KR20060011870A - 캡핑된 디아조늄 화합물과 모발을 반응시키는 것을포함하는 모발 착색 방법, 및 각각의 조성물 및 화합물 - Google Patents

캡핑된 디아조늄 화합물과 모발을 반응시키는 것을포함하는 모발 착색 방법, 및 각각의 조성물 및 화합물 Download PDF

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빅토르 폴 엘리우
비테 프렐링
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Abstract

본 발명은, a) 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및 b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계를 포함하는 다공성 물질의 착색 방법에 관한 것이다. 또한, 신규 염색 화합물 및 그 조성물도 청구한다.
캡핑, 디아조늄 화합물

Description

캡핑된 디아조늄 화합물과 모발을 반응시키는 것을 포함하는 모발 착색 방법, 및 각각의 조성물 및 화합물{Hair Colouring Method, Comprising Reaction of a Capped Diazonium Compound with the Hair, and Respective Compositions and Compounds}
본 발명은 캡핑된 디아조늄염 화합물을 사용하여 다공성 물질, 예컨대 금속, 목재 또는 케라틴-함유 섬유, 특히 인간 모발을 착색시키는 방법에 관한 것이다.
모발을 착색시키기 위해서 대부분의 경우에는 경우 산화 염료가 사용된다. 그러나, 이들 또한 모든 요건을 만족시킬 수 있는 것은 아니다. 내세척성이 흔히 부적합하며 또한 필요한 착색 조건은 모발에 대하여 다소간의 손상을 유발한다. 따라서 상술한 결점을 갖지 않거나 또는 무시할 정도로 낮은 결점을 갖는 착색 방법이 요구되고 있다.
본 발명은,
a) 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
를 포함하는 다공성 물질을 착색시키는 방법에 관한 것이다.
수득한 착색은 내세척 특성이 탁월하며, 실질적으로 모발에 거의 손상이 없다. 또한 상기 염료 성분은 피부에는 침투하지 않고 비-고정 염료는 세척에 의해 쉽게 제거될 수 있기 때문에 두피는 착색시키지 않는다.
적합한 캡핑된 디아조늄 화합물은 예컨대 하기 화학식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 화합물을 포함한다:
Figure 112005065340300-PCT00001
Figure 112005065340300-PCT00002
Figure 112005065340300-PCT00003
Figure 112005065340300-PCT00004
Figure 112005065340300-PCT00005
상기 식에서,
Q는 유기 화합물의 라디칼, 바람직하게는 유기 화합물의 비치환 또는 치환된 비이온성, 양이온성, 양쪽성, 쯔비터이온성(zwitterionic) 또는 음이온성 라디칼이고,
R은 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이며, 또
T는 비치환 또는 치환된 지방족 또는 방향족 잔기이고,
여기서 상기 기들 중 적어도 하나는 반드시 수용성 부여 라디칼을 함유해야 한다.
적합한 수용성 부여 라디칼 R은 예컨대 SO3H, COOH, OH, 하기 일반식의 4급화 암모늄 라디칼 또는 양이온성 헤테로사이클의 일부인 4급화 질소 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00006
상기 식에서, R1, R2 및 R3는 서로 독립적으로 비치환 또는 치환된 알킬이고, An은 음이온이다.
본 발명에서, 알킬기 R, R1, R2, R3 및 R4는 일반적으로 개환 사슬 또는 측쇄 알킬 라디칼, 이를테면 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필 및 n-, 2차 또는 3차 부틸이다.
이러한 알킬 라디칼은 모노- 또는 다중 치환된, 이를테면 히드록시, 카르복시, 할로겐, 시아노 또는 C1-C4알콕시이다.
바람직하게는, 알킬기는 비치환되고 각각은 1∼4, 특히 1 또는 2의 탄소 원자를 갖는다.
본 발명에서 아릴은 이를테면 치환되거나 비치환된 페닐 또는 나프틸이다. 바람직한 아릴은 페닐이다.
아르알킬의 예는 (C1-C4알킬)페닐, 바람직하게는 벤질이다.
적당한 음이온 An은 무기 및 유기 음이온, 이를테면 염화물, 브롬화물 또는 요오드화물과 같은 할로겐화물, 설페이트, 황산수소, 황산메틸, 포르메이트, 아세테이트 및 락테이트이다.
음이온은 일반적으로 제조방법에 의해 결정된다. 바람직하게는, 염화물, 황산 수소, 설페이트, 메토설페이트 또는 아세테이트가 존재한다.
Q는 양이온성, 음이온성, 쯔비터이온성 또는 양쪽성 잔기와 같은 이온성 잔기, 또는 천연 잔기인 비치환 또는 치환된 방향족 또는 헤테로시클릭 또는 비헤테로시클릭 잔기이다. 예를 들면, 비치환 또는 치환된 페닐, 나프틸, 티오페닐, 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미 다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐 및 이소옥사졸릴, 아미노디페닐, 아미노디페닐에테르 및 아조벤제닐이 적합하다.
유기 화합물의 양이온성 라디칼로서 Q는 이를테면 하기 일반식(40)에서 정의되는 라디칼 A+를 포함한다.
4급화 질소를 함유하는 Q의 적당한 양이온성 헤테로사이클의 예는 1,3-티아졸릴; 1,2-티아졸릴; 1,3-벤조티아졸릴; 2,3-벤조티아졸릴; 이미다졸릴; 1,3,4-티아디아졸릴; 1,3,5-티아디아졸릴; 1,3,4-트리아졸릴; 피라졸릴; 벤즈이미다졸릴; 벤조피라졸릴; 피리디닐; 퀴놀리닐; 피리미디닐 및 이소옥사졸릴이다.
4급화 질소를 포함하는 바람직한 양이온성 헤테로사이클은 이미다졸일, 피리디닐 또는 티아졸일이다.
4급화 질소를 포함하는 더욱 바람직한 양이온성 헤테로사이클은 하기 일반식의 이미다졸일 잔기이다:
Figure 112005065340300-PCT00007
상기 식에서, R4는 치환 또는 비치환된 C1-C4알킬, 아릴 또는 아르알킬, 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필 및 더욱 바람직하게는 메틸이다.
이러한 라디칼은 예컨대 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 예컨대 불 소, 브롬 또는 염소 등의 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, CN, SCN, C1-C4알킬술포닐, 페닐술포닐, 벤질술포닐, 디-C1-C4알킬아미노술포닐, C1-C4알킬-카르보닐아미노, C1-C4알콕시술포닐 또는 디-(히드록시-C1-C4알킬)-아미노술포닐에 의해 일치환 또는 다중치환될 수 있다.
또한, Q의 적당한 양이온성 방향족 라디칼은 하기 일반식의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00008
또는
Figure 112005065340300-PCT00009
상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이다.
Q의 바람직한 양이온성 방향족 라디칼은 하기 일반식의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00010
또는
Figure 112005065340300-PCT00011
Q의 더욱 바람직한 양이온성 방향족 라디칼은 하기 일반식의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00012
또는
Figure 112005065340300-PCT00013
Q의 가장 바람직한 양이온성 방향족 라디칼은 하기 일반식의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00014
또는
Figure 112005065340300-PCT00015
그 외에, 적합한 라디칼 Q의 예는 다음과 같다:
Figure 112005065340300-PCT00016
Figure 112005065340300-PCT00017
Figure 112005065340300-PCT00018
Figure 112005065340300-PCT00019
Figure 112005065340300-PCT00020
Figure 112005065340300-PCT00021
본 발명의 명세서에서,
R은 비치환된 또는 치환된 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이다. 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
보다 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체, 바람직하게는 O-C1-C2알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
적합한 아민 화합물(R-H)의 예는 메틸아미노아세트산(사르코신), 메틸아미노부티르산, 메틸아미노프로피온산, 에틸아미노아세트산, 디메틸아민, 디에틸아민, 디프로필아민, 디이소프로필아민, 디부틸아민, 디-2차-부틸아민, 디-3차-부틸아민, 에틸아미노부티르산, 1-메틸아미노-에탄-2-술폰산, 1-에틸아미노-에탄-2-술폰산 및 1-메틸아미노-프로판-3-술폰산이다.
바람직하게는, R은 비치환된 아닐린의 라디칼; 비치환된 아미노나프탈렌의 라디칼; 아닐린 또는 아미노나프탈렌의 라디칼이며, 이때 페닐 또는 나프틸 고리는 COOH, SO3H, CN, 할로겐, SO2-C1-C2알킬, 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬, OH, 카르복시, COC1-C2알킬 또는 SO2-N(C1-C4알킬)-(CH2)1-4SO3H에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환되며 또 아미노 라디칼은 H, 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬 또는 OH 또는 카르복시에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬에 의해 치환된다.
이러한 방향족 아민의 적합한 라디칼은 예컨대 다음과 같다:
Figure 112005065340300-PCT00022
T는 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 잔기이다. 바람직하게는, T는 선형 또는 측쇄의 비치환 C1-C6알킬; 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
보다 바람직하게는, T는 COOH, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2 및 SO3H로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
이러한 적합한 라디칼의 예는 -CH2COOH, -(CH2)2COOH, -(CH2)3COOH, -CH(NHCH2CH3)COOH, -CH2CH2SO3H 및 -CH2CH2CH2SO3H 이다.
바람직하게는, T는 비치환 페닐; 비치환 나프틸; O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸이다.
이러한 적합한 방향족 잔기 T는 예컨대 다음과 같다:
Figure 112005065340300-PCT00023
본 발명의 바람직한 구체예는,
a) 하기 일반식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)를 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
를 포함하는 다공성 물질을 착색시키는 방법이다:
Figure 112005065340300-PCT00024
(1)
Figure 112005065340300-PCT00025
(2)
Figure 112005065340300-PCT00026
(3)
Figure 112005065340300-PCT00027
(4)
Figure 112005065340300-PCT00028
(5)
상기 식에서,
Q는 비치환 페닐; 나프틸; 티오페닐; 1,3-티아졸릴; 1,2-티아졸릴; 1,3-벤조티아졸릴; 2,3-벤조티아졸릴; 이미다졸릴; 1,3,4-티아디아졸릴; 1,3,5-티아디아졸릴; 1,3,4-트리아졸릴; 피라졸릴; 벤즈이미다졸릴; 벤조피라졸릴; 피리디닐; 퀴놀리닐; 피리미디닐; 이소옥사졸릴; 아미노디페닐; 아미노디페닐에테르 또는 아조벤제닐이거나; 또는
Q는 페닐, 나프틸, 티오페닐, 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 이소옥사졸릴; C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 할로겐, 이를테면 불소, 브롬 또는 염소, 니트로, 트리플루오로메틸, CN, SCN, C1-C4알킬술포닐, 페닐술포닐, 벤질술포닐, 디-C1-C4알킬아미노술포닐, C1-C4알킬-카르보닐아미노, C1- C4알콕시술포닐에 의해 또는 디-(히드록시-C1-C4알킬)-아미노술포닐에 의해 일치환 또는 다중치환된 아미노디페닐, 아조벤제닐 및 아미노디페닐에테르이며; 또는
Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼, 특히 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00029
또는
Figure 112005065340300-PCT00030
상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이고;
바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00031
또는
Figure 112005065340300-PCT00032
더욱 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00033
또는
Figure 112005065340300-PCT00034
가장 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00035
또는
Figure 112005065340300-PCT00036
그리고
R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나; 또는
R은 비치환된 아닐린의 라디칼; 비치환된 아미노나프탈렌의 라디칼; 아닐린 또는 아미노나프탈렌의 라디칼이며, 이때 페닐 또는 나프틸 고리는 COOH, SO3H, CN, 할로겐, SO2-C1-C2알킬, 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬, OH, 카르복시, COC1-C2알킬 또는 SO2-N(C1-C4알킬)-(CH2)1-4SO3H에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환되며, 또 아미노 라디칼은 H, 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬 또는 OH 또는 카르복시에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬에 의해 치환되고;
가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
특히 가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16 및 R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이거나; 또는
R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
T는 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6 알킬이거나, 또는
T는 비치환된 페닐; 비치환된 나프틸; O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸이다.
본 발명의 더욱 바람직한 구체예는,
a) 하기 일반식(1)을 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물 및/또는 하기 일반식(2)을 갖는 1 이상의 화합물 및/또는 하기 일반식(3)을 갖는 1 이상의 화합물 및/또는 하기 일반식(4)을 갖는 1 이상의 화합물 및/또는 하기 일반식(5)을 갖는 1이상의 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
를 포함하는 다공성 물질을 착색시키는 방법이다:
Figure 112005065340300-PCT00037
(1)
Figure 112005065340300-PCT00038
(2)
Figure 112005065340300-PCT00039
(3)
Figure 112005065340300-PCT00040
(4)
Figure 112005065340300-PCT00041
(5)
상기 식에서,
Q는 비치환 페닐; 나프틸; 티오페닐; 1,3-티아졸릴; 1,2-티아졸릴; 1,3-벤조티아졸릴; 2,3-벤조티아졸릴; 이미다졸릴; 1,3,4-티아디아졸릴; 1,3,5-티아디아졸릴; 1,3,4-트리아졸릴; 피라졸릴; 벤즈이미다졸릴; 벤조피라졸릴; 피리디닐; 퀴놀리닐; 피리미디닐; 이소옥사졸릴; 아미노디페닐; 아미노디페닐에테르 또는 아조벤제닐이거나; 또는
Q는 페닐, 나프틸, 티오페닐, 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 이소옥사졸릴, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 할로겐, 이를테면 불소, 브롬 또는 염소, 니트로, 트리플루오로메틸, CN, SCN, C1-C4알킬술포닐, 페닐술포닐, 벤질술포닐, 디-C1-C4알킬아미노술포닐, C1-C4알킬-카르보닐아미노, C1-C4알콕시술포닐에 의해 또는 디-(히드록시-C1-C4알킬)-아미노술포닐에 의해 일치환 또는 다중치환된, 아조벤제닐, 아미노디페닐 및 아미노디페닐에테르이며; 또는
Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼, 특히 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00042
또는
Figure 112005065340300-PCT00043
상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이고;
바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00044
또는
Figure 112005065340300-PCT00045
더욱 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00046
또는
Figure 112005065340300-PCT00047
가장 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00048
또는
Figure 112005065340300-PCT00049
그리고
R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나; 또는
가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
특히 가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16 및 R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이거나; 또는
R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
T는 COOH, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬) 및 N(C1-C2알킬)2로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6 알킬이거나, 또는
T는 비치환된 페닐; 비치환된 나프틸; O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸이다.
본 발명의 특히 바람직한 구체예는,
a) 하기 일반식(1)을 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
를 포함하는 다공성 물질을 착색시키는 방법이다:
Figure 112005065340300-PCT00050
(1)
상기 식에서,
Q는 비치환 페닐; 나프틸; 티오페닐; 1,3-티아졸릴; 1,2-티아졸릴; 1,3-벤조티아졸릴; 2,3-벤조티아졸릴; 이미다졸릴; 1,3,4-티아디아졸릴; 1,3,5-티아디아졸릴; 1,3,4-트리아졸릴; 피라졸릴; 벤즈이미다졸릴; 벤조피라졸릴; 피리디닐; 퀴놀리닐; 피리미디닐; 이소옥사졸릴; 아미노디페닐; 아미노디페닐에테르 또는 아조벤제닐이거나; 또는
Q는 페닐, 나프틸, 티오페닐, 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 이소옥사졸릴; C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 할로겐, 이를테면 불소, 브롬 또는 염소, 니트로, 트리플루오로메틸, CN, SCN, C1-C4알킬술포닐, 페닐술포닐, 벤질술포닐, 디-C1-C4알킬아미노술포닐, C1-C4알킬-카르보닐아미노, C1-C4알콕시술포닐에 의해 또는 디-(히드록시-C1-C4알킬)-아미노술포닐에 의해 일치환 또는 다중치환된, 아조벤제닐, 아미노디페닐 및 아미노디페닐에테르이며; 또는
Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼, 특히 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00051
또는
Figure 112005065340300-PCT00052
상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이고;
바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00053
또는
Figure 112005065340300-PCT00054
더욱 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00055
또는
Figure 112005065340300-PCT00056
가장 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00057
또는
Figure 112005065340300-PCT00058
그리고
R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또 는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나; 또는
가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
본 발명의 또 다른 특히 바람직한 구체예는,
a) 하기 일반식(1)을 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
를 포함하는 다공성 물질을 착색시키는 방법이다:
Figure 112005065340300-PCT00059
(1)
상기 식에서,
Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼, 특히 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00060
또는
Figure 112005065340300-PCT00061
상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이고;
바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00062
또는
Figure 112005065340300-PCT00063
더욱 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00064
또는
Figure 112005065340300-PCT00065
가장 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00066
또는
Figure 112005065340300-PCT00067
그리고
R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나; 또는
가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17 은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고; 특히 가장 바람직한 R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16 및 R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이다.
본 발명의 또 다른 특히 바람직한 구체예는,
a) 상기에서 정의한 2 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
를 포함하는 다공성 물질을 착색시키는 방법이다.
본 발명의 중요한 구체예는,
a) 하기 일반식(1)을 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물 및/또는 하기 일반식(2)을 갖는 1 이상의 화합물 및/또는 하기 일반식(3)을 갖는 1 이상의 화합 물 및/또는 하기 일반식(4)을 갖는 1 이상의 화합물 및/또는 하기 일반식(5)을 갖는 1 이상의 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
를 포함하는 다공성 물질을 착색시키는 방법이다:
Figure 112005065340300-PCT00068
(1)
Figure 112005065340300-PCT00069
(2)
Figure 112005065340300-PCT00070
(3)
Figure 112005065340300-PCT00071
(4)
Figure 112005065340300-PCT00072
(5)
상기 식에서,
Q는
Figure 112005065340300-PCT00073
Figure 112005065340300-PCT00074
Figure 112005065340300-PCT00075
Figure 112005065340300-PCT00076
Figure 112005065340300-PCT00077
이거나; 또는
Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼, 특히 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00078
또는
Figure 112005065340300-PCT00079
상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이고;
바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00080
또는
Figure 112005065340300-PCT00081
더욱 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00082
또는
Figure 112005065340300-PCT00083
가장 바람직한 Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00084
또는
Figure 112005065340300-PCT00085
R은
Figure 112005065340300-PCT00086
이고; 그리고
T는
Figure 112005065340300-PCT00087
이다.
화학식 Q-NH2 및 R-H의 아민은 공지된 것이거나 공지된 방식으로 합성할 수 있다.
화학식(2) 및 (3)의 화합물도 또한 공지된 것이거나 공지 방식으로 합성할 수 있다.
하기 일반식(6) 및 (7)의 화합물은 신규하다:
Figure 112005065340300-PCT00088
Figure 112005065340300-PCT00089
상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이다.
바람직한 일반식(6) 및 (7)의 화합물은 다음과 같다:
Figure 112005065340300-PCT00090
더욱 바람직한 일반식(6) 및 (7)의 화합물은 다음과 같다:
Figure 112005065340300-PCT00091
가장 바람직한 일반식(6) 및 (7)의 화합물은 다음과 같다:
Figure 112005065340300-PCT00092
Figure 112005065340300-PCT00093
상기 식에서,
R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
가장 바람직하게는, R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17 은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고;
R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고; 특히 가장 바람직한 R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16 및 R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이다.
적합한 아민 화합물(R-H)의 예는 메틸아미노아세트산(사르코신), 메틸아미노부티르산, 메틸아미노프로피온산, 에틸아미노아세트산, 에틸아미노부티르산, 1-메틸아미노-에탄-2-술폰산, 1-에틸아미노-에탄-2-술폰산 및 1-메틸아미노-프로판-3-술폰산이다.
특히 바람직한 것은 하기 일반식의 화합물들이다:
Figure 112005065340300-PCT00094
Figure 112005065340300-PCT00095
Figure 112005065340300-PCT00096
또는
Figure 112005065340300-PCT00097
.
바람직하게는, 중요한 R은 비치환된 아닐린의 라디칼; 비치환된 아미노나프탈렌의 라디칼; 아닐린 또는 아미노나프탈렌의 라디칼이며, 이때 페닐 또는 나프틸 고리는 COOH, SO3H, CN, 할로겐, SO2-C1-C2알킬, 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬; OH, 카르복시, COC1-C2알킬 또는 SO2-N(C1-C4알킬)-(CH2)1-4SO3H에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환되며; 또 아미노 라디칼은 H, 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬 또는 OH 또는 카르복시에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬에 의해 치환된다.
상기 방향족 아민의 적당한 라디칼의 예는 다음과 같다:
Figure 112005065340300-PCT00098
가장 바람직한 것은, R이 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬인 일반식(6) 및 (7)의 화합물이다.
특히 바람직한 것은, R이 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16 및 R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이거나; 또는 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 메틸이고; R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군 으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬인 일반식(6) 및 (7)의 화합물이다.
일반식(1)의 화합물도 마찬가지로 공지된 방식으로 제조할 수 있다; 예컨대 화학식 q-NH2의 아민은 통상의 방식으로 디아조화되고 화학식 R-H의 아민에 커플링될 수 있다.
본 발명의 방법에 따른 더욱 바람직한 구체예는 하기 일반식(40)의 양이온성 캡핑된 디아조늄 화합물이다:
Figure 112005065340300-PCT00099
상기 식에서,
A+는 상기 정의한 Q의 서브 그룹이며, 유기 화합물의 양이온성 라디칼이고,
R은 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이고, R에 대한 바람직한 것과 정의는 본 명세서에서 기재한 바와 같다.
적당한 양이온성 라디칼 A+는 양이온성 헤테로사이클 화합물을 포함하는, 치환 또는 비치환된 양이온성 헤테로사이클 화합물; 또는 양이온성 치환체를 갖는 비헤테로사이클 화합물; 또는 양이온성 헤테로사이클 화합물을 포함하는 양이온성 아조 화합물이다.
적당한 양이온성 헤테로사이클 화합물의 예로는 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 이소옥사졸릴의 유도체가 있다. 바람직한 양이온성 헤테로사이클 화합물은 이미다졸일, 피리디닐, 1,3,4-트리아졸일 및 1,3-티아졸일이다.
방향족 화합물의 적당한 양이온성 치환체의 예는 하기 일반식(41)의 4급화 암모늄 라디칼 또는 상기와 동일한 의미를 갖고 양이온성 헤테로사이클 화합물의 일부인 4급화 질소 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00100
(41)
상기 식에서, R37, R38 및 R39는 서로 독립적으로 비치환 또는 치환된 알킬이고 또 An은 음이온이다.
적당한 음이온 An은 무기 및 유기 음이온, 이를테면 염화물, 브롬화물 또는 요오드화물과 같은 할로겐화물, 수산화물, 설페이트, 황산수소, C1-C6알킬, 설포네이트, 이를테면 메틸 설포네이트 또는 에틸 설포네이트, C1-C6알킬 설페이트, C1-C6알킬 치환 또는 비치환된 아릴설포네이트, 이를테면 4-톨루일설포네이트, 포르메이트, 이를테면 메틸 설페이트 또는 에틸 설페이트, 아세테이트, 타르타레이트, 옥살레이트 및 락테이트이다.
바람직한 음이온은 염화물, 황산 수소, 설페이트, 메토설페이트 또는 아세테이트이다.
본 발명의 방법에 대한 더욱 바람직한 구체예는 하기 일반식 (42a) 및 (42b)의 양이온성 캡핑된 디아조늄 화합물이다:
Figure 112005065340300-PCT00101
Figure 112005065340300-PCT00102
상기 식에서,
Figure 112005065340300-PCT00103
또는
Figure 112005065340300-PCT00104
는 각각 상기 정의한 바와 같은 일반식(1)의 Q의 서브그룹이고;
D+는 양이온성, 방향족, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭 화합물의 라디칼이고;
M은 방향족 치환 또는 비치환된 화합물의 비라디칼이고;
T는 방향족 치환 또는 비치환된 화합물의 라디칼이고;
Q+는 양이온성, 방향족, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭 화합물의 비라디칼이고;
R은 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이고;
An은 음이온이다.
바람직하게는,
D+는 하기 일반식(43) 또는 (44)의 양이온성 방향족 헤테로시클릭 화합물의 라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00105
상기 식에서,
p는 0이고,
(d1)은 일반식(43)의 5-원 고리와 일반식(42a)의 아조기와의 결합이고,
(d2)은 일반식(44)의 6-원 고리와 일반식(42a)의 아조기와의 결합이고,
Q+는 다음과 같이 정의되는 일반식(43) 또는 (44)의 양이온성 방향족 헤테로사이클 화합물의 비라디칼이고:
p가 1이고,
(d1)은 일반식(43)의 5-원 고리와 일반식(42b)의 아조기와의 결합이고,
(q1)은 일반식(43)의 5-원 고리와 일반식(42b)의 아조기와의 결합이고, 및
(d2)은 일반식(44)의 6-원 고리와 일반식(42b)의 아조기와의 결합이고,
(q2)은 일반식(44)의 6-원 고리와 일반식(42b)의 아조기와의 결합이고;
M은 하기 일반식(45) 또는 (46)의 비라디칼이고:
Figure 112005065340300-PCT00106
상기 식에서,
q는 1이고,
(d3) 및 (q3)은 일반식(45)의 방향족 화합물과 일반식(42a)의 아조기와의 결합이고,
(d4) 및 (q4)은 일반식(46)의 방향족 화합물과 일반식(42a)의 아조기와의 결합이고;
T는 다음과 같이 정의되는 일반식(45) 또는 (46)의 라디칼이고:
q가 0이고,
(d3)은 일반식(45)의 방향족 화합물과 일반식(42b)의 아조기와의 결합이고,
(d4)은 일반식(46)의 방향족 화합물과 일반식(42a)의 아조기와의 결합이고,
상기 식에서,
X1은 N 또는 CR66의 라디칼이고,
X2은 N 또는 CR67의 라디칼이고,
X3은 N 또는 CR68의 라디칼이고,
X4은 N 또는 CR69의 라디칼이고,
X5은 N 또는 CR70의 라디칼이고,
X6은 N 또는 CR71의 라디칼이고,
X7은 N 또는 CR72의 라디칼이고,
X8은 N 또는 CR73의 라디칼이고,
Z1은 O 또는 S 또는 NR46의 라디칼이고,
Z2은 N 또는 CR47의 라디칼이고,
Z3은 N 또는 CR48의 라디칼이고,
Z4은 N 또는 CR49의 라디칼이고,
n은 0 또는 1이고,
E는 -O-, -S-, -(SO2)-, CR62 또는 -(NR63)-의 라디칼이고;
G는 -O-, -S-, -(SO2)-, CR64 또는 -(NR65)의 라디칼이고;
R42 , R43 , R44 , R47 , R48 , R49 , R50 , R51, R52, R53, R54, R55, R56, R57, R58, R59, R60, R61, R62, R63, R64, R65, R66, R67, R68, R69, R70, R71, R72, R73 및 R74는 서로 독립적으로 수소, 포화 또는 불포화, 선형 또는 측쇄, 헤테로 원자를 사슬 중간에 갖거나 갖지 않고, 히드록시, 니트릴, 아미노, C1-C2알콕시, (폴리)-히드록시-C2-C4알콕시, 디-C1-C2알킬아미노, 카르복시산, 술폰산으로 치환되거나 비치환된 C1-C16알킬; 치환 또는 비치환된 페닐의 라디칼; 카르복시산의 라디칼; 술포닐아미노의 라디칼, S, NH 또는 N(C1-C4알킬), O. SO2, COO, OCO, NHCO, CONH, CON(C1-C4알킬) 또는 N(C1-C4알킬)CO이거나; 또는 서로 독립적으로 지방족 또는 방향족, 치환, 바람직하게는 할로겐 치환, 또는 비치환된 C3-C6탄소 고리, 여기서 고리의 탄소 원자는 산소, 질소, 황 또는 SO2로 치환될 수 있고; R42와 R47, R43과 R48, R48과 R49는 페닐과 같은 방향족 탄소 고리를 증가시킬 수 있고:
R42와 R47은 서로 독립적으로 수소; 포화 또는 불포화, 히드록시, 니트릴, 아미노, C1-C2알콕시, (폴리)-히드록시-C2-C4알콕시, 디-C1-C2알킬아미노, 카르복시산, 술폰산으로 치환되거나 비치환된 C1-C16알킬; 치환 또는 비치환된 페닐의 라디칼; 카르복시산의 라디칼; 술포닐아미노의 라디칼이고;
R42와 R47, R43과 R44, R48과 R49는 페닐과 같은 방향족 탄소 고리를 증가시킬 수 있다.
바람직하게는, R42 , R43 , R44 , R47 , R48 , R49 , R50 , R51, R52, R53, R54, R55, R56, R57, R58, R59, R60, R61, R62, R63, R64, R65, R66, R67, R68, R69, R70, R71, R72, R73 및 R74는 서 로 독립적으로 수소, 포화 또는 불포화, 선형 또는 측쇄, 히드록시, 니트릴, C1-C2알콕시, (폴리)-히드록시-C2-C4알콕시, 아미노, 디-C1-C2알킬아미노, 카르복시, 술포닐, 할로겐, 이를테면 염화물, 불화물 또는 브롬화물로 치환되거나 비치환된 C1-C4알킬; 카르복시산의 라디칼; 또는 술포닐아미노의 라디칼, 술폰산의 라디칼; C1-C2알콕시의 라디칼, (폴리)-히드록시-C1-C4알콕시; 아미노의 라디칼; 디-C1-C2알킬아미노의 라디칼; (폴리)-히드록시-C2-C4알콕시; 또는 서로 독립적으로 방향족, 치환된, 바람직하게는 할로겐 치환되거나 비치환된 C6탄소 고리이다.
더욱 바람직하게는, R2, R3, R4, R7, R8, R9, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R31, R32 및 R33는 서로 독립적으로 수소, 포화 또는 불포화, 선형 또는 측쇄, 히드록시, 니트릴, 니트릴아미노, 디-C1-C2알킬아미노로 치환되거나 비치환된 C1-C4알킬; 카르복시산의 라디칼; C1-C2알콕시의 라디칼, 아미노의 라디칼; 디-C1-C2알킬아미노의 라디칼; (폴리)-히드록시-C2-C4알콕시; 또는 서로 독립적으로 방향족, 치환된, 바람직하게는 할로겐 치환되거나 비치환된 C6탄소 고리이다.
가장 바람직하게는, R42 , R43 , R44 , R47 , R48 , R49 , R50 , R51, R52, R53, R54, R55, R56, R57, R58, R59, R60, R61, R62, R63, R64, R65, R66, R67, R68, R69, R70, R71, R72, R73 및 R74 는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 페닐, 2-히드록시메틸, 니트릴, 카르복시산, 메톡시, 에톡시, 2-히디록시에틸옥시, 아미노의 라디칼, 메틸아미노, 디메틸아미노, 2-히드록시에틸라미노이다.
바람직하게는, R42 및 R47은 서로 독립적으로 수소; 페닐 라디칼; 히드록시, 니트릴, 아미노, 디-C1-C2알킬아미노, 카르복시산으로 치환되거나 비치환된 C1-C4알킬의 라디칼이다.
더욱 바람직하게는, R42 및 R47은 서로 독립적으로 수소, 메틸, 페닐, 2-히드록시메틸, 니트릴 또는 카르복시산이다.
R41, R45 및 R46는 서로 독립적으로 포화 또는 불포화, 선형 또는 측쇄, 히드록시, 아미노, C1-C2알콕시, (폴리)-히드록시-C2-C4알콕시, 디-C1-C2알킬아미노, 카르복시산, 술폰산으로 치환 또는 비치환된 C1-C8알킬의 라디칼; 치환 또는 비치환된 페닐의 라디칼; 카르복시산의 라디칼; 술포닐아미노의 라디칼이다.
바람직하게는, R41, R45 및 R46는 서로 독립적으로 포화 또는 불포화, 선형 또는 측쇄, 히드록시, 아미노, C1-C2알콕시, 디-C1-C2알킬아미노, 카르복시산, 술폰산으로 치환 또는 비치환된 C1-C4알킬의 라디칼이다.
더욱 바람직하게는, R41, R45 및 R46는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸, 1-카르복시메틸, 2-카르복시에틸, 2-술포닐에틸이다.
더욱 바람직하게는, D+는 다음 일반식의 양이온 화합물의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00107
상기 식에서, R41, R42, R45, R46 및 R47은 상기에서 정의한 바와 같다.
가장 바람직하게는, D+는 다음 일반식의 양이온 화합물의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00108
바람직하게는 M은 하기 일반식의 비라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00109
상기 식에서, E, R50, R51 및 R52 는 상기에서 정의한 바와 같다.
더욱 바람직하게는 M은 하기 일반식의 비라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00110
바람직하게는 Q+는 하기 일반식의 양이온 화합물의 비라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00111
및
Figure 112005065340300-PCT00112
T의 적당한 화합물은 하기 일반식의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00113
상기 식에서, E, R50 및 R56은 상기에서 정의한 바와 같고; 바람직하게는 T는 하기 일반식의 라디칼이다:
Figure 112005065340300-PCT00114
및
Figure 112005065340300-PCT00115
그들의 예로는 아실아세트아릴아미드, 페놀, 나프톨, 피리돈, 퀴놀론, 피라졸, 인돌, 디페닐아민, 아닐린, 아미노피리딘, 피리미돈, 나프틸아민, 아미노티아 졸, 티오펜 또는 히드록시피리딘이 있다.
더욱 바람직한 것은, 다음 일반식의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 양이온 캡핑된 디아조늄 화합물에 관한 본 발명의 방법에 대한 또 다른 바람직한 구체예이다:
Figure 112005065340300-PCT00116
및
Figure 112005065340300-PCT00117
상기 식에서, E, R41, R42, R46, R47, R50, B, An 및 n은 상기에서 정의한 바와 같다.
가장 바람직한 것은, 다음 일반식의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 양이온 캡핑된 디아조늄 화합물에 관한 본 발명의 방법에 대한 또 다른 바람직한 구체예이다:
Figure 112005065340300-PCT00118
Figure 112005065340300-PCT00119
및
Figure 112005065340300-PCT00120
상기 식에서, E, R41, R42, R46, R47, R50, B, An 및 n은 상기에서 정의한 바와 같고, 특히 가장 바람직한 것은 n이 0인 것이다.
특히 바람직한 것은, 다음 일반식의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 양이온 캡핑된 디아조늄 화합물에 관한 본 발명의 방법에 대한 또 다른 바람직한 구체예이다:
Figure 112005065340300-PCT00121
Figure 112005065340300-PCT00122
(53)
Figure 112005065340300-PCT00123
Figure 112005065340300-PCT00124
Figure 112005065340300-PCT00125
Figure 112005065340300-PCT00126
및
Figure 112005065340300-PCT00127
또한, 바람직한 것은 하기 단계 a), b) 및 c)를 포함하는, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 캡핑된 디아조화 화합물로 케라틴 섬유를 착색시키기 위한 본 발명의 방법이다:
a) 알칼리 조건 하에서, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 캡핑된 디아조화 화합물 및 임의로는 적어도 하나의 직접 염료 및 임의로는 적어도 하나의 현색제 화합물 및 임의로는 커플러; 및 임의로는 적어도 하나의 직접 염료를 임의로 함유하는 산화제를 도포하는 단계;
b) 케라틴 섬유를 단계a)에서 제조된 혼합물과 접촉시키는 단계; 및
c) 임의로는 추가 염료 존재 하에서 산으로 처리함으로써 pH를 6∼2로 조절하는 단계.
더욱 바람직한 것은 하기 단계 a), b) 및 c)를 포함하는, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 캡핑된 디아조화 화합물로 케라틴 섬유를 착색시키는 방법이다:
a) 알칼리 조건 하에서, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 캡핑된 디아조화 화합물 및 적어도 하나의 직접 염료, 염기 및 산화제를 도포하는 단계;
b) 케라틴 섬유를 단계a)에서 제조된 혼합물과 접촉시키는 단계; 및
c) 임의로는 추가 염료 존재 하에서 산으로 처리함으로써 pH를 6∼2로 조절하는 단계.
또한, 바람직한 것은 하기 단계 a), b) 및 c)를 포함하는, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 캡핑된 디아조화 화합물로 케라틴 섬유를 착색시키기 위한 방법이다:
a) 알칼리 조건 하에서, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 캡핑된 디아조화 화합물 및 임의로는 적어도 하나의 직접 염료 및 임의로는 적어도 하나의 현색제 화합물 및 임의로는 적어도 하나의 자동 산화성 화합물을 도포하는 단계;
b) 케라틴 섬유를 단계a)에서 제조된 혼합물과 접촉시키는 단계; 및
c) 임의로는 추가 염료 존재 하에서 산으로 처리함으로써 pH를 6∼2로 조절하는 단계.
본 발명의 착색 방법과 함께 사용될 수 있는 케라틴 섬유의 2 단계 직접 착 색에 적합한 또 다른 방법은 다음과 같은 특징이 있다:
a) 케라틴 섬유를 산화제 또는 산화제 함유 조성물과 접촉시키는 단계;
b) 케라틴 섬유를, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 캡핑된 디아조화 화합물 및 임의로는 직접 염료 및/또는 임의로는 무산화제 조성물과 접촉시키는 단계; 및
c) 임의로는 추가 염료 존재 하에서 산으로 처리함으로써 pH를 6∼2로 조절하는 단계; 또는
a) 케라틴 섬유를, 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 캡핑된 디아조화 화합물 및 임의로는 직접 염료 및/또는 임의로는 무산화제 조성물과 접촉시키는 단계;
b) 케라틴 섬유를 산화제 또는 산화제 함유 조성물과 접촉시키는 단계; 및
c) 임의로는 추가 염료 존재 하에서 산으로 처리함으로써 pH를 5∼2로 조절하는 단계.
일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 염료는 케라틴-함유 섬유를 착색시키는 데 적합하다. "케라틴-함유 섬유"란 모, 모피, 깃털 및 특히 인간 모발을 의미한다.
본 발명은 또한 케라틴-함유 섬유를 착색시키기 위한 염료를 포함하는 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방법에 의한 결과로써 염료의 다수의 색조는 다른 염료와의 조합에 의해 증가될 수 있다.
본 발명은 본 발명에 따른 방법에 의한 결과로써 염료 및 1 이상의 다른 염료를 사용하여 모발을 착색시키는 것에도 관한 것이다.
본 발명은 본 발명에 따른 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 염료 및 1 이상의 단일 추가 염료로 모발을 착색시키는 것에 관한 것이다.
본 발명에 사용되는 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 염료에 대한 염료의 색 견뢰도와 색조의 다양성은 모발-착색 조성물 분야에서 사용되는 기타 염료와 조합함으로써 증가될 수 있다. 이들은 산화 염료와 직접 염료 모두에 의해 매우 쉽게 조합될 수 있어 양이온성이나 비하전되게 할 수 있다. 특정 환경에서는 배합물에서 석출이 일어날 수 있기 때문에, 음이온 직접 염료의 경우에만 어느 정도 주의가 요구된다.
본 발명의 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 염료는 동일 또는 상이한 종류의 염료, 특히 직접 염료, 산화 염료; 커플러 화합물 및 디아조화 화합물의 염료 전구체 조합물; 및/또는 양이온 반응성 염료와 조합될 수 있다.
직접 염료는 천연 또는 합성될 수 있고, 이들은 하전되지 않거나, 산 염료와 같이 양이온성 또는 음이온성일 수 있다.
산화 염료는 현색제 및 커플러 화합물의 군으로부터 선택된 산화 염료 전구체를 또한 의미한다. 여기서 커플러 화합물은 또한 산과 그의 부가염을 의미한다.
본 발명의 명세서에서, 단일 종류의 염료는 Society of Textile Chemist and Colorist의 Color Index에 정의된 염료를 포함한다.
본 발명은 또한 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 단 일 화합물을 포함하는 조합물, 조성물, 배합물, 방법 및 공정을 포함한다.
본 발명의 한 바람직한 구체예는 Ch. Culnan, H. Maibach에 의해 편찬된 "Dermatology", Verlag Marcel Dekker Inc., New York, Basle, 1986, Vol.7, Ch. Zviak, The Science of Hair Care, chapter 7, pages 248-250 및 The European Commission에 의해 발행되고 the Bundesverband der deutschen Industrie und Handelsunternehmen fuer Arzneimittel, Reformwaren und Koerperpflegemittel e.V., Mannheim으로 부터 디스켓 형태로 입수할 수 있는 "Europaeisches Inventar der Kosmetikrohstoffe", 1996에 기재되어 있는 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 적어도 하나의 단일 화합물과 직접 염료와 조합물이다.
본 발명에 따른 일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 화합물과 조합하기 위한 또 다른 바람직한 양이온성 염료는 다음 문헌에 기재되어 있다:
- WO 95/01772호, 특히 2페이지 7행 내지 4페이지 1행, 특히 4페이지 35행 내지 8페이지 21행 및 11-27페이지, 또는
- WO 01/66646호, 특히 1페이지 18행 내지 3페이지 16행, 바람직하게는 16페이지 20행 내지 22페이지, 또 10-17페이지에 기재된 바와 같은 양이온성 염료, 또는
- EP 970 685호, 특히 2페이지 44행 내지 9페이지 56행, 바람직하게는 9페이지 58행 내지 48페이지 12행.
일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 화합물과 조합하기에 더욱 바람직한 것은 Basic Yellow 87, Basic Orange 31 또는 Basic Red 51과 같은 양이온성 염 료, 또는 WO 01/66646호, 특히 실시예 4에 기재된 양이온성 염료, 또는 WO 02/31056호, 특히 실시예 6에 기재된 양이온성 염료, EP-A-714,954에 기재된 일반식(106)의 화합물 또는 일반식(3)의 양이온성 염료 또는 WO 03/060015에 기재된 일반식(I)의 황색 양이온성 염료이다.
일반식(1), (2), (3), (4) 및/또는 (5)의 화합물은 전체 염색 조성물을 기준하여 본 발명에 따른 조성물에 0.001%∼5%, 특히 0.01%∼1%의 양으로 존재한다.
모든 염색 조성물에서, 서로 다른 염색 물질 다수를 함께 사용할 수 있다. 마찬가지로 현색제의 군으로부터 선택된 서로 다른 산화 염료 전구체의 다수와 커플러 화합물을 함께 사용할 수 있다. 이를테면 1급 또는 2급 아미노기를 갖는 방향족 화합물, 질소-함유 헤테로사이클, 이를테면 독일 특허 출원 19 717 224.5, 특히 페이지 3, 라인 31 내지 페이지 5, 라인 8에 기재된 방향족 히드록시 화합물 또는 아미노산을 함께 사용할 수 있다.
모발을 착색하기 위해서 일반식(1)의 염료를 1 이상의 추가 양이온성 염료, 특히 WO 95/01772호의 페이지 11∼27에 기재된 것들을 사용하는 것이 바람직하다. 특히 적당한 것은 일반식(1)의 염료, 실시예 1에 따른 황색 염료 및/또는 실시예 4에 따른 적색 염료 및/또는 WO 95/1772의 실시예 46에 따른 오렌지색 염료를 포함하는 염료 혼합물이다.
색조를 더욱 변형시키기 위한 또 다른 구체예에서, 본 발명에 따른 염색 조성물은 본 발명에 따른 일반식(1)의 염료 외에, 통상의 직접 염료, 이를테면 니트로아닐린, 니트로페닐렌디아민, 니트로아미노페놀, 안트라퀴논, 인도페놀, 페나진, 페노티아진, 메틴 또는 Arianors로서 알려진 화합물, 이를테면 국제 명칭 또는 상표명 HC Yellow 2, HC Yellow 4, HC Yellow 6, Basic Yellow 57, Basic Yellow 9, Disperse Orange　3, HC Red 3, HC Red BN, Basic Red 76, Basic Red 2, Basic Violet 14, Basic Blue 3, Basic Blue 6, Basic　Blue 7, Basic Blue 9, Basic Blue 12, Basic Blue 26, HC Blue 2, HC　Blue　7, HC　Blue　12, Disperse Blue 3, Basic Blue 99, HC Violet 1, Disperse Violet 1, Disperse Violet　4, Disperse Black 9, Basic Brown 16 및 Basic Brown 17, 그리고 또한 피크라믹산, 2-아미노-6-클로로-4-니트로-페놀, 4-아미노-2-니트로디페닐아민-2'-카르복시산, 6-니트로-1,2,3,4-테트라히드로퀴녹살린, 4-N-에틸-1,4-비스(2'-히드록시에틸아미노)-2-니트로벤제젠 하이드로클로라이드 및 1-메틸-3-니트로-4-(2'-히드록시에틸)-아미노벤젠으로 알려진 화합물을 포함한다.
본 발명에 따른 방법과 조합하기에 아주 적합한 것은 양이온화 니트로아닐린 및 안트라퀴논 염료, 예컨대 US-5 298 029호, 특히 칼럼 2, 33행 내지 칼럼 5, 38행; US-5 360 930호, 특히 칼럼 2, 38행 내지 칼럼 5, 49행; US-5 169 403호, 특히 칼럼 2, 30행 내지 칼럼 5, 38행; US-5 256 823호, 특히 칼럼 4, 23행 내지 칼럼 5, 15행; US-5 135 543호, 특히 칼럼 4, 24행 내지 칼럼 5, 16행; EP-A-818 193호, 특히 2페이지, 40행 내지 3페이지, 26행; US-5 486 629호, 특히 칼럼 2, 34행 내지 칼럼 5, 29행; 및 EP-A-758 547호, 특히 7페이지, 48행 내지 8페이지 19행과 같은 특허문헌에 기재된 염료이다.
또한, 예컨대 GB-A-2 319 776호에 따른 양이온 아조 염료뿐만 아니라 DE-A- 29 912 327호에 기재된 옥사진 염료 및 이들과 본 명세서에 기재된 기타 직접 염료와의 혼합물도 마찬가지로 용이하게 조합될 수 있다.
이 구체예에 따른 본 발명의 조성물은 전체 염색 조성물을 기준으로 0.01∼5 중량%의 양으로 염료를 함유하는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에 따른 염색 방법은 헨나 적색, 헨나 중성, 헨나 흑색, 카모밀 꽃, 백단향, 홍차, 람누스 프란굴라(Rhamnus frangula) 나무껍질, 샐비어, 캄페체 나무, 서양꼭두서니 뿌리, 카테츄(catechu), 세드레(sedre) 및 알카넷 뿌리와 같은 천연 염료를 함유할 수 있다. 이러한 착색 방법은 예컨대 EP-A-404 868호, 3페이지, 55행 내지 4페이지 9행에 기재되어 있다.
또 다른 통상의 염료 성분과 관련하여, Ch. Culnan, H. Maibach에 의해 편찬된 "Dermatology", Verlag Marcel Dekker Inc., New York, Basle, 1986, Vol.7, Ch. Zviak, The Science of Hair Care, chapter 7, pages 248-250(직접 염료) 및 chapter 8, pages 264-267(산화 염료), 그리고 The European Commission에 의해 발행되고 the Bundesverband der deutschen Industrie und Handelsunternehmen fuer Arzneimittel, Reformwaren und Koerperpflegemittel e.V., Mannheim으로 부터 디스켓 형태로 입수할 수 있는 "Europaeisches Inventar der Kosmetikrohstoffe", 1996에 기재되어 있다.
임의로 존재하는 산화 염료 전구체 또는 염료 각각은 단일 화합물일 필요는 없지만, 본 발명에 따른 염색 조성물은 개별 염료에 대한 제조 과정에 따라서 더 적은 양의 추가의 성분을 더 포함할 수 있으며, 이러한 성분은 염색 결과에 대하여 나쁜 영향을 주지 않거나, 또는 다른 이유, 예컨대 독성학적 이유로 배제될 필요가 없는 것이어야 한다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 염료는 이하에 나타낸 모발의 착색에 사용되는 다른 염료 및/또는 보조제와 조합되어 사용될 수 있다:
● 약한 착색을 얻기 위한 산화제; WO 97/20545호, 특히 9페이지, 5-9행에 기재되어 있음,
● DE-A-19 713 698호, 특히 페이지 4, 라인 52-55 또는 EP-A-1 062 940호, 특히 페이지 6, 라인 41-47(대응 출원 WO 99/40895)에 기재된 바와 같은 파마-웨이브 고정액 형태의 산화제,
● EP-A-850 636호, 특히 페이지 5, 라인 41 내지 페이지 7, 라인 52; EP-A-850 637호, 특히 페이지 6, 라인 50 내지 페이지 8, 라인 44; EP-A-850 638호, 특히 페이지 7, 라인 20 내지 페이지 9, 라인 26; 및 EP-A-852 135호, 특히 페이지 4, 라인 54 내지 페이지 6, 라인 53에 기재된 바와 같은 산화 염색 조성물,
● WO 99/48856호, 특히 9페이지, 16행 내지 13페이지, 8행 및 WO 99/48875호, 특히 11페이지, 20행 내지 12페이지, 13행에 기재된 바와 같은 양이온 커플러와의 산화 염색 조성물,
● WO 99/17730호, 특히 페이지 4, 라인 11 내지 페이지 13, 라인 28; 및 WO 99/36034호, 특히 페이지 3-15에 기재된 바와 같은 산화 염료,
● WO 99/20234호, 특히 페이지 26, 라인 16 내지 페이지 28, 라인 15에 기재된 바와 같은 자동산화성 산화 염료, 또는
● WO 99/20235호, 특히 페이지 26, 라인 7 내지 페이지 30, 라인 15에 기재된 바와 같은 니트로벤젠 유도체.
● EP-A-962 219호, 27페이지, 14-38행에 기재된 바와 같은 폴리올 또는 폴리에테르.
● EP-A-970 684호, 48페이지, 16행 내지 51페이지, 4행에 기재된 바와 같은 증점성 중합체,
● EP-A-970 687호, 특히 28페이지 17행 내지 29페이지, 23행에 기재된 바와 같은 당-함유 중합체,
● WO 00/10517호, 특히 44페이지, 16행 내지 46페이지, 23행에 기재된 바와 같은 4급화 암모늄염,
● WO 00/10518호, 특히 45페이지, 11행 내지 48페이지, 3행에 기재된 바와 같은 음이온성 계면활성제,
● WO 00/10519호, 특히 45페이지, 11행 내지 50페이지, 12행에 기재된 바와 같은 비이온성 계면활성제, 또는
● WO 00/12057호, 특히 45페이지, 9행 내지 55페이지, 2행에 기재된 바와 같은 실리콘.
본 발명에 따른 염색 조성물은 45℃ 미만의 생리적으로 허용가능한 온도에서 진한 착색을 낸다. 이들은 인간의 모발을 착색하는데 특히 적합하다. 인간 모발에 사용하기 위하여, 상기 염색 조성물은 화장품용 수성 담체에 혼입될 수 있다. 적합한 화장품용 수성 담체는 예컨대 크림, 에멀젼, 젤 및 계면활성제-함유 발포 용액, 예컨대 샴푸 또는 케라틴-함유 섬유에 사용하기에 적합한 다른 제제를 포함한다. 이러한 사용 형태는 Research Disclosure 42448 (1999년 8월)에 자세하게 기재되어 있다. 필요한 경우, 염색 조성물을 예컨대 US-3 369 970호, 특히 컬럼 1, 라인 70 내지 컬럼 3, 라인 55에 기재된 바와 같은 무수 담체에 혼입시킬 수 있다. 본 발명에 따른 염색 조성물은 착색 빗이나 착색 브러시를 사용하여 DE-A-3 829 870호에 기재된 바와 같은 착색 방법에 특히 적합하다.
본 발명에 따른 염색 조성물은 이러한 제제에 공지된 다른 활성 성분, 첨가제 또는 보조제를 더 포함할 수 있다. 많은 경우에 염색 조성물은 1 이상의 계면활성제를 포함하며, 원칙적으로 음이온성, 쯔비터이온성, 양쪽성, 비이온성 및 양이온성 계면활성제가 적합하다. 그러나 많은 경우, 음이온, 쯔비터이온성 및 비이온성 계면활성제로부터 선택하는 것이 유리한 것으로 밝혀졌다.
본 발명에 따른 제제에 사용하기에 적합한 음이온성 계면활성제는 인체에 사용하기에 적합한 음이온성 계면활성 물질을 포함한다. 이러한 물질은 예컨대 카르복실레이트, 술페이트, 술포네이트 또는 포스페이트 기와 같은 수용성을 부여하는 음이온성 기 및 10∼22개 탄소 원자를 갖는 친유성 알킬 기를 특징으로 한다. 또한 글리콜 또는 폴리글리콜 에테르 기, 에스테르, 에테르 및 아미드 기 및 또한 히드록시 기가 분자에 존재할 수 있다. 나트륨, 칼륨 또는 암모늄염 또는 알칸올 기에 2 또는 3개 탄소 원자를 갖는 모노-, 디- 또는 트리-알칸올암모늄 염 형태의 적합한 음이온성 계면활성제의 예는 다음과 같다:
- 10 내지 22개 탄소 원자를 갖는 선형 지방산(비누),
- 화학식 R-O-(CH2-CH2-O)x-CH2-COOH (식중, R은 10 내지 22개 탄소 원자를 갖는 선형 알킬 기이고 또 x는 0 또는 1∼16임)의 에테르 카르복시산,
- 아실 기에 10 내지 18개 탄소 원자를 갖는 아실 사르코사이드,
- 아실 기에 10 내지 18개 탄소 원자를 갖는 아실 타우라이드,
- 아실 기에 10 내지 18개 탄소 원자를 갖는 아실 이소티오네이트,
- 알킬기에 8 내지 18개 탄소 원자를 갖는 술포숙신산 모노- 및 디-알킬 에스테르 및 알킬기 내에 8 내지 18개 탄소 원자와 1 내지 6개 옥시에틸 기를 갖는 술포숙신산 모노알킬폴리옥시에틸 에스테르,
- 12 내지 18개 탄소 원자를 갖는 선형 알칸술포네이트,
- 12 내지 18개 탄소 원자를 갖는 선형 α-올레핀 술포네이트,
- 12 내지 18개 탄소 원자를 갖는 지방산의 α-술포 지방산 메틸 에스테르,
- 화학식 R'-O-(CH2-CH2-O)x'-SO3H (식중, R'은 10 내지 22개 탄소 원자를 갖는 바람직하게는 선형 알킬 기이고 또 x'는 0 또는 1∼12임)의 알킬 술페이트 및 알킬 폴리글리콜 에테르 술페이트,
- DE-A-3 725 030, 특히 3페이지, 40-55행에 따른 표면 활성 히드록시술포네이트의 혼합물,
- DE-A-3 723 354호, 특히 4페이지, 42-62행에 따른 술페이트화된 히드록시알킬폴리에틸렌 및/또는 히드록시알킬렌프로필렌 글리콜 에테르,
- DE-A-3 926 344호, 특히 2페이지, 36-54행에 따른 12 내지 24개 탄소 원자 와 1 내지 6개 이중결합을 갖는 불포화 지방산의 술포네이트,
- 2 내지 15 분자의 에틸렌 옥사이드 및/또는 프로필렌 옥사이드와 8 내지 22개 탄소 원자를 갖는 지방 알코올과의 부가 생성물인, 타르타르산 및 구연산과 알코올의 에스테르.
바람직한 음이온성 계면활성제는 알킬기에 10 내지 18개 탄소 원자를 갖고 또 분자내에 12개 이하의 글리콜 에테르 기를 갖는 알킬 술페이트, 알킬 폴리글리콜 에테르 술페이트 및 에테르 카르복시산, 특히 올레산, 스테아르산, 이소스테아르산 및 팔미트산과 같은 포화 및 특히 불포화 C8-C22카르복시산의 염이다.
1개 이상의 4급화된 암모늄 기 및 분자 내에 1 이상의 -COO(-) 또는 -SO3 (-) 기를 갖는 표면활성 화합물을 쯔비터이온성 계면활성제라 칭한다. 특히 적합한 쯔비터이온성 계면활성제는 N-알킬-N,N-디메틸암모늄 글리시네이트, 예컨대 코코아실아미노프로필-디메틸암모늄 글리시네이트, 및 알킬 또는 아실 기에 8 내지 18개 탄소 원자를 갖는 2-알킬-3-카르복시메틸-3-히드록시에틸이미다졸린 및 코코아실아미노에틸히드록시에틸카르복시메틸 글리시네이트이다. 바람직한 쯔비터이온성 계면활성제는 CTFA 명칭 코코아미도프로필 베타인으로 공지된 지방산 아미드 유도체이다.
양쪽성 계면활성제는 C8-C18-알킬 또는 -아실 기에 더하여 분자 내에 1 이상의 자유 아미노 기 및 1 이상의 -COOH 또는 -SO3H 기를 함유하며 내부 염을 형성할 수 있는 계면활성 화합물로 의미하는 것으로 이해된다. 적합한 양쪽성 계면활성제 의 예는 N-알킬글리신, N-알킬프로피온산, N-알킬아미노부티르산, N-알킬이미노디프로피온산, N-히드록시에틸-N-알킬아미도프로필글리신, N-알킬타우린, N-알킬사르코신, 2-알킬아미노프로피온산 및 알킬아미노아세트산을 포함하며, 상기 예는 각각 알킬기에 8 내지 18개 탄소 원자를 갖는다. 특히 바람직한 양쪽성 계면활성제는 N-코코알킬아미노프로피오네이트, 코코아실아미노에틸아미노프로피오네이트 및 C12-C18아실사르코신이다.
비이온성 계면활성제는 친수성 기로서 예컨대 폴리올기, 폴리알킬렌 글리콜 에테르 기 또는 폴리올 및 폴리글리콜 에테르 기의 조합물을 함유한다.
이러한 화합물의 예는 다음과 같다:
- 2 내지 30몰의 에틸렌 옥사이드 및/또는 0 내지 5몰의 프로필렌 옥사이드와 8 내지 22개 탄소 원자를 갖는 선형 지방 알코올과, 12 내지 22개 탄소 원자를 갖는 지방산과 및 알킬 기에 8 내지 15개 탄소 원자를 갖는 알킬페놀과의 부가생성물,
- 1 내지 30몰의 에틸렌 옥사이드와 글리세롤의 부가 생성물의 C12-C22지방산 모노- 및 디-에스테르,
- C8-C22알킬-모노- 및 -올리고-글리코시드 및 그의 에톡시화된 유사체,
- 5 내지 60몰의 에틸렌 옥사이드와 피마자유 및 수소화된 피마자유의 부가 생성물,
- 에틸렌 옥사이드와 소르비탄 지방산 에스테르의 부가 생성물,
- 에틸렌 옥사이드와 지방산 알칸올아미드의 부가 생성물.
본 발명에 따른 모발-처리 조성물에 사용될 수 있는 양이온성 계면활성제의 예는 특히 4급화된 암모늄 화합물이다. 알킬트리메틸암모늄 클로라이드, 디알킬디메틸암모늄 클로라이드 및 트리알킬메틸암모늄 클로라이드와 같은 암모늄 할라이드, 예컨대 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 스테아릴트리메틸암모늄 클로라이드, 디스테아릴디메틸암모늄 클로라이드, 라우릴디메틸암모늄 클로라이드, 라우릴디메틸벤질암모늄 클로라이드 및 트리세틸메틸암모늄 클로라이드이다. 본 발명에 따라 사용될 수 있는 양이온성 계면활성제는 4급화된 단백질 가수분해물이다.
본 발명에 따라 또한 적합한 것은 양이온성 실리콘 오일, 예컨대 시판되는 제품 Q2-7224 (제조사: 다우 코닝: 안정화된 트리메틸실릴아모디메티콘), 다우 코팅 929 유제 (히드록시아미노-변성된 실리콘 함유, 이후 아모디메티콘으로 칭함), SM-2059 (제조사: 제네랄 일렉트릭), SLM-55067 (제조사: Wacker) 및 Abil®-Quat 3270 및 3272 (제조사: Th. Goldschmidt; 디4급화된 폴리디메틸실옥산, 쿼터늄-80)이다.
알킬아미도아민, 특히 상표명 Tego Amid® 18로 입수할 수 있는 스테아릴아미도프로필디메틸아민과 같은 지방산 아미도아민은 양호한 콘디셔닝 작용 뿐만 아니라 양호한 생분해성을 특징으로 한다.
4급화 에스테르 화합물, 소위 "에스테르쿼츠", 예컨대 상표명 Stepantex®으로 입수할 수 있는 메틸 히드록시알킬디알코일옥시알킬암모늄 메토술페이트는 아주 용이하게 생분해될 수 있다.
양이온성 계면활성제로 사용될 수 있는 4급화 당 유도체의 예는 CTFA 명명법에 따라서 "라우릴 메틸 글루세트-10 히드록시프로필 디모늄 클로라이드"로 불리는 상표명 Gluquat® 100 이다.
계면활성제로 사용되는 알킬기-함유 화합물은 단일 물질일 수 있지만, 식물 또는 동물 기원의 천연 원료의 사용이 이러한 물질의 제조 면에서 일반적으로 바람직하며, 그 결과 수득한 이러한 물질의 혼합물은 사용된 특정 출발 물질에 따라 상이한 알킬 사슬 길이를 갖는다.
에틸렌 및/또는 프로필렌 옥사이드와 지방산의 부가 생성물 또는 이러한 부가 생성물의 유도체인 계면활성제는 "정상적인" 상동 분포를 갖는 생성물 또는 제한된 상동 분포를 갖는 생성물일 수 있다. "정상적인" 상동 분포는 알칼리 금속, 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 금속 알코올레이트를 촉매로 사용한 지방 알코올 및 알킬렌 옥사이드의 반응에서 얻어진 상동체의 유의 혼합물로서 이해된다. 한편, 제한된 상동 분포는 히드로탈사이트, 에테르 카르복시산의 알칼리 금속염, 알칼리 금속 산화물, 수산화물 또는 알코올레이트를 촉매로서 사용할 때 얻어진다. 제한된 상동 분포를 갖는 생성물의 사용이 바람직할 수 있다.
활성 성분, 보조제 및 첨가제의 예는 다음과 같다:
- 비이온성 중합체, 예컨대 비닐피롤리돈/비닐 아크릴레이트 공중합체, 폴리비닐 피롤리돈 및 비닐피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체 및 폴리실옥산,
- 양이온성 중합체, 예컨대 4급화된 셀룰로오스 에테르, 4급화 기를 갖는 폴리실옥산, 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 중합체, 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 및 아크릴산의 공중합체 (상표명 Merquat® 280으로 입수할 수 있고 모발 착색에서의 용도는 예컨대 DE-A-4 421 031호, 특히 2페이지, 20-49행 또는 EP-A-953 334호, 특히 27페이지, 17행 내지 30페이지 11행에 기재되어 있음), 아크릴아미드/디메틸디알릴암모늄 클로라이드 공중합체, 디에틸-술페이트-4급화된 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/비닐피롤리돈 공중합체, 비닐피롤리돈/이미다졸리늄 메토클로라이드 공중합체,
- 4급화된 폴리비닐 알코올,
- 쯔비터이온성 및 양쪽성 중합체, 예컨대 아크릴아미도프로필-트리메틸암모늄 클로라이드/아크릴레이트 공중합체 및 옥틸아크릴아미드/메틸 메타크릴레이트/삼차부틸아미노에틸 메타크릴레이트/2-히드록시프로필 메타크릴레이트 공중합체,
- 음이온성 중합체, 예컨대 폴리아크릴산, 가교된 폴리아크릴산, 비닐 아세테이트/크로톤산 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐 아크릴레이트 공중합체, 비닐 아세테이트/부틸 말레에이트/이소보르닐 아크릴레이트 공중합체, 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체 및 아크릴산/에틸 아크릴레이트/N-삼차부틸 아크릴아미드 삼중합체,
- 증점제, 예컨대 당, 구아 검, 알기네이트, 크산탄 검, 아라비아 검, 카라야 검, 로커스트 빈 분말, 아마 검, 덱스트란, 예컨대 메틸 셀룰로오스, 히드록시 알킬 셀룰로오스 및 카르복시메틸 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 예컨대 아밀로오스, 아밀로펙틴 및 덱스트린 등의 녹말 분획 및 유도체, 예컨대 폴리비닐 알코올과 같은 벤토나이트 또는 충분한 합성 히드로콜로이드와 같은 점토,
- 구조화제, 예컨대 글루코오스 및 말레산,
- 모발 콘디쇼닝 화합물, 예컨대 콩 레시틴, 달걀 레시틴과 같은 인지질, 및 세팔린, 실리콘 오일 및 DE-A-19 729 080호, 특히 2페이지, 20-49행, EP-A-834 303호, 2페이지, 18행 내지 3페이지, 2행 또는 EP-A-312 343호, 특히 2페이지 59행 내지 3페이지 11행에 기재된 바와 같은 콘디쇼닝 화합물,
- 단백질 가수분해물, 특히 엘라스틴, 콜라겐, 케라틴, 우유 단백질, 콩 단백질 및 밀 단백질 가수분해물, 그와 지방산의 축합 생성물 및 4급화된 단백질 가수분해물,
- 향수 오일, 디메틸 이소소르비톨 및 시클로덱스트린,
- 용해제, 예컨대 에탄올, 이소프로판올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 글리세롤 및 디에틸렌 글리콜,
- 항-비듬 활성 성분, 예컨대 피로크톤, 올라민 및 아연 오마딘,
- pH값을 조정하기 위한 추가의 물질,
- 판테놀, 판토텐산, 알란토인, 피롤리돈카르복시산 및 그의 염, 식물 추출물 및 비타민과 같은 활성성분,
- 콜레스테롤,
- EP-A-819 422호, 특히 4페이지, 34-37행에 기재된 바와 같은 광안정화제 및 UV 흡수제,
- 농도(consistency) 조절제, 예컨대 당 에스테르, 폴리올 에스테르 또는 폴리올 알킬 에테르,
- 지방 및 왁스, 예컨대 경랍, 밀랍, 몬탄 왁스, 파라핀, 지방 알코올 및 지방산 에스테르,
- 지방 알칸올아미드,
- 예컨대 EP-A-801 942호, 특히 3페이지, 44-55행에 기재된 바와 같은 폴리에틸렌 글리콜 및 분자량 150∼50 000의 폴리프로필렌 글리콜,
- 착화제, 예컨대 EDTA, NTA 및 포스폰산,
- EP-A-962 219호, 특히 27페이지, 18-38행에 기재된 바와 같은 폴리올 및 폴리올 에테르 등의 팽윤 물질 및 침투 물질, 예컨대 글리세롤, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 부틸 글리콜, 벤질 알코올, 카르보네이트, 수소 카르보네이트, 구아니딘, 우레아 및 일차, 이차 및 삼차 포스페이트, 이미다졸, 탄닌, 피롤,
- 불투명화제, 예컨대 라텍스,
- 진주화제, 예컨대 에틸렌 글리콜 모노- 및 디-스테아레이트,
- 추진제, 예컨대 프로판-부탄 혼합물, N2O, 디메틸에테르, CO2 및 공기, 및 또한
- 산화방지제.
수성 담체의 성분은 본 발명에 따른 방법을 실시하기 위한 착색 조성물에 상기 목적에 통상적인 양으로 사용된다; 예컨대 유화제는 전체 염료 조성물 중량의 0.5∼30중량% 농도로 사용될 수 있고 증점제는 0.1∼25 중량% 농도로 사용될 수 있다.
즉시 사용할 수 있는 착색 제제의 pH값은 2∼11, 바람직하게는 5∼10이다.
케라틴-함유 섬유를 착색시키기 위해, 특히 인간의 모발을 착색시키기 위하여, 착색 조성물은 화장품용 수성 담체 형태로 50∼100 g의 양으로 모발에 도포되어 모발에서 약 30분 동안 방치된 다음 헹구어내거나 시판되는 헤어 샴푸를 이용하여 세척한다.
본 발명에 따라 사용된 염료 및 임의로 사용되는 산화 염료 전구체는 케라틴-함유 섬유에 동시에 또는 순차적으로 도포될 수 있으며, 그 순서는 중요하지 않다.
본 발명에 따라 사용되는 염료 및 임의로 사용되는 본 발명에 따른 조성물의 산화 염료 전구체는 개별적으로 저장되거나 또는 액체 내지 페이스트 유사 제제(수성 또는 비수성) 또는 건조 분말 형태로 함께 저장될 수 있다.
상기 성분들을 액체 제제로 함께 저장하면, 상기 제제는 성분의 반응을 감소시키기 위하여 실질적으로 무수 상태이어야 한다. 이들을 별도로 저장하면, 상기 반응 성분들은 사용하기 직전에 서로 긴밀하게 혼합한다. 건조 저장한 경우 사용하기 전에 소정 량의 뜨거운(50∼80℃) 물을 통상 부가하여 균일한 혼합물을 제조한다.
이하의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로 본 발명을 제한하지 않는다. 특별히 언급하지 않는 한, 부 및 %는 중량 기준이다. 특정 염료의 양은 착색될 물질을 기준으로 한 것이다.
실시예 1: 일반식(10)의 화합물의 제조
디아조화:
1몰의 4-플루오로아닐린(114.6g)을 20∼30℃에서 물 70ml 및 진한 염산 250 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다. 그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 188.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지(starch paper)로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
사르코신 109.1g을 물 100 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 1에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
용액을 완전히 증류 건조한 다음 무수 에탄올 500ml로 2회 추출한다. 염화나 트륨 염을 여과하여 제거한다. 여액을 회전 증발 증류에 의해 농축시킨다. 4∼5℃로 냉각함으로써 생성물을 석출시킨다. 현탁액을 여과해 낸 후, 에탄올 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 95g의 건조 생성물을 얻는다.
실시예 2: 일반식(11)의 화합물의 제조
디아조화:
1몰의 4-메톡시-아닐린(125.7g)을 20∼30℃에서 물 70ml 및 진한 염산 250 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다. 그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 188.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
사르코신 109.1g을 물 100 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 2에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
생성물이 석출되면, 현탁액을 여과해 낸 후, 에탄올 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 251g의 건 조 생성물을 얻는다.
실시예 3: 일반식(12)의 화합물의 제조
디아조화:
1몰의 4-니트로아닐린(140g)을 20∼30℃에서 물 400ml 및 진한 염산 250 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다. 그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 188.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
사르코신 109.1g을 물 100 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 3에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
현탁액을 여과해 낸 후, 염 용액 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 247g의 건조 생성물을 얻는다.
생성물은 1H-NMR 데이타로 특징지어지는 2 이성체의 혼합물이다.
실시예 4: 일반식(13)의 화합물의 제조
디아조화:
1몰의 2-플루오로아닐린(111.3g)을 20∼30℃에서 물 250ml 및 진한 염산 250 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다. 그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 188.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
사르코신 109.1g을 물 150 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 4에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
생성물이 석출되면, 현탁액을 여과해 낸 후, 염 용액 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 247g의 건조 생성물을 얻는다.
실시예 5: 일반식(14)의 화합물의 제조
디아조화:
1몰의 2,4-디플루오로아닐린(130g)을 20∼30℃에서 물 200ml 및 진한 염산 250 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다. 그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 188.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
사르코신 109.1g을 물 150 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 5에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
현탁액을 증류 건조한 후, 에탄올에 용해시킨 다음, 염으로부터 분리한 다음, 농축 및 여과하고, 에탄올 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 172g의 건조 생성물을 얻는다.
실시예 6: 일반식(15)의 화합물의 제조
디아조화:
0.5몰의 하기 일반식(15a)의 화합물(125g)을 20∼30℃에서 물 100ml 및 진한 염산 125 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다:
Figure 112005065340300-PCT00128
(15a)
그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 94.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
40% 디메틸아민 70g을 물 200 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 6에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
용액을 증류한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 233g의 건조 생성물을 얻는다.
생성물은 중수소화 메탄올(128 스캔)/360 MHz에서 1H-NMR 데이타로 특징지어진다.
실시예 7: 일반식(16)의 화합물의 제조
디아조화:
0.3몰의 하기 일반식(16a)의 화합물(113g)을 20∼30℃에서 물 300ml 및 진한 염산 84 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다:
Figure 112005065340300-PCT00129
(16a)
그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 94.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
40% 디메틸아민 79g을 물 200 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 7에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
현탁액을 여과하고, 염 용액 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 92g의 생성물을 얻는다.
생성물은 중수소화 메탄올(128 스캔)/360 MHz에서 1H-NMR 데이타로 특징지어 진다.
실시예 8: 일반식(17)의 화합물의 제조
디아조화:
0.5몰의 상기 일반식(15a)의 화합물(125g)을 20∼30℃에서 물 100ml 및 진한 염산 125 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다. 그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 94.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
사르코신 55g을 물 100 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 8에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
용액을 완전 건조될 때까지 증류하고 무수 에탄올 500 ml로 2회 추출한다. 염화나트륨 염을 여과 제거한다. 여액을 회전증발기로 증류시켜 농축시킨다. 4∼5℃로 냉각함으로써 생성물을 석출시킨다. 현탁액을 여과하고 에탄올 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 210g의 건조 생성물을 얻는다.
생성물은 중수소화 메탄올(128 스캔)/360 MHz에서 1H-NMR 데이타로 특징지어진다.
실시예 9: 일반식(18)의 화합물의 제조
디아조화:
0.3몰의 상기 일반식(16a)의 화합물(113g)을 20∼30℃에서 물 300ml 및 진한 염산 84 ml(약 32%)의 교반 용액에 첨가한다. 그 다음, 37%의 아질산 나트륨 용액 94.4g을, 온도가 0∼3℃로 유지되는 속도로 0℃에서 첨가한다. 첨가 후, 혼합물을 1 시간 동안 더 교반한 다음, 과량의 아질산염을 KI 전분지로 조절한다. KI 전분지가 더 이상 반응을 나타내지 않을 때 아질산염을 첨가한다. 반응 말기에 과량의 아질산염은 술팜산으로 파괴된다. 디아조-용액은 커플링되기 쉬우며 0℃에서 저장된다.
커플링:
사르코신 36g을 물 200 ml에 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 상기 실시예 8에서 제조된 디아조 용액과 수산화 나트륨 36% 용액을, pH 값이 9∼10의 범위로 유지되는 속도로 상기 용액에 서서히(약 1 시간) 첨가한다. 디아조 첨가가 종료될 때까지 0∼3℃에서 반응 온도를 유지한다. 그 다음, 현탁액을 실온까지 가온한 후, pH를 수산화 나트륨 용액으로 10.0으로 조절한다.
현탁액을 여과하고 염 용액 50 ml로 2회 세척한다. 축축한 생성물을 진공(40 ∼50 밀리바) 하에 50∼55℃에서 건조한다. 약 156g의 건조 생성물을 얻는다.
생성물은 중수소화 메탄올(128 스캔)/360 MHz에서 1H-NMR 데이타로 특징지어진다.
실시예 10
A) 트리아젠의 제조
43.4 g의 4-클로로-2-아미노-1-메틸벤젠을 81g의 32% 염산과 혼합하고 0℃로 냉각시킨다. 이어, 1시간에 걸쳐 75 ml의 4N 수성 아질산나트륨 용액을 교반하면서 적가하고, 온도를 0∼5℃로 유지시킨다. 생성한 용액을 250 ml의 물에 30 g의 사르코신 및 90 g의 탄산나트륨이 용해된 수용액에, 0∼5℃의 온도에서 15분간에 걸쳐 적가한다. 생성한 갈색 현탁액을 여과하고, 잔류물을 에탄올로부터 재결정화시키고 공기 중에서 건조한다. 66.2 g의 3-메틸-1-(5-클로로-2-메틸페닐)-3-(카르복시메틸)트리아젠을 갈색-황색 분말 형태로 얻는다(수율: 91%). 상기 화합물은 하기 구조식을 가지며 그의 1H-NMR 스펙트럼은 화학이동(chemical shifts)이 있었음을 보여준다.
실시예 10에 기재된 방법과 유사한 방법을 실시하여, 하기 일반식(19)-(31)의 화합물을 제조한다.
실시예 11/적용
착색 방법 A:
탈색된 인간 모발을 0.2M 트리아젠을 함유하며 탄산나트륨, 암모니아 또는 NaOH를 사용하여 pH 10.0으로 조정한 수용액 중에 실온에서 30분간 침지시킨다. 이 모발을 건져내고 과량의 용액을 닦아내며 4% 구연산나트륨 및 2% 구연산을 함유하는 pH 3의 완충액에 5분간 침지시킨다. 상기 모발을 물 및 적합한 경우 샴푸 용액으로 완전히 헹구고 건조한다. 상술한 색조로 착색된 모발을 얻으며, 탁월한 견뢰도 특성, 특히 내세척 특성을 갖는다.
착색 방법 B:
탈색된 인간 모발을 0.2M 트리아젠 및 0.2M의 과산화수소(6%)를 함유하며 탄산나트륨, 암모니아 또는 NaOH를 사용하여 pH 9.8-10.0 범위로 조정한 수용액 중에 실온에서 30분간 침지시킨다. 5∼30분간 접촉시킨 후, 모발을 헹구지 않고, WO 95/01772호 및 WO 01/66646호에 기재된 양이온 염료 군으로부터 선택된 양이온 염료 0.1 중량%를 함유하는 12.5% 농도의 수성 구연산 젤을, 원래 사용한 트리아젠 중량에 상응하는 양으로, 상기 모발에 도포한다. 모발을 완전히 빗질하고 pH 약 7을 얻는다. 15분간 접촉한 후, 처리된 모발을 WO 95/01772호 및 WO 01/66646호에 기재된 양이온 염료 군으로부터 선택된 양이온 염료 0.1 중량%와 12.5% 농도의 구연산을 포함하는 상기 혼합물로 상기 모발을 pH 4에서 5분 동안 다시 처리한 다음, 물로 완전히 헹군 후 건조한다. 탁월한 견뢰도, 특히 내세척성 및 내샴푸 특성을 갖는 모발을 얻는다.
착색 방법 C:
탈색된 인간 모발을 0.2M 트리아젠 및 0.2M의 과산화수소(6%)를 함유하며 탄산나트륨, 암모니아 또는 NaOH를 사용하여 pH 9.8-10.0 범위로 조정한 수용액 중에 실온에서 30분간 침지시킨다. 5∼30분간 접촉시킨 후, 모발을 헹구지 않고, WO 95/01772호 및 WO 01/66646호에 기재된 양이온 염료 군으로부터 선택된 양이온 염료 0.1 중량% 및 4% 구연산나트륨을 함유하는 12.5% 농도의 수성 구연산 젤을, 원래 사용한 트리아젠 중량에 상응하는 양으로, 상기 모발에 도포한다. 상기 모발을 완전히 빗질하고, 약 pH 3을 얻는다. 5∼30분간 접촉시킨 후, 모발을 물을 사용하여 완전히 헹구고 건조한다. 탁월한 견뢰성, 특히 양호한 내세척 특성을 갖는 모발을 얻는다.
착색 방법 D:
탈색된 인간 모발을 0.2M 트리아젠 및 0.2몰의 과산화수소(6%)를 함유하며 트리아젠 및 커플링 성분의 중량을 기준하여 WO 95/01772호 및 WO 01/66646호에 기재된 양이온 염료 군으로부터 선택된 양이온 염료를 0.1∼1중량% 함유하는 수용액중에 실온에서 30분간 침지시킨다. 이 모발을 탄산나트륨, 암모니아 또는 NaOH를 사용하여 pH 8-9 범위로 조정한다. 5∼30분간 접촉시킨 후, 모발을 헹구지 않고, 원래 사용된 트리아젠 및 커플링 성분 중량에 상응하는 양의 12.5% 농도의 수성 구연산 젤 및 4% 질산나트륨을 부가하고 모발을 완전히 빗질하고, 약 pH 3을 얻는다. 5∼30분간 접촉시킨 후, 모발을 물을 사용하여 완전히 헹구고 건조한다. 탁월한 견뢰성, 특히 양호한 내세척 특성을 갖는 모발을 얻는다.
실시예 11 내지 31
모발을 실시예에 나타낸 착색 방법A에 따라 트리아젠과 주어진 색조로 착색한다.
Figure 112005065340300-PCT00130
Figure 112005065340300-PCT00131
Figure 112005065340300-PCT00132
Figure 112005065340300-PCT00133
실시예 32
6% 과산화수소 용액 및 조성물 A의 동일 중량부(각각 5 g)의 혼합물을 사용하여 표백된 인간의 모발을 처리한다.
조성물 A:
세틸 스테아릴 알코올 11.00
올레스-5 5.0
올레산 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7
1,2-프로판디올 1.0
염화 암모늄 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2
향수 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2
실리카 0.1
2,5-디아미노톨루엔 술페이트 0.7
4-아미노-2-히드록시톨루엔 0.5
2,5,6-트리아미노-4-히드록시피리미딘 술페이트 0.2
아황산 나트륨 1.0
아스코르브산 0.5
실시예 1의 트리아젠 9.32
조성물 A: pH 9.8
물 100% 보충
실온, 약 22℃에서 15분간 접촉시킨 후, WO 01/66646호의 실시예 4와 유사하 게 제조한 화학식
Figure 112005065340300-PCT00134
의 보라색 염료 0.1 중량%를 함유하는 12.5% 농도 수성 구연산 젤의 혼합물 10g을 상기 모발에 도포한다. 이 모발을 완전히 빗질하였으며, 이때 약 pH 7이 얻어진다. 15분간 더 접촉시킨 후, 모발을 구연산 젤 및 보라색 염료의 상기 혼합물 10g 과 다시 처리하며, 이때 약 pH 4가 얻어진다. 상기 혼합물은 pH 4에서 5분간 더 작용하며 모발을 물 및 샴푸로 세척한 다음 다시 물로 세척한다. 모발을 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마모 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 1의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 32에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 염색한다.
실시예 33:
6% 과산화수소 용액 및 실시예 32에 따른 조성물 A의 동일 중량부(각각 5 g)의 혼합물을 사용하여 중간 정도의 금발인 인간의 모발을 착색시킨다.
상기 혼합물을 실온, 약 22℃에서 30분간 상기 모발 상에 작용시킨다. 실시 예 32중의 상기 화학식에 따른 보라색 염료 0.1 중량% 및 4% 구연산나트륨을 함유하는 2% 농도의 수성 구연산 젤 혼합물 10g을 상기 모발 상에 도포한다. 이어 모발을 완전히 빗질하며, 이때 약 pH 3이 얻어진다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹군 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마모 특성을 갖는 강하고, 진하며, 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 32에서 조성물 A의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 33에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 34:
6% 과산화수소 용액 및 조성물 B의 동일 중량부(각각 5 g)의 혼합물을 사용하여 표백된 인간의 모발을 착색시킨다.
조성물 B:
세틸 스테아릴 알코올 11.00
올레스-5 5.0
올레산 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7
1,2-프로판디올 1.0
염화 암모늄 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2
향수 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2
실리카 0.1
실시예 1의 트리아젠 9.32
조성물 C: pH 9.8
물 100% 보충
상기 혼합물을 약 22℃에서 30분간 상기 모발 상에 작용시킨다. 실시예 27의 상기 화학식에 따른 보라색 염료 0.1 중량% 및 4% 구연산나트륨을 함유하는 2% 농도의 수성 구연산 젤 혼합물 10g을 상기 모발 상에 도포한다. 이어 모발을 완전히 빗질하며, 이때 약 pH 3이 얻어진다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹군 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마모 특성을 갖는 강하고, 진하며, 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 34에서의 조성물 B의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 34에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 염색한다.
실시예 35:
6% 과산화수소 용액 및 조성물 C의 동일 중량부(각각 5 g)의 혼합물을 사용하여 금발의 손상되지 않은 인간의 모발을 착색시킨다.
조성물 C:
세틸 스테아릴 알코올 11.00
올레스-5 5.0
올레산 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7
1,2-프로판디올 1.0
염화 암모늄 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2
향수 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2
실리카 0.1
실시예 27의 보라색 염료 0.2
실시예 1의 트리아젠 9.32
조성물 C: pH 9.8
물 100% 보충
상기 혼합물을 약 22℃에서 30분간 상기 모발 상에 작용시킨다. 실시예 27의 상기 화학식에 따른 보라색 염료 0.1 중량% 및 4% 구연산나트륨을 함유하는 2% 농도의 수성 구연산 젤 혼합물 10g을 상기 모발 상에 도포한다. 이어 모발을 완전히 빗질하며, 이때 약 pH 3이 얻어진다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹군 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마모 특성을 갖는 강하고, 진하며, 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 35에서의 조성물 C의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 35에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 36:
금발의 손상되지 않은 인간의 모발을 조성물 D로 착색시킨다.
조성물 D:
세틸 스테아릴 알코올 11.00
올레스-5 5.0
올레산 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7
1,2-프로판디올 1.0
염화 암모늄 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2
향수 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2
실리카 0.1
실시예 27의 보라색 염료 0.2
실시예 1의 트리아젠 4.66
조성물 D: pH 10
물 100% 보충
상기 혼합물을 약 22℃에서 30분간 상기 모발 상에 작용시킨다. 4% 구연산나트륨을 함유하는 2% 농도의 수성 구연산 젤 혼합물 10g을 상기 모발 상에 도포한다. 이어 모발을 완전히 빗질하며, 이때 약 pH 3이 얻어진다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹군 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마모 특성을 갖는 강하고, 진하며, 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 36에서의 조성물 D의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 36에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 37:
조성물 E 10g을 사용하여 금발의 손상되지 않은 인간의 모발을 착색시킨다.
조성물 E:
세틸 스테아릴 알코올 11.00
올레스-5 5.0
올레산 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7
1,2-프로판디올 1.0
염화 암모늄 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2
향수 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2
실리카 0.1
실시예 1의 트리아젠 4.66
조성물 E: pH 10
물 100% 보충
상기 혼합물을 약 22℃에서 30분간 상기 모발 상에 작용시킨다. WO 01/11708호의 제조 실시예 6에 따라 제조될 수 있는 일반식(106)의 화합물인 화학식
Figure 112005065340300-PCT00135
의 적색 염료 0.1 중량% 및 4% 구연산 나트륨을 함유하는 2% 농도 수성 구연산 젤의 혼합물 10g을 상기 모발에 도포한 다음, 이 모발을 완전히 빗질하고, 이때 약 pH 3이 얻어진다. 5분간 더 접촉시킨 후, 모발을 헹군 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마모 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 37에서의 조성물 E의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 37에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 38:
조성물 F 10g을 사용하여 금발의 손상되지 않은 인간의 모발을 착색시킨다.
조성물 F:
세틸 스테아릴 알코올 11.00
올레스-5 5.0
올레산 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7
1,2-프로판디올 1.0
염화 암모늄 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2
향수 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2
실리카 0.1
실시예 1의 트리아젠 5.3
조성물 F: pH 10
물 100% 보충
30분간 접촉한 후, 세척해 내지 않고 US 6 248 314에 공지되고 다음 조성을 갖는 염료 혼합물을 모발에 도포한다:
흑색 번호 401 0.1
자색 번호 401 0.05
오렌지색 번호 205 0.1
벤질 알코올 2.0
에틸렌 카보네이트 10
프로필렌 카보네이트 15
에탄올 10
락트산 3.5
탄산나트륨 용액 pH 2.9
히드록시에틸 셀룰로오스 1.5
물 100% 보충
이 모발을 완전히 빗질하고, 이때 약 pH 3이 얻어진다. 15분간 더 접촉시킨 후, 모발을 물로 완전히 헹군 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마모 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 35에서 조성물 C의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 35에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 38:
조성물 A 및 C를 포함하는 조성물 10g을 사용하여 금발의 손상되지 않은 인간의 모발을 착색시킨다.
조성물 A C
세틸 스테아릴 알코올 11.00 11.00
올레스-5 5.0 5.0
올레산 2.5 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7 1.7
1,2-프로판디올 1.0 1.0
염화 암모늄 0.5 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2 0.2
향수 0.4 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2 0.2
실리카 0.1 0.1
2,5-디아미노톨루엔 술페이트 0.7
4-아미노-2-히드록시톨루엔 0.5
2,5,6-트리아미노-4-히드록시피리미딘 술페이트 0.2
아황산 나트륨 1.0
아스코르브산 0.5
실시예 1의 트리아젠 9.32
조성물: pH 10 10
물 100% 보충 100% 보충
상기 착색 혼합물을 약 22℃에서 모발 상에 30분간 작용시킨다. 2% 농도 수성 구연산 젤 10g을 모발 상에 도포하였다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹구고, 샴푸한 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마찰 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 색상을 얻었다.
실시예 38에서의 조성물 A의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 38에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 39:
6% 과산화수소 용액 15g 및 실시예 34에 따른 조성물 A 및 C 각각 5g으로 이루어진 조성물을 사용하여 금발의 손상되지 않은 인간의 모발을 착색시킨다.
상기 착색 혼합물을 약 22℃에서 모발 상에 30분간 작용시킨다. 2% 농도 수성 구연산 젤 10g을 모발 상에 도포한다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹구고, 샴푸한 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마찰 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 색상을 얻는다.
실시예 38에서 조성물 A의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 38에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 염색한다.
실시예 G(적용)
다음 표에 따라 인간 모발을 착색하기 위한 조성물 A, B, C, D, E, F 및 G
조성물 A C D1-D19** E-11 E19**** F* G4-G12***
세틸 스테아릴 알코올 11.00 11.00 11.00 11.00 11.00
올레스-5 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0
올레산 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5
스테아르산 모노에탄올아미드 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5
코코넛 지방산 모노에탄올아미드 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5
나트륨 라우릴 술페이트 1.7 1.7 1.7 1.7 1.7
1,2-프로판디올 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
염화 암모늄 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
EDTA, 테트라나트륨 염 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
향수 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4
밀 단백질 가수분해물 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
실리카 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
2,5-디아미노톨루엔 술페이트 0.7 0.7
4-아미노-2-히드록시톨루엔 0.5 0.5
2,5,6-트리아미노-4-히드록시피리미딘 술페이트 0.2 0.2
아황산 나트륨 1.0 1.0
아스코르브산 0.5 0.5
실시예 1의 트리아젠 9.33
실시예 15의 커플러
직접 염료 ** 0.4
직접 염료 *** 0.4
직접 염료 **** 0.4
흑색 번호 401 0.1
자색 번호 401 0.05
오렌지색 번호 205 0.1
벤질 알코올 2.0
에틸렌 카보네이트 10
프로필렌 카보네이트 15
에탄올 10
락트산 3.5
탄산나트륨 용액 pH 2.9
히드록시에틸 셀룰로오스 1.5
암모니아(25 %) 9.2 9.2 9.2 9.2 9.2
조성물: pH 9.8 9.8 9.8 9.8 9.8
물 100% 보충 100% 보충 100% 보충 100% 보충 100% 보충 100% 보충
*F: US 6 248 314에 공지된 염료 혼합물
** D1 - D10 은 다음 염료를 포함한다:
D1 에서 직접 염료**는 Basic Yellow 87이고;
D2 에서 직접 염료**는 Basic Orange 31이고;
D3 에서 직접 염료**는 Basic Red 51이고;
D4 에서 직접 염료**는 WO 01/66646에 기재된 실시예 4의 양이온 염료이고;
D5 에서 직접 염료**는 WO 02/31056에 기재된 실시예 6의 양이온 염료, 일반식(106)의 화합물이고;
D6 에서 직접 염료**는 하기 일반식(I)을 갖고:
Figure 112005065340300-PCT00136
상기 식에서, R1은 메틸이고, R2는 벤질이고, R3는 수소이고;
D7 에서 직접 염료**는 R1이 벤질이고, R2가 벤질이고, R3가 수소인 일반식(I)의 화합물이고;
D8 에서 직접 염료**는 R1이 벤질이고, R2가 메틸이고, R3가 수소인 일반식(I)의 화합물이고;
D10 에서 직접 염료**는 EP-A-714,954에 기재된 일반식(3)의 양이온 염료이다.
** D11 - D19 및 *** G1 - G9 는 다음 직접 염료를 포함한다:
D11에서 직접 염료** 및 G1에서 직접 염료***는 X-가 아세테이트인 일반식(4)의 화합물이고;
D12에서 직접 염료** 및 G2에서 직접 염료***는 X-가 클로라이드인 일반식(5)의 화합물이고;
D13에서 직접 염료** 및 G3에서 직접 염료***는 X-가 클로라이드인 일반식(6)의 화합물이고;
D14에서 직접 염료** 및 G4에서 직접 염료***는 X-가 클로라이드인 일반식(7)의 화합물이고;
D15에서 직접 염료** 및 G8에서 직접 염료***는 X-가 클로라이드인 일반식(8)의 화합물이고;
D16에서 직접 염료** 및 G9에서 직접 염료***는 X-가 브로마이드인 일반식(9)의 화합물이고;
D17에서 직접 염료** 및 G10에서 직접 염료***는 X-가 브로마이드인 일반식(10)의 화합물이고;
D18에서 직접 염료** 및 G11에서 직접 염료***는 X-가 클로라이드인 일반식(11)의 화합물이고;
D19에서 직접 염료** 및 G12에서 직접 염료***는 X-가 클로라이드인 일반식(12)의 화합물이고;
**** E6 - E19 ;
E6에서 직접 염료****는 D6의 직접 염료**와 동일하고;
E7에서 직접 염료****는 D7의 직접 염료**와 동일하고;
E8에서 직접 염료****는 D8의 직접 염료**와 동일하고;
E9는 직접 염료로서 Basic Yellow 87을 포함한다.
E10에서 직접 염료****는 D10의 직접 염료**와 동일하고;
E11에서 직접 염료****는 D11의 직접 염료**와 동일하고;
E12에서 직접 염료****는 D12의 직접 염료**와 동일하고;
E13에서 직접 염료****는 D13의 직접 염료**와 동일하고;
E14에서 직접 염료****는 D14의 직접 염료**와 동일하고;
E15에서 직접 염료****는 D15의 직접 염료**와 동일하고;
E16에서 직접 염료****는 D16의 직접 염료**와 동일하고;
E17에서 직접 염료****는 D17의 직접 염료**와 동일하고;
E18에서 직접 염료****는 D18의 직접 염료**와 동일하고;
E19에서 직접 염료****는 D19의 직접 염료**와 동일하다.
실시예 G/3
중간 정도의 금발로 손상되지 않은 인간 모발을 다음 3a), 3b) 또는 3c)의 경우로 착색시킨다:
3a) 6% 과산화수소 용액 20g과 조성물 A, C 및 G5 각각 5g으로 이루어진 조성물의 혼합물로 착색시키거나,
3b) 6% 과산화수소 용액 20g으로 먼저 착색시킨 다음, 조성물 A 5g으로 착색시킨 후, 조성물 C 5g과 조성물 G5 5g으로 착색시키거나, 또는
3c) 조성물 A 5g, 조성물 C 5g 및 조성물 G5 5g으로 먼저 착색시킨 다음, 6% 과산화수소 용액 20g으로 착색시킨다.
상기 착색 혼합물을 약 22℃에서 모발 상에 30분간 작용시킨다. 2% 농도 수성 구연산 젤 10g을 모발 상에 도포한다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹구고, 샴푸한 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마찰 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 적색을 얻는다.
조성물 A의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 G/3에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 G/4
금발의 손상되지 않은 인간 모발을 4a) 조성물 A 및 G9 각각 5g으로 이루어진 조성물로 착색시키고, 한편 착색 혼합물을 약 22℃에서 모발 상에 30분간 작용시킨다. 2% 농도 수성 구연산 젤 10g을 모발 상에 도포한다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹구고, 샴푸한 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마찰 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 적색의 착색을 얻는다.
실시예 (4a/ G9 )은 G9 대신에 G8이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 4a와 동일하다.
실시예 (4a/ G1 )은 G9 대신에 G7이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 4a와 동일하다.
조성물 A의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 G/4에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 착색한다.
실시예 G/5
중간 정도의 금발로 손상되지 않은 인간 모발을 다음 5a), 5b) 또는 5c)의 경우로 착색시킨다:
5a) 6% 과산화수소 용액 15g과 조성물 A 및 G6 각각 5g으로 이루어진 조성물의 혼합물로 착색시키거나,
5b) 6% 과산화수소 용액 15g으로 먼저 착색시킨 다음, 조성물 A 5g 및 조성 물 G6 5g으로 착색시키거나, 또는
5c) 조성물 A 5g 및 조성물 G6 5g으로 먼저 착색시킨 다음, 6% 과산화수소 용액 15g으로 착색시킨다.
상기 착색 혼합물을 약 22℃에서 모발 상에 30분간 작용시킨다. 2% 농도 수성 구연산 젤 10g을 모발 상에 도포한다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹구고, 샴푸한 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마찰 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 적색 착색을 얻는다.
실시예 (5a/ G5 )은 G6 대신에 G5가 사용되는 것을 제외하고는 실시예 5a와 동일하다.
실시예 (5a/ G10 )은 G6 대신에 G9이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 5a와 동일하다.
실시예 (5b/ G9 )은 G6 대신에 G8이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 5b와 동일하다.
실시예 (5b/ G1 )은 G6 대신에 G3이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 5b와 동일하다.
실시예 (5c/ G5 )은 G6 대신에 G4이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 5c와 동일하다.
실시예 (5c/ G1 )은 G6 대신에 G7이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 5c와 동일하다.
조성물 A의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 G/5에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 염색한다.
실시예 G/6
중간 정도의 금발로 손상되지 않은 인간 모발을 다음 6a), 6b) 또는 6c)의 경우로 착색시킨다:
6a) 6% 과산화수소 용액 15g과 조성물 A 및 G6 각각 5g으로 이루어진 조성물의 혼합물로 착색시키거나,
6b) 6% 과산화수소 용액 15g으로 먼저 착색시킨 다음, 조성물 A 5g 및 조성물 G6 5g으로 착색시키거나, 또는
6c) 조성물 A 5g 및 조성물 G6 5g으로 먼저 착색시킨 다음, 6% 과산화수소 용액 15g으로 착색시킨다.
상기 착색 혼합물을 약 22℃에서 모발 상에 30분간 작용시킨다. 2% 농도 수성 구연산 젤 10g을 모발 상에 도포한다. 5분간 접촉시킨 후, 모발을 완전히 헹구고, 샴푸한 다음 건조한다.
양호한 내세척성 및 내마찰 특성을 갖는 강하고, 진하며 눈에 띄는 적색 착색을 얻는다.
실시예 (6a/ G5 )은 G6 대신에 G5가 사용되는 것을 제외하고는 실시예 6a와 동일하다.
실시예 (6a/ G1 )은 G6 대신에 G12이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 6a와 동일하다.
실시예 (6b/ G9 )은 G6 대신에 G11이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 6b와 동일하다.
실시예 (6b/ G10 )은 G6 대신에 G10이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 6b와 동일하다.
실시예 (6c/ G5 )은 G6 대신에 G4이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 6c와 동일하다.
실시예 (6c/ G1 )은 G6 대신에 G7이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 6c와 동일하다.
조성물 A의 트리아젠 대신에 실시예 2 내지 31의 트리아젠으로부터 선택된 단일 트리아젠을 사용하는 것을 제외하고 실시예 G/6에 기재된 방법과 유사한 방법으로 모발을 염색한다.

Claims (14)

  1. a) 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 다공성 물질의 착색 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    a) 하기 화학식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 캡핑된 디아조늄 화합물 1 이상을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00137
    (1)
    Figure 112005065340300-PCT00138
    (2)
    Figure 112005065340300-PCT00139
    (3)
    Figure 112005065340300-PCT00140
    (4)
    Figure 112005065340300-PCT00141
    (5)
    상기 식에서,
    Q는 유기 화합물의 라디칼이고,
    R은 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이며, 또
    T는 비치환 또는 치환된 지방족 또는 방향족 잔기이고,
    여기서 상기 기들 중 적어도 하나는 반드시 수용성 부여 라디칼을 함유해야 한다.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    a) 하기 화학식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 캡핑된 디아조늄 화합물 1 이상을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00142
    (1)
    Figure 112005065340300-PCT00143
    (2)
    Figure 112005065340300-PCT00144
    (3)
    Figure 112005065340300-PCT00145
    (4)
    Figure 112005065340300-PCT00146
    (5)
    상기 식에서,
    Q는 비치환 페닐; 나프틸; 티오페닐; 1,3-티아졸릴; 1,2-티아졸릴; 1,3-벤조티아졸릴; 2,3-벤조티아졸릴; 이미다졸릴; 1,3,4-티아디아졸릴; 1,3,5-티아디아졸릴; 1,3,4-트리아졸릴; 피라졸릴; 벤즈이미다졸릴; 벤조피라졸릴; 피리디닐; 퀴놀리닐; 피리미디닐; 이소옥사졸릴; 아미노디페닐; 아미노디페닐에테르 또는 아조벤제닐이거나; 또는
    Q는 페닐, 나프틸, 티오페닐, 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 이소옥사졸릴; C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 할로겐, 이를테 면 불소, 브롬 또는 염소, 니트로, 트리플루오로메틸, CN, SCN, C1-C4알킬술포닐, 페닐술포닐, 벤질술포닐, 디-C1-C4알킬아미노술포닐, C1-C4알킬-카르보닐아미노, C1-C4알콕시술포닐에 의해 또는 디-(히드록시-C1-C4알킬)-아미노술포닐에 의해 일치환 또는 다중치환된 아조벤제닐, 아미노디페닐 및 아미노디페닐에테르이며; 또는
    Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼이고;
    R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나; 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나; 또는
    R은 비치환된 아닐린의 라디칼; 비치환된 아미노나프탈렌의 라디칼; 아닐린 또는 아미노나프탈렌의 라디칼이며, 이때 페닐 또는 나프틸 고리는 COOH, SO3H, CN, 할로겐, SO2-C1-C2알킬, 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬, OH, 카르복시, COC1-C2알킬 또는 SO2-N(C1-C4알킬)-(CH2)1-4SO3H에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환되며, 또 아미노 라디칼은 H, 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬, 또는 OH 또는 카르복시에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C4알킬에 의해 치환되고;
    T는 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6 알킬이거나, 또는
    T는 비치환된 페닐; 비치환된 나프틸; O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸이다.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 하나에 있어서,
    a) 하기 화학식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 캡핑된 디아조늄 화합물 1 이상을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00147
    (1)
    Figure 112005065340300-PCT00148
    (2)
    Figure 112005065340300-PCT00149
    (3)
    Figure 112005065340300-PCT00150
    (4)
    Figure 112005065340300-PCT00151
    (5)
    상기 식에서,
    Q는 비치환 페닐; 나프틸; 티오페닐; 1,3-티아졸릴; 1,2-티아졸릴; 1,3-벤조티아졸릴; 2,3-벤조티아졸릴; 이미다졸릴; 1,3,4-티아디아졸릴; 1,3,5-티아디아졸릴; 1,3,4-트리아졸릴; 피라졸릴; 벤즈이미다졸릴; 벤조피라졸릴; 피리디닐; 퀴놀리닐; 피리미디닐; 이소옥사졸릴; 아미노디페닐; 아미노디페닐에테르 또는 아조벤제닐이거나; 또는
    Q는 페닐, 나프틸, 티오페닐, 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 이소옥사졸릴; C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 할로겐, 이를테 면 불소, 브롬 또는 염소, 니트로, 트리플루오로메틸, CN, SCN, C1-C4알킬술포닐, 페닐술포닐, 벤질술포닐, 디-C1-C4알킬아미노술포닐, C1-C4알킬-카르보닐아미노, C1-C4알콕시술포닐 또는 디-(히드록시-C1-C4알킬)-아미노술포닐에 의해 일치환 또는 다중치환된 아조벤제닐, 아미노디페닐 및 아미노디페닐에테르이며; 또는
    Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼이고;
    R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나;
    T는 COOH, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬) 및 N(C1-C2알킬)2로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6 알킬이거나, 또는
    T는 비치환된 페닐; 비치환된 나프틸; O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, NH(C1-C2알킬), N(C1-C2알킬)2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸이다.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 하나에 있어서,
    a) 하기 일반식(1)을 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00152
    (1)
    상기 식에서,
    Q는 비치환 페닐; 나프틸; 티오페닐; 1,3-티아졸릴; 1,2-티아졸릴; 1,3-벤조티아졸릴; 2,3-벤조티아졸릴; 이미다졸릴; 1,3,4-티아디아졸릴; 1,3,5-티아디아졸릴; 1,3,4-트리아졸릴; 피라졸릴; 벤즈이미다졸릴; 벤조피라졸릴; 피리디닐; 퀴놀리닐; 피리미디닐; 이소옥사졸릴; 아미노디페닐; 아미노디페닐에테르 또는 아조벤제닐이거나; 또는
    Q는 페닐, 나프틸, 티오페닐, 1,3-티아졸릴, 1,2-티아졸릴, 1,3-벤조티아졸릴, 2,3-벤조티아졸릴, 이미다졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 1,3,5-티아디아졸릴, 1,3,4-트리아졸릴, 피라졸릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조피라졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 이소옥사졸릴; C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 할로겐, 이를테 면 불소, 브롬 또는 염소, 니트로, 트리플루오로메틸, CN, SCN, C1-C4알킬술포닐, 페닐술포닐, 벤질술포닐, 디-C1-C4알킬아미노술포닐, C1-C4알킬-카르보닐아미노, C1-C4알콕시술포닐 또는 디-(히드록시-C1-C4알킬)-아미노술포닐에 의해 일치환 또는 다중치환된, 아조벤제닐, 아미노디페닐 및 아미노디페닐에테르이며; 또는
    Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼이고;
    R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
  6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 하나에 있어서, 착색시킬 물질에 하기 일반식(40)의 양이온성 캡핑된 디아조늄 화합물을 도포하는 것을 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00153
    상기 식에서,
    A+는 유기 화합물의 양이온성 라디칼이고,
    R은 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이다.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 하나에 있어서, 착색시킬 물질에 하기 일반식(42a) 또는 (42b)의 양이온성 캡핑된 디아조늄 화합물을 도포하는 것을 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00154
    Figure 112005065340300-PCT00155
    상기 식에서,
    D+는 양이온성, 방향족, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭 화합물의 라디칼이고;
    M은 방향족 치환 또는 비치환된 화합물의 비라디칼이고;
    T는 방향족 치환 또는 비치환된 화합물의 라디칼이고;
    Q+는 양이온성, 방향족, 치환 또는 비치환된 헤테로시클릭 화합물의 비라디칼이고;
    R은 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이고;
    An은 음이온이다.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 하나에 있어서,
    a) 하기 일반식(1)을 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00156
    (1)
    상기 식에서,
    Q는 유기 화합물의 양이온 라디칼이고;
    R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 H; 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, 또 R17은 비치환 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이거나, 또는 O-C1-C4알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 구성된 군으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 이상의 치환기에 의해 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
  9. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나에 있어서,
    a) 하기 일반식(1)을 갖는 1 이상의 캡핑된 디아조늄 화합물을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 방법:
    Figure 112005065340300-PCT00157
    (1)
    상기 식에서,
    Q는 하기 일반식의 라디칼이고:
    Figure 112005065340300-PCT00158
    또는
    Figure 112005065340300-PCT00159
    상기 식에서, R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이고;
    R은 -NR16R17의 라디칼이고, 이때 R16은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이고, R17은 비치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, 또는 O-C1-C2알킬, COOH, COO-C1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 동일 또는 상이한 치환체로 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬이다.
  10. 제 1항 내지 제 9항 중 어느 하나에 있어서,
    a) 제 2항에서 정의한 화학식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 캡핑된 디아조늄 화합물 2 이상을 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 상기 물질에 존재하는 캡핑된 디아조늄 화합물을 모발과 반응시키는 단계
    를 포함하는 방법.
  11. 제 1항 내지 제 10항 중 어느 하나에 있어서,
    a) 제 2항에서 정의한 화학식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 캡핑된 디아조늄 화합물 1 이상을, 알칼리 조건 하에서 임의적으로는 산화제의 존재하에 그리고 임의로는 추가 염료 존재 하에서 착색시킬 물질에 도포하는 단계 및
    b) 착색시킬 물질을 산으로 처리하는 단계
    를 포함하는 방법.
  12. 하기 일반식(6) 또는 (7)의 화합물:
    Figure 112005065340300-PCT00160
    (6)
    Figure 112005065340300-PCT00161
    (7)
    상기 식에서,
    R80 및 R81은 서로 독립적으로 수소; 비치환 또는 치환된 선형 또는 측쇄 C1-C6알킬, OC1-C4알킬, COOH, COOC1-C2알킬, SO3H, NH2, CN, 할로겐 및 OH이고;
    R은 비치환 또는 치환된, 수용성 지방족 또는 방향족 아민의 라디칼이다.
  13. 하기 성분 a) 내지 d)를 포함하는, 제 1항 내지 제 12항 중 어느 하나에 따른 방법을 실시하기 위한 착색 조성물:
    a) 제 2항에 정의된 일반식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 화합물 1이상;
    b) pH를 조정하기 위한 매체;
    c) 물, 및 임의로는
    d) 추가 첨가제.
  14. 하기 성분 a) 내지 f)를 포함하는, 제 11항에 따른 방법을 실시하기 위한 착색 조성물:
    a) 제 2항에 정의된 일반식(1), (2), (3), (4) 또는 (5)의 화합물 1이상;
    b) pH를 조정하기 위한 매체;
    c) 물,
    e) 추가 염료, 바람직하게는 산화 염료, 또는 양이온성, 음이온성 또는 비전하 직접 염료, 및
    f) 임의로는, 추가 첨가제.
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