KR20050114939A - Apparatus and method for scanning constant beam - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다수의 픽셀로 구성된 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프린터의 드럼 또는 영상 디스플레이 등과 같은 피스캐닝 객체에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지할 수 있는 스캐닝 장치 및 방법을 제공한다.The present invention provides a scanning apparatus and method capable of always maintaining a uniform amount of beams diffracted by a diffractive light modulator composed of a plurality of pixels and irradiated onto a piececanning object such as a drum or an image display of a printer.

Description

균일빔 조사를 위한 스캐닝 장치 및 방법{Apparatus and method for scanning constant beam} Scanning apparatus and method for uniform beam irradiation {Apparatus and method for scanning constant beam}

본 발명은 균일빔 조사를 위한 스캐닝 장치 및 방법에 관한 것으로서, 특히 다수의 픽셀로 구성된 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프린터의 드럼 또는 영상 디스플레이 등과 같은 피스캐닝 객체에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지할 수 있는 스캐닝 장치 및 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scanning apparatus and method for uniform beam irradiation, and in particular, to maintain a uniform amount of beams diffracted by a diffractive light modulator composed of a plurality of pixels and irradiated onto a piececanning object such as a drum or an image display of a printer. A scanning apparatus and method that can be used.

일반적으로, 광신호처리는 많은 데이타 양과 실시간 처리가 불가능한 기존의 디지탈 정보처리와는 달리 고속성과 병렬처리 능력, 대용량의 정보처리의 장점을 지니고 있으며, 공간 광변조이론을 이용하여 이진위상 필터 설계 및 제작, 광논리게이트, 광증폭기 등과 영상처리 기법, 광소자, 광변조기 등의 연구가 진행되고 있다. 이중 광변조기는 광메모리, 광디스플레이, 프린터, 광인터커넥션, 그리고 홀로그램 등의 분야에 사용되며, 이를 이용한 광빔 스캐닝 장치의 연구 개발이 진행되어 오고 있다.In general, optical signal processing has advantages of high speed, parallel processing capability, and large-capacity information processing, unlike conventional digital information processing, which cannot process a large amount of data and real-time processing, and design a binary phase filter using spatial light modulation theory. Research on fabrication, optical logic gates, optical amplifiers, image processing techniques, optical devices, optical modulators, etc. Dual optical modulators are used in the fields of optical memory, optical display, printer, optical interconnection, hologram, etc., and research and development of light beam scanning apparatus using them have been in progress.

이러한 광빔 스캐닝 장치는 화상 형성장치 예를 들면, 레이저 프린터, LED 프린터, 전자 사진 복사기 및 워드 프로세서 등에서 광빔을 스캐닝하여 광빔을 감광매체에 스폿(spot)시켜 화상 이미지를 결상시키는 역할을 한다.Such a light beam scanning device scans a light beam in an image forming apparatus such as a laser printer, an LED printer, an electrophotographic copying machine, a word processor, etc., and forms an image image by spotting the light beam on a photosensitive medium.

최근에는 프로젝션(Projection) 텔레비젼 등이 개발됨에 따라 영상 디스플레이에 빔을 조사하는 수단으로서 광빔 스캐닝 장치가 이용되고 있다.Recently, as projection televisions and the like have been developed, a light beam scanning device has been used as a means for irradiating a beam to an image display.

그러면, 상기한 바와 같은 회절형 광변조기가 적용된 종래의 프린터의 스캐닝 장치에 대하여 살펴보면 도 1에 도시된 바와 같다. Then, a scanning apparatus of a conventional printer to which the diffractive optical modulator as described above is applied is illustrated in FIG. 1.

도 1은 종래의 프린터용 스캐닝 장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional scanning device for a printer.

도 1을 참조하면, 종래의 스캐닝 장치(100)는, 레이저 빔을 발생하기 위한 레이저 다이오드(LD)(110)와, 레이저 다이오드(110)로부터 조사된 레이저 빔을 평행광으로 변경시키기 위한 제 1 렌즈(120)와, 제 1 렌즈(120)를 통해 평행광으로 변형된 레이저 빔을 회절시켜 출력하는 회절형 광변조기(130)와, 회절형 광변조기(130)로부터 출력되는 회절빔을 등선속도로 이동시켜 스캐닝하는 회전 미러(Rotating Mirror)(140)와, 회절형 광변조기(130)에 의해 회절되어 출력되는 회절빔을 회전 미러(140)의 회전축 방향으로 집속시키기 위한 제 2 렌즈(150)와, 회전 미러(140)에서 반사된 등각속도의 회절빔을 주조사 방향으로 편향시키고 수차를 보정하여 드럼(Drum)(170)이나 피스캐닝 객체의 조사 면상에 초점을 맞추어 조사하는 제 3 렌즈(160)와, 회절형 광변조기(130)에 의해 회절된 빔 중에서 원하는 성질의 빔만을 선택적으로 통과시켜 회전 미러(140)로 전달되도록 하는 슬릿(180)을 구비한다.Referring to FIG. 1, the conventional scanning apparatus 100 includes a laser diode (LD) 110 for generating a laser beam and a first laser for converting the laser beam emitted from the laser diode 110 into parallel light. A diffraction light modulator 130 diffracting and outputting a laser beam deformed into parallel light through the lens 120, the first lens 120, and a diffraction beam output from the diffraction light modulator 130 isoelectric speed. A rotating mirror 140 for scanning by moving to and a second lens 150 for focusing the diffraction beam diffracted and output by the diffractive optical modulator 130 in the direction of the rotation axis of the rotating mirror 140. And a third lens that deflects the diffraction beam at an isometric velocity reflected from the rotating mirror 140 in the casting yarn direction and corrects aberrations to focus and irradiate the irradiation surface of the drum 170 or the piececanning object ( 160 and a beam diffracted by the diffractive light modulator 130 By selectively passing only the beam of the desired properties in provided with a slit 180 to be delivered to the rotating mirror (140).

여기서, 광원인 레이저 다이오드(110)는 비교적 낮은 출력을 갖는데, 이는 동시에 다수개의 빔을 스캐닝하기 때문에 단일 픽셀에 대해서는 노광에 필요한 레이저 다이오드의 스캐닝 시간을 길게 허용할 수 있기 때문이다.Here, the laser diode 110, which is a light source, has a relatively low output because it can allow a long scanning time of the laser diode required for exposure for a single pixel because it scans a plurality of beams at the same time.

제 1 렌즈(120)는 레이저 다이오드(110)와 회절형 광변조기(130) 사이에 배치된다. 제 1 렌즈(120)가 2개 이상이 채용될 경우, 다수의 제 1 렌즈(120)들은 일정 간격으로 이격되어 배열된다.The first lens 120 is disposed between the laser diode 110 and the diffractive optical modulator 130. When two or more first lenses 120 are employed, the plurality of first lenses 120 are spaced apart at regular intervals.

회전 미러(140)는 양방향으로 회전할 수 있는 모터(미도시)를 구비하고 있으며, 이 모터에 의해 회전하면서 회절 다중빔을 조사하게 된다. 이러한 회전 미러(140)는 폴리곤 미러(Polygon Mirror)나 갈바노 미러(Galvano Mirror)로 구현될 수 있다. The rotating mirror 140 includes a motor (not shown) that can rotate in both directions, and irradiates the diffracted multibeam while rotating by the motor. The rotating mirror 140 may be implemented as a polygon mirror or a galvano mirror.

상기 폴리곤 미러가 회전 미러(140)로 사용될 경우, 상기 폴리곤 미러는 회절형 광변조기(130)로부터 출력되는 회절 다중빔을 등선속도로 이동시키는 특징이 있다. 이때, 제 3 렌즈(160)는 상기 폴리곤 미러에서 반사된 등각속도의 회절 다중빔을 주조사 방향으로 편향시킨다.When the polygon mirror is used as the rotation mirror 140, the polygon mirror is characterized in that the diffraction multi-beams output from the diffractive light modulator 130 is moved at an isotropic speed. In this case, the third lens 160 deflects the diffraction multi-beams at an isometric velocity reflected from the polygon mirror in the casting yarn direction.

상기 갈바노 미러가 회전 미러(140)로 채용될 경우, 상기 갈바노 미러는 다중빔제어용 광변조기(130)로부터 출력되는 회절 다중빔을 비등선속도로 이동시키는 특징이 있다. 이때, 제 3 렌즈(160)는 상기 갈바노 미러에서 반사된 비등각속도의 회절 다중빔을 주조사 방향으로 편향시킨다.When the galvano mirror is employed as the rotating mirror 140, the galvano mirror has a characteristic of moving the diffracted multibeam output from the multi-beam control optical modulator 130 at a specific linear velocity. In this case, the third lens 160 deflects the diffraction multi-beam of the anisotropic velocity reflected from the galvano mirror in the casting yarn direction.

적어도 하나의 제 2 렌즈(150)는 다중빔제어용 광변조기(130)와 회전 미러(140) 사이에 배치된다. 제 2 렌즈(150)가 2개 이상이 배치될 경우, 다수의 제 2 렌즈(150)들은 일정 간격으로 이격되어 배열된다.At least one second lens 150 is disposed between the multi-beam control optical modulator 130 and the rotation mirror 140. When two or more second lenses 150 are disposed, the plurality of second lenses 150 are spaced apart at regular intervals.

슬릿(180)은 회절형 광변조기(130)와 회전 미러(140) 사이에 장착된다. 슬릿(180)이 2개 이상이 장착될 경우, 다수의 슬릿(180)들은 일정 간격으로 이격되어 배열된다.The slit 180 is mounted between the diffractive light modulator 130 and the rotating mirror 140. When two or more slits 180 are mounted, the plurality of slits 180 are spaced apart at regular intervals.

상기한 바와 같은 구조를 갖는 본 발명의 스캐닝 장치의 동작에 대하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the scanning device of the present invention having the structure as described above is as follows.

먼저, 레이저 다이오드(110)가 레이저 빔을 발생하면, 제 1 렌즈(120)는 이 레이저 빔을 평행광으로 변형시켜 회절형 광변조기(130)로 집속시킨다.First, when the laser diode 110 generates a laser beam, the first lens 120 transforms the laser beam into parallel light and focuses the diffraction light modulator 130.

회절형 광변조기(130)는 평행광으로 변형된 레이저 빔을 회절시켜 출력하고, 이어 제 2 렌즈(150)는 이 회절빔을 회전 미러(140)의 회전축 방향으로 집속시킨다. The diffractive light modulator 130 diffracts and outputs the laser beam transformed into parallel light, and then the second lens 150 focuses the diffraction beam in the direction of the rotation axis of the rotation mirror 140.

이렇게 집속된 회절빔은 등선속도로 이동하는 상기 폴리곤 미러에 의해 드럼(170)이나 피스캐닝 객체로 스캐닝되거나, 또는 비등선속도로 이동하는 상기 갈바노 미러에 의해 드럼(170)이나 피스캐닝 객체로 스캐닝된다.The focused diffracted beam is scanned into the drum 170 or the piececanning object by the polygon mirror moving at an isotropic speed, or by the galvano mirror moving at the boiling line speed to the drum 170 or the piececanning object. Scanned.

이때, 회전 미러(140)의 회전 속도는 광변조기(130)에서 출력되는 빔에 비례하여 늦출 수 있다.At this time, the rotation speed of the rotation mirror 140 may be slowed in proportion to the beam output from the optical modulator 130.

이에 따라, 상기 폴리곤 미러로 회전 미러(140)를 구현하면, 제 3 렌즈(160)는 상기 폴리곤 미러에서 반사된 등각속도의 회절빔을 주조사 방향으로 편향시키고 수차를 보정하여 드럼(170)이나 피스캐닝 객체의 조사 면상에 초점을 맞추어 조사한다.Accordingly, when the rotation mirror 140 is implemented as the polygon mirror, the third lens 160 deflects the diffraction beam of the isotropic velocity reflected from the polygon mirror in the casting yarn direction and corrects the aberration to the drum 170 or the like. Focus on the irradiation surface of the piececanning object.

만일, 회전 미러(140)가 상기 갈바노 미러로 구현될 경우, 제 3 렌즈(160)는 상기 갈바노 미러에서 반사된 비등각속도의 회절빔을 주조사 방향으로 편향시키고 수차를 보정하여 드럼(170)이나 피스캐닝 객체의 조사 면상에 초점을 맞추어 조사한다.If the rotating mirror 140 is implemented as the galvano mirror, the third lens 160 deflects the diffraction beam of the anisotropic velocity reflected from the galvano mirror in the casting yarn direction and corrects the aberration for the drum 170. Or focus on the irradiation surface of the piececanning object.

이상에서와 같은 빔의 스캐닝 과정을 통해 드럼(170)에 조사되는 빔의 세기에 따라 프린터의 인쇄 해상도가 변화되는데, 이는 회절형 광변조기(130)에 의해 회절되어 출력되는 회절빔 세기의 변화가 그 원인이 되고 있다. 보다 구체적으로, 회절형 광변조기(130)에는 구동전압으로 일정 전압이 인가되고, 이 구동전압의 크기에 비례하여 회절형 광변조기(130)로부터 출력되는 회절빔 세기가 변환된다. 이러한 특성 이외에 회절형 광변조기(130)는 사용횟수가 증가될수록 그 성능이 저하되어 회절빔의 세기가 약화되는 경향이 있다.The printing resolution of the printer is changed according to the intensity of the beam irradiated to the drum 170 through the beam scanning process as described above, which is a change in the diffraction beam intensity diffracted and output by the diffraction type optical modulator 130. It is the cause. More specifically, the diffraction optical modulator 130 is applied with a constant voltage as a driving voltage, and the diffraction beam intensity output from the diffraction type optical modulator 130 is converted in proportion to the magnitude of the driving voltage. In addition to these characteristics, the diffraction type optical modulator 130 tends to decrease in performance as the frequency of use increases, thereby decreasing the intensity of the diffraction beam.

이에 따라, 종래의 회절형 광변조기를 구비한 스캐닝 장치의 경우, 회절형 광변조기에는 일정 크기의 구동전압만이 인가되므로, 사용 횟수의 증가에 따라 회절형 광변조기의 성능이 저하되어 회절빔의 세기가 약화되더라도 이를 보정하여 줄 수 없었고, 이로 인해 프린터의 인쇄 해상도가 열화되는 문제점이 있었다.Accordingly, in the case of a scanning device having a conventional diffractive optical modulator, since only a predetermined driving voltage is applied to the diffractive optical modulator, the performance of the diffractive optical modulator decreases as the number of times of use increases. Even if the intensity was weakened, it could not be corrected, which caused a problem of deteriorating the print resolution of the printer.

그리고, 상기한 바와 같은 회절형 광변조기를 사용하여 구현한 종래의 스캐닝 장치를 구비한 프로젝션 텔레비젼의 경우에도, 회절형 광변조기의 잦은 사용으로 인해 그 성능이 저하되어 회절빔의 세기가 약화되더라도 이를 보정하여 줄 수 없었기 때문에, 영상 디스플레이의 선명도가 나빠지는 문제점이 있었다. In the case of a projection television equipped with a conventional scanning device implemented using a diffractive optical modulator as described above, even if the performance is degraded due to frequent use of the diffractive optical modulator, the intensity of the diffraction beam is weakened. Since it could not be corrected, there was a problem that the clarity of the video display deteriorated.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 안출된 것으로서, 다수의 픽셀로 구성된 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프린터의 드럼 또는 영상 디스플레이 등과 같은 피스캐닝 객체에 조사되는 빔량을 조절할 수 있는 스캐닝 장치 및 방법을 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and a scanning device that can be adjusted by the diffraction type optical modulator composed of a plurality of pixels to be adjusted to the amount of beam irradiated to a piece canning object, such as a drum or an image display of a printer and The purpose is to provide a method.

본 발명은 다수의 픽셀로 구성된 회절형 광변조기에 의해 회절되어 출력되는 빔량을 조절함으로써, 프린터의 드럼 또는 영상 디스플레이 등과 같은 피스캐닝 객체에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지할 수 있는 스캐닝 장치 및 방법을 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a scanning apparatus and method capable of always maintaining a uniform amount of beam irradiated on a piececanning object such as a drum or an image display of a printer by adjusting the amount of beam diffracted and output by a diffractive optical modulator composed of a plurality of pixels. The purpose is to provide.

본 발명은 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프린터의 드럼에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지함으로써, 프린터의 인쇄 해상도가 일정하게 유지되도록 하는 스캐닝 장치 및 방법을 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a scanning apparatus and method for maintaining a constant printing resolution of a printer by diffracting by a diffraction type optical modulator to always maintain a uniform amount of beam irradiated to a drum of a printer.

본 발명은 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프로젝션 텔레비젼 등의 영상 디스플레이에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지함으로써, 영상 디스플레이의 선명도를 일정하기 유지시킬 수 있는 스캐닝 장치 및 방법을 제공하는데 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a scanning apparatus and method capable of keeping the sharpness of an image display constant by always maintaining a uniform amount of beams diffracted by a diffraction type optical modulator and irradiated onto an image display such as a projection television.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 빔을 발생하여 발생한 빔을 구동전압의 크기에 따라 회절시켜 출사하되 회절빔 중에 일부 빔을 반사시키고 반사빔 외의 빔을 투과시켜 피스캐닝 객체에 조사하는 스캐닝수단; 및 상기 스캐닝수단에 의해 조사되는 회절빔의 세기를 조절하기 위하여, 상기 스캐닝수단으로부터 반사되는 회절빔의 세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 비교결과에 따라 상기 스캐닝수단의 빔 회절에 사용되는 구동전압을 조절하는 빔세기 조절처리수단을 포함한다. In order to achieve the above object, the present invention diffracts a beam generated by generating a beam according to the magnitude of a driving voltage, and emits the beam by reflecting a partial beam in the diffracted beam and transmitting a beam other than the reflected beam to irradiate the piececanning object. Way; And a drive used for beam diffraction of the scanning means according to a comparison result by comparing the intensity of the diffracted beam reflected from the scanning means with a predetermined reference beam intensity to adjust the intensity of the diffracted beam irradiated by the scanning means. Beam intensity control processing means for adjusting the voltage.

본 발명은 빔을 발생하여 발생한 빔을 구동전압의 크기에 따라 회절시켜 출사하되 회절빔 중에 일부 빔을 반사시키고 반사빔 외의 빔을 투과시켜 피스캐닝 객체에 조사하는 제 1 단계; 상기 회절빔 중에 반사된 빔을 아날로그의 전기적신호로 변환시킨 후 아날로그신호를 디지털신호로 변환시키는 제 2 단계; 및 빔보정 모드에서, 상기 디지털신호의 빔세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 비교결과에 따라 빔회절에 사용되는 구동전압을 조절하는 제 3 단계를 포함한다. The present invention includes a first step of diffracting a beam generated by generating a beam according to the magnitude of a driving voltage, and reflecting a partial beam in the diffracted beam and transmitting a beam other than the reflected beam to the piececanning object; Converting the beam reflected in the diffraction beam into an analog electrical signal and converting the analog signal into a digital signal; And a third step of adjusting a driving voltage used for beam diffraction according to a comparison result by comparing the beam intensity of the digital signal with a predetermined reference beam intensity in the beam compensation mode.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 균일빔 조사를 위한 스캐닝 장치의 구성도이다.2 is a block diagram of a scanning device for uniform beam irradiation according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 스캐닝 장치(200)는, 빔을 발생하여 발생한 빔을 구동전압의 크기에 따라 회절시켜 출사하되 회절빔 중에 일부 빔을 반사시키고 반사빔 외의 빔을 투과시켜 피스캐닝 객체(210)에 조사하는 스캐닝부(220)와, 스캐닝부(220)로부터 반사되는 회절빔의 세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 비교결과에 따라 스캐닝부(220)의 빔 회절에 사용되는 구동전압을 조절하는 빔세기 조절처리부(230)를 구비한다. Referring to FIG. 2, the scanning apparatus 200 of the present invention diffracts a beam generated by generating a beam according to the magnitude of a driving voltage, and emits the beam by reflecting a part of the beam in the diffracted beam and transmitting a beam other than the reflected beam. The scanning unit 220 irradiates the object 210 and the intensity of the diffracted beam reflected from the scanning unit 220 and a predetermined reference beam intensity are compared and used for beam diffraction of the scanning unit 220 according to a comparison result. And a beam intensity adjusting processor 230 for adjusting the driving voltage.

스캐닝부(220)는, 빔을 발생하기 위한 광원(221)과, 광원(221)으로부터 발생되는 빔을 평행광으로 변경시키기 위한 적어도 하나의 제 1 렌즈(222)와, 적어도 하나의 제 1 렌즈(222)를 통해 평행광으로 변형된 빔을 구동전압의 크기에 비례하여 회절시켜 출력하는 회절형 광변조기(223)와, 회절형 광변조기(223)에 의해 회절되어 출사되는 회절빔 중에 일부 빔을 투과시키고 투과 빔외의 다른 빔을 반사시키는 프리즘(224)과, 프리즘(224)을 통해 투과되는 빔을 피스캐닝 객체(210)의 조사 면상에 초점을 맞추어 조사하는 적어도 하나의 제 2 렌즈(225)를 구비한다.The scanning unit 220 includes a light source 221 for generating a beam, at least one first lens 222 for converting a beam generated from the light source 221 into parallel light, and at least one first lens. Partial beams are diffracted by the diffraction light modulator 223 and diffracted by the diffraction light modulator 223 and diffracted by the diffracted light modulator 223 in proportion to the magnitude of the driving voltage. A prism 224 that transmits light and reflects a beam other than the transmission beam, and at least one second lens 225 that focuses and irradiates a beam transmitted through the prism 224 on the irradiation surface of the piececanning object 210. ).

광원(221)은 레이저 빔을 발생하는 레이저 또는 레이저 다이오드(LD) 등으로 구현될 수 있다. 여기서, 광원(221)인 레이저 다이오드는 비교적 낮은 출력갖는데, 이는 동시에 다수개의 빔을 스캐닝하기 때문에 단일 픽셀에 대해서는 노광에 필요한 레이저 다이오드의 스캐닝 시간을 길게 허용할 수 있기 때문이다.The light source 221 may be implemented as a laser or a laser diode LD that generates a laser beam. Here, the laser diode, which is the light source 221, has a relatively low output, because it can allow a long scanning time of the laser diode required for exposure for a single pixel because it scans a plurality of beams at the same time.

적어도 하나의 제 1 렌즈(222)는 광원(221)과 회절형 광변조기(223) 사이에 배치되되, 제 1 렌즈(222)가 2개 이상이 채용될 경우, 다수의 제 1 렌즈(222)들은 일정 간격으로 이격되어 배열된다.At least one first lens 222 is disposed between the light source 221 and the diffractive light modulator 223, when two or more first lenses 222 are employed, a plurality of first lenses 222 They are arranged spaced at regular intervals.

회절형 광변조기(223)는 최소 2 픽셀에서 최대 광학계가 허용하는 한 수백 내지 수천 픽셀까지 동시 제어가 가능하다. 또한, 회절형 광변조기(223)는 아날로그로 픽셀을 제어할 수 있어 프린터 및 디스플레이 제품에 적용시 그레이(Gray) 컨트롤이 가능하다. 이때 사용되는 광학렌즈 및 광투사거리를 회절형 광변조기(223)가 제어함으로서 해당 스팟(Spot)에 대한 크기(Size) 및 스팟 간의 간격을 제어할 수 있다.The diffractive light modulator 223 is capable of simultaneous control from at least two pixels to hundreds to thousands of pixels as long as the maximum optics allow. In addition, the diffraction type optical modulator 223 can control the pixel with an analog to allow gray control when applied to a printer and a display product. At this time, the diffraction type optical modulator 223 controls the optical lens and the light projection distance used to control the size of the spot and the distance between the spots.

빔세기 조절처리부(230)는, 프림즘(224)으로부터 반사되는 빔을 집속시키기 위한 제 3 렌즈(231)와, 제 3 렌즈(231)를 통해 집속되는 광을 아날로그의 전기적신호로 변환하기 위한 수광부(232)와, 수광부(232)로부터 출력되는 아날로그의 전기적신호를 디지털신호로 변환하기 위한 A/D 변환부(233)와, 사용자에 의해 설정된 빔보정 모드에서, A/D 변환부(233)에 의해 변환된 디지털신호의 빔세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 비교결과에 따라 회절형 광변조기(223)의 구동전압을 조절하기 위한 전압을 출력하는 제어부(234)와, 외부 전원으로 인가되는 전압과 제어부(234)로부터 출력되는 전압을 가산하여 회절형 광변조기(223)로 출력하는 전압 가산기(235)를 구비한다. The beam intensity adjusting unit 230 may include a third lens 231 for focusing a beam reflected from the prism 224 and a light for focusing through the third lens 231 to an analog electrical signal. The light receiving unit 232, an A / D converter 233 for converting an analog electric signal output from the light receiving unit 232 into a digital signal, and the A / D converter 233 in the beam compensation mode set by the user. A control unit 234 for outputting a voltage for adjusting the driving voltage of the diffractive optical modulator 223 according to the comparison result by comparing the beam intensity of the digital signal converted by the < Desc / Clms Page number 9 > And a voltage adder 235 for adding the applied voltage and the voltage output from the controller 234 to output the diffraction optical modulator 223.

빔세기 조절처리부(230)는, 회절형 광변조기(223)로부터 출력되는 회절빔의 세기를 보정하는 "빔보정 모드"의 설정 명령을 입력하기 위한 버튼(236)을 더 구비한다.The beam intensity adjusting unit 230 further includes a button 236 for inputting a setting command of a "beam correction mode" for correcting the intensity of the diffracted beam output from the diffraction type optical modulator 223.

예를 들어, 회절형 광변조기(223)가 빔세기 조절처리부(230)에 의한 제어를 받지않고 입사빔을 회절시켜 조사하는 "정상 모드"로 설정되어 있는 상태에서 버튼(236)을 누르면, 제어부(234)는 정상 모드를 해지하고 빔보정 모드를 설정한다.For example, when the diffraction type optical modulator 223 presses the button 236 in a state where the diffraction type optical modulator 223 is set to the "normal mode" for diffracting and irradiating the incident beam without being controlled by the beam intensity control processor 230, 234 terminates the normal mode and sets the beam correction mode.

수광부(232)는 광신호를 전기적신호로 변환시켜 출력하는 포토다이오드(PD) 또는 CMOS 이미지 센서 등으로 구현될 수 있다.The light receiver 232 may be implemented as a photodiode (PD) or a CMOS image sensor that converts and outputs an optical signal into an electrical signal.

제어부(234)는 주문형 집적회로(ASIC Type Circuit)로 구현될 수 있으며, 기준 빔세기가 미리 설정되되 이는 피스캐닝 객체(210)에 조사되는 빔의 세기에 비례하여 실험적으로 결정된다. 여기서, 소정의 기준 빔세기는 피스캐닝 객체(210)의 종류에 따라 달라질 수 있는데, 예를 들어 프스캐닝 객체(210)가 프린터의 드럼이라면, 프린터의 인쇄 해상도가 최적이 되도록 하는 빔세기가 기준값으로 설정된다.The controller 234 may be implemented as an ASIC type circuit, and the reference beam intensity is preset, but is determined experimentally in proportion to the intensity of the beam irradiated to the piececanning object 210. Here, the predetermined reference beam intensity may vary according to the type of the piece scanning object 210. For example, if the scanning object 210 is a drum of a printer, the beam intensity for optimizing the printing resolution of the printer is a reference value. Is set.

피스캐닝 객체(210)는 프린터의 드럼 및 쉬트(Sheet) 또는 프로젝션 텔레비젼의 영상 디스플레이 등이 그 대상이 될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니며 전자 사진 복사기 및 워드 프로세서 등과 같은 다양한 광전기기가 그 대상이 될 수 있다. The piece canning object 210 may be an object such as a drum and a sheet of a printer or an image display of a projection television, but is not limited thereto, and various optoelectronic devices such as an electrophotographic copy machine and a word processor may be used as the object. Can be.

상기한 바와 같은 구성을 갖는 본 발명의 스캐닝 장치의 동작에 대하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.The operation of the scanning apparatus of the present invention having the configuration as described above will be described in detail as follows.

먼저, 스캐닝부(220)가 빔세기 조절처리부(230)의 제어를 받지 않고 빔을 회절시켜 조사하는 과정에 대하여 살펴본다.First, the scanning unit 220 looks at a process of diffracting and irradiating a beam without being controlled by the beam intensity adjusting processor 230.

사용자가 버튼(236)을 눌러 정상 모드의 설정을 지시하면, 제어부(234)는 정상 모드를 설정한다.When the user presses the button 236 to instruct the normal mode to be set, the controller 234 sets the normal mode.

광원(221)으로 레이저와 같은 빔을 발생하면, 제 1 렌즈(222)는 이 빔을 회절형 광변조기(223)에 집속시킨다.When a beam such as a laser is generated by the light source 221, the first lens 222 focuses the beam on the diffractive light modulator 223.

이때, 회절형 광변조기(223)는 외부 전원으로부터 인가되는 구동전압에 따라 입사된 빔을 일정한 편차로 회절시켜 출사한다. 이렇게 회절형 광변조기(223)에 의해 회절된 빔이 출사되면, 프리즘(224)은 회절빔 중에 일부 빔은 투과시키고 나머지 다른 빔은 빔세기 조절처리부(230)로 반사시킨다. 여기서, 정상 모드로 설정되어 있기 때문에 회절형 광변조기(223)에 인가되는 구동전압은 변화되지 않는다. 따라서, 회절형 광변조기(223)는 빔세기 조절처리부(230)로부터 출력되는 전압에 의한 영향을 받지 않고 외부 전원으로부터 인가되는 구동전압의 크기에 따라서만 입사된 빔을 일정 편차로 회절시킨다.At this time, the diffraction type optical modulator 223 diffracts the incident beam with a predetermined deviation according to a driving voltage applied from an external power source and emits the light. When the beam diffracted by the diffractive light modulator 223 is emitted, the prism 224 transmits some beams in the diffraction beams and reflects the other beams to the beam intensity control unit 230. Here, since it is set to the normal mode, the driving voltage applied to the diffraction type optical modulator 223 is not changed. Therefore, the diffraction type optical modulator 223 diffracts the incident beam with a certain deviation only according to the magnitude of the driving voltage applied from the external power source without being affected by the voltage output from the beam intensity adjusting processor 230.

이와 같이, 프리즘(224)이 회절빔 중에 일부빔을 투과시키면, 제 2 렌즈(225)는 프리즘(224)을 통해 투과되는 빔을 피스캐닝 객체(210)의 조사 면상에 초점을 맞추어 조사한다. As such, when the prism 224 transmits a partial beam in the diffraction beam, the second lens 225 focuses and irradiates the beam transmitted through the prism 224 on the irradiation surface of the piececanning object 210.

다음은, 스캐닝부(220)가 빔세기 조절처리부(230)의 제어를 받아 빔을 회절시켜 조사하는 과정에 대하여 살펴본다.Next, the scanning unit 220 looks at the process of diffracting and irradiating a beam under the control of the beam intensity control processor 230.

사용자가 버튼(236)을 눌러 빔보정 모드의 설정을 지시하면, 제어부(234)는 정상 모드를 해지하고 빔보정 모드를 설정한다.When the user instructs the setting of the beam compensation mode by pressing the button 236, the controller 234 terminates the normal mode and sets the beam compensation mode.

이렇게 빔보정 모드가 설정된 상태에서도 스캐닝부(220)는 우선적으로 상기한 바와 같은 과정을 통해 회절빔을 피스캐닝 객체(210)에 조사한다.Even in this state in which the beam compensation mode is set, the scanning unit 220 firstly irradiates the diffraction beam to the piece scanning object 210 through the above-described process.

이와 같은 회절빔의 조사 과정에서, 프리즘(224)은 회절빔 중에 투과된 빔외의 회절빔을 제 3 렌즈(231)로 반사시키고, 이어 제 3 렌즈(231)는 반사되어 입사된 회절빔을 수광부(232)로 집속시킨다.In the process of irradiating the diffraction beams, the prism 224 reflects the diffraction beams other than the beams transmitted in the diffraction beams to the third lens 231, and then the third lens 231 receives the reflected and incident diffraction beams. Focus to (232).

그리고, 수광부(232)는 집속된 빔으로 이루어진 광신호를 아날로그의 전기적신호로 변환시켜 A/D 변환부(233)로 출력한다. 이때, A/D 변환부(233)는 아날로그의 전기적신호를 디지털신호로 변환시켜 제어부(234)로 출력한다.The light receiver 232 converts an optical signal composed of a focused beam into an analog electrical signal and outputs the analog signal to the A / D converter 233. At this time, the A / D converter 233 converts an analog electrical signal into a digital signal and outputs it to the controller 234.

이와 같이 검출된 디지털신호의 빔세기가 입력되면, 제어부(234)는 검출된 빔세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 그 결과에 따라 회절형 광변조기(223)의 구동전압을 조절하기 위한 일정 크기의 전압을 출력한다.When the beam intensity of the detected digital signal is input, the controller 234 compares the detected beam intensity with a predetermined reference beam intensity, and adjusts the driving voltage of the diffractive optical modulator 223 according to the result. Output voltage of magnitude.

예를 들어, 제어부(234)에 의한 비교결과 검출된 빔세기와 소정의 기준 빔세기가 동일하면, 제어부(234)는 0V 전압을 전압 가산기(235)로 출력한다. 이러한 경우, 전압 가산기(235)에 의해 가산되어 출력되는 전압의 크기는 외부 전원으로부터 공급되는 구동전압의 크기와 동일하므로, 회절형 광변조기(223)는 결국 정상 모드에서와 같이 외부 전원으로부터 인가되는 구동전압에 의해서만 구동된다.For example, if the beam intensity detected as a result of the comparison by the controller 234 is equal to the predetermined reference beam intensity, the controller 234 outputs a 0V voltage to the voltage adder 235. In this case, since the magnitude of the voltage added and output by the voltage adder 235 is the same as the magnitude of the driving voltage supplied from the external power source, the diffractive optical modulator 223 is eventually applied from the external power source as in the normal mode. It is driven only by the driving voltage.

만일, 제어부(234)가 검출된 빔세기와 소정의 기준 빔세기를 비교한 결과 검출된 빔세기가 작은 것으로 판단되면, 제어부(234)는 검출된 빔세기와 소정의 기준 빔세기의 차이값을 결정하고 결정된 차이값에 비례하는 출력 전압의 크기를 결정한다. 여기서, 제어부(234)는 소정의 프로그램에 따라 검출된 빔세기와 소정의 기준 빔세기의 차이값에 대응되는 출력 전압의 크기를 결정한다. 즉, 제어부(234)가 출력하는 전압의 크기는 검출된 빔세기와 소정의 기준 빔세기의 차이값에 비례하여 변화된다.If the controller 234 compares the detected beam intensity with a predetermined reference beam intensity, and determines that the detected beam intensity is small, the controller 234 determines a difference value between the detected beam intensity and the predetermined reference beam intensity. Determine the magnitude of the output voltage proportional to the determined difference. Here, the controller 234 determines the magnitude of the output voltage corresponding to the difference between the beam intensity detected according to the predetermined program and the predetermined reference beam intensity. That is, the magnitude of the voltage output from the controller 234 is changed in proportion to the difference between the detected beam intensity and the predetermined reference beam intensity.

이렇게, 제어부(234)가 결정한 일정 크기의 전압을 전압 가산기(235)로 출력하면, 전압 가산기(235)는 외부 전원으로부터 공급되는 전압과 제어부(234)로부터 출력되는 전압을 가산하여 회절형 광변조기(223)로 출력한다.When the voltage of the predetermined magnitude determined by the controller 234 is output to the voltage adder 235, the voltage adder 235 adds the voltage supplied from an external power source and the voltage output from the controller 234 to form a diffraction type optical modulator. Output to (223).

이와 같은 과정을 통해 회절형 광변조기(223)에 인가되는 구동전압이 커지면, 회절형 광변조기(223)가 갖는 구조적인 특성에 의해 그로부터 회절되어 출사되는 빔의 세기가 커진다. As the driving voltage applied to the diffractive optical modulator 223 increases through this process, the intensity of the beam diffracted therefrom increases due to the structural characteristics of the diffractive optical modulator 223.

그러면, 이하에서는 빔세기 조절처리부(230)로부터 출력되는 전압의 크기에 따라 회절형 광변조기(223)에 의해 회절되어 출사되는 빔의 세기가 커지는지를 첨부도면을 참조하여 보다 구체적으로 살펴본다.Next, the intensity of the beam diffracted by the diffractive light modulator 223 and outputted according to the magnitude of the voltage output from the beam intensity adjusting processor 230 will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

일반적으로, 압전/전왜 회절형 광변조기는 렌즈로부터 입사된 단일빔 형태의 선형광을 회절시켜 소정의 회절계수를 갖는 회절빔을 형성한 후, 상기 회절빔을 감광면에 수평방향으로 주사시키는 것으로서, 소정 형상의 박막 및 후막 구조를 갖는 다수의 액추에이팅 셀(320)을 포함하여 구성된다. In general, a piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator diffracts a single beam type linear light incident from a lens to form a diffraction beam having a predetermined diffraction coefficient, and then scans the diffraction beam horizontally onto the photosensitive surface. It comprises a plurality of actuating cells 320 having a thin film and a thick film structure of a predetermined shape.

즉, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 3에 도시된 바와 같이, 소정 기판(310) 상에 형성되는 하부전극(321)과, 상기 하부 전극(321)상에 형성된 압전/전왜층(322) 및 상기 압전/전왜층(322)의 상부에 형성된 상부전극(323)으로 구성되고, 외부로부터 인가되는 구동 전원에 의하여 상하 구동되는 세로 방향의 길이가 가로 방향의 길이보다 긴 후막 형상의 엑추에이팅 셀(320)을 포함하여 구성된다.That is, as illustrated in FIG. 3, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator includes a lower electrode 321 formed on a predetermined substrate 310 and a piezoelectric / distortion layer formed on the lower electrode 321. 322 and the upper electrode 323 formed on the piezoelectric / electric strain layer 322, the vertical film length of the vertical direction is vertically driven by the drive power applied from the outside is longer than the length in the horizontal direction It comprises a gating cell 320.

이때, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 4에 도시된 바와 같이, 스캐닝 장치의 구조적인 특징을 고려하여 가로 방향의 길이가 세로 방향의 길이보다 긴 후막 형상의 엑츄에이팅 셀(320)을 포함하여 구성할 수 도 있다.In this case, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator, as shown in FIG. 4, in consideration of the structural features of the scanning device, the actuating cell 320 having a thick film shape in which the length in the horizontal direction is longer than the length in the vertical direction. It can also be configured to include.

또한, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 반사면으로 동작하는 상부 전극(323)상에 입사되는 입사광의 반사효율을 극대화 하기 위한 마이크로 미러(324)를 더 포함하여 구성할 수 있다. In addition, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator, as shown in FIGS. 5 and 6, the micromirror 324 for maximizing the reflection efficiency of incident light incident on the upper electrode 323 operating as the reflective surface. ) Can be configured to further include.

상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 7에 도시된 바와 같이, 중앙 부분에 에어 스페이스를 제공하기 위한 함몰부가 형성되어 있는 실리콘 기판(310)상에 하부전극(321), 압전/전왜층(322) 및 상부전극(323)으로 구성되고, 외부로부터 인가되는 구동 전원에 의하여 좌우 구동되는 세로 방향의 길이가 가로 방향의 길이보다 긴 박막 형상의 엑추에이팅 셀(320)을 포함하여 구성된다. As shown in FIG. 7, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator includes a lower electrode 321 and a piezoelectric / distortion layer on a silicon substrate 310 having a depression for providing an air space in a central portion thereof. 322 and the upper electrode 323, the length of the vertical direction driven by the drive power applied from the outside is configured to include a thin film-shaped actuating cell 320 longer than the length of the horizontal direction.

이때, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 8에 도시된 바와 같이, 스캐닝 장치의 구조적인 특징을 고려하여 가로 방향의 길이가 세로 방향의 길이보다 긴 박막 형상의 엑츄에이팅 셀(320)을 포함하여 구성될 수 도 있다. At this time, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator, as shown in Figure 8, in consideration of the structural characteristics of the scanning device, the thin film-shaped actuating cell 320 is longer than the length in the longitudinal direction in the longitudinal direction It may be configured to include.

또한, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 반사면으로 동작하는 상부 전극(323)상에 입사되는 입사광의 반사효율을 극대화 하기 위한 마이크로 미러(324)를 더 포함하여 구성할 수 있다.In addition, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator, as shown in FIGS. 9 and 10, the micromirror 324 for maximizing the reflection efficiency of incident light incident on the upper electrode 323 operating as the reflective surface. ) Can be configured to further include.

여기서, 하부 전극(321)은 후막 구조의 액추에이팅 셀(320)을 구성하는 소정의 기판(310)상에 형성되어 외부로부터 인가되는 구동전압을 압전/전왜층(322)에 제공하는 것으로서, Pt, Ta/Pt, Ni, Au, Al, RuO2 등의 전극 재료에 대한 스퍼터링 또는 증착방법에 의하여 기판(310)상에 형성시킨다.Here, the lower electrode 321 is formed on a predetermined substrate 310 constituting the actuating cell 320 of the thick film structure to provide a driving voltage applied to the piezoelectric / electric distortion layer 322 from the outside. It is formed on the substrate 310 by sputtering or vapor deposition of electrode materials such as Pt, Ta / Pt, Ni, Au, Al, and RuO2.

또한, 하부 전극(321)은 박막 구조의 액추에이팅 셀(320)을 구성하는 소정의 기판(310) 또는 하부 지지대(310')상에 형성되어 외부로부터 인가되는 구동전압을 압전/전왜층(322)에 제공하는 역할을 또한 수행한다.In addition, the lower electrode 321 is formed on a predetermined substrate 310 or lower support 310 'constituting the actuating cell 320 of the thin film structure to apply a driving voltage applied from the outside to the piezoelectric / electric strain layer ( 322 also serves.

여기서, 하부 지지층(310')은 박막 구조를 갖는 액추에이팅 셀(320)의 압전/전왜층(322)을 지지하기 위하여 실리콘 기판(310)상에 증착되어 형성되는 것으로서, SiO2, Si3N4, Si, ZrO2, Al2O3 등의 재료로 구성되고, 이러한 하부 지지대(310')는 필요에 따라 생략할 수 있다.Here, the lower support layer 310 'is as formed is deposited on the silicon substrate 310 to support the piezoelectric / I waecheung 322 of the actuating cell 320 having a thin film structure, SiO 2, Si 3 It is composed of materials such as N 4 , Si, ZrO 2 , Al 2 O 3, and the lower support 310 ′ may be omitted as necessary.

압전/전왜층(322)은 외부로부터 인가되는 구동 전원에 연동하여 발생하는 압전 현상에 의하여 상·하 방향 또는 좌.우 방향으로 길이가 변화하는 소정의 압전/전왜 재료, 보다 구체적으로는, PzT, PNN-PT, ZnO. Pb, Zr 또는 타이타늄 등의 압전/전왜 재료를 습식(스크린 프린팅, Sol-Gel coting 등) 및 건식 방법(스퍼터링, Evaporation, Vapor Deposition 등)을 통하여 0.01~20.0㎛ 범위로 상기 하부 전극(321)상에 형성된다.The piezoelectric / distortion layer 322 is a predetermined piezoelectric / distortion material whose length is changed in the up / down direction or the left and right directions by a piezoelectric phenomenon generated in conjunction with a driving power source applied from the outside, more specifically, PzT. , PNN-PT, ZnO. The lower electrode 321 in a range of 0.01 to 20.0 μm through piezoelectric / electric warping material such as P b , Zr or titanium by wet (screen printing, Sol-Gel coting, etc.) and dry methods (sputtering, evaporation, vapor deposition, etc.). Is formed on the phase.

상부 전극(323)은 상기 압전/전왜층(322)의 상부에 형성되어 렌즈로부터 입사되는 입사광에 대한 반사 및 회절을 수행하는 것으로서, 보다 구체적으로는 Pt, Ta/Pt, Ni, Au, Al, RuO2 등의 전극재료를 스퍼터링 또는 증착 방법을 통하여 0.01~3㎛ 범위로 형성된다.The upper electrode 323 is formed on the piezoelectric / electric distortion layer 322 to perform reflection and diffraction for incident light incident from the lens. More specifically, Pt, Ta / Pt, Ni, Au, Al, An electrode material such as RuO 2 is formed in a range of 0.01 to 3 μm through sputtering or vapor deposition.

이때, 상부 전극(323)은 외부로부터 입력되는 광신호에 대한 반사 및 회절을 수행하는 마이크로 미러로서 동작하거나, 또는 상기 광신호에 대한 반사 및 회절을 더욱 강화 시키기 위하여 소정의 광반사 물질인 Al, Au, Ag, Pt, Au/Cr로 구성된 마이크로 미러(324)를 더 포함하여 구성될 수 도 있다.At this time, the upper electrode 323 operates as a micro mirror for performing reflection and diffraction for the optical signal input from the outside, or Al, which is a predetermined light reflecting material to further enhance the reflection and diffraction for the optical signal, It may be configured to further include a micro mirror 324 composed of Au, Ag, Pt, Au / Cr.

여기서, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는 상기 엑추에이팅 셀(320)이 소정의 갯수로 구룹화 된 픽셀(330) 단위로 구동되고, 상기 픽셀(330)은 소정의 감광부재(600)를 구성하는 감광면의 한 점(DOT)에 대응한다. Here, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator is driven in units of pixels 330 in which the actuating cells 320 are grouped in a predetermined number, and the pixels 330 may be provided with a predetermined photosensitive member 600. It corresponds to one point (DOT) of the photosensitive surface which comprises.

즉, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 11a 및 도 11b에 도시된 바와 같이, 소정 개수의 액추에이팅 셀(320)을 포함하고, 1차원 형상으로 배열된 픽셀(330)의 회절현상에 의거하여 형성되는 회절빔을 감광면에 주사시킴으로써, 1차원 형상의 스캐닝, 보다 구체적으로는 한 줄에 대한 스캐닝을 동시에 수행한다.That is, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator, as shown in FIGS. 11A and 11B, includes a predetermined number of actuating cells 320 and diffraction phenomenon of the pixels 330 arranged in a one-dimensional shape. By scanning the diffraction beam formed on the photosensitive surface, scanning of one-dimensional shape, more specifically, scanning for one line is performed at the same time.

여기서, 도 11a는 세로 방향이 가로 방향보다 길게 형성된 픽셀이 1차원 형상으로 배열된 구조를 도시한 도면이고, 도 11b는 가로 방향이 세로 방향보다 길게 형성된 픽셀이 1차원 형상으로 배열된 구조를 도시한 도면이다.Here, FIG. 11A illustrates a structure in which pixels formed in a longitudinal direction longer than a horizontal direction are arranged in a one-dimensional shape, and FIG. 11B illustrates a structure in which pixels formed in a horizontal direction longer than a vertical direction are arranged in a one-dimensional shape. One drawing.

또한, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기는, 도 12a 및 도 12b에 도시된 바와 같이, 소정 개수의 액추에이팅 셀(320)을 포함하고, 2차원 형상으로 배열된 픽셀(330)의 회절현상에 의거하여 형성된 2차원 형상의 회절빔을 감광면에 주사시킴으로써, 2차원 형상의 스캐닝, 보다 구체적으로는 다수의 줄에 대한 스캐닝을 동시에 수행한다.In addition, the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator, as illustrated in FIGS. 12A and 12B, includes a predetermined number of actuating cells 320 and diffraction phenomenon of the pixels 330 arranged in a two-dimensional shape. By scanning the two-dimensional diffraction beam formed on the photosensitive surface, two-dimensional scanning, more specifically, scanning a plurality of lines is simultaneously performed.

여기서, 도 12a는 세로 방향이 가로 방향보다 길게 형성된 픽셀(330)이 2차원 형상으로 배열된 구조를 도시한 도면이고, 도 12b는 가로 방향이 세로 방향보다 길게 형성된 픽셀(330)이 2차원 형상으로 배열된 구조를 도시한 도면이다.Here, FIG. 12A illustrates a structure in which pixels 330 having a longitudinal direction longer than a horizontal direction are arranged in a two-dimensional shape, and FIG. 12B illustrates a pixel having a horizontal direction longer than a vertical direction in a two-dimensional shape. Figure is a diagram showing a structure arranged in.

즉, 상기 압전/전왜 회절형 광변조기를 구성하는 각각의 픽셀(330)은, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 1차원 형상 또는 2차원 형상으로 배열되고, 이에 의하여 1차원 형상 또는 2차원 형상의 스캐닝을 수행하여 한줄 또는 다수의 줄에 대한 스캐닝을 수행한다.That is, each pixel 330 constituting the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator is arranged in a one-dimensional or two-dimensional shape, as shown in Figs. The scanning of one or more lines is performed by scanning the dimensional shape.

이때, 상기 픽셀(330)을 구성하는 액추에이팅 셀(320)은 4개로 구성된 형상만이 도시되어 있으나, 상기 픽셀(330)을 구성하는 액추에이팅 셀(320)이 4개로 한정되는 것은 아니며 그 이외의 개수로 구성될 수 있다. At this time, the actuating cell 320 constituting the pixel 330 is shown only four configurations, but the actuating cell 320 constituting the pixel 330 is not limited to four. It may consist of other numbers.

본 발명의 기술사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술사상의 범위내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. Although the technical spirit of the present invention has been described in detail according to the above-described preferred embodiment, it should be noted that the above-described embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, those skilled in the art will understand that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은, 다수의 픽셀로 구성된 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프린터의 드럼 또는 영상 디스플레이 등과 같은 피스캐닝 객체에 조사되는 빔량을 조절함으로써, 다음과 같은 효과들을 갖는다.As described above, the present invention has the following effects by controlling the amount of beams diffracted by a diffractive light modulator composed of a plurality of pixels and irradiated to a piececanning object such as a drum or an image display of a printer.

첫째, 프린터의 드럼 또는 영상 디스플레이 등과 같은 피스캐닝 객체에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지할 수 있다.First, the amount of beams irradiated onto a piececanning object such as a drum or an image display of a printer can be kept uniform at all times.

둘째, 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프린터의 드럼에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지함으로써, 프린터의 인쇄 해상도가 일정하게 유지되도록 한다.Secondly, the amount of beams diffracted by the diffractive light modulator to be irradiated to the drum of the printer is always kept constant so that the printing resolution of the printer is kept constant.

셋째, 회절형 광변조기에 의해 회절되어 프로젝션 텔레비젼 등의 영상 디스플레이에 조사되는 빔량을 항상 균일하게 유지함으로써, 영상 디스플레이의 선명도를 일정하기 유지시킬 수 있다. Third, by maintaining a uniform amount of beams diffracted by a diffraction type optical modulator and irradiated onto a video display such as a projection television, the sharpness of the video display can be kept constant.

도 1은 종래의 프린터용 스캐닝 장치의 구성도.1 is a block diagram of a conventional scanning device for a printer.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 균일빔 조사를 위한 스캐닝 장치의 구성도.2 is a block diagram of a scanning device for uniform beam irradiation according to an embodiment of the present invention.

도 3는 본 발명에 적용되는 압전/전왜 회절형 광변조기를 구성하는 세로 방향이 가로 방향 보다 긴 후막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.3 is a view showing the arrangement of a thick-film actuating cell having a longitudinal direction longer than a horizontal direction constituting a piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator applied to the present invention.

도 4은 본 발명에 적용되는 압전/전왜 회절형 광변조기를 구성하는 가로 방향이 세로 방향 보다 긴 후막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.FIG. 4 is a view showing an arrangement of thick-film actuating cells having a transverse direction longer than the longitudinal direction of the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator applied to the present invention. FIG.

도 5은 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 적용되는 마이크로 미러가 형성된 세로 방향이 가로 방향 보다 긴 후막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.5 is a diagram illustrating an arrangement of thick-film actuating cells having a longitudinal direction longer than a horizontal direction in which a micromirror is applied to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulators of FIGS. 3 and 4.

도 6은 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 적용되는 마이크로 미러가 형성된 가로 방향이 세로 방향 보다 긴 후막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.FIG. 6 is a view showing an arrangement of thick-film actuating cells having a horizontal direction longer than a vertical direction in which micromirrors are applied to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulators of FIGS. 3 and 4.

도 7는 본 발명에 적용되는 압전/전왜 회절형 광변조기를 구성하는 세로 방향이 가로 방향 보다 긴 박막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.7 is a view showing an arrangement of a thin-film actuating cell having a longitudinal direction longer than a horizontal direction constituting a piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator applied to the present invention.

도 8은 본 발명에 적용되는 압전/전왜 회절형 광변조기를 구성하는 가로 방향이 세로 방향 보다 긴 박막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.FIG. 8 is a view showing an arrangement of thin-film actuating cells having a transverse direction longer than a longitudinal direction of a piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator applied to the present invention. FIG.

도 9은 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 적용되는 마이크로 미러가 형성된 세로 방향이 가로 방향 보다 긴 박막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.9 is a view showing an arrangement of thin-film actuating cells having a longitudinal direction longer than a horizontal direction in which micromirrors are applied to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulators of FIGS. 3 and 4.

도 10는 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 적용되는 마이크로 미러가 형성된 가로 방향이 세로 방향 보다 긴 후막 형상의 엑추에이팅 셀의 배열을 도시한 도면.FIG. 10 is a view showing an arrangement of thick-film actuating cells having a transverse direction longer than a longitudinal direction in which micromirrors are applied to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulators of FIGS. 3 and 4.

도 11a는 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 따른 소정 개수의 액추에이팅 셀을 포함하고, 세로 방향이 가로 방향보다 긴 형상을 갖는 픽셀의 1차원 배열을 도시한 도면.FIG. 11A illustrates a one-dimensional array of pixels including a predetermined number of actuating cells according to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulator of FIGS. 3 and 4 and having a longitudinal direction longer than a horizontal direction. FIG.

도 11b는 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 따른 소정 개수의 액추에이팅 셀을 포함하고, 가로 방향이 세로 방향보다 긴 형상을 갖는 픽셀의 1차원 배열을 도시한 도면.FIG. 11B illustrates a one-dimensional array of pixels including a predetermined number of actuating cells according to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulators of FIGS. 3 and 4, the horizontal direction having a shape longer than the vertical direction.

도 12a는 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 따른 소정 개수의 액추에이팅 셀을 포함하고, 세로 방향이 가로 방향보다 긴 형상을 갖는 픽셀의 2차원 배열을 도시한 도면.FIG. 12A illustrates a two-dimensional array of pixels including a predetermined number of actuating cells according to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulators of FIGS. 3 and 4 and having a longitudinal direction longer than a horizontal direction. FIG.

도 12b는 도 3 및 도 4의 압전/전왜 회절형 광변조기에 따른 소정 개수의 액추에이팅 셀을 포함하고, 가로 방향이 세로 방향보다 긴 형상을 갖는 픽셀의 2차원 배열을 도시한 도면. FIG. 12B illustrates a two-dimensional array of pixels including a predetermined number of actuating cells according to the piezoelectric / electric distortion diffraction type optical modulators of FIGS. 3 and 4, the horizontal direction having a shape longer than the vertical direction.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

210: 피스캐닝 객체 220: 스캐닝부210: piece scanning object 220: scanning unit

230: 빔세기 조절처리부 221: 광원230: beam intensity control processing unit 221: light source

222: 제 1 렌즈 223: 회절형 광변조기222: first lens 223: diffractive optical modulator

224: 제 2 렌즈 231: 제 3 렌즈224: second lens 231: third lens

232: 수광부 233: A/D 변환부232: light receiver 233: A / D converter

234: 제어부 235: 전압 가산기234: control unit 235: voltage adder

236: 버튼 236: button

Claims (11)

빔을 발생하여 발생한 빔을 구동전압의 크기에 따라 회절시켜 출사하되 회절빔 중에 일부 빔을 반사시키고 반사빔 외의 빔을 투과시켜 피스캐닝 객체에 조사하는 스캐닝수단; 및Scanning means for diffracting the generated beam by generating a beam according to the magnitude of the driving voltage, reflecting a part of the beam in the diffracted beam, and transmitting a beam other than the reflected beam to the piececanning object; And 상기 스캐닝수단에 의해 조사되는 회절빔의 세기를 조절하기 위하여, 상기 스캐닝수단으로부터 반사되는 회절빔의 세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 비교결과에 따라 상기 스캐닝수단의 빔 회절에 사용되는 구동전압을 조절하는 빔세기 조절처리수단In order to adjust the intensity of the diffracted beam irradiated by the scanning means, the driving voltage used for diffraction of the scanning means according to the comparison result by comparing the intensity of the diffracted beam reflected from the scanning means with a predetermined reference beam intensity Beam intensity control processing means for adjusting the 을 포함하는 스캐닝 장치.Scanning device comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스캐닝수단은,The scanning means, 빔을 발생하기 위한 광원;A light source for generating a beam; 상기 광원으로부터 발생되는 빔을 평행광으로 변경시키기 위한 적어도 하나의 제 1 렌즈;At least one first lens for converting a beam generated from the light source into parallel light; 상기 적어도 하나의 제 1 렌즈를 통해 평행광으로 변형된 빔을 구동전압의 크기에 비례하여 회절시켜 출력하는 회절형 광변조기;A diffraction type optical modulator for diffracting a beam transformed into parallel light through the at least one first lens in proportion to a magnitude of a driving voltage; 상기 회절형 광변조기에 의해 회절되어 출사되는 회절빔 중에 일부 빔을 투과시키고 투과 빔외의 다른 빔을 반사시키는 프리즘; 및A prism that transmits some beams in the diffracted beams diffracted by the diffractive light modulator and reflects other beams than the transmission beams; And 상기 프리즘을 통해 투과되는 빔을 상기 피스캐닝 객체의 조사 면상에 초점을 맞추어 조사하는 적어도 하나의 제 2 렌즈At least one second lens for focusing and irradiating a beam transmitted through the prism on an irradiation surface of the piececanning object 를 포함하는 스캐닝 장치.Scanning device comprising a. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 빔세기 조절처리수단은,The beam intensity control processing means, 상기 스캐닝수단으로부터 반사되는 빔을 집속시키기 위한 제 3 렌즈;A third lens for focusing the beam reflected from the scanning means; 상기 제 3 렌즈를 통해 집속되는 광을 아날로그의 전기적신호로 변환하기 위한 수광부;A light receiving unit for converting light focused through the third lens into an analog electrical signal; 상기 수광부로부터 출력되는 아날로그의 전기적신호를 디지털신호로 변환하기 위한 A/D 변환부;An A / D converter for converting an analog electrical signal output from the light receiver into a digital signal; 빔보정 모드에서, 상기 A/D 변환부에 의해 변환된 디지털신호의 빔세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 비교결과에 따라 상기 스캐닝 수단에 구비된 회절형 광변조기의 구동전압을 조절하기 위한 전압을 출력하는 제어부; 및In the beam compensation mode, for comparing the beam intensity of the digital signal converted by the A / D converter and a predetermined reference beam intensity to adjust the driving voltage of the diffractive optical modulator provided in the scanning means according to the comparison result A controller for outputting a voltage; And 외부 전원으로 인가되는 전압과 상기 제어부로부터 출력되는 전압을 가산하여 상기 스캐닝 수단에 구비된 회절형 광변조기로 출력하는 전압 가산기A voltage adder that adds a voltage applied to an external power source and a voltage output from the controller to output the diffraction type optical modulator provided in the scanning means. 를 포함하는 스캐닝 장치.Scanning device comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 빔세기 조절처리수단은,The beam intensity control processing means, 상기 회절형 광변조기로부터 출력되는 회절빔의 세기를 보정하는 빔보정 모드의 설정 명령을 입력하기 위한 버튼Button for inputting a setting command of the beam correction mode for correcting the intensity of the diffracted beam output from the diffraction optical modulator 을 더 포함하는 스캐닝 장치.Scanning device further comprising. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 회절형 광변조기가 상기 빔세기 조절처리수단에 의한 제어를 받지않고 입사빔을 회절시켜 조사하는 "정상 모드"로 설정되어 있는 상태에서 상기 버튼을 누르면, 상기 제어부는 정상 모드를 해지하고 빔보정 모드를 설정하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.When the button is pressed while the diffraction light modulator is set to the "normal mode" for diffracting and irradiating the incident beam without being controlled by the beam intensity control processing means, the control unit terminates the normal mode and the beam correction is performed. Scanning apparatus, characterized in that for setting the mode. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 수광부는 광신호를 전기적신호로 변환시켜 출력하는 포토다이오드를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.And the light receiving unit comprises a photodiode which converts an optical signal into an electrical signal and outputs the electrical signal. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 수광부는 광신호를 전기적신호로 변환시켜 출력하는 CMOS 이미지 센서를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.And the light receiver comprises a CMOS image sensor converting an optical signal into an electrical signal and outputting the electrical signal. 빔을 발생하여 발생한 빔을 구동전압의 크기에 따라 회절시켜 출사하되 회절빔 중에 일부 빔을 반사시키고 반사빔 외의 빔을 투과시켜 피스캐닝 객체에 조사하는 제 1 단계;Generating a beam and diffracting the generated beam according to the magnitude of the driving voltage, reflecting a part of the beam in the diffracted beam, and transmitting a beam other than the reflected beam to irradiate the piececanning object; 상기 회절빔 중에 반사된 빔을 아날로그의 전기적신호로 변환시킨 후 아날로그신호를 디지털신호로 변환시키는 제 2 단계; 및Converting the beam reflected in the diffraction beam into an analog electrical signal and converting the analog signal into a digital signal; And 빔보정 모드에서, 상기 디지털신호의 빔세기와 소정의 기준 빔세기를 비교하여 비교결과에 따라 빔회절에 사용되는 구동전압을 조절하는 제 3 단계In a beam compensation mode, a third step of adjusting the driving voltage used for beam diffraction according to a comparison result by comparing the beam intensity of the digital signal with a predetermined reference beam intensity 를 포함하는 스캐닝 방법.Scanning method comprising a. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 사용자의 지시에 따라 정상 모드를 설정하거나 빔보정 모드를 설정하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 방법.Scanning method, characterized in that to set the normal mode or the beam correction mode according to the user's instructions. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제 3 단계에서,In the third step, 상기 디지털신호의 빔세기와 소정의 기준 빔세기의 비교결과 동일한 것으로 판단되면, 외부 전원으로부터 공급되는 구동전압에 의해서만 빔의 회절이 이루어지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 방법.And a beam diffraction is performed only by a driving voltage supplied from an external power source, when it is determined that the digital signal beam intensity is equal to a predetermined reference beam intensity. 제 8 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 8 to 10, 상기 제 3 단계에서,In the third step, 상기 디지털신호의 빔세기와 소정의 기준 빔세기의 비교결과 소정의 기준 빔세기가 큰 것으로 판단되면, 외부 전원으로부터 공급되는 구동전압과 일정 크기의 전압을 가산하여 가산한 전압에 따라 빔을 회절시키는 것을 특징으로 하는 스캐닝 방법.When it is determined that the predetermined reference beam intensity is large as a result of comparing the beam intensity of the digital signal with the predetermined reference beam intensity, the beam is diffracted according to the voltage added by adding a driving voltage supplied from an external power source and a predetermined voltage. Scanning method characterized in that.
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