KR20060011586A - 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비 - Google Patents

기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비 Download PDF

Info

Publication number
KR20060011586A
KR20060011586A KR1020040060489A KR20040060489A KR20060011586A KR 20060011586 A KR20060011586 A KR 20060011586A KR 1020040060489 A KR1020040060489 A KR 1020040060489A KR 20040060489 A KR20040060489 A KR 20040060489A KR 20060011586 A KR20060011586 A KR 20060011586A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carrier
substrate
magnet
magnets
guide
Prior art date
Application number
KR1020040060489A
Other languages
English (en)
Inventor
이천수
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020040060489A priority Critical patent/KR20060011586A/ko
Publication of KR20060011586A publication Critical patent/KR20060011586A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67748—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a single workpiece

Abstract

본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것으로, 비접촉 방식으로 기판을 이송하는 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비에 관한 것이다.
본 발명은 액정 표시 장치를 제조하는 공정에 있어서 스퍼터링 프로세서에서 사용되는 비접촉식 기판 이송 시스템에서 기판의 캐리어 및 캐리어 가이드의 구조를 변경하여 자기력을 강화함으로써 양호한 품질의 액정 표시 장치를 제조할 수 있도록 한다.
본 발명에 따르면, 스퍼터링 공정 중에도 이송되는 기판이 흔들리지 않도록 하고, 캐리어의 이탈을 방지하여 막질을 균일하게 해줌으로써 양호한 패턴을 형성할 수 있어 고품질의 액정 표시 장치를 제조할 수 있으며, 비용을 절감하고 자기력을 향상시켜 기판의 이송을 안정적으로 할 수 있으므로 스퍼터링을 용이하게 할 수 있다.
스퍼터링, 자석, 비접촉식, 캐리어

Description

기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비{substrate moving device and the sputtering process apparatus}
도 1은 종래 기술에 따른 스퍼터링 프로세스를 보여주는 순서도.
도 2는 기판 이송 시스템의 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도 3은 본 발명에 따른 기판 이송 장치를 보여주는 단면도.
도 4는 도 3에서 'A' 부분을 확대하여 도시한 도면.
도 5는 본 발명에 따른 기판 이송 장치에 의한 스퍼터링 프로세스 챔버를 보여주는 도면.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>
200, 300 : 진공 챔버 344 : 타겟(target)
211, 311 : 캐리어 가이드 213, 313 : 롤러
220a, 220b, 220c, 220d : 캐리어 가이드 자석
230a, 230b, 230c, 230d : 캐리어 자석
240, 340 : 캐리어 250, 350 : 기판
241 : 돌출부
본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것으로, 비접촉 방식으로 기판을 이송하는 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비에 관한 것이다.
최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판 표시장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었는데, 그 중 색 재현성 등이 우수한 액정 표시 장치(liquid crystal display)가 활발하게 개발되고 있다.
일반적으로 액정 표시 장치는 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이므로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.
액정 표시 장치의 하부 기판은 화소 전극에 신호를 인가하기 위한 박막 트랜지스터를 포함하는 어레이 기판으로 박막을 형성하고 사진 식각하는 공정을 반복함으로써 이루어지고, 상부 기판은 컬러 필터를 포함하는 기판으로 컬러 필터는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 세 가지 색이 순차적으로 배열되어 있으며, 안료 분산법이나 염색법, 전착법 등의 방법으로 제작된다.
상기 액정 표시 장치에서는 색을 구현하기 위해 빛의 삼원색에 해당하는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 컬러 필터를 사용하는데, 상기 컬러 필터를 인접하게 배치시키고 각각의 컬러 필터에 해당하는 색신호를 인가하여 밝기를 제어함으로써 색을 표현한다.
그리고, 상기 컬러 필터 기판은 일정한 순서로 배열되어 색상을 구현하는 컬러 필터층과, 각 컬러 필터 셀 사이의 구분과 광차단 역할을 하는 블랙 매트릭스(black matrix)와, 그리고 액정 셀에 전압을 인가해 주기 위한 공통 전극으로 구성되어 있다.
이와 같이 형성되는 액정 표시 장치를 형성하는 공정에 있어서 패턴을 형성하기 위해서는 스퍼터링(sputtering) 공정이 필수적이다.
일반적으로 반도체 기술 및 액정 표시 장치에서 사용되는 스퍼터링 장치는 플라즈마에 의해 이온을 가속시켜 이온을 타겟(target)에 충돌하게 하여 기판(substrate)에 타겟 물질을 성막(forming film)하는 장비이다.
고온에서 진행되는 화학 증착 장치에 비해 스퍼터링 장치는 기판을 저온 상태로 유지하면서 박막을 형성할 수 있다는 장점이 있어 수지(resin)에 성막하는 공정에도 적용된다.
상기 스퍼터링 장치는 비교적 간단한 구조로 짧은 시간에 막을 형성할 수 있기 때문에 반도체 소자 생산과 액정 표시 장치 제조에 널리 이용되고 있다.
즉, 액정 표시 장치에서 알루미늄(Al), 탄탈륨(Ta), 크롬(Cr) 등의 금속 박막을 형성하거나 ITO(Indium Tin Oxide) 박막 형성, 절연막 형성 등에 사용된다.
특히, 액정 표시 장치의 어레이 기판에 형성되는 것은 박막 트랜지스터 전극 및 배선용 금속 패턴, 화소 전극 등의 전도성 물질이다.
도 1은 종래 기술에 따른 스퍼터링 프로세스를 보여주는 순서도이고, 도 2는 기판 이송 시스템의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래 기술에 따른 스퍼터링 프로세서 장비는 인-라인(in-line) 타입으로 구성되어 있으며, 스퍼터링 챔버 이전에 기판이 로딩되는 로딩부와, 스퍼터링 공정이 수행되는 진공의 스퍼터링 챔버와, 상기 스퍼터링 챔버에서 언로딩되는 언로딩부로 이루어진다.
이때, 상기 스퍼터링 프로세서 장비는 인라인 타입의 기판 이송 시스템이 사용되며, 일반적으로 상기 기판을 직각으로 세워서 이동한다.
그리고, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 기판 이송 시스템은 챔버(chamber) (100)내에서 기판(150)을 직각으로 세워서 캐리어(140)에 의해 이동 방향으로 이동한다.
이때, 상기 기판(150)의 상부 또는 하부에서의 구동을 통해서 상기 캐리어(140)에 구동력을 제공하는데, 일반적으로 하부에서 구동력을 제공하고 있으며 상부에서 자기력을 이용한 비접촉식 방식을 사용하고 있다.
여기서, 캐리어(140)는 상부에서 자기력 구간을 형성하기 위한 구조로 형성하고 하부에는 롤러(113)에 캐리어 바(carrier bar)가 놓여지는 형태의 수직 이송 구조를 가진다.
도 2에서, 캐리어 가이드(111)의 양쪽 사이드에 제 1, 2 자석(120a, 120b) 이 배치되어 있고, 상기 제 1, 2 자석(120a, 120b)은 N극 또는 S극이 내측으로 향하게 고정한다.
그리고, 상기 기판(150)을 이송시키는 캐리어(140)는 상기 캐리어 가이드(111) 양쪽 사이드 방향으로 자석을 배치하고 상기 캐리어 가이드(111)가 N 극의 경우에는 캐리어에 배치된 자석(130)도 N극, 상기 캐리어 가이드가 S극일 경우에는 캐리어에 배치된 자석(130)도 S극으로 배치하여 양쪽 사이드에 같은 자력을 설치하여 서로 밀어내는 척력을 이용하여 캐리어(140)가 상기 캐리어 가이드(111) 사이에서 중앙을 유지하며 이송될 수 있도록 한다.
그런데, 이와 같은 종래 방식의 기판 이송 시스템은 스퍼터링 프로세서 진행시에 자석의 세기가 약해지면 캐리어의 이탈 현상이 발생하며, 이로 인해 기판의 글래스가 깨어지는 현상이 발생하는 문제점이 있다.
또한, 스퍼터링 챔버에서 이송시에 상기 캐리어와 캐리어 가이드 사이의 자기력이 불안정해지거나 약해지면 상기 기판이 흔들리게 되고, 이로 인하여 기판에 형성되는 막이 불균일해지게 된다.
또한, 이로 인하여 상기 기판에 형성된 막에 패턴을 형성할 경우에 균일한 패턴이 형성되지 않으며 이로 인하여 불량이 발생할 수 있다.
본 발명은 액정 표시 장치를 제조하는 공정에 있어서 스퍼터링 프로세서에서 사용되는 비접촉식 기판 이송 시스템에서 기판의 캐리어 및 캐리어 가이드의 구조를 변경하여 자기력을 강화함으로써 양호한 품질의 액정 표시 장치를 제조할 수 있도록 하는 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비를 제공하는 데 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 기판 이송 장치는, 챔버(chamber)와; 상기 챔버 내에서 기판을 이동시키며 상부는 이동 방향에 대해 양측으로 소정 돌출하는 'ㅜ'형상의 돌기를 가지는 캐리어(carrier)와; 상기 캐리어의 돌기를 감싸도록 'ㄷ'형상의 마주보는 한쌍의 캐리어 가이드(carrier guide)와; 상기 캐리어의 양측 돌기 상, 하에 형성된 캐리어 자석과; 상기 캐리어 자석과 대향하는 위치에 배치된 캐리어 가이드 자석을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 대향하는 캐리어 자석과 캐리어 가이드 자석은 일렬로 정렬되는 것을 특징으로 한다.
상기 대향하는 캐리어 자석과 캐리어 가이드 자석 사이에는 상하로 척력이 작용되는 것을 특징으로 한다.
상기 대향하는 캐리어 자석과 캐리어 가이드 자석은 동일한 극성을 가지는 자석으로 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 한쌍의 캐리어 가이드 끝단의 간격은 캐리어 상부의 돌기 길이보다 작은 것을 특징으로 한다.
상기 캐리어는 하부와 접촉되는 롤러에 의해서 이동되는 것을 특징으로 한다.
상기 기판은 수직으로 세워져 이동되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 스퍼터링 프로세스 장비는, 진공 챔버와; 상기 진공 챔버 내에 배치되는 타겟(target)과; 상기 타겟 물질이 증착되는 기판과; 상기 기판과 타겟에 연결되어 그 사이에 전기장을 형성하여 플라즈마(plasma)가 발생하도록 하는 전원부와; 상기 진공 챔버 내에서 기판을 이 동시키며 상부는 이동 방향에 대해 양측으로 소정 돌출하는 'ㅜ'형상의 돌기를 가지는 캐리어(carrier)와; 상기 캐리어의 돌기를 감싸도록 'ㄷ'형상의 마주보는 한쌍의 캐리어 가이드(carrier guide)와; 상기 캐리어의 양측 돌기 상, 하에 형성된 캐리어 자석과; 상기 캐리어 자석과 대향하는 위치에 배치된 캐리어 가이드 자석을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명의 구체적인 실시예에 대해서 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 기판 이송 장치를 보여주는 단면도이고, 도 4는 도 3에서 'A' 부분을 확대하여 도시한 도면이다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 이송 장치는 인-라인(in-line) 타입으로 구성되어 있으며, 챔버 내에 구비된 롤러에 의해서 기판이 부착된 캐리어가 이동 방향으로 이동하는 구조이다.
본 발명에 따른 기판 이송 장치는, 챔버(chamber)(200)와, 상기 챔버(200) 내에서 기판(250)을 이동시키며 상부는 이동 방향에 대해 양측으로 소정 돌출하는 'ㅜ'형상의 돌출부(241)를 가지는 캐리어(carrier)(240)와, 상기 캐리어(240)의 돌출부(241)를 감싸도록 'ㄷ'형상의 마주보는 한쌍의 캐리어 가이드(carrier guide)(211)와, 상기 캐리어(240)의 양측 돌출부(241) 상, 하에 형성된 캐리어 자석(230a, 230b, 230c, 230d)과, 상기 캐리어 자석(230a, 230b, 230c, 230d)과 대향하는 위치에 배치된 캐리어 가이드 자석(220a, 220b, 220c, 220d)을 포함하여 이루어진다
이때, 상기 기판 이송 장비는 인라인 타입의 기판 이송 시스템이 사용되며, 상기 기판(250)을 직각으로 세워서 이동한다.
그리고, 상기 기판 이송 장비는 챔버(chamber)(200) 내에서 기판(250)을 직각으로 세워서 캐리어(240))에 의해 이동되는데, 상기 기판(250)의 상부 또는 하부에서의 구동을 통해서 상기 캐리어(240)에 구동력을 제공한다.
여기서, 상기 캐리어(240)의 하부에서 구동력을 제공하고 있으며, 이 구동력에 의해서 상기 롤러(213)가 기판(250)을 이송시킨다.
그리고, 상기 캐리어(240)의 상부에서는 캐리어(240)와 캐리어 가이드(211) 사이의 자기력을 이용한 비접촉식 방식으로 상기 캐리어(240)를 중앙에 배치시킨다.
여기서, 캐리어(240)는 상부에서 자기력 구간을 형성하기 위한 구조로 형성하고 하부에는 롤러(213)에 캐리어 바(carrier bar)가 놓여지는 형태의 수직 이송 구조를 가진다.
상기 챔버(200)에는 캐리어 가이드(211)가 형성되어 있는데, 상기 캐리어 가이드(211)는 그 단면이 'ㄷ' 모양인 캐리어 가이드가 마주보는 모양으로 이루어지며, 내부 홈에 'ㅜ' 모양의 캐리어(240) 상부가 삽입되어 이송될 수 있도록 한다.
그리고, 상기 캐리어 가이드(211)와 캐리어(240)는 대향하는 위치에 동일한 극성의 자석을 구비한다.
상기 캐리어 가이드(211)에는 상, 하에 제 1~4 자석(220a, 220b, 220c, 220d)이 배치되어 있고, 상기 제 1 ~ 4 자석(220a, 220b, 220c, 220d)은 N극 또는 S극이 내측으로 향하게 고정한다.
그리고, 상기 기판(250)을 이송시키는 캐리어(240)는 상기 캐리어 가이드(211)에 형성되어 있는 제 1~4 자석(220a, 220b, 220c, 220d)과 마주하도록 제 5~8 자석(230a, 230b, 230c, 230d)을 배치하고 상기 캐리어 가이드(211)에 형성된 자석이 N극의 경우에는 마주하는 캐리어의 자석도 N극, 상기 캐리어 가이드에 형성된 자석이 S극일 경우에는 마주하는 캐리어의 자석도 S극으로 배치하여 서로 밀어내는 척력을 이용하여 캐리어가 상기 캐리어 가이드 사이에서 중앙을 유지하며 이송될 수 있도록 한다.
도 3을 참조하면, 상기 캐리어 가이드(211)는 'ㄷ'자형으로 마주보도록 배치하여 그 사이에 캐리어(240)가 삽입되도록 하여 캐리어 바의 이탈을 구조적으로 방지한다.
또한, 상기 캐리어 가이드(211)와 캐리어(240)의 대향 면적을 넓힘으로써 상기 캐리어(240) 및 캐리어 가이드(211)에 배치되는 자석에 의한 자기력을 증가시킨다.
이때, 상기 캐리어 가이드(211)와 캐리어(240)의 돌출부(241)에 자석을 상, 하로 배치하여 상기 캐리어 가이드(211)와 캐리어(240) 사이에 발생되는 척력이 상, 하로 작용하게 한다.
따라서, 상기와 같이 자석의 상, 하 배치로 인해 상기 캐리어(240)의 이탈을 방지하고, 캐리어(240)의 아래 방향으로의 이탈도 아래쪽의 캐리어 가이드(211)의 자석에 의해서 다시 위로 밀려서 구조적으로 캐리어(240)의 이탈이 방지된다.
이때, 상기 캐리어 가이드(211) 상부 및 하부의 중심에 자석을 배치하고, 상기 캐리어 가이드(211)와 캐리어(240)의 대향하는 자석은 일렬로 정렬시킨다.
그리고, 상기 자석 간의 거리는 수~수십 mm의 이격거리가 있다.
또한, 서로 마주보는 상기 캐리어 가이드(211) 사이의 최단 거리는 삽입되는 캐리어(240)의 폭에 비해 좁게 설계되는 것이 상기 캐리어(240)의 이탈 방지를 위해서 바람직하다.
도 5는 본 발명에 따른 기판 이송 장치에 의한 스퍼터링 프로세스 챔버를 보여주는 도면이다.
도 5를 참조하면, 액정 표시 장치 기판 상에 금속막을 증착하는 스퍼터링 프로세스 챔버는, 진공 챔버(300)와, 전원부(361, 363), 타겟(target)(344), 및 금속막이 증착되는 기판(350)으로 구성된다.
그리고, 상기 기판(350)은 본 발명에 따른 기판 이송 장치에 의해서 이송되어 스퍼터링 프로세스 챔버 안으로 인입된다.
이때, 상기 기판 이송 장치는 상기 기판(350)이 부착되어 이송되는 캐리어 (340)를 구비하며, 상기 캐리어(340)의 상부에서는 캐리어(340)와 캐리어 가이드(311) 사이의 자기력을 이용한 비접촉식 방식으로 상기 캐리어(340)를 중앙에 배치시킨다.
여기서, 캐리어(340)는 상부에서 자기력 구간을 형성하기 위한 구조로 형성하고 하부에는 롤러(313)에 캐리어 바(carrier bar)가 놓여지는 형태의 수직 이송 구조를 가진다.
그리고, 상기 캐리어 가이드(311)는 그 단면이 'ㄷ' 모양으로 캐리어 가이드(311)가 서로 마주보는 모양으로 이루어지며, 내부 홈에 'ㅜ' 모양의 캐리어(340) 상부가 삽입되어 이송될 수 있도록 한다.
그리고, 상기 캐리어 가이드(311)와 캐리어(340)는 상, 하부에서 마주보는 대향면에 동일한 극성의 자석(320a, 320b, 320c, 320d)(330a, 330b, 330c, 330d)을 구비한다.
상기 전원부는 고주파 발생기(radio frequence generator:RF)(363)와 직류 전원(direct current power supply:DC power supply)(361)으로 구성되며 각 단자는 기판(350)과 타겟(344)에 연결되어 그 사이에 전기장을 형성하여 플라즈마(plasma)가 발생하도록 조성한다.
상기 타겟(344)은 증착할 금속 물질을 지지하는 부분으로 상기 타겟(344) 외에 백 플레이트(back plate)(346), 마그네트(magnet)(347) 등으로 구성되어 있다.
상기 백 플레이트(346)는 상기 타겟(344)을 고정하고 지지하는 판이며, 상기 마그네트(347)는 발생하는 전자 이온의 낭비를 방지하기 위하여 스퍼터링 효율을 향상시키기 위해 상기 타겟(344) 전방에 자기장을 발생시키는 구성 요소이다.
상기와 같은 구조를 가지는 스퍼터링 프로세스 챔버는 상기 전원부(361, 363)에서 고주파를 발생시키면서 직류전원을 인가하면 전기장의 작용으로 타겟(344)에서 전자가 발생하고 이 전자들은 양극단으로 가속된다.
그리고, 상기 가속된 전자들은 상기 프로세스 챔버에 공급된 가스(예를 들어, Ar가스)와 충돌하여 가스가 이온화된다.
이때 이온화된 가스는 전기장의 작용으로 상기 타겟(344)을 가격하여 타겟(344) 표면에 타겟 원자들이 이탈되는 스퍼터링 현상이 발생된다.
한편, 상기 타겟(344)에서 방출되어 양극단으로 가속되는 전자는 중성 원자와 충돌하여 여기되고 이때 플라즈마가 발생한다.
상기 플라즈마는 외부의 전위가 유지되고 전자가 계속 발생할 경우 유지된다.
이와 같이, 본 발명에 따른 기판 이송 장치에 의해서 상기 스퍼터링 프로세스 챔버 내로 인입된 기판에 스퍼터링에 의해서 막이 형성되는데, 이때 비접촉식의 캐리어에 의해서 챔버 내로 이송되는 기판은 스퍼터링 공정 중에도 흔들림이 없고 캐리어의 이탈을 방지하여 막질을 균일하게 해준다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 기판 이송 장치 및 그 제조 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
본 발명에 따른 비접촉식 기판 이송 장치는 액정 표시 장치 제조시에 스퍼터링 공정 중에도 이송되는 기판이 흔들리지 않도록 하고, 캐리어의 이탈을 방지하여 막질을 균일하게 해줌으로써 양호한 패턴을 형성할 수 있어 고품질의 액정 표시 장치를 제조할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 비접촉식 기판 이송 장치는 캐리어의 구조와 자석을 배치를 변경함으로써 캐리어의 이탈 현상을 구조적으로 개선할 수 있어 비용을 절감하고 자기력을 향상시켜 기판의 이송을 안정적으로 할 수 있으므로 스퍼터링을 용이하게 할 수 있는 효과가 있다.

Claims (10)

  1. 챔버(chamber)와;
    상기 챔버 내에서 기판을 이동시키며 상부는 이동 방향에 대해 양측으로 소정 돌출하는 'ㅜ'형상의 돌출부를 가지는 캐리어(carrier)와;
    상기 캐리어의 돌출부를 감싸도록 'ㄷ'형상의 마주보는 한쌍의 캐리어 가이드(carrier guide)와;
    상기 캐리어의 양측 돌출부 상, 하에 형성된 캐리어 자석과;
    상기 캐리어 자석과 대향하는 위치에 배치된 캐리어 가이드 자석을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 대향하는 캐리어 자석과 캐리어 가이드 자석은 일렬로 정렬되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 대향하는 캐리어 자석과 캐리어 가이드 자석 사이에는 상하로 척력이 작용되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 대향하는 캐리어 자석과 캐리어 가이드 자석은 동일한 극성을 가지는 자석으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 한쌍의 캐리어 가이드 끝단의 간격은 캐리어 상부의 돌출부 길이보다 작은 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 캐리어는 하부와 접촉되는 롤러에 의해서 이동되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 기판은 수직으로 세워져 이동되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  8. 진공 챔버와;
    상기 진공 챔버 내에 배치되는 타겟(target)과;
    상기 타겟 물질이 증착되는 기판과;
    상기 기판과 타겟에 연결되어 그 사이에 전기장을 형성하여 플라즈마(plasma)가 발생하도록 하는 전원부와;
    상기 진공 챔버 내에서 기판을 이동시키며 상부는 이동 방향에 대해 양측으 로 소정 돌출하는 'ㅜ'형상의 돌출부를 가지는 캐리어(carrier)와;
    상기 캐리어의 돌출부를 감싸도록 'ㄷ'형상의 마주보는 한쌍의 캐리어 가이드(carrier guide)와;
    상기 캐리어의 양측 돌출부 상, 하에 형성된 캐리어 자석과;
    상기 캐리어 자석과 대향하는 위치에 배치된 캐리어 가이드 자석을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 프로세스 장비.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 캐리어에 부착된 기판은 수직으로 세워져 이동되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 프로세스 장비.
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 대향하는 캐리어 자석과 캐리어 가이드 자석은 동일한 극성을 가지는 자석으로 형성된 것을 특징으로 하는 스퍼터링 프로세스 장비.
KR1020040060489A 2004-07-30 2004-07-30 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비 KR20060011586A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040060489A KR20060011586A (ko) 2004-07-30 2004-07-30 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040060489A KR20060011586A (ko) 2004-07-30 2004-07-30 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060011586A true KR20060011586A (ko) 2006-02-03

Family

ID=37121609

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040060489A KR20060011586A (ko) 2004-07-30 2004-07-30 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060011586A (ko)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100883722B1 (ko) * 2006-03-29 2009-02-12 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 가동 안내레일을 구비한 진공이송장치
KR101232167B1 (ko) * 2006-06-30 2013-02-12 엘지디스플레이 주식회사 엘시디 패널 검사장치
KR101281664B1 (ko) * 2011-12-29 2013-07-03 엘아이지에이디피 주식회사 리프트 핀을 구비하는 기판 처리장치
KR101327326B1 (ko) * 2013-05-07 2013-11-11 국방과학연구소 경로 산출 장치 및 방법
WO2017217816A1 (ko) * 2016-06-16 2017-12-21 (주)브이앤아이솔루션 기판처리장치
CN110106479A (zh) * 2018-02-01 2019-08-09 三星显示有限公司 显示装置的制造装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100883722B1 (ko) * 2006-03-29 2009-02-12 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 가동 안내레일을 구비한 진공이송장치
US8282089B2 (en) 2006-03-29 2012-10-09 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Vacuum transport device with movable guide rail
KR101232167B1 (ko) * 2006-06-30 2013-02-12 엘지디스플레이 주식회사 엘시디 패널 검사장치
KR101281664B1 (ko) * 2011-12-29 2013-07-03 엘아이지에이디피 주식회사 리프트 핀을 구비하는 기판 처리장치
KR101327326B1 (ko) * 2013-05-07 2013-11-11 국방과학연구소 경로 산출 장치 및 방법
US8965686B2 (en) 2013-05-07 2015-02-24 Agency For Defense Development Apparatus and method for computing vehicle path by considering satellite communication channel states
WO2017217816A1 (ko) * 2016-06-16 2017-12-21 (주)브이앤아이솔루션 기판처리장치
CN109690751A (zh) * 2016-06-16 2019-04-26 应用材料公司 基板处理装置
CN110106479A (zh) * 2018-02-01 2019-08-09 三星显示有限公司 显示装置的制造装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4336739B2 (ja) 成膜装置
KR20070010723A (ko) 섀도우 마스크와 이를 이용한 정렬장치
CN101545094B (zh) 具有辅助边缘磁体的矩形磁控管
KR20060011586A (ko) 기판 이송 장치 및 스퍼터링 프로세스 장비
JP2002075639A (ja) パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法
KR101174146B1 (ko) 스퍼터링 장치
US7737620B2 (en) Light emission device, method of manufacturing electron emission unit for the light emission device, and display device having the light emission device
US8441595B2 (en) Light emitting device and display device having the same
US20150083045A1 (en) Mask fixing device and deposition apparatus having the same
US20080150414A1 (en) Shadow mask apparatus and manufacturing method of organic electroluminescent display using the same
KR20140099340A (ko) 스퍼터링 장치 및 산화물 반도체 물질의 스퍼터링 방법
KR100710801B1 (ko) 균일한 막질 형성을 위한 스퍼터링 장치
US20100176711A1 (en) Light Emission Device
KR100351212B1 (ko) 유기전계발광표시장치용 제조설비의 섀도우마스크 착탈장치
KR100780058B1 (ko) 유기전계 발광소자 증착장치용 기판 정렬장치
KR20110122456A (ko) 액정표시장치의 제조장치 및 제조방법
KR20190078717A (ko) 증착 장치 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법
KR101134161B1 (ko) 스퍼터링 장치
JPH11350129A (ja) マグネトロンスパッタ装置
KR101009682B1 (ko) 상압 플라즈마 처리 장치
KR100962494B1 (ko) 스퍼터링 장치
KR20080051555A (ko) 섀도우 마스크 및 그를 포함하는 증착 장치
KR100738875B1 (ko) 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치
KR100192041B1 (ko) 스퍼터링 장치 및 이 장치를 이용한 ito막의 형성방법
KR20140059407A (ko) 스퍼터링 장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination