KR20050112832A

KR20050112832A - Plasma display panel

Info

Publication number: KR20050112832A
Application number: KR1020040038252A
Authority: KR
Inventors: 김태우; 김정남; 전병민; 이정두
Original assignee: 삼성에스디아이 주식회사
Priority date: 2004-05-28
Filing date: 2004-05-28
Publication date: 2005-12-01
Also published as: KR100612357B1

Abstract

본 발명은 유전체층을 개선해서 저전압 구동이 가능하도록 한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 서로 마주하는 한 쌍의 기판; 상기 기판 중 어느 하나에 형성되는 어드레스 전극; 상기 투명 기판의 사이 공간에 위치해서 다수의 방전셀들을 이루는 격벽; 상기 방전셀 내에 형성되는 형광체층; 상기 방전셀에서 서로 마주하게 형성되는 유지 전극;과, 상기 유지 전극 사이에 배치되는 중간 전극;으로 이루어지는 전극군; 상기 전극군을 덮고 있는 유전체층;을 포함하고, 상기 유전체층이 상기 유지 전극을 선택적으로 덮는 유전부;를 형성하고 있으며, 상기 유전부가 다른 영역과 비교해서 상대적으로 유전율이 크게 이루어진다.The present invention relates to a plasma display panel in which a dielectric layer is improved to enable low voltage driving, and includes a pair of substrates facing each other; An address electrode formed on any one of the substrates; Barrier ribs disposed in a space between the transparent substrates to form a plurality of discharge cells; A phosphor layer formed in the discharge cell; An electrode group including a sustain electrode formed to face each other in the discharge cell, and an intermediate electrode disposed between the sustain electrodes; And a dielectric layer covering the electrode group, wherein the dielectric layer selectively covers the sustain electrode, and the dielectric portion has a relatively high dielectric constant compared to other regions.

Description

Plasma display panel {Plasma display panel}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 저전압 구동이 가능하도록 유전체층을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel in which a dielectric layer is improved to enable low voltage driving.

일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP: plasma display panel)은 방전 셀 내에서 일어나는 기체 방전에 의한 자외선으로 형광체를 여기시켜 화상을 구현하는 박막 표시장치이다.In general, a plasma display panel (PDP) is a thin film display device that realizes an image by exciting a phosphor with ultraviolet rays caused by gas discharge occurring in a discharge cell.

도 5는 종래 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 분해 사시도이다.5 is a partially exploded perspective view of a conventional AC plasma display panel.

이 도면을 참조하면, 제1 기판(11) 위에 유전체(14) 및 보호막(15)으로 덮인 X 전극(3) 및 Y 전극(4)이 유지 전극(C)을 이루어 평행하게 설치된다.Referring to this drawing, the X electrode 3 and the Y electrode 4 covered with the dielectric 14 and the protective film 15 are disposed in parallel on the first substrate 11 by forming the sustain electrode C. Referring to FIG.

제2 기판(12) 위에는 복수의 어드레스 전극(5)이 설치되며, 이 어드레스 전극(5)은 유전체(14')로 덮혀 있다. 이 어드레스 전극(5)들 사이에 있는 유전체(14') 위에는 어드레스 전극(5)과 평행하게 격벽(17)이 형성되어 있다. 또한, 유전체(14')와 격벽(17)의 양측면에 형광체(18)가 발라져 있다. 제1 기판(11)과 제2 기판(12)은 유지 전극(S)과 어드레스 전극(5)이 직교하도록 방전 셀을 사이에 두고 대향하여 배치되어 있다. 어드레스전극(5)과, 쌍을 이루는 유지 전극(S)과의 교차부분에 있는 방전공간이 방전 셀(19)을 형성한다.A plurality of address electrodes 5 are provided on the second substrate 12, and the address electrodes 5 are covered with a dielectric 14 ′. On the dielectric 14 'between the address electrodes 5, a partition wall 17 is formed in parallel with the address electrode 5. In addition, phosphors 18 are applied to both side surfaces of the dielectric 14 'and the partition wall 17. The 1st board | substrate 11 and the 2nd board | substrate 12 are mutually arrange | positioned so that the discharge electrode and the address electrode 5 may orthogonally cross. The discharge space at the intersection of the address electrode 5 and the pair of sustain electrodes S forms a discharge cell 19.

이때. 상기 방전 셀 내부는 플라즈마 방전에 참여하는 방전 가스들이 충전된다. 이 방전 가스의 조성은 Ne, He 또는 이들의 혼합 기체로 이루어진 바탕 기체에 소량의 Xe 기체를 섞은 페닝 혼합 기체를 사용하는 것이 일반적이다. 그런데, 이중 Xe 기체가 발광 효율을 좋게 한다는 사실이 알려져, 이에 대한 조성비를 높여가고 있다.At this time. The discharge cells are filled with discharge gases that participate in the plasma discharge. As for the composition of this discharge gas, it is common to use the phening mixed gas which mixed a small amount of Xe gas with the base gas which consists of Ne, He, or these mixed gases. By the way, it is known that double Xe gas improves luminous efficiency, and the composition ratio for this is increasing.

이에 대해서 좀더 구체적으로 설명하면, 형광체를 들뜨게 하는 진공 자외선의 발생은 소량의 Xe 기체로 기인하는데, Xe 기체는 바탕 기체인 Ne, 또는 He의 준안정 상태 에너지보다 더 낮은 이온화 에너지를 갖기 때문에 방전 셀은 대부분 Xe⁺ 이온 및 들뜬 Xe^* 기체로 채워져 형광체의 발광에 관여하게 된다.More specifically, the generation of vacuum ultraviolet light that excites the phosphor is caused by a small amount of Xe gas, which is discharge cell because the Xe gas has lower ionization energy than the metastable state energy of the base gas Ne or He. Is mostly filled with Xe ⁺ ions and excited Xe ^* gas to be involved in luminescence of the phosphor.

그런데, 방전 셀에서 방전 가스에 의해 유도된 플라즈마의 경우 전자 온도는 Xe과 같은 무거운 중성기체 원자와의 충돌에 의해 급속히 작아지게 되는데, 전자의 평균에너지(Te)가 조금만 작아져도 들뜸 및 이온화에 참여할 수 있는 전자의 수가 exp(-ε/kTe)로 급격히 떨어지게 되므로, 방전 기체에서 Xe 기체의 조성비를 높이게 되면 방전 전압 역시 높아지는 문제가 있다. 따라서, 휘도를 좋게 하기 위해 단순히 Xe 기체의 함량비를 높이는 것은 플라즈마 디스플레이 패널의 전력 효율을 떨어뜨리게 되므로, Xe 기체의 높은 함량비에서도 낮은 전압으로 안정적인 방전이 일어나도록 하는 기술이 요구되고 있다.However, in the plasma induced by the discharge gas in the discharge cell, the electron temperature rapidly decreases due to the collision with heavy neutral gas atoms such as Xe, and even if the average energy Te of the electron is slightly reduced, it may participate in the excitation and ionization. Since the number of possible electrons drops sharply to exp (−ε / kTe), when the composition ratio of the Xe gas is increased in the discharge gas, the discharge voltage also increases. Therefore, simply increasing the content ratio of Xe gas to improve the brightness lowers the power efficiency of the plasma display panel, and therefore, there is a demand for a technique for generating a stable discharge at a low voltage even at a high content ratio of Xe gas.

이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로, Xe 기체의 함량비를 높이면서도 저전압 구동이 가능하도록 개선한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, to provide a plasma display panel of the present invention improved to enable a low voltage drive while increasing the content ratio of Xe gas.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은,In order to achieve the above object, the plasma display panel according to the present invention,

서로 마주하는 한 쌍의 기판;A pair of substrates facing each other;

상기 기판 중 어느 하나에 형성되는 어드레스 전극;An address electrode formed on any one of the substrates;

상기 투명 기판의 사이 공간에 위치해서 다수의 방전셀들을 이루는 격벽;Barrier ribs disposed in a space between the transparent substrates to form a plurality of discharge cells;

상기 방전셀 내에 형성되는 형광체층;A phosphor layer formed in the discharge cell;

상기 방전셀에서 서로 마주하게 형성되는 유지 전극;과, 상기 유지 전극 사이에 배치되는 중간 전극;으로 이루어지는 전극군;An electrode group including a sustain electrode formed to face each other in the discharge cell, and an intermediate electrode disposed between the sustain electrodes;

상기 전극군을 덮고 있는 유전체층;을 포함하고And a dielectric layer covering the electrode group.

상기 유전체층이 상기 유지 전극을 선택적으로 덮는 유전부;를 형성하고 있으며, 상기 유전부가 다른 영역과 비교해서 상대적으로 유전율이 크게 이루어진다.And a dielectric part selectively covering the sustain electrode, wherein the dielectric part has a relatively high dielectric constant compared to other areas.

이때, 상기 유전부의 두께를 다른 영역과 비교해서 상대적으로 작게 형성하거나, 상기 유전체층을 PbO, SiO₂가 포함된 물질로 형성해서 이 두 물질의 조성비 차이로 유전체층의 유전율을 조정한다.In this case, the thickness of the dielectric part is formed to be relatively small compared to other regions, or the dielectric layer is formed of a material containing PbO and SiO ₂ , and the dielectric constant of the dielectric layer is adjusted by the difference in composition ratio of the two materials.

또한, 본 발명에서는 유전체층이 상기 중간 전극을 선택적으로 덮고 있는 방출부;를 더 포함해서 이루어질 수 있으며, 상기 방출부는 탄소나노튜브(CNT)와 같은 전자방출물질로 이루어짐이 바람직하다.In addition, in the present invention, the dielectric layer may further comprise an emission portion selectively covering the intermediate electrode, the emission portion is preferably made of an electron-emitting material such as carbon nanotubes (CNT).

이하, 첨부한 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 당업자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분해 사시도이다. 이를 참조로 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널(이하, '패널')을 설명하면 다음과 같다.1 is a partially exploded perspective view of a plasma display panel according to an embodiment of the present invention. Referring to this, the plasma display panel (hereinafter, referred to as 'panel') of the present invention will be described.

본 실시예의 패널은 한 쌍의 유리 기판(2, 4)이 임의의 간격을 두고 서로 대향 배치되고, 양 기판의 사이 공간에는 격벽(12)에 의해서 형성되는 색상별 방전셀들(8R, 8G, 8B)이 구비된다. 이때, 어드레스 전극(8)은 방전 셀(8R, 8G, 8B)의 폭 방향(도면의 X축 방향) 중심을 따라 이웃한 어드레스 전극과 일정한 간격을 이루며 나란하게 위치함이 바람직하다.In the panel of the present embodiment, a pair of glass substrates 2 and 4 are disposed to face each other at random intervals, and color-specific discharge cells 8R, 8G, which are formed by the partition wall 12 in the space between both substrates. 8B). At this time, the address electrodes 8 are preferably located side by side at regular intervals with neighboring address electrodes along the centers of the discharge cells 8R, 8G, and 8B in the width direction (X-axis direction in the drawing).

유리 기판(2)의 내면에는 도면의 Y축 방향을 따라 어드레스 전극(8)들이 형성되고, 어드레스 전극(8)들을 덮으면서 유리(2)의 내면 전체에 유전체층(10)이 형성된다. The address electrodes 8 are formed on the inner surface of the glass substrate 2 along the Y-axis direction of the drawing, and the dielectric layer 10 is formed on the entire inner surface of the glass 2 while covering the address electrodes 8.

상기 유전체층(10) 위에는 격벽(12)이 형성되어 있으며, 이 격벽(12)의 면(面)들과 유전체층(10)에 걸쳐 적, 녹, 청색의 형광체층(14R, 14G, 14B)이 형성된다. 이때, 격벽(12)은 각각의 어드레스 전극(8) 사이로 배치된다.A partition 12 is formed on the dielectric layer 10, and red, green, and blue phosphor layers 14R, 14G, and 14B are formed on the surfaces of the partition 12 and the dielectric layer 10. do. At this time, the partition wall 12 is disposed between each address electrode 8.

또한, 도 1에서는 이 격벽(12)이 도면의 Y축 방향을 따라 서로 나란하게 배열되는 스트라이프 형상의 격벽에 대해서 도시하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것이 아니다. 일 예로, 어드레스전극(8)과 나란한 격벽 부재 및 어드레스전극(8)과 교차하는 격벽부재가 함께 형성되어 방전셀(8R, 8G, 8B)을 형성하는 폐쇄형 격벽 구조에서도 본 발명은 적용될 수 있다.In addition, although FIG. 1 illustrates the stripe-shaped barrier ribs 12 arranged side by side along the Y-axis direction of the drawing, the present invention is not limited thereto. For example, the present invention may be applied to a closed partition structure in which a partition member parallel to the address electrode 8 and a partition member intersecting the address electrode 8 are formed together to form discharge cells 8R, 8G, and 8B. .

한편, 유리 기판(2)에 대향하는 유리 기판(4)에는 어드레스 전극(8)과 직교하는 방향(도면의 X축 방향)을 따라 스캔 전극(16)과 공통 전극(18)으로 이루어지는 유지 전극(20)이 형성되고, 이 유지 전극(20) 사이에는 중간 전극(17)이 더 형성되어서 전극군을 이루고 있다.On the other hand, the glass substrate 4 facing the glass substrate 2 has a sustain electrode made of the scan electrode 16 and the common electrode 18 along a direction orthogonal to the address electrode 8 (the X-axis direction in the drawing). 20 is formed, and an intermediate electrode 17 is further formed between the sustain electrodes 20 to form an electrode group.

이 전극군들은 각각이 투명 전극(16a, 17a, 18a)과 버스 전극(16b, 17b, 18b)으로 이루어짐이 바람직하다. 여기서, 상기 투명 전극(16a, 17a, 18a)들은 방전셀(23R, 23G, 23B) 내부에서 서로 대향해서 방전갭을 형성하는데, 패널의 휘도 확보를 위해 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명성 물질을 사용하게 된다. 그리고, 상기 버스 전극(16b, 17b, 18b)은 상기 투명 전극의 높은 저항 성분을 보상하기 위해서 전도성이 좋은 은(Ag)과 금속 물질로 제작된다.Each of these electrode groups is preferably composed of transparent electrodes 16a, 17a, 18a and bus electrodes 16b, 17b, 18b. Here, the transparent electrodes 16a, 17a, and 18a form discharge gaps facing each other inside the discharge cells 23R, 23G, and 23B. A transparent material such as indium tin oxide (ITO) is used to secure luminance of the panel. Will be used. In addition, the bus electrodes 16b, 17b, and 18b are made of silver (Ag) and a metallic material having high conductivity to compensate for the high resistance component of the transparent electrode.

그리고, 이 유지 전극(20)들을 덮으면서 유리 기판(4)의 내면 전체에 유전체층(22)과 MgO 보호막(24)이 위치한다.The dielectric layer 22 and the MgO protective film 24 are positioned on the entire inner surface of the glass substrate 4 while covering the sustain electrodes 20.

본 실시예에서, 상기 유전체층(22)은 적어도 상기 유지 전극(20) 만을 선택적으로 덮고 있는 유전부(22a)를 포함해서 형성되는데, 이 유전체층(22)의 구조에 대해서는 아래에서 자세히 설명하기로 한다.In the present embodiment, the dielectric layer 22 includes at least a dielectric portion 22a covering only at least the sustain electrode 20. The structure of the dielectric layer 22 will be described in detail below. .

한편, 유리 기판(2, 4)들의 조합에 의해서 어드레스 전극(8)과 이 전극군이 교차해서 방전 셀 영역(8R, 8G, 8B)을 형성하게 되고, 상기 방전 셀 내부는 플라즈마 방전으로 자외선의 방출을 유도하는 방전 가스(주로 Ne-Xe 혼합 가스)들로 채워진다.On the other hand, by the combination of the glass substrates 2 and 4, the address electrode 8 and this group of electrodes cross each other to form discharge cell regions 8R, 8G, and 8B. It is filled with discharge gases (mainly Ne-Xe mixed gases) which induce emission.

이러한 구성을 기본으로 해서 본 실시예의 패널은, 유지 전극, 중간 전극들 사이에서 리셋 방전을 일으켜 방전셀 내부의 전하 상태를 리셋한다. 그리고, 어드레스 전극(8)과 중간 전극(17) 사이에 어드레스 전압이 인가되어 벽전하를 충전한다. 이에 따라서, 화상이 표현되는 방전 셀이 선택된다. 이렇게 방전 셀을 선택한 후에는 초기에 유지 전극(20) 및 중간 전극(17)에서 개시된 방전이 유지 전극(20)의 스캔 전극(16) 및 공통 전극(18) 사이로 전이되어서 화상을 표현하는 유지 방전이 이루어진다.Based on such a configuration, the panel of this embodiment generates reset discharge between the sustain electrode and the intermediate electrodes to reset the state of charge inside the discharge cell. Then, an address voltage is applied between the address electrode 8 and the intermediate electrode 17 to charge the wall charges. Accordingly, the discharge cell in which the image is represented is selected. After the discharge cell is selected in this way, the discharge initiated at the sustain electrode 20 and the intermediate electrode 17 is initially transferred between the scan electrode 16 and the common electrode 18 of the sustain electrode 20 to represent the sustain discharge. This is done.

이하, 도 2를 참조해서 본 실시예에 따라 전극군을 덮고 있는 유전체층에 대해서 설명한다. 도 2는 도 1의 I-I' 선을 따라 절단한 패널의 부분 결합 단면도이다.Hereinafter, the dielectric layer covering the electrode group according to the present embodiment will be described with reference to FIG. 2. FIG. 2 is a partially joined cross-sectional view of the panel cut along the line II ′ of FIG. 1.

본 실시예에서, 전극군을 보호하도록 덮고 있는 유전체층(22)은 적어도 유지 전극(20) 만을 선택적으로 덮고 있는 유전부(22a)를 포함해서 이루어진다. 이때, 상기 유전부(22a)와 이 유전부(22a)를 제외한 나머지 영역은 서로 다른 유전율을 갖는다. 즉, 유전부(22a)의 유전율은 적어도 15 이상이 되도록 형성됨이 바람직하며, 다른 영역에서는 12 ∼ 15 사이에서 형성된다.In the present embodiment, the dielectric layer 22 covering to protect the electrode group includes the dielectric portion 22a selectively covering at least the sustain electrode 20 only. At this time, the dielectric portion 22a and the remaining regions except for the dielectric portion 22a have different dielectric constants. That is, the dielectric constant of the dielectric portion 22a is preferably formed to be at least 15 or more, and is formed between 12 and 15 in other regions.

이렇게 서로 다른 유전율을 갖도록 형성하는 방법의 하나로 두께에 의한 방법이 있을 수 있다. 즉, 동일한 물질로 제작된 유전체층(22)에 대해서 유전부(22a)의 두께를 얇게 형성하는 것이다. 따라서, 도면의 'G1'이 'G2'보다 크게 이루어진다.One of the methods of forming the dielectric constants may have a thickness method. That is, the dielectric layer 22a is formed to have a thin thickness with respect to the dielectric layer 22 made of the same material. Therefore, 'G1' in the drawing is made larger than 'G2'.

실험적으로, 유전율은 거리에 반비례하고, 넓이에 비례하는 값이다. 따라서, 동일한 물질로 이루어지는 유전체층(22)에서 유전부(22a)의 두께를 줄이는 것으로, 다른 영역에 비해서 유전부(22a)의 유전율을 상대적으로 키울 수가 있다.Experimentally, the permittivity is inversely proportional to distance and proportional to area. Therefore, by reducing the thickness of the dielectric portion 22a in the dielectric layer 22 made of the same material, the dielectric constant of the dielectric portion 22a can be relatively increased compared to other regions.

한편, 유전체층(22)은 PbO, SiO₂, B₂O₃, Al₂O₃, TiO₂와 같은 물질을 주재료로 사용해서 형성된다. 이중 PbO와 SiO₂가 유전층의 유전율을 결정하므로, 이에 대한 영역별 함량비를 적절히 조정함으로써 유전부(22a)의 유전율을 결정할 수가 있다.On the other hand, the dielectric layer 22 is formed using a material such as PbO, SiO ₂ , B ₂ O ₃ , Al ₂ O ₃ , TiO ₂ as a main material. Since PbO and SiO ₂ determine the dielectric constant of the dielectric layer, the dielectric constant of the dielectric part 22a can be determined by appropriately adjusting the content ratio for each region.

즉, PbO는 유전율을 높이는 물질인 반면에, SiO₂는 유전율을 낮추는 물질이므로, 유전부(22a)의 PbO에 대한 조성비를 다른 영역에 비해서 높게 함으로써 유전율을 크게 할 수가 있다. 또는, SiO₂에 대한 조성비를 작게 하는 것도 고려될 수 있다. 즉, 유전부(22a)의 SiO₂에 대한 상대적 조성비를 낮추는 것이다.That is, since PbO is a material for increasing the dielectric constant, SiO ₂ is a material for decreasing the dielectric constant, so that the dielectric constant can be increased by increasing the composition ratio of the dielectric portion 22a to PbO in comparison with other regions. Alternatively, it is also possible to reduce the composition ratio to SiO ₂ . That is, the relative composition ratio of the dielectric portion 22a with respect to SiO ₂ is lowered.

이렇게, 유지 전극(20)을 덮고 있는 유전부(22a)의 유전율을 상대적으로 크게 함으로써, 저전압에서도 구동이 가능하도록 하는 효과가 있다.Thus, by increasing the dielectric constant of the dielectric part 22a covering the sustain electrode 20 relatively, there is an effect that the drive can be performed even at a low voltage.

즉, 아래의 수학식 1처럼 전하량은 유전상수에 비례하며, 이때 유전 상수는 수학식 2와 같이 구해진다, 따라서, 이 두 식을 결합해서 살펴보면, 유전율을 높이는 것으로 유전 상수 값이 커져 전하량 역시 커지게 됨을 알 수가 있다. 때문에, 상대적으로 높은 유전율을 갖는 유전부(22a)로 종전보다 많은 벽전하가 쌓이게 된다. 여기서, 상기 벽전하는 유전체층에 쌓인 전하들을 의미한다.In other words, as shown in Equation 1 below, the charge amount is proportional to the dielectric constant, and the dielectric constant is obtained as shown in Equation 2. Therefore, when these two equations are combined, the dielectric constant is increased by increasing the dielectric constant and the charge amount is also large You can see that you lose. Therefore, more wall charges are accumulated in the dielectric portion 22a having a relatively high permittivity. Here, the wall charges refer to charges accumulated in the dielectric layer.

따라서, 상기 벽전하에 의해서 공통 전극 및 스캔 전극 사이에는 벽전압이 형성이 되는데 이 벽전압의 크기가 종전보다 커지게 된다. 한편, 방전을 형성하는 방전 개시전압은 상기 벽전압에 유지전압을 합친 전압으로 구해진다. 따라서, 유지 전압의 문턱치가 낮아져 종래보다 저전압으로 구동이 가능해진다. 이에 수반해서, 방전 가스 중 Xe의 분압을 높일 수도 있다.Therefore, wall voltage is formed between the common electrode and the scan electrode by the wall charge, and the magnitude of the wall voltage becomes larger than before. On the other hand, the discharge start voltage which forms a discharge is calculated | required by the voltage which added the said wall voltage and the sustain voltage. Therefore, the threshold of the sustain voltage is lowered, so that driving at a lower voltage is possible. In connection with this, the partial pressure of Xe in discharge gas can also be raised.

한편, 본 실시예의 유전체층(22)은 중간 전극에 대해서 선택적으로 형성되어 있는 방출부(22b)를 더 포함해서 이루어질 수 있다.On the other hand, the dielectric layer 22 of the present embodiment may further comprise a discharge portion (22b) formed selectively with respect to the intermediate electrode.

도 3을 참조하면, 상기 방출부(22b)는 전극군을 보호하고 있는 유전체층과 보호막의 접합면(221) 중 상기 중간 전극이 형성되는 부분에 대해서 선택적으로 페이스트를 인쇄하고 이를 소성시켜 형성할 수 있다. 이에 따라서, 상기 방출부(22b)는 방전셀 내부로 노출되어 있다.Referring to FIG. 3, the discharge part 22b may be formed by selectively printing a paste on a portion of the bonding surface 221 of the dielectric layer protecting the electrode group and the passivation layer 221 on which the intermediate electrode is formed and baking the paste. have. Accordingly, the discharge portion 22b is exposed inside the discharge cell.

상기 방출부를 형성하는 다른 방법으로 유전체층(22)을 형성할 때, 방출부 형성 물질을 유전체층 재료와 믹싱해서 중간 전극에 대해서만 선택적으로 인쇄해 유전체층과 일체로 형성하는 방법이 있을 수 있다. When the dielectric layer 22 is formed by another method of forming the emitter, there may be a method of mixing the emitter forming material with the dielectric layer material and selectively printing only the intermediate electrode to form integrally with the dielectric layer.

또한, 이 방출부(22b)는 탄소 나노 튜브(CNT), 탄소염과 같은 2차 전자를 방출하는 전자방출물질로 이루어진다.In addition, the emission portion 22b is formed of an electron emission material that emits secondary electrons such as carbon nanotubes (CNT) and carbon salts.

이에 대한 작용을 도 4와 같은 구동 파형을 예시해서 설명하면 다음과 같다.The operation thereof will be described with reference to the driving waveform shown in FIG. 4 as follows.

리셋 구간(I)에서, 중간 전극에는 상향에서 하향하는 램프 전압이 인가되고, 유지 전극에는 중간 전극의 램프 파형의 하향 구간에서 V1으로 바이어스되는 전압이 인가된다.In the reset period I, a ramp voltage downward from the upside is applied to the middle electrode, and a voltage biased to V1 is applied to the sustain electrode in the downward section of the ramp waveform of the intermediate electrode.

이에 따라서, I-1 구간에서 중간 전극은 애노드를 형성하고, 유지 전극은 캐소드를 형성하게 된다. 이 상태에 따라, 중간 전극에는 (-)의 벽전하가 축적되고, 유지 전극에는 (+)의 벽전하가 축적된다. 이때, 상기 중간 전극에 대응하게 방전 셀 내부로 노출된 방출부는 전하들과 충돌을 일으켜 2차 전자를 방전셀 내로 방출하게 된다.Accordingly, the intermediate electrode forms the anode and the sustain electrode forms the cathode in the I-1 section. According to this state, negative wall charges are stored in the intermediate electrode, and positive wall charges are stored in the sustain electrode. At this time, the emission part exposed to the discharge cell corresponding to the intermediate electrode collides with the electric charges to emit secondary electrons into the discharge cell.

이에 따라서, 종래보다 더 많은 수의 음전하를 축적하게 된다.As a result, a larger number of negative charges are accumulated than before.

다음으로, II-2 구간에서 중간 전극은 점진적으로 하향하는 전압이 인가되고, 이에 반해서 유지 전압에는 V1 상태의 전압이 인가된다. 이에 따라서, 중간 전극은 이 구간동안 캐소드(cathode)로 작용하고, 유지 전극은 애노드(anode)로 작용을 한다. 따라서, I-1 구간에서 쌓아 놓았던 벽전하들이 서로 반대 방향으로 움직이면서 소거되어 리셋 방전을 형성하게 된다. 이때. 본 실시예에 따른 방출부(22b)로 인해서 종전보다 많은 수의 음전하가 I-1, I-2 구간에서 축적되었기 때문에, 리셋 구간의 마지막에서도 종래보다 많은 수의 음전하를 축적한 상태에서 어드레스 구간(II)으로 이행되기 때문에 어드레스 방전 전압을 낮추는 결과를 낳게 된다. 따라서, 저전압을 어드레스 구동이 가능한 효과가 있다.Next, a voltage gradually descending from the intermediate electrode is applied to the intermediate electrode in section II-2, while a voltage having a V1 state is applied to the sustain voltage. Accordingly, the intermediate electrode acts as a cathode during this period, and the sustain electrode acts as an anode. Therefore, the wall charges accumulated in the section I-1 are erased while moving in opposite directions to form a reset discharge. At this time. Due to the discharge portion 22b according to the present embodiment, since more negative charges have been accumulated in the I-1 and I-2 sections than before, the address section has accumulated more negative charges even at the end of the reset section. The transition to (II) results in a lowering of the address discharge voltage. Therefore, there is an effect that address driving of low voltage is possible.

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다. As described above, although the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, the present invention is not limited thereto and is intended by those skilled in the art to which the present invention pertains. Of course, various modifications and variations are possible within the scope of equivalents of the claims to be described.

본 발명에 따르면, 상술한 문제점을 해결해서 플라즈마 디스플레이 패널의 4전극 구조를 개선하여 저전압으로도 안정적인 방전이 일어날 수 있도록 한다. 더욱이 이로 인해서, 방전 가스 중 Xe의 분압을 높일 수 있어서 휘도를 좋게 개선하는 효과가 있다.According to the present invention, the above-described problem is solved to improve the four-electrode structure of the plasma display panel so that stable discharge can occur even at a low voltage. Moreover, this makes it possible to increase the partial pressure of Xe in the discharge gas, thereby improving the luminance.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분해 사시도이다.1 is a partially exploded perspective view of a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 I-I'선을 따라 절개한 부분 결합 단면도이다.FIG. 2 is a partially joined cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1.

도 3은 도 2에 추가해서 방출부가 구비된 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 결합 단면도이다.FIG. 3 is a partially joined cross-sectional view of a plasma display panel including an emission unit in addition to FIG. 2.

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 동작을 설명하기 위해서 사용된 구동 파형의 모습을 보여주는 도면이다.4 is a view showing a state of the driving waveform used to explain the operation of the plasma display panel according to the present invention.

도 5는 종래 기술에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분해 사시도이다.5 is a partially exploded perspective view of a plasma display panel according to the prior art.

Claims

A pair of substrates facing each other;

An address electrode formed on any one of the substrates;

Barrier ribs disposed in a space between the transparent substrates to form a plurality of discharge cells;

A phosphor layer formed in the discharge cell;

An electrode group including a sustain electrode formed to face each other in the discharge cell, and an intermediate electrode disposed between the sustain electrodes;

And a dielectric layer covering the electrode group.

And a dielectric part selectively covering the sustain electrode, wherein the dielectric part has a relatively high dielectric constant compared to other areas.

The method of claim 1,

And the thickness of the dielectric portion is relatively small compared with other regions.

The method of claim 1,

And the dielectric layer is formed of a material including PbO and SiO ₂ , and the relative composition ratio of the dielectric portion to PbO is higher than that of other regions or the composition ratio of SiO ₂ is relatively low.

The method according to claim 2 or 3,

And a emitter in which the dielectric layer is selectively formed with respect to the intermediate electrode.

The method of claim 4, wherein

Plasma display panel wherein the emitter is made of an electron emitting material such as carbon nanotubes (CNT).