KR20060000818A - Rotatiing apparatus for drying a substrate - Google Patents

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KR20060000818A KR1020040049789A KR20040049789A KR20060000818A KR 20060000818 A KR20060000818 A KR 20060000818A KR 1020040049789 A KR1020040049789 A KR 1020040049789A KR 20040049789 A KR20040049789 A KR 20040049789A KR 20060000818 A KR20060000818 A KR 20060000818A
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Abstract

본 발명의 기판 회전건조장치는 기판을 지지하는 지지핀의 단부를 라운딩처리하여 회전건조공정중 지지핀의 단부와 기판의 접촉에 의해 기판이 파손되는 것을 방지하기 위한 것으로, 기판이 입력됨에 따라 회전하여 기판에 포함된 수분을 건조시키는 회전테이블과, 회전테이블의 외곽영역에 설치되어 로딩되는 기판을 고정시키는 복수의 가이드핀과, 상기 회전테이블에 설치되어 입력되는 기판을 지지하고 그 단부가 라운딩처리된 복수의 지지핀으로 구성된다The substrate rotation drying apparatus of the present invention is to prevent the substrate from being damaged by contact between the end of the support pin and the substrate during the rotation drying process by rounding the end of the support pin for supporting the substrate, and rotates as the substrate is input. To dry the moisture contained in the substrate, a plurality of guide pins fixed to the substrate to be loaded and loaded in the outer region of the rotating table, and a substrate installed on the rotating table to support the rounded end of the substrate. It consists of a plurality of support pins

회전건조장치, 지지판, 라운딩, 일체화, 회전테이블Rotary Dryer, Support Plate, Rounding, Integral, Rotary Table

Description

기판의 회전건조장치{ROTATIING APPARATUS FOR DRYING A SUBSTRATE}ROTATIING APPARATUS FOR DRYING A SUBSTRATE}

도 1a는 종래 기판 회전건조장치의 구조를 나타내는 평면도.Figure 1a is a plan view showing the structure of a conventional substrate rotation drying apparatus.

도 1b는 종래 기판 회전건조장치의 구조를 나타내는 단면도.Figure 1b is a cross-sectional view showing the structure of a conventional substrate rotary drying apparatus.

도 2는 종래 기판 회전건조장치의 지지핀의 구조를 나타내는 도면.Figure 2 is a view showing the structure of the support pin of the conventional substrate rotation drying apparatus.

도 3은 본 발명에 따른 기판 회전건조장치의 지지핀의 구조를 나타내는 도면.Figure 3 is a view showing the structure of the support pin of the substrate rotation drying apparatus according to the present invention.

도 4는 도 3에 도시된 지지핀이 구비된 기판 회전건조장치의 구조를 나타내는 도면.Figure 4 is a view showing the structure of the substrate rotary drying apparatus provided with a support pin shown in FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on main parts of drawing

101 : 건조장치 103 : 회전테이블101: drying apparatus 103: rotary table

104 : 회전축 105 : 가이드핀104: rotation axis 105: guide pin

107,117 : 지지핀 110 : 기판107,117: support pin 110: substrate

본 발명은 기판의 회전건조장치에 관한 것으로, 특히 기판을 지지하는 지지핀의 단부를 라운딩처리하여 기판과 지지핀의 접촉에 의한 기판의 파손을 방지할 수 있는 기판의 회전건조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a rotation drying apparatus for a substrate, and more particularly, to a rotation drying apparatus for a substrate capable of preventing damage to the substrate due to contact between the substrate and the support pin by rounding an end portion of the support pin for supporting the substrate.

근래, 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 노트북컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 경박단소용의 평판표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시소자(LCD)가 각광을 받고 있다.Recently, with the development of various portable electronic devices such as mobile phones, PDAs, and notebook computers, there is a growing demand for flat panel display devices for light and thin applications. Such flat panel displays are being actively researched, such as LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), FED (Field Emission Display), VFD (Vacuum Fluorescent Display), but mass production technology, ease of driving means, Liquid crystal display devices (LCDs) are in the spotlight for reasons of implementation.

액정표시소자와 같은 평판표시소자는 반도체소자와 마찬가지로 각종 공정을 거쳐 완성된다. 예를 들어, 각 화소에 박막트랜지스터가 형성되는 박막트랜지스터 액정표시소자에서는 박막트랜지스터나 각종 금속패턴을 형성하기 위해 사진식각공정(photolithography)이 반복적으로 실행되며, 각종 절연층의 형성공정 및 배향막의 형성공정이 실행된다. 또한, 액정표시소자는 대면적의 유리기판상에 액정패널이 복수개 형성된 후 절단되어 형성되므로, 유리기판의 절단공정도 포함된다.A flat panel display device such as a liquid crystal display device is completed through various processes like a semiconductor device. For example, in a thin film transistor liquid crystal display device in which a thin film transistor is formed in each pixel, photolithography is repeatedly performed to form a thin film transistor or various metal patterns, forming various insulating layers and forming an alignment layer. The process is executed. In addition, the liquid crystal display device is formed by cutting a plurality of liquid crystal panels after forming a plurality of liquid crystal panels on a glass substrate having a large area, thereby including a step of cutting the glass substrate.

이와 같이, 액정표시소자나 반도체소자는 수많은 공정을 거쳐 제작되기 때문에 공정중에 많은 이물질이 액정표시소자나 반도체소자에 침투하게 된다. 따라서, 하나의 공정이 종료된 후 이후의 공정으로 진행하기 전에 액정표시소자나 반도체소자의 기판을 순수 등으로 세정하여 이전 공정에서 발생한 이물질을 제거해야만 한다. 또한, 세정공정후에는 이물질을 제거하기 위해 사용된 순수 등을 기판에서 건조시키는 건조공정을 진행해야만 한다. As described above, since the liquid crystal display device or the semiconductor device is manufactured through numerous processes, many foreign substances penetrate into the liquid crystal display device or the semiconductor device during the process. Therefore, after the completion of one process, the substrate of the liquid crystal display device or the semiconductor device should be cleaned with pure water or the like before removing the foreign matter generated in the previous process. In addition, after the washing step, a drying step of drying pure water or the like used to remove the foreign matter from the substrate must be performed.                         

기판의 건조에는 다양한 장치게 적용될 수 있지만, 근래에는 건조의 신속성을 위해 기판을 고속으로 회전시킴으로써 순수 등을 증발시키는 회전건조장치를 주로 사용한다.Various apparatuses may be applied to the drying of the substrate, but in recent years, a rotary drying apparatus is mainly used to evaporate pure water by rotating the substrate at a high speed for rapid drying.

도 1a 및 도 1b는 종래 기판의 회전건조장치를 나타내는 도면으로, 도 1a는 평면도이고 도 1b는 단면도이다. 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이, 종래 회전건조장치(1)는 회전축(4)을 중심으로 회전하는 회전테이블(3)과, 상기 회전테이블(3)에 설치되어 회전테이블(3) 상부에 놓이는 기판(10)을 지지하는 지지핀(7)과, 상기 회전테이블(3)의 외곽영역에 설치되어 회전테이블(3)에 놓이는 기판(10)을 고정시키는 가이드핀(5)으로 구성된다.1a and 1b is a view showing a conventional rotary drying apparatus of the substrate, Figure 1a is a plan view and Figure 1b is a sectional view. As shown in Figure 1a and Figure 1b, the conventional rotary drying apparatus 1 is a rotary table 3 for rotating around the rotary shaft 4, and is installed on the rotary table 3, the upper of the rotary table 3 A support pin 7 for supporting the substrate 10 to be placed on the support pin, and a guide pin 5 for fixing the substrate 10 to be placed on the rotation table 3 in the outer region of the rotation table 3. .

지지핀(7)은 기판(10)의 이면, 즉 소자패턴 등이 형성되지 않는 면과 접촉하여 기판(10)을 지지하며, 가이드핀(5)은 기판(10)의 4변과 접촉함으로써 기판(10)을 회전테이블(3)에 고정시킨다.The support pins 7 support the substrate 10 by contacting the back surface of the substrate 10, that is, the surface on which the device pattern is not formed, and the guide pins 5 contact the four sides of the substrate 10. (10) is fixed to the rotary table (3).

상기와 같이 구성된 종래 기판건조장치(1)에서는 순수에 의해 세정된 기판(10)이 이송로보트(도면표시하지 않음)에 의해 회전테이블(3)에 이송되면, 상기 기판(10)은 회전테이블(3)에 설치된 지지핀(7)위에 놓이게 됨과 동시에 기판(10)의 각 변에 맞닿는 가이드핀(5)에 의해 상기 회전테이블(3)에 고정된다. 이와 같이, 기판(10)이 회전테이블(3)상에 놓인 상태에서 회전축(4)에 연결된 모터(도면표시하지 않음)를 구동하면, 상기 회전테이블(3)이 고속으로 회전하게 되고 그 결과 기판(10) 표면의 수분이 건조된다.In the conventional substrate drying apparatus 1 configured as described above, when the substrate 10 cleaned by pure water is transferred to the rotary table 3 by a transfer robot (not shown), the substrate 10 is rotated by a rotary table ( It is placed on the support pin (7) installed in 3) and is fixed to the rotary table (3) by guide pins (5) abutting each side of the substrate (10). In this way, when the motor 10 (not shown) connected to the rotary shaft 4 is driven while the substrate 10 is placed on the rotary table 3, the rotary table 3 rotates at a high speed, and as a result, the substrate (10) Moisture on the surface is dried.

그러나, 상기와 같은 종래 기판 회전건조장치(1)에서는 다음과 같은 문제가 발생할 수 있다.However, the following problems may occur in the conventional substrate rotation drying apparatus 1 as described above.

첫째, 도 2에 도시된 바와 같이 기판(10)의 이면과 접촉하여 기판(10)을 지지하는 지지핀(7)은 그 단부가 뽀족하게 형성되기 때문에, 상기 지지부(7)의 단부와 접촉하는 기판(10)의 이면에 스크래치(scratch)가 발생하게 된다. 따라서, 조그만 충격이 기판(10)에 인가되는 경우에도 기판(10)에 형성된 스크래치에 의해 기판이 판손되는 문제가 발생한다.First, as shown in FIG. 2, since the support pin 7 that contacts the back surface of the substrate 10 to support the substrate 10 is formed in an end point, the support pin 7 contacts the end of the support portion 7. Scratch occurs on the back surface of the substrate 10. Therefore, even when a small impact is applied to the substrate 10, a problem occurs in which the substrate is damaged by scratches formed on the substrate 10.

둘째, 기판(10)을 지지하는 지지핀(7)은 도 2에 도시된 바와 같이 분리가능한 지지바(7a)와 핀(7b)으로 구성되어 있으며, 상기 지지바(7a)와 핀(7b)은 나사 등의 결합수단에 의해 결합되어 있다. 따라서, 상기 지지핀(7)을 교체하는 경우 상기 지지바(7a)와 핀(7b)을 분리한 후 교체해야만 하기 때문에, 지지핀(7)의 교체에 시간이 많이 소모된다.Second, the support pin 7 for supporting the substrate 10 is composed of a detachable support bar 7a and a pin 7b as shown in FIG. 2, and the support bar 7a and the pin 7b. Is coupled by a coupling means such as a screw. Therefore, when the support pin 7 is replaced, since the support bar 7a and the pin 7b must be separated and replaced, the support pin 7 is time-consuming to replace.

본 발명은 상기한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 기판을 지지하는 지지핀의 단부를 라운딩처리하여 회전건조공정중 기판이 파손되는 것을 방지할 수 있는 기판의 회전건조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a rotary drying apparatus for a substrate which can prevent the substrate from being damaged during the rotary drying process by rounding the end of the support pin for supporting the substrate.

본 발명의 다른 목적은 지지핀을 일체로 형성하여 지지핀의 신속한 교체가 가능한 기판의 회전건조장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a rotary drying apparatus of a substrate which is formed integrally with the support pin to enable a quick replacement of the support pin.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 기판의 회전건조장치는 기판이 입력됨에 따라 회전하여 기판에 포함된 수분을 건조시키는 회전테이블과, 회전테이블의 외곽영역에 설치되어 로딩되는 기판을 고정시키는 복수의 가이드핀과, 상 기 회전테이블에 설치되어 입력되는 기판을 지지하고 그 단부가 라운딩처리된 복수의 지지핀으로 구성된다. In order to achieve the above object, the rotation drying apparatus of the substrate according to the present invention is a rotation table for drying the moisture contained in the substrate by rotating as the substrate is input, and fixed to the substrate installed and loaded in the outer region of the rotation table It consists of a plurality of guide pins and a plurality of support pins that are installed on the rotary table to support the input substrate and the end is rounded.

상기 가이드핀은 기판의 4변 측면과 접촉하여 기판을 고정하고 지지핀은 기판의 이면과 접촉하여 기판을 지지하는데, 상기 지지핀은 일체로 형성되어 있다.The guide pin contacts the four sides of the substrate to fix the substrate, and the support pin contacts the rear surface of the substrate to support the substrate. The support pin is integrally formed.

본 발명에서는 기판을 지지하는 지지핀를 일체로 형성함으로써 지지핀의 신속한 교체를 가능하게 된다. 따라서, 지지핀의 교체에 의한 시간소모를 감소할 수 있게 된다. 상술한 바와 같이, 기판의 회전건조장치는 액정표시소자와 같은 평판표시소자나 반도체소자를 제작할 때 공정라인의 중간에 설치되어 해당 공정이 종료되어 순수등에 의해 세정된 기판을 건조시킨다.In the present invention, it is possible to quickly replace the support pin by integrally forming the support pin for supporting the substrate. Therefore, it is possible to reduce time consumption by replacing the support pins. As described above, the rotation drying apparatus of the substrate is installed in the middle of the process line when manufacturing a flat panel display device or a semiconductor device such as a liquid crystal display device, and the process is completed to dry the substrate cleaned by pure water or the like.

한편, 평판표시소자와 반도체소자의 제조공정은 연속적인 공정이다. 다시 말해서, 한 공정이 종료된 기판은 이후의 공정에 연속적으로 투입되어 해당 공정이 진행된다. 따라서, 각 공정이 종료되어 다음 공정으로 진행되는 기판의 세정공정 및 건조공정이 지연되면, 전체 제조공정이 지연되는 문제가 발생한다. 그러나, 본 발명에서는 지지핀을 일체로 제작하므로, 지지핀의 신속한 교체가 가능하게 되어 지지핀의 교체에 의한 공정 지연을 방지할 수 있게 된다.On the other hand, the manufacturing process of the flat panel display element and the semiconductor element is a continuous process. In other words, the substrate in which one process is completed is continuously added to a subsequent process, and the process proceeds. Therefore, when each process is terminated and the cleaning process and the drying process of the substrate, which proceed to the next process, are delayed, the entire manufacturing process is delayed. However, in the present invention, since the support pin is integrally manufactured, it is possible to quickly replace the support pin, thereby preventing a process delay due to the replacement of the support pin.

또한, 본 발명에서는 기판과 접촉하는 지지핀의 단부를 둥글게 라운드(round)처리함으로서 지지핀의 단부에 의해 기판에 스크래치가 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.In addition, in the present invention, by rounding the end of the support pin in contact with the substrate it is possible to prevent the occurrence of scratches on the substrate by the end of the support pin.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 기판의 회전건조장치에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a rotation drying apparatus of the substrate according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 기판 회전건조장치의 지지핀(107)을 나타내는 도면이다. 도면에 도시된 바와 같이, 지지핀(107)은 나사 등과 같은 결합수단에 의해 회전테이블(103)에 부착된다. 이때, 지지핀(107)은 일체로 형성되므로, 전체가 직접 회전테이블(103)에 고정된다.3 is a view showing a support pin 107 of the substrate rotation drying apparatus according to the present invention. As shown in the figure, the support pin 107 is attached to the rotary table 103 by a coupling means such as a screw. At this time, since the support pin 107 is formed integrally, the whole is directly fixed to the rotary table 103.

상기 지지핀(107)의 단부는 라운딩처리되어 있다. 따라서, 이전의 세정공정에서 세정된 기판이 이송로보트(도면표시하지 않음)에 의해 이송되어 회전테이블(103)의 지지핀(107) 위에 놓여 고속으로 회전하는 경우, 지지핀(107)의 단부와 기판의 이면과의 접촉에 의해 스크래치가 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.The end of the support pin 107 is rounded. Therefore, when the substrate cleaned in the previous cleaning process is transported by the transfer robot (not shown) and placed on the support pin 107 of the rotary table 103 to rotate at high speed, the end of the support pin 107 It is possible to prevent the occurrence of scratches by contact with the back surface of the substrate.

상기 지지핀(107)이 회전테이블(103)에 설치된 기판의 회전건조장치가 도 4에 도시되어 있다. 도면에 도시된 바와 같이, 회전테이블(103)은 도면표시하지 않은 구동모터의 구동력을 회전축(104)을 통해 전달받아 회전하며, 그 외곽영역에는 가이드핀(105)이 복수개 형성되어 있다. 단부가 라운드되어 있고 전체가 일체로 형성된 지지핀(107)은 가이드핀(105)의 안쪽, 즉 회전테이블(103)의 중심측에 설치되어, 로딩된 기판(110)을 지지한다.4 shows a rotary drying apparatus of the substrate on which the support pins 107 are installed on the rotary table 103. As shown in the figure, the rotary table 103 is rotated by receiving the driving force of the driving motor (not shown) through the rotary shaft 104, a plurality of guide pins 105 are formed in the outer region. The support pins 107 having rounded ends and integrally formed in their entirety are installed inside the guide pins 105, that is, at the center of the rotary table 103 to support the loaded substrate 110.

상기와 같은 구성의 기판 회전건조장치(101)에서, 이전의 세정공정을 거친 기판(110)이 도면표시하지 않은 이송로보트에 의해 회전테이블(103)로 이송되면, 상기 가이드핀(105)이 기판(110)의 4변 측면과 접촉하여 상기 기판(110)을 회전테이블(103)에 고정시킴과 동시에 지지핀(107)은 기판(110)의 이면(즉, 소자패턴이 형성되지 않는 면)과 접촉하여 상기 기판(110)을 회전테이블(103)의 표면으로부터 일정거리 이격된 상태로 지지한다. In the substrate rotation drying apparatus 101 having the above-described configuration, when the substrate 110 that has been subjected to the previous cleaning process is transferred to the rotary table 103 by a transfer robot (not shown), the guide pin 105 is moved to the substrate. In contact with the side of the four sides of the 110 to fix the substrate 110 to the rotary table 103 and at the same time the support pin 107 and the back surface of the substrate 110 (that is, the surface on which the device pattern is not formed) and In contact with each other, the substrate 110 is supported at a predetermined distance from the surface of the rotary table 103.

이 상태에서, 구동모터(도면표시하지 않음)가 구동되어 회전축(104)을 통해 회전력이 회전테이블(103)에 전달되면, 상기 회전테이블(103)이 고속으로 회전한다. 상기 회전테이블(103)이 회전함에 따라 회전테이블(103)에 고정된 기판(110)도 회전하게 되어 이전의 세정공정중에 묻은 수분이 증발하게 되는 것이다.In this state, when the driving motor (not shown) is driven and the rotational force is transmitted to the rotary table 103 through the rotary shaft 104, the rotary table 103 rotates at high speed. As the rotary table 103 rotates, the substrate 110 fixed to the rotary table 103 also rotates, so that the moisture deposited during the previous cleaning process evaporates.

상기한 바와 같이, 본 발명에서는 지지핀(107)의 단부가 라운딩처리되어 있다. 따라서, 기판(110)이 회전테이블(103)에 로딩되어 상기 지지핀(107)에 접촉할 때 기판(110)의 표면에 스크래치가 발생하지 않게 되며, 그 결과 스크래치에 의한 기판의 파손을 방지할 수 있게 된다. 또한, 본 발명에서는 상기 지지핀(107)이 일체로 형성되므로 신속한 지지핀(107)의 교체가 가능하게 되어 지지핀(107) 교체의 지연에 따른 공정지연을 미연에 방지할 수 있게 된다.As described above, in the present invention, the end of the support pin 107 is rounded. Therefore, when the substrate 110 is loaded on the rotary table 103 and contacts the support pins 107, scratches do not occur on the surface of the substrate 110. As a result, the substrate 110 may be prevented from being damaged by the scratch. It becomes possible. In addition, in the present invention, since the support pins 107 are integrally formed, the support pins 107 can be quickly replaced, thereby preventing the process delay due to the delay of the support pins 107 replacement.

상기 회전테이블(103) 상에 설치되어 기판(110)을 고정, 지지하는 가이드핀(105)과 지지핀(107)의 간격은 특정하게 고정되는 것은 아니다. 상기 간격은 건조되는 기판(110)의 면적 등에 따라 적절하게 조절될 수 있을 것이다.The interval between the guide pin 105 and the support pin 107 installed on the rotary table 103 to fix and support the substrate 110 is not specifically fixed. The interval may be appropriately adjusted according to the area of the substrate 110 to be dried.

한편, 상기 회전테이블(103)의 중앙, 회전축(104)의 근처에는 부가의 지지핀(127)이 형성될 수도 있다. 상기 지지핀(117)은 대면적의 기판(110)을 건조하는 경우 중앙영역을 지지하여 중앙영역이 중력에 의해 하부로 휘는 현상을 방지할 수 있게 된다. 이때, 상기 중앙의 지지핀(117) 역시 외곽의 지지핀(107)과 마찬가지로 일체로 형성되어 회전테이블(103)에 설치되고 그 단부는 라운딩 처리되어 있다. 물론, 본 발명에서는 상기 지지핀(117)을 구비하는 구성뿐만 아니라 구비하지 않는 구성까지 포함할 것이다.Meanwhile, an additional support pin 127 may be formed in the center of the rotary table 103 and near the rotary shaft 104. The support pin 117 supports the central area when the substrate 110 having a large area is dried, thereby preventing the central area from being bent downward by gravity. At this time, the central support pin 117 is also formed integrally with the outer support pin 107 is installed on the rotary table 103 and the end is rounded. Of course, the present invention will include not only the configuration provided with the support pin 117 but also a configuration not provided.

상기한 바와 같이, 본 발명에서는 기판을 지지하는 지지핀의 단부가 라운딩처리되어 있어 회전건조공정중 기판이 파손되는 것을 방지할 뿐만 지지핀이 일체로 형성되므로 지지핀을 신속하게 교체할 수 있게 된다. 이러한 본 발명의 기판 건조장치는 액정표시소자와 같은 평판표시소자의 회전건조장치나 반도체소자의 기판(또는 반도체웨이퍼) 회전건조장치에도 유용하게 사용할 수 있을 것이다.As described above, in the present invention, the end of the support pin for supporting the substrate is rounded to prevent the substrate from being damaged during the rotation drying process, and the support pin is integrally formed so that the support pin can be quickly replaced. . Such a substrate drying apparatus of the present invention may be usefully used in a rotary drying apparatus of a flat panel display device such as a liquid crystal display device or a substrate (or semiconductor wafer) rotary drying apparatus of a semiconductor device.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 기판을 지지하는 지지핀의 단부가 라운딩처리되어 있어 회전건조공정중 기판이 파손되는 것을 방지할 수 있게 된다. 또한, 본 발명에서는 지지핀이 일체로 형성되므로 지지핀의 교체 지연에 따른 공정지연을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.As described above, in the present invention, the end of the support pin for supporting the substrate is rounded to prevent the substrate from being damaged during the rotation drying process. In addition, in the present invention, since the support pin is integrally formed, it is possible to effectively prevent the process delay due to the replacement delay of the support pin.

Claims (8)

기판이 입력됨에 따라 회전하여 기판에 포함된 수분을 건조시키는 회전테이블;A rotary table that rotates as the substrate is input to dry moisture included in the substrate; 회전테이블의 외곽영역에 설치되어 로딩되는 기판을 고정시키는 복수의 가이드핀; 및A plurality of guide pins fixed to the substrate to be loaded and installed in the outer region of the rotary table; And 상기 회전테이블에 설치되어 입력되는 기판을 지지하며, 그 단부가 라운딩처리된 복수의 지지핀으로 구성된 기판의 회전건조장치.A rotation drying apparatus for a substrate provided on the rotary table to support a substrate to be input, and having a plurality of support pins rounded at an end thereof. 제1항에 있어서, 상기 가이드핀은 기판의 4변 측면과 접촉하는 것을 특징으로 하는 회전건조장치.The rotary drying apparatus of claim 1, wherein the guide pin is in contact with four sides of the substrate. 제1항에 있어서, 상기 지지핀은 기판의 이면과 접촉하는 것을 특징으로 하는 회전건조장치.The apparatus of claim 1, wherein the support pin is in contact with a rear surface of the substrate. 제1항에 있어서, 상기 지지핀은 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전건조장치.The rotary drying apparatus of claim 1, wherein the support pin is integrally formed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 구동모터; 및Drive motor; And 상기 구동모터의 구동력을 회전테이블에 전달하는 구동축을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 회전건조장치.And a drive shaft for transmitting the driving force of the drive motor to the rotary table. 제1항에 있어서, 상기 회전테이블의 중앙영역에 형성되어 기판의 중앙영역을 지지하는 부가의 지지핀을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 회전건조장치.The rotary drying apparatus according to claim 1, further comprising an additional support pin formed in the central region of the rotary table to support the central region of the substrate. 제6항에 있어서, 상기 지지핀의 단부는 라운딩된 것을 특징으로 하는 회전건조장치.The rotary drying apparatus of claim 6, wherein the end of the support pin is rounded. 제6항에 있어서, 상기 부가의 지지핀은 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전건조장치.7. The rotary dryer of claim 6, wherein the additional support pin is integrally formed.
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