KR20050122092A - Venting system of the chamber - Google Patents
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Abstract
본 발명은 로드락 챔버 내의 압력을 조절하는 밴팅(venting) 시스템에 관한 것으로, 특히 로드락 챔버 내로 가스를 주입하는 피딩(feeding) 포인트(point)를 하나로 하여 밴팅 시스템을 단순화시키고, 로드락 챔버 안에 다수의 가스 분출 구멍을 가지는 밴팅 라인을 설치함으로써, 밴팅 타임을 감소시킬 수 있는 로드락 챔버의 밴팅 시스템에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a venting system for regulating pressure in a loadlock chamber, in particular to simplify the vanting system by incorporating a single feeding point for injecting gas into the loadlock chamber and into the loadlock chamber. By installing a venting line having a plurality of gas ejection holes, it is related with the banding system of the load lock chamber which can reduce the bending time.
본 발명인 로드락 챔버의 밴팅 시스템을 이루는 구성수단은, 로드락 챔버의 밴팅 시스템에 있어서, 상기 로드락 챔버 내측 둘레 방향을 따라 설치되며, 밴팅가스를 분출하는 복수의 분출구를 갖는 밴팅라인과, 상기 로드락 챔버 외측에 마련되어 상기 밴팅 라인에 밴팅가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 가스 공급부와 상기 밴팅 라인 사이에 개재되어 상기 가스 공급부로부터의 밴팅 가스를 상기 밴팅 라인으로 전달하는 가스 공급라인과, 상기 가스 공급부와 상기 가스 공급라인 사이에 개재되어 상기 가스 공급부로부터 공급되는 밴팅 가스를 개폐하는 가스 공급 밸브와, 상기 가스 공급 밸브를 제어하여 상기 밴팅 라인으로 공급되는 밴팅 가스를 제어하는 제어부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The constituting means constituting the banting system of the load lock chamber of the present invention, in the banting system of the load lock chamber, is installed along the inner circumferential direction of the load lock chamber, the banting line having a plurality of ejection ports for ejecting the venting gas, and A gas supply unit provided outside the load lock chamber to supply the venting gas to the venting line, a gas supply line interposed between the gas supply unit and the venting line to transfer the venting gas from the gas supply unit to the venting line; A gas supply valve interposed between the gas supply unit and the gas supply line to open and close the banting gas supplied from the gas supply unit, and a control unit to control the gas supply valve to control the banting gas supplied to the banting line. It is characterized by.
Description
본 발명은 로드락 챔버 내의 압력을 조절하는 밴팅(venting) 시스템에 관한 것으로, 특히 로드락 챔버 내로 가스를 주입하는 피딩(feeding) 포인트(point)를 하나로 하여 밴팅 시스템을 단순화시키고, 로드락 챔버 안에 다수의 가스 분출 구멍을 가지는 밴팅 라인을 설치함으로써, 밴팅 타임을 감소시킬 수 있는 로드락 챔버의 밴팅 시스템에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a venting system for regulating pressure in a loadlock chamber, in particular to simplify the vanting system by incorporating a single feeding point for injecting gas into the loadlock chamber and into the loadlock chamber. By installing a venting line having a plurality of gas ejection holes, it is related with the banding system of the load lock chamber which can reduce the bending time.
로드락 챔버는 항상 진공 상태를 유지하는 반송 챔버와 게이트 밸브를 통하여 연결되어 있고, 상기 로드락 챔버는 기판에 대한 공정 처리 중에 대기압 또는 진공 상태를 유지한다. 따라서, 상기 로드락 챔버에는 챔버 내부의 압력을 조절하기 위하여 밴팅(venting) 시스템이 설치되어야 한다. 한편, 상기 밴팅 시스템은 상기 로드락 챔버 내에 위치하는 기판을 정화하기 위해서도 필요하다.The load lock chamber is connected through a gate valve and a transfer chamber which always maintains a vacuum state, which load chamber chamber maintains an atmospheric pressure or a vacuum state during processing of the substrate. Therefore, the load lock chamber should be provided with a venting system to regulate the pressure inside the chamber. Meanwhile, the banting system is also required to purify the substrate located in the load lock chamber.
도 1 및 도 2는 종래의 밴팅(venting) 시스템을 포함하는 로드락 챔버의 평면도와 정면도이다.1 and 2 are top and front views of a load lock chamber including a conventional venting system.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 로드락 챔버의 밴팅(venting) 시스템은, 상기 로드락 챔버(10) 상측 외부에 설치되어 밴팅가스를 분출하는 밴팅라인(20), 상기 밴팅라인에 연결되어 밴팅가스를 공급하는 가스 공급부(30), 상기 밴팅라인(20) 사이에 설치되어 밴팅가스를 개폐하는 밸브(40), 상기 가스 공급부(30)와 상기 밸브(40)를 제어하는 제어부(미도시)를 포함하여 이루어져 있다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the conventional venting system of the load lock chamber includes a venting line 20 installed outside the load lock chamber 10 to eject the venting gas and the venting line. A control unit for controlling the gas supply unit 30 and the valve 40 connected to the gas supply unit 30 for supplying the banting gas, installed between the banting line 20 to open and close the banting gas (Not shown).
상기 로드락 챔버(10)는 상기 밴팅 시스템에 의하여 챔버(10) 내부로 밴팅가스를 주입시키기 위하여 그 상부에 다수개의 구멍(11)이 형성되어 있다. 즉, 다수개의 피딩(feeding) 포인트(point)를 상기 로드락 챔버(10) 상부에 형성시켜 밴팅가스를 로드락 챔버(10) 내부로 주입한다.The load lock chamber 10 has a plurality of holes 11 formed thereon for injecting the banting gas into the chamber 10 by the banting system. That is, a plurality of feeding points are formed on the load lock chamber 10 to inject the banting gas into the load lock chamber 10.
상기 밴팅라인(20)은 가스 공급부(30)에서 공급되는 밴팅가스를 이동시키는 통로로 사용되고, 상기 로드락 챔버(10) 외부 상부에서 여러 방향으로 분기한다. 상기 분기된 밴팅라인(20)은 상기 로드락 챔버(10) 상부에 형성된 다수개의 구멍(11)에 연결되어 수개의 피딩(feeding) 포인트를 만든다.The venting line 20 is used as a passage for moving the venting gas supplied from the gas supply unit 30 and branches in various directions from the outside of the load lock chamber 10. The branched bending line 20 is connected to a plurality of holes 11 formed in the load lock chamber 10 to make several feeding points.
상기 가스 공급부(30)는 상기 로드락 챔버(10) 내로 주입할 밴팅 가스를 공급한다. 상기 가스 공급부(30)의 가스 공급에 관한 동작은 소정의 위치에 마련된 제어부(미도시)의 통제를 받는다. 즉, 제어부(미도시)의 제어신호에 따라 가스를 공급하거나 가스 공급을 중단한다.The gas supply unit 30 supplies a venting gas to be injected into the load lock chamber 10. Operation of the gas supply of the gas supply unit 30 is controlled by a controller (not shown) provided at a predetermined position. That is, the gas is supplied or the gas is stopped according to the control signal of the controller (not shown).
상기 밸브(40)는 상기 밴팅라인을 통하여 이동하는 밴팅가스의 흐름을 개폐하는 동작을 수행한다. 즉, 상기 밸브(40)가 열리는 경우에는 상기 가스 공급부(30)로부터 제공되는 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(10) 내로 주입되고, 상기 밸브(40)가 닫히는 경우에는 상기 가스 공급부(30)로부터 제공되는 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(10) 내로 주입되지 않는다.The valve 40 performs an operation of opening and closing the flow of the banting gas moving through the banting line. That is, when the valve 40 is opened, the venting gas provided from the gas supply unit 30 is injected into the load lock chamber 10, and when the valve 40 is closed, the gas supply unit 30 is closed from the gas supply unit 30. The provided banting gas is not injected into the load lock chamber 10.
상기 제어부(미도시)는 상기 가스 공급부(30)와 상기 밸브(40)를 적절하게 제어하여 상기 로드락 챔버(10)내로 주입되는 밴팅가스의 흐름을 제어한다. 즉, 상기 로드락 챔버(10) 내로 밴팅가스를 주입하기 위해서, 상기 가스 공급부(30)가 가스를 제공하고 상기 밸브(40)가 열릴 수 있도록 제어한다. 반면, 상기 로드락 챔버(10) 내로 밴팅가스 주입을 중단시키기 위해서, 상기 가스 공급부(30)가 밴팅가스를 제공하는 동작을 중지시킬 수 있도록 제어하거나 또는 상기 밸브(40)가 닫힐 수 있도록 제어한다.The controller (not shown) controls the flow of the banting gas injected into the load lock chamber 10 by appropriately controlling the gas supply unit 30 and the valve 40. That is, in order to inject the banting gas into the load lock chamber 10, the gas supply unit 30 supplies the gas and controls the valve 40 to be opened. On the other hand, in order to stop the banting gas injection into the load lock chamber 10, the gas supply unit 30 to stop the operation of providing the banting gas or to control the valve 40 to be closed. .
상기와 같은 작용을 가지는 구성수단들을 통한 종래의 밴팅 시스템의 실시예를 첨부된 도 1 및 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.An embodiment of the conventional banting system through the constituent means having the above-mentioned operation will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
로드락 챔버(10) 내로 밴팅가스를 주입하기 위하여 제어부(미도시)는 가스 공급부(30)와 밸브(40)에 동작 신호를 전달한다. 그러면 상기 가스 공급부(30)는 밴팅가스를 공급하기 시작하고, 상기 밸브(40)는 밴팅가스가 밴팅라인(20)을 통하여 이동할 수 있도록 개방된다.In order to inject the banting gas into the load lock chamber 10, a controller (not shown) transmits an operation signal to the gas supply unit 30 and the valve 40. Then, the gas supply unit 30 starts supplying the venting gas, and the valve 40 is opened to allow the venting gas to move through the venting line 20.
상기 가스 공급부(30)가 밴팅가스를 공급하고, 상기 밸브(40)가 개방됨에 따라, 밴팅가스는 밴팅라인(20)을 따라 이동한다. 상기 밴팅라인(20)을 따라 이동하는 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(10) 상부에 형성된 구멍(11)을 통해 로드락 챔버(10) 내부로 주입된다. 즉, 수개의 피딩(feeding) 포인트를 통해 상기 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(10) 내로 주입된다.As the gas supply unit 30 supplies the venting gas and the valve 40 is opened, the venting gas moves along the venting line 20. The venting gas moving along the venting line 20 is injected into the load lock chamber 10 through a hole 11 formed in the load lock chamber 10. That is, the venting gas is injected into the load lock chamber 10 through several feeding points.
상기의 동작에 따라, 필요한 양의 밴팅가스가 로드락 챔버(10) 내로 주입되면, 제어부(미도시)의 제어에 따라 상기 밸브(40)를 폐쇄하는 한편, 상기 가스 공급부(30)의 가스 제공을 중지시킨다.According to the above operation, when the required amount of banting gas is injected into the load lock chamber 10, the valve 40 is closed under the control of a controller (not shown), while the gas supply unit 30 provides gas. Stops.
한편, 상기 로드락 챔버(10) 내에 주입된 밴팅가스를 배기시켜 챔버 내부의 상태를 진공으로 하기 위하여 제어부(미도시)의 제어에 따라 밴팅가스를 로드락 챔버(10) 하부에 형성된 배기통로(12)를 통하여 배기시킨다.On the other hand, in order to exhaust the banting gas injected into the load lock chamber 10 to vacuum the state inside the chamber under the control of a control unit (not shown), the exhaust passage formed under the load lock chamber 10 ( Through 12).
상기와 같은 구성 및 작용 그리고 실시예를 가지는 종래 밴팅 시스템에 의하면, 상기 로드락 챔버의 상부에 다수의 피딩(feeding) 포인트가 형성되어 밴팅 시스템이 복잡하고, 챔버의 기밀을 유지하는 어려운 문제점이 있다.According to the conventional banting system having the configuration, operation and embodiment as described above, a plurality of feeding points are formed on the load lock chamber is complicated, the banting system is complicated, there is a difficult problem of maintaining the airtight of the chamber .
또한, 상기 로드락 챔버의 상부에 설치되는 피딩(feeding) 포인트는 상기 밴팅 시스템의 복잡성 및 챔버의 기밀 유지의 난해성으로 인하여, 수량의 한계가 발생함으로써 밴팅 타임이 증가하는 단점이 발생한다.In addition, the feeding point installed on the upper part of the load lock chamber is due to the complexity of the banting system and the difficulty of maintaining the airtightness of the chamber, there is a disadvantage that the limiting time is increased due to the limitation of the quantity.
또한, 종래 기술에 의하면 상기 밴팅 타임이 증가하기 때문에 일정 시간 내의 작업 처리량(Throughput)이 저하되는 문제점이 발생한다.In addition, according to the related art, since the bending time is increased, a problem occurs that the throughput is decreased within a predetermined time.
한편, 종래의 밴팅 시스템에 의하여 로드락 챔버 내로 밴팅 가스를 주입하는 경우에, 밴팅라인을 통하여 분출되는 밴팅가스는 글래스(Glass)에 국부적으로 도달하고, 이로 인하여 글래스(Glass)가 과도한 힘을 받아 파손될 수 있는 문제점이 있다.On the other hand, in the case of injecting the banting gas into the load lock chamber by the conventional banting system, the banting gas ejected through the banting line locally reaches the glass (Glass), thereby the glass (Glass) is subjected to excessive force There is a problem that can be broken.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 밴팅 라인을 로드락 챔버 내부에 설치하고, 상기 밴팅라인에 다수의 미세 구멍을 형성시킴으로써, 밴팅 시스템을 단순화시키고, 동시에 밴팅 타임을 감소시킬뿐 아니라, 로드락 챔버 내의 글래스(Glass)를 보호할 수 있는 로드락 챔버의 밴팅 시스템을 제공하는 것을 그 목적을 한다. The present invention was devised to solve the above-described prior art, and by installing a bending line inside the load lock chamber and forming a plurality of fine holes in the bending line, it simplifies the bending system and at the same time reduces the bending time. In addition to this, it is an object of the present invention to provide a banting system of the load lock chamber that can protect the glass (Glass) in the load lock chamber.
상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 제안된 본 발명인 로드락 챔버의 밴팅 시스템을 이루는 구성수단은, 로드락 챔버의 밴팅 시스템에 있어서, 상기 로드락 챔버 내측 둘레 방향을 따라 설치되며, 밴팅가스를 분출하는 복수의 분출구를 갖는 밴팅라인과, 상기 로드락 챔버 외측에 마련되어 상기 밴팅 라인에 밴팅가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 가스 공급부와 상기 밴팅 라인 사이에 개재되어 상기 가스 공급부로부터의 밴팅 가스를 상기 밴팅 라인으로 전달하는 가스 공급라인과, 상기 가스 공급부와 상기 가스 공급라인 사이에 개재되어 상기 가스 공급부로부터 공급되는 밴팅 가스를 개폐하는 가스 공급 밸브와, 상기 가스 공급 밸브를 제어하여 상기 밴팅 라인으로 공급되는 밴팅 가스를 제어하는 제어부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to solve the technical problem as described above, the constituting means constituting the banting system of the load lock chamber of the present invention, in the banting system of the load lock chamber, is installed along the inner circumferential direction of the load lock chamber, and ejects the banting gas. A venting line having a plurality of ejection openings, a gas supply unit provided outside the load lock chamber to supply the venting gas to the venting line, and interposed between the gas supply unit and the venting line, the venting gas from the gas supply unit. A gas supply line to be transferred to the venting line, a gas supply valve interposed between the gas supply part and the gas supply line to open and close the banting gas supplied from the gas supply part, and control the gas supply valve to supply the gas to the beating line. Characterized in that it comprises a control unit for controlling the banting gas It is done.
또한, 상기 밴팅 라인과 연결되는 가스 펌핑부를 더 포함하며, 상기 제어부는 상기 가스 펌핑부를 제어하여 상기 로드락 챔버 내의 밴팅 가스를 상기 밴팅 라인을 통해 배기하도록 제어하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 상기 밴팅 시스템에 의하여 로드락 챔버에 밴팅가스를 공급할 수 있을뿐만 아니라, 로드락 챔버에 배기통로를 형성시키지 않고 챔버 내의 밴팅가스를 배기시킬 수도 있다.The gas pumping unit may further include a gas pumping unit connected to the venting line, and the controller may control the gas pumping unit to exhaust the venting gas in the load lock chamber through the venting line. Therefore, not only the banting gas can be supplied to the load lock chamber by the banting system, but also the banting gas in the chamber can be exhausted without forming an exhaust passage in the load lock chamber.
또한, 상기 밴팅 라인은, 상기 로드락 챔버 내부의 상부 또는 하부에 설치되되, 다수의 미세한 구멍이 형성되어 있는 튜브로 구성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the bending line is installed on the upper or lower portion of the load lock chamber, characterized in that composed of a tube formed with a plurality of fine holes.
이하, 상기와 같은 구성수단으로 이루어져 있는 본 발명인 로드락 챔버의 밴팅 시스템에 관한 작용과 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the operation and the preferred embodiment related to the bending system of the load lock chamber of the present invention composed of the above configuration means.
도 3은 본 발명에 적용되는 제1 실시예에 따른 밴팅 시스템을 가지는 로드락 챔버의 평면도이고, 도 4는 본 발명에 적용되는 제1 실시예에 따른 밴팅 시스템을 가지는 로드락 챔버의 정면도이다.3 is a plan view of a load lock chamber having a banding system according to a first embodiment applied to the present invention, and FIG. 4 is a front view of a load lock chamber having a banding system according to a first embodiment applied to the present invention.
상기의 도 3 내지 도 4에 도시된 밴팅 시스템은, 로드락 챔버 내로 밴팅가스를 주입하기 위해서는 로드락 챔버에 구비되는 밴팅 시스템에 의하여 수행하고, 로드락 챔버 내에 있는 밴팅 가스의 배기는 챔버에 형성된 배기통로를 통해 배기하는 실시예에 해당한다.3 to 4 is performed by a banting system provided in the load lock chamber to inject the banting gas into the load lock chamber, and exhausting the banting gas in the load lock chamber is formed in the chamber. It corresponds to the embodiment of exhausting through the exhaust passage.
도 3 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 적용되는 제1 실시예에 따른 밴팅 시스템은, 로드락 챔버(100) 내부 둘레 방향을 따라 설치되는 밴팅라인(200), 상기 로드락 챔버의 측벽에 형성된 상기 벤팅라인 통로(110)를 통해 상기 밴팅라인과 연결되는 가스 공급라인(300), 상기 로드락 챔버(100) 외측 소정의 위치에 마련되어 상기 밴팅라인(200)에 밴팅 가스를 공급하기 위하여 상기 가스 공급라인(300)과 연결되는 가스 공급부(400), 밴팅가스 공급을 개폐하는 가스 공급 밸브(500), 상기 밴팅가스의 공급을 제어하는 제어부(미도시)를 구비하여 이루어져 있다.As shown in FIGS. 3 to 4, the banding system according to the first embodiment of the present invention may include a bending line 200 installed along the inner circumferential direction of the load lock chamber 100 and the load lock chamber. A gas supply line 300 connected to the venting line through the venting line passage 110 formed at a sidewall and provided at a predetermined position outside the load lock chamber 100 to supply the venting gas to the venting line 200. In order to provide a gas supply unit 400 connected to the gas supply line 300, a gas supply valve 500 for opening and closing the banting gas supply, and a control unit (not shown) for controlling the supply of the banting gas.
상기 로그락 챔버(100) 내부에 설치되는 밴팅라인(200)은 밴팅가스를 챔버 내부로 분출하거나, 챔버 내에 있는 밴팅가스를 흡입하는 동작을 수행한다. 상기 밴팅라인(200)의 설치 위치는 로드락 챔버(100)의 공간 확보와 공간 활용성을 고려하여 챔버 내측 둘레 방향을 따라 설치되되, 챔버의 상부 또는 하부에 설치되는 것이 바람직하다. 한편, 상기 밴팅라인(200)은 도 4에 도시된 바와 같이, 그 표면에 다수의 미세한 구멍(210)이 형성된 튜브로 구성하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 밴팅라인(200)에 다수의 미세 구멍을 형성시켜 밴팅가스를 로드락 챔버(100)에 주입함으로써, 밴팅 타임이 감소하는 효과를 거둘 수 있을뿐만 아니라 글래스(Glass)의 파손도 방지할 수 있다.The venting line 200 installed inside the log lock chamber 100 ejects the venting gas into the chamber or inhales the venting gas in the chamber. The installation position of the bending line 200 is installed along the inner circumferential direction of the chamber in consideration of securing the space of the load lock chamber 100 and space utilization, and is preferably installed at the upper or lower portion of the chamber. On the other hand, the bending line 200 is preferably composed of a tube formed with a plurality of minute holes 210 on the surface, as shown in FIG. By forming a plurality of fine holes in the bending line 200 as described above, injecting the banting gas into the load lock chamber 100, not only the bending time can be reduced but also the glass can be prevented from being damaged. Can be.
상기 가스 공급라인(300)은 로드락 챔버(100)의 외부에 위치하는 것으로써, 상기 로드락 챔버(100)의 측벽에 형성된 밴팅라인 통로(110)를 통해 상기 밴팅라인(200)과 연결되어 있다. 상기 로드락 챔버(100) 측벽의 소정 위치에 형성된 밴팅라인 통로(110)는 밀봉부재(미도시)에 의하여 기밀이 유지되어야 한다.The gas supply line 300 is located outside the load lock chamber 100 and is connected to the venting line 200 through a venting line passage 110 formed at a sidewall of the load lock chamber 100. have. The venting line passage 110 formed at a predetermined position of the sidewall of the load lock chamber 100 should be kept airtight by a sealing member (not shown).
한편, 상기 가스 공급부(400)는 상기 가스 공급라인(300)과 연결되어 밴팅가스를 제공하고, 상기 가스 공급밸브(500)는 상기 가스 공급부(400)와 상기 가스 공급라인(300) 사이에 개재되어 상기 가스 공급부(400)에서 제공하는 밴팅가스의 공급을 개폐한다. 상기 가스 공급부(400)의 가스 공급 여부와 상기 가스 공급밸브(500)의 개폐 여부는 제어부(미도시)의 제어에 따라 동작한다. 즉, 상기 제어부(미도시)는 소정의 위치에 설치되어 로드락 챔버(100)에 밴팅가스를 공급하는 것을 전반적으로 제어하고, 더 나아가 로드락 챔버(100) 내에 있는 밴팅가스를 배기하는 것을 제어한다.Meanwhile, the gas supply unit 400 is connected to the gas supply line 300 to provide a banting gas, and the gas supply valve 500 is interposed between the gas supply unit 400 and the gas supply line 300. And opens and closes the supply of the venting gas provided by the gas supply unit 400. Whether the gas supply unit 400 supplies the gas and whether the gas supply valve 500 is opened or closed operates under the control of a controller (not shown). That is, the controller (not shown) is installed at a predetermined position to overall control the supply of the banting gas to the load lock chamber 100, and further to control the exhaust of the banting gas in the load lock chamber 100 do.
상기와 같은 작용을 가지는 각 구성수단들로 이루어진 밴팅 시스템에 관한 실시예를 첨부된 도 3 및 도 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 상기 도 3 및 도 4는 밴팅라인(200)이 로드락 챔버(100) 내부의 상부에 설치된 것을 도시하지만, 로드락 챔버(100) 내부 하부에 설치될 수 있다.An embodiment of a banting system composed of the respective constituent means having the above-described operation will be described with reference to FIGS. 3 and 4. 3 and 4 illustrate that the venting line 200 is installed above the load lock chamber 100, but may be installed below the load lock chamber 100.
로드락 챔버(100) 내로 밴팅가스를 주입하기 위하여 제어부(미도시)는 가스 공급부(400)와 가스 공급밸브(500)에 동작 신호를 전달한다. 그러면 상기 가스 공급부(400)는 밴팅가스를 공급하기 시작하고, 상기 가스 공급밸브(500)는 상기 가스 공급부(400)에서 제공하는 밴팅가스가 가스 공급라인(300)을 통하여 이동할 수 있도록 개방된다.In order to inject the venting gas into the load lock chamber 100, a controller (not shown) transmits an operation signal to the gas supply unit 400 and the gas supply valve 500. Then, the gas supply unit 400 starts supplying the venting gas, and the gas supply valve 500 is opened to allow the venting gas provided by the gas supply unit 400 to move through the gas supply line 300.
상기 가스 공급부(400)가 밴팅가스를 공급하고, 상기 가스 공급밸브(500)가 개방됨에 따라, 밴팅가스는 가스 공급라인(300)을 따라 이동한다. 상기 가스 공급라인(300)을 따라 이동하는 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(100) 내부 외곽을 따라 설치되는 밴팅라인(200)에 도달한다.As the gas supply unit 400 supplies the venting gas and the gas supply valve 500 is opened, the venting gas moves along the gas supply line 300. The venting gas moving along the gas supply line 300 reaches the venting line 200 installed along the inner periphery of the load lock chamber 100.
상기 밴팅라인(200)에 도달한 밴팅가스는 밴팅라인에 형성된 다수의 미세한 구멍(210)을 통해 로드락 챔버(10) 내부로 주입된다. 즉, 로드락 챔버(100)의 측벽에 형성된 하나의 밴팅라인 통로(110)(하나의 피딩(feeding) 포인트)를 통해 상기 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(100) 내로 주입된다.The venting gas reaching the venting line 200 is injected into the load lock chamber 10 through a plurality of minute holes 210 formed in the venting line. That is, the venting gas is injected into the load lock chamber 100 through one bending line passage 110 (one feeding point) formed on the sidewall of the load lock chamber 100.
상기의 동작에 따라, 필요한 양의 밴팅가스가 로드락 챔버(100) 내로 주입되면, 제어부(미도시)의 제어에 따라 상기 가스 공급밸브(500)를 폐쇄하는 한편, 상기 가스 공급부(400)의 가스 제공을 중지시킨다.According to the above operation, when the required amount of banting gas is injected into the load lock chamber 100, the gas supply valve 500 is closed under the control of a controller (not shown), and the gas supply unit 400 is closed. Stop gas supply.
한편, 상기 로드락 챔버(100) 내에 주입된 밴팅가스를 배기시켜 챔버 내부의 상태를 진공으로 하기 위하여 제어부(미도시)의 제어에 따라 밴팅가스를 로드락 챔버(100) 하부에 형성된 배기통로(120)를 통하여 배기시킨다.On the other hand, in order to evacuate the banting gas injected into the load lock chamber 100 to vacuum the state inside the chamber under the control of a control unit (not shown) the venting gas formed under the load lock chamber 100 ( Through 120).
도 5는 본 발명에 적용되는 제2 실시예에 따른 밴팅 시스템을 가지는 로드락 챔버의 평면도이고, 도 6은 본 발명에 적용되는 제2 실시예에 따른 밴팅 시스템을 가지는 로드락 챔버의 정면도이다.FIG. 5 is a plan view of a load lock chamber having a banding system according to a second embodiment applied to the present invention, and FIG. 6 is a front view of a load lock chamber having a banding system according to a second embodiment applied to the present invention.
상기의 도 5 내지 도 6에 도시된 밴팅 시스템은, 로드락 챔버 내로 밴팅가스를 주입하기 위해서 로드락 챔버에 구비되는 밴팅 시스템에 의하여 수행하고, 로드락 챔버 내에 있는 밴팅 가스의 배기도 상기 밴팅 시스템에 의하여 수행하는 실시예에 해당한다. 5 to 6 is performed by a banding system provided in the load lock chamber for injecting the banting gas into the load lock chamber, and exhausting the banting gas in the load lock chamber is also performed. Corresponds to the embodiment performed by.
도 5 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 적용되는 제2 실시예에 따른 밴팅 시스템은, 로드락 챔버(100) 내측 둘레 방향을 따라 설치되는 밴팅라인(200), 상기 로드락 챔버의 측벽에 형성된 상기 벤팅라인 통로(110)를 통해 상기 밴팅라인과 연결되는 가스 공급라인(300), 상기 가스 공급라인과 연결되는 가스 공급부(400), 밴팅가스 공급을 개폐하는 가스 공급 밸브(500), 상기 가스 공급라인(300)에 연결시킨 가스 배기라인(600), 상기 가스 배기라인(600)과 연결되는 가스 펌핑부(700), 상기 가스 배기라인(600)에 설치되는 가스 배기밸브(800), 상기 밴팅가스의 공급 또는 배기를 제어하는 제어부(미도시)를 구비하여 이루어져 있다.As shown in FIGS. 5 to 6, the banding system according to the second embodiment of the present invention may include a bending line 200 installed along the inner circumferential direction of the load lock chamber 100 and the load lock chamber. A gas supply line 300 connected to the venting line, a gas supply unit 400 connected to the gas supply line, and a gas supply valve 500 that opens and closes the venting gas supply through the venting line passage 110 formed on a sidewall , A gas exhaust line 600 connected to the gas supply line 300, a gas pumping unit 700 connected to the gas exhaust line 600, and a gas exhaust valve 800 installed in the gas exhaust line 600. ), And a control unit (not shown) for controlling the supply or exhaust of the banting gas.
상기 가스 공급라인(300), 가스 공급부(400), 가스 공급밸브(500)는 상기 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한 것과 동일한 동작을 수행하고, 상기 밴팅라인(200)은 로드락 챔버(100) 내에 밴팅가스를 주입하는 동작뿐만 아니라, 로드락 챔버(100) 내에 존재하는 밴팅가스를 흡입하는 동작도 수행한다.The gas supply line 300, the gas supply unit 400, and the gas supply valve 500 perform the same operation as described with reference to FIGS. 3 and 4, and the venting line 200 includes the load lock chamber 100. In addition to the operation of injecting the banting gas in the), the operation of sucking the banting gas present in the load lock chamber 100 is performed.
상기 가스 배기라인(600)은 상기 밴팅라인(200)과 밴팅라인 통로(110)를 통해 연결된 가스 공급라인(300)의 소정의 지점과 연결되어 있다. 즉, 상기 가스 공급라인(300)의 소정의 지점에서 분기되어 상기 가스 배기라인(600)과 상기 가스 공급라인(300)이 형성된다.The gas exhaust line 600 is connected to a predetermined point of the gas supply line 300 connected through the venting line 200 and the venting line passage 110. That is, the gas exhaust line 600 and the gas supply line 300 are formed by branching at a predetermined point of the gas supply line 300.
상기 가스 펌핑부(700)는 상기 가스 배기라인(600)과 연결되어 상기 로드락 챔버(100) 내에 존재하는 밴팅가스를 밴팅라인(200)을 통하여 흡입하기 위하여 펌핑 동작을 수행한다. 그리고, 상기 가스 배기밸브(800)는 상기 가스 배기라인(600) 사이에 연결되어 상기 가스 펌핑부(700)에 의하여 배기되는 밴팅가스의 배기를 개폐하는 동작을 수행한다.The gas pumping unit 700 is connected to the gas exhaust line 600 to perform a pumping operation to suck the venting gas existing in the load lock chamber 100 through the venting line 200. The gas exhaust valve 800 is connected between the gas exhaust lines 600 to open and close the exhaust gas of the venting gas exhausted by the gas pumping part 700.
한편, 상기 제어부(미도시)는 로드락 챔버(100) 내로 밴팅가스를 주입하기 위해 상기 가스 공급부(400)와 가스 공급밸브(500)를 제어할 뿐만 아니라, 로드락 챔버(100) 내에 존재하는 밴팅가스를 배기시키기 위하여 상기 가스 펌핑부(700)와 가스 배기밸브(800)를 제어한다.Meanwhile, the controller (not shown) not only controls the gas supply unit 400 and the gas supply valve 500 to inject the venting gas into the load lock chamber 100, but also exists in the load lock chamber 100. The gas pumping unit 700 and the gas exhaust valve 800 are controlled to exhaust the banting gas.
즉, 로드락 챔버(100) 내측 둘레 방향을 따라 설치되는 밴팅 라인(200)과 소정의 라인(가스 공급라인, 가스 배기 라인 등)에 의하여 연결되는 가스 펌핑부(700)의 동작에 따라 로드락 챔버 내의 밴팅 가스를 상기 밴팅 라인(200)을 통하여 외부로 배기할 수 있다. 이 때 상기 가스 펌핑부(700)의 동작은 제어부(미도시)의 제어에 따라 이루어진다.That is, the load lock according to the operation of the gas pumping unit 700 connected by the bending line 200 installed along the inner circumferential direction of the load lock chamber 100 and a predetermined line (gas supply line, gas exhaust line, etc.). The venting gas in the chamber may be exhausted to the outside through the venting line 200. At this time, the operation of the gas pumping unit 700 is performed under the control of a controller (not shown).
상기와 같은 작용을 가지는 각 구성수단들로 이루어진 밴팅 시스템에 관한 실시예를 첨부된 도 5 및 도 6을 참조하여 설명하면 다음과 같다. 상기 도 5 및 도 6은 밴팅라인(200)이 로드락 챔버(100) 내부의 상부에 설치된 것을 도시하지만, 로드락 챔버(100) 내부 하부에 설치될 수 있다.Referring to the attached embodiment of the banting system consisting of the respective constituent means having the above described with reference to Figures 5 and 6 as follows. 5 and 6 illustrate that the venting line 200 is installed above the load lock chamber 100, but may be installed below the load lock chamber 100.
로드락 챔버(100) 내로 밴팅가스를 주입하기 위하여 제어부(미도시)는 가스 공급부(400)와 가스 공급밸브(500)에 동작 신호를 전달한다. 그러면 상기 가스 공급부(400)는 밴팅가스를 공급하기 시작하고, 상기 가스 공급밸브(500)는 상기 가스 공급부(400)에서 제공하는 밴팅가스가 가스 공급라인(300)을 통하여 이동할 수 있도록 개방된다. 한편, 상기 제어부(미도시)는 상기 가스 공급부(400)에서 공급하는 밴팅가스가 상기 가스 배기라인(600)을 통해 이동하는 것을 방지하기 위하여 상기 가스 배기밸브(800)가 폐쇄될 수 있도록 제어한다.In order to inject the venting gas into the load lock chamber 100, a controller (not shown) transmits an operation signal to the gas supply unit 400 and the gas supply valve 500. Then, the gas supply unit 400 starts supplying the venting gas, and the gas supply valve 500 is opened to allow the venting gas provided by the gas supply unit 400 to move through the gas supply line 300. The controller (not shown) controls the gas exhaust valve 800 to be closed in order to prevent the banting gas supplied from the gas supply unit 400 from moving through the gas exhaust line 600. .
상기 가스 공급부(400)가 밴팅가스를 공급하고, 상기 가스 공급밸브(500)가 개방됨에 따라, 밴팅가스는 가스 공급라인(300)을 따라 이동한다. 상기 가스 공급라인(300)을 따라 이동하는 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(100) 내부 외곽을 따라 설치되는 밴팅라인(200)에 도달한다.As the gas supply unit 400 supplies the venting gas and the gas supply valve 500 is opened, the venting gas moves along the gas supply line 300. The venting gas moving along the gas supply line 300 reaches the venting line 200 installed along the inner periphery of the load lock chamber 100.
상기 밴팅라인(200)에 도달한 밴팅가스는 밴팅라인에 형성된 다수의 미세한 구멍(210)을 통해 로드락 챔버(10) 내부로 주입된다. 즉, 로드락 챔버(100)의 측벽에 형성된 하나의 밴팅라인 통로(110)(하나의 피딩(feeding) 포인트)를 통해 상기 밴팅가스는 상기 로드락 챔버(100) 내로 주입된다.The venting gas reaching the venting line 200 is injected into the load lock chamber 10 through a plurality of minute holes 210 formed in the venting line. That is, the venting gas is injected into the load lock chamber 100 through one bending line passage 110 (one feeding point) formed on the sidewall of the load lock chamber 100.
상기의 동작에 따라, 필요한 양의 밴팅가스가 로드락 챔버(100) 내로 주입되면, 제어부(미도시)의 제어에 따라 상기 가스 공급밸브(500)를 폐쇄하는 한편, 상기 가스 공급부(400)의 가스 제공을 중지시킨다.According to the above operation, when the required amount of banting gas is injected into the load lock chamber 100, the gas supply valve 500 is closed under the control of a controller (not shown), and the gas supply unit 400 is closed. Stop gas supply.
한편, 상기 로드락 챔버(100) 내에 주입된 밴팅가스를 배기시켜 챔버 내부의 상태를 진공으로 하기 위하여 제어부(미도시)는 상기 가스 배기밸브(800)가 개방될 수 있도록 제어한 후, 가스 펌핑부(700)가 펌핑을 수행할 수 있도록 제어한다.On the other hand, in order to exhaust the banting gas injected into the load lock chamber 100 to vacuum the state inside the chamber, a controller (not shown) controls the gas exhaust valve 800 to be opened, and then pumps the gas. The unit 700 controls to perform the pumping.
상기 가스 펌핑부(700)의 동작에 따라, 상기 로드락 챔버(100) 내에 존재하는 밴팅가스는 밴팅라인(200)에 형성된 다수의 미세 구멍을 통하여 흡입되기 시작한다. 상기 밴팅라인(200) 안으로 흡입되는 밴팅가스는 가스 배기라인(600)에 도달하게 되고, 상기 가스 배기라인(600)에 도달한 밴팅가스는 가스 펌핑부(700)에 의하여 최종적으로 배기된다. 상기 밴팅가스가 배기되는 중에 상기 가스 공급밸브(500)는 제어부(미도시)에 의하여 폐쇄되어 있으므로, 배기되는 밴팅가스가 상기 가스 공급라인(300)을 통하여 가스 공급부(400)로 이동하는 일은 발생하지 않는다.According to the operation of the gas pumping unit 700, the venting gas existing in the load lock chamber 100 starts to be sucked through a plurality of fine holes formed in the venting line 200. The venting gas sucked into the venting line 200 reaches the gas exhaust line 600, and the venting gas reaching the gas exhaust line 600 is finally exhausted by the gas pumping unit 700. Since the gas supply valve 500 is closed by a controller (not shown) while the venting gas is exhausted, the venting gas exhausted may move to the gas supply unit 400 through the gas supply line 300. I never do that.
이와 같이 밴팅 시스템에 의하여 로드락 챔버(100) 내로 밴팅 가스를 주입할 수 있을뿐 아니라, 로드락 챔버(100) 내에 존재하는 밴팅가스를 배기시킬 수도 있으므로, 상기 로드락 챔버에 별도의 배기통로를 형성할 필요가 없다.As described above, not only the venting gas may be injected into the load lock chamber 100 by the banding system, but also the venting gas existing in the load lock chamber 100 may be exhausted. There is no need to form.
상기와 같은 구성 및 작용 그리고 바람직한 실시예를 가지는 본 발명에 의하면, 가스 피딩(feeding) 포인트를 하나로 하여 밴팅라인을 로드락 챔버 내부에 설치함으로써, 밴팅 시스템이 단순해지고 챔버 내의 기밀 유지에 유리한 장점이 있다.According to the present invention having the above-described configuration and operation and preferred embodiments, by installing the banting line inside the load lock chamber with a single gas feeding point, the banting system is simplified and the advantage of maintaining the airtight in the chamber is advantageous. have.
또한, 상기 로드락 챔버 내부에 설치되는 밴팅라인에 수개의 미세 구멍이 형성시킴으로써, 밴팅 타임이 감소되고, 이로 인하여 일정 시간 내의 작업 처리량이 향상되는 장점이 있다. In addition, by forming a few fine holes in the bending line installed in the load lock chamber, the bending time is reduced, thereby improving the throughput within a certain time.
또한, 상기 밴팅라인에 형성된 구멍이 미세하고 다수개이므로 분사되는 밴팅가스에 의하여 글래스(Glass)가 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the holes formed in the bending line are fine and many, the glass may be prevented from being damaged by the spraying gas.
한편, 본 발명인 밴팅 시스템에 의하여 챔버 내부의 밴팅가스를 배기할 수 도 있으므로, 하나의 시스템으로 두배의 효과를 거둘 수 있는 장점이 있다.On the other hand, since the present invention can also exhaust the banting gas inside the chamber by the banting system, there is an advantage that can double the effect in one system.
도 1은 종래의 밴팅 시스템을 포함하는 로드락 챔버의 평면도이다.1 is a plan view of a load lock chamber including a conventional banting system.
도 2는 종래의 밴팅 시스템을 포함하는 로드락 챔버의 정면도이다.2 is a front view of a load lock chamber including a conventional banting system.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 밴팅 시스템을 포함한 로드락 챔버의 평면도이다.3 is a plan view of a load lock chamber including a banding system according to a first embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 밴팅 시스템을 포함한 로드락 챔버의 정면도이다.4 is a front view of a load lock chamber including a banting system according to a first embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 밴팅 시스템을 포함한 로드락 챔버의 평면도이다.5 is a plan view of a load lock chamber including a bending system according to a second embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 밴팅 시스템을 포함한 로드락 챔버의 정면도이다.6 is a front view of a load lock chamber including a banting system according to a second embodiment of the present invention.
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