, 상기 외부전극 형성단계에 있어서, 상기 제1 외부전극은 상기 제1 하부전극을 더 포함하고, 상기 제2 외부전극은 상기 제2 하부전극을 더 포함하는 반도체 소자 패키지의 제조방법.In the forming of the external electrode, the first external electrode further comprises the first lower electrode, the second external electrode further comprises a second lower electrode. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제1 측면전극과 제2 측면전극의 형성은 분할된 기판의 양 측면을 금속 페이스트에 딥핑하여 이루어지는 반도체 소자 패키지의 제조방법.Forming the first side electrode and the second side electrode is a method of manufacturing a semiconductor device package by dipping both sides of the divided substrate to the metal paste. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 바리스터 재료층을 형성하는 단계는, 고형분 함량이 60-70 중량%인 ZnO를 포함하는 바리스터 페이스트를 인쇄하여 이루어지는 반도체 소자 패키지의 제조방법.The forming of the varistor material layer may include printing a varistor paste containing ZnO having a solid content of 60-70 wt%. 기판의 일면에, 은/팔라듐을 포함하는 금속 페이스트를 인쇄, 건조하여 내부전극을 형성하고, 고형분 함량이 60-70 중량%인 ZnO를 포함하는 바리스터 페이스트를 인쇄, 건조해서 바리스터 재료층을 형성하는 단계를 반복하여, 제1 내부전극과 제2 내부전극을 상기 바리스터 재료층을 개재해서 교대로 적층하는 것에 의해, 기판의 일면에 바리스터부를 형성하여 소결하는 바리스터부 형성 단계와,On one side of the substrate, a metal paste containing silver / palladium is printed and dried to form an internal electrode, and a varistor material layer is formed by printing and drying a varistor paste containing ZnO having a solid content of 60-70 wt%. A varistor part forming step of forming a varistor part on one surface of the substrate by sintering by alternately stacking the first internal electrode and the second internal electrode via the varistor material layer; 상기 기판의 타면에 은 페이스트를 인쇄하여 제1 상부전극, 제2 상부전극, 및 반도체 소자를 실장하기 위한 전극패턴을 형성하는 상부전극 형성 단계와,Forming an upper electrode on the other surface of the substrate to form a first upper electrode, a second upper electrode, and an electrode pattern for mounting a semiconductor device; 상기 기판의 타면에 형성된 바리스터부의 상면에 은 페이스트를 인쇄하여 제1 하부전극, 제2 하부전극을 형성하는 하부전극 형성 단계와,A lower electrode forming step of forming a first lower electrode and a second lower electrode by printing a silver paste on an upper surface of the varistor part formed on the other surface of the substrate; 상기 기판을 일렬로 분할하여, 분할된 기판의 양 측면을 은 페이스트에 딥핑하여 제1 측면전극과 제2 측면전극을 형성하는 것에 의해, 상기 제1 상부전극, 제1 측면전극, 및 제1 하부전극이 접속되어 제1 외부전극을 형성하고, 상기 제2 상부전극, 제2 측면전극, 및 제2 하부전극이 접속되어 제2 외부전극을 형성하는 외부전극 형성 단계와,The first upper electrode, the first side electrode, and the first lower electrode are formed by dividing the substrate in a row and dipping both sides of the divided substrate into silver paste to form a first side electrode and a second side electrode. An external electrode forming step of connecting electrodes to form a first external electrode, and connecting the second upper electrode, second side electrode, and second lower electrode to form a second external electrode; 상기 반도체 소자를 실장하기 위한 전극패턴에 반도체 소자를 실장하고, 상기 반도체 소자의 두 전극과 상기 제1 상부전극 및 제2 상부전극을 접속 와이어에 의해 각각 접속시키는, 반도체 소자 실장 단계와,A semiconductor element mounting step of mounting a semiconductor element on an electrode pattern for mounting the semiconductor element, and connecting two electrodes of the semiconductor element and the first upper electrode and the second upper electrode to each other by a connecting wire; 실장된 상기 반도체 소자를 몰딩하는 몰딩 단계와,A molding step of molding the mounted semiconductor device; 상기 기판을 반도체 소자 패키지 단위의 크기로 절단하여 반도체 소자 패키지를 제조하는 단계를 포함하는 반도체 소자 패키지의 제조방법.And manufacturing a semiconductor device package by cutting the substrate to a size of a semiconductor device package unit. 제6항 또는 제10항에 있어서,The method of claim 6 or 10, 상기 반도체 소자는 발광 다이오드인 반도체 소자 패키지의 제조방법.The semiconductor device is a method of manufacturing a semiconductor device package is a light emitting diode.
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KR100668977B1 (en) * 2005-06-27 2007-01-16 삼성전자주식회사 Element for protecting from surge voltage
KR100674857B1 (en) * 2005-07-04 2007-01-29 삼성전기주식회사 Led pkg and its method having improved esd capability

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