KR20050086236A - Surface treatment method of emitter and manufacturing method of electron emission display device using the same - Google Patents

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KR20050086236A
KR20050086236A KR1020040012634A KR20040012634A KR20050086236A KR 20050086236 A KR20050086236 A KR 20050086236A KR 1020040012634 A KR1020040012634 A KR 1020040012634A KR 20040012634 A KR20040012634 A KR 20040012634A KR 20050086236 A KR20050086236 A KR 20050086236A
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electron emission
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aerosol
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forming
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조성희
이상현
이현정
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삼성에스디아이 주식회사
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Abstract

본 발명은 전자방출원의 표면처리방법과 이를 이용한 전자방출 표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 카본나노튜브(CNT), 글래스 프릿(glass frit), 바인더 수지 및 용매를 포함하는 평판표시소자의 전자 방출원 형성용 조성물을 인쇄 코팅한 후 소성하여 전자방출원을 제조하고; 상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸을 분사하고 에칭하는 단계를 포함하는 전자 방출 표시장치의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 카본나노튜브를 전기장 방향으로 배향시키기 위해 CO2 가스와 같은 승화성 가스를 에어로졸 형태로 분사하여 전자방출원을 표면처리함으로써, 전자방출에 기여하는 카본나노튜브의 수를 증대시켜 종래보다 현저히 우수한 전자방출특성을 가지는 전자방출 표시장치를 제공할 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment method of an electron emission source and a method of manufacturing an electron emission display device using the same, wherein the electron of a flat panel display device including carbon nanotubes (CNT), glass frit, a binder resin, and a solvent Printing and coating the composition for emitting source forming to produce an electron emitting source; It provides a method of manufacturing an electron emission display device comprising the step of spraying and etching the high pressure compressed CO 2 aerosol to the electron emission source. The present invention sprays a sublimable gas such as CO 2 gas in the form of an aerosol to orient the carbon nanotubes in the electric field direction, thereby surface treating the electron emission source, thereby increasing the number of carbon nanotubes contributing to the electron emission, thereby increasing the number of carbon nanotubes. An electron emission display device having remarkably excellent electron emission characteristics can be provided.

Description

전자방출원의 표면처리방법과 이를 이용한 전자방출 표시장치의 제조방법{SURFACE TREATMENT METHOD OF EMITTER AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRON EMISSION DISPLAY DEVICE USING THE SAME}Surface treatment method of electron emission source and manufacturing method of electron emission display device using the same {SURFACE TREATMENT METHOD OF EMITTER AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRON EMISSION DISPLAY DEVICE USING THE SAME}

[산업상 이용 분야][Industrial use]

본 발명은 전자방출원의 표면처리방법과 이를 이용한 전자방출 표시장치의 제조방법 에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 에어로졸 형태의 승화성 입자인 CO2 입자를 전자방출원에 분사시켜 표면의 유기물과 카본나노튜브막을 에칭함으로써 표면에서 카본나노튜브가 효과적으로 드러나도록 하여 전자방출특성을 크게 향상시킬 수 있는 전자방출원의 표면처리방법과 이를 이용한 전자방출 표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment method of an electron emission source and a method of manufacturing an electron emission display device using the same. More specifically, the organic material and carbon on the surface by spraying CO 2 particles, which are aerosol-type sublimable particles, on the electron emission source The present invention relates to a surface treatment method of an electron emission source and a method of manufacturing an electron emission display device using the same, by which the carbon nanotubes are effectively exposed on the surface by etching the nanotube film.

[종래 기술][Prior art]

일반적으로 전계 방출 표시장치(FED; field emission display)를 포함하는 전자방출소자는 양자역학적인 터널링 효과를 이용하여 캐소드 전극에 제공된 전자 방출원으로부터 전자를 방출시키고, 방출된 전자를 애노드 전극에 마련된 형광층에 충돌시켜 이를 발광시킴으로써 소정의 영상을 구현하는 표시장치로서, 캐소드 전극과 게이트 전극 및 애노드 전극을 구비한 3극관 구조가 널리 사용되고 있다.In general, an electron emission device including a field emission display (FED) emits electrons from an electron emission source provided to a cathode electrode by using a quantum mechanical tunneling effect, and emits the emitted electrons to a fluorescence provided at the anode electrode. As a display device for realizing a predetermined image by colliding with a layer to emit light, a triode structure having a cathode electrode, a gate electrode, and an anode electrode is widely used.

이때, 상기 전자 방출원은 선단이 뾰족한 종래의 스핀트(spindt) 타입을 대체하여 캐소드 전극 위에 평탄하게 형성되는 구조가 주로 사용되고 있다. 이러한 면타입 전자 방출원은 카본나노튜브 또는 흑연과 같은 카본계 물질을 스크린 프린트와 같은 후막 공정으로 도포한 다음 소성하는 과정을 통해 완성되며, 스핀트 타입 전자 방출원과 비교하여 제조 공정이 비교적 단순하고, 대면적 표시장치 제작에 유리한 장점을 갖는다.At this time, the electron emission source is a structure that is formed flat on the cathode electrode in place of the conventional spindt type having a sharp tip is mainly used. The plane type electron emission source is completed by applying a carbon-based material such as carbon nanotubes or graphite to a thick film process such as screen printing and then firing it, and the manufacturing process is relatively simple compared to the spin type electron emission source. In addition, it has an advantage in manufacturing a large area display device.

일반적으로 디스플레이에 사용하기 위한 카본나노튜브(CNT)들은 페이스트 상태에서 인쇄 후 소성공정을 거치게 되는데, 이때 CNT 막 위에는 유기물의 잔탄과 CNT들이 서로 묻혀 있는 상태로 표면에 효과적으로 드러나 있지 않게 된다.In general, carbon nanotubes (CNTs) for use in a display are subjected to a post-printing firing process in a paste state, in which xanthan and CNTs of organic matter are buried together and are not effectively exposed on the surface.

따라서 CNT를 표면에 효과적으로 드러나게 하기 위하여, 기존의 방법은 CNT를 표면에 드러나게 해주기 위하여 테이프나 고분자 수지를 CNT 막 위에 접촉시키고 이를 peeling off 시켜주면서 CNT를 세워주는 역할을 한다. 그러나, 상기 방법은 CNT 막 위에 고분자 수지를 코팅해야하며 테이프를 균일하게 부착시켜주어야 하는 문제가 있다. 이러한 부착시의 불균일성은 CNT 막의 표면 형상에 직접적인 영향을 미치며 이것이 바로 전자방출 특성에 많은 영향을 미쳐 전체 화면의 불균일성을 유발할 수 있다. 또한 CNT 표면의 3차원적인 형상이나 구조체의 모양에 의하여 효과적인 접촉이 어려울 수도 있으며, 접촉식이기 때문에 기판이나 CNT 막 위에 유기물 등의 잔사가 남아 진공디바이스에 나쁜 영향을 미칠 수 있다.Therefore, in order to expose the CNT effectively on the surface, the conventional method serves to build the CNT while contacting and peeling off the tape or polymer resin on the CNT film in order to expose the CNT on the surface. However, this method has a problem in that the polymer resin must be coated on the CNT film and the tape is uniformly attached. This non-uniformity at the time of attachment directly affects the surface shape of the CNT film, and this may have a great influence on the electron emission characteristics and cause non-uniformity of the entire screen. In addition, effective contact may be difficult due to the three-dimensional shape of the CNT surface or the shape of the structure. Since the contact type, residues such as organic matter remain on the substrate or the CNT film, which may adversely affect the vacuum device.

본 발명은 상술한 종래 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 가스입자 형태로 CNT 막을 효과적으로 표면처리하여 기판이나 CNT 위에 이물질을 남기지 않고 균일하게 표면을 처리할 수 있는 전자 방출 물질의 표면처리 방법을 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to effectively surface-treat a CNT film in the form of gas particles so that the surface of an electron-emitting material can be uniformly treated without leaving foreign substances on a substrate or CNT. It is to provide a method.

본 발명의 다른 목적은 상기 표면처리 방법으로 얻어진 카본나노튜브막과 이를 이용하여 제조된 전자방출원을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a carbon nanotube film obtained by the surface treatment method and an electron emission source manufactured using the same.

본 발명의 다른 목적은 상기 전자방출원을 포함하는 전자 방출 표시장치의 제조 방법을 제공한다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electron emission display device including the electron emission source.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 유기물 함량이 30 내지 40 중량%인 카본나노튜브를 포함하는 전자방출원을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an electron emission source comprising a carbon nanotube having an organic content of 30 to 40% by weight.

또한, 본 발명은In addition, the present invention

카본나노튜브(CNT), 글래스 프릿(glass frit), 바인더 수지 및 용매를 포함하는 평판표시소자의 전자 방출원 형성용 조성물을 인쇄 코팅한 후 소성하여 전자방출원을 제조하고;Preparing an electron emission source by printing and coating a composition for forming an electron emission source of a flat panel display device including carbon nanotubes (CNT), glass frit, a binder resin, and a solvent;

상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸을 분사하고 에칭하는 단계Spraying and etching the compressed CO 2 aerosol at the electron emission source

을 포함하는 전자방출원의 제조방법을 제공한다.It provides a method for producing an electron emission source comprising a.

또한, 본 발명은In addition, the present invention

(a) 투명한 제1 기판 상부에 캐소드 전극을 형성하는 단계;(a) forming a cathode electrode on the transparent first substrate;

(b) 상기 제1 기판 전면에 절연층을 형성하고, 절연층 위에 게이트층을 형성한 다음, 게이트층과 절연층을 관통하는 홀들을 형성하는 단계;(b) forming an insulating layer on the entire surface of the first substrate, forming a gate layer on the insulating layer, and then forming holes passing through the gate layer and the insulating layer;

(c) 상기 제1 기판 전면에 카본나노튜브를 포함하는 전자방출원 형성용 조성물을 도포한 후 소성하여 전자 방출원을 형성하는 단계; 및(c) coating the composition for forming an electron emission source including carbon nanotubes on the entire surface of the first substrate and then baking to form an electron emission source; And

(d) 상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸을 분사하고 에칭하는 단계(d) spraying and etching the pressurized CO 2 aerosol on the electron emission source;

를 포함하는 전자 방출 표시장치의 제조 방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing an electron emission display device comprising a.

또한, 본 발명은In addition, the present invention

(a) 투명한 제1 기판 상부에 게이트층을 형성한 다음, 절연층을 형성하는 단계;(a) forming a gate layer over the transparent first substrate, and then forming an insulating layer;

(b) 상기 절연층에 캐소드 전극을 형성하는 단계;(b) forming a cathode on the insulating layer;

(c) 상기 캐소드 전극 위에 카본나노튜브를 포함하는 전자방출원 형성용 조성물을 도포한 후 소성하여 전자 방출원을 형성하는 단계; 및(c) applying an electron emission source forming composition including carbon nanotubes on the cathode and then baking to form an electron emission source; And

(d) 상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸을 분사하고 에칭하는 단계(d) spraying and etching the pressurized CO 2 aerosol on the electron emission source;

를 포함하는 전자 방출 표시장치의 제조 방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing an electron emission display device comprising a.

또한, 본 발명은 상기 전자방출원을 포함하는 전자 방출 표시장치를 제공한다.In addition, the present invention provides an electron emission display device including the electron emission source.

또한, 본 발명은 상기 방법으로 제조된 전자방출원을 포함하는 전자 방출 표시장치를 제공한다.The present invention also provides an electron emission display device comprising an electron emission source manufactured by the above method.

이하에서 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 CO2 입자와 같은 승화성 가스가 분산된 에어로졸을 전자방출원(CNT 막) 위에 분사시켜 표면의 유기물과 전자방출원을 에칭하여 표면에서 CNT들이 효과적으로 드러나도록 하는 전자방출원의 표면처리 방법을 제공하는 특징이 있다.The present invention sprays an aerosol in which a sublimable gas, such as CO 2 particles, is dispersed on an electron emission source (CNT film) to etch organic materials and electron emission sources on the surface to effectively expose the CNTs on the surface. There is a feature that provides a method.

본 발명은 CNT를 표면에 효과적으로 드러나게 하기 위하여 고압상태에 있는 승화성 가스를 상온 상압상태로 분사시켜, 수 um 크기의 승화성 입자가 생성되도록 한다. 따라서, 이러한 승화성 입자를 전자방출원 위에 분사시키면 순간적인 입자의 부피팽창과 입자의 운동에너지에 의하여 CNT막을 박리하며, 같이 포함된 유기물들을 세정해주는 효과가 나타난다.In order to effectively expose the CNTs on the surface of the present invention, the sublimable gas under high pressure is sprayed at room temperature and atmospheric pressure, thereby producing sublimable particles having a size of several um. Therefore, when the sublimable particles are sprayed on the electron emission source, the CNT film is peeled off by the instantaneous volume expansion of the particles and the kinetic energy of the particles, and the organic substances contained therein are washed.

이러한 방법은 일반적으로 기판 위의 유기물이나 오염원의 세정작업시에도 사용하는 방법으로서, 본원은 이를 전자방출원의 표면처리 방법에 적용하는 것이다. 본 발명은 전자방출원에 적절한 압력과 유량으로 고체상의 승화성 가스를 분사시켜 소성후 유기물 잔탄들과 같이 누워 있는 CNT들을 표면에 효과적으로 드러나게 한다. 본 발명에 따르면 승화과정을 거친 CO2 입자는 박리된 CNT와 유기물과 함께 바로 증발되어 제거되므로 기판에 남는 이물질이 없게 되어 세정면에서도 우수한 특성을 갖는다.This method is generally used in the cleaning of organic substances or pollutants on a substrate, and the present application is applied to the surface treatment method of an electron emission source. The present invention injects a solid sublimable gas at an appropriate pressure and flow rate to the electron emission source to effectively expose the CNTs lying together with the organic residues after firing. According to the present invention, the CO 2 particles, which have undergone sublimation, are evaporated and removed together with the exfoliated CNTs and the organic material, so that there is no foreign matter remaining on the substrate, and thus, excellent cleaning properties are provided.

따라서 본 발명은 고체상의 승화성 가스가 분산된 에어로졸의 크기, 분사압력 및 유량을 조절함으로써 전자방출원(CNT막)을 효과적으로 표면처리하여 방출전류 밀도를 향상시킬 수 있으며, 이렇게 얻어진 전자방출원은 유기물 함량이 30 내지 40 중량%(10 내지 15 부피%)가 된다.Therefore, the present invention can improve the emission current density by effectively surface-treating the electron emission source (CNT film) by adjusting the size, injection pressure and flow rate of the aerosol in which the solid-phase sublimable gas is dispersed, the electron emission source thus obtained The organic content is 30 to 40% by weight (10 to 15% by volume).

본 발명에서 사용되는 고체상의 승화성 가스가 분산된 에어로졸은, 예컨대 고체상의 이산화탄소가 분산된 에어로졸(이하, 'CO2 에어로졸' 이라함)을 사용하는 것이 바람직하다.As the aerosol in which the sublimable gas in the solid phase is used in the present invention, it is preferable to use, for example, an aerosol in which the carbon dioxide in the solid phase is dispersed (hereinafter referred to as 'CO 2 aerosol').

이때, 상기 CO2 에어로졸은 입자 크기가 0.1nm 내지 100 ㎛인 것이 바람직하며, 분사압력은 0.5 내지 5 kg중 이고, 유량은 0.1 내지 50 ℓ/min으로 분사되는 것이 바람직하다.In this case, the CO 2 aerosol is preferably a particle size of 0.1nm to 100 ㎛, the injection pressure is 0.5 to 5 kg, the flow rate is preferably injected at 0.1 to 50 l / min.

이하, 본 발명의 전자방출원의 표면처리방법의 일례를 첨부된 도 1을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 도 1에서 도면부호 1은 ITO로 증착된 글래스 기판이고, 2는 잔탄과 함께 묻혀있는 카본나노튜브(Covered CNT)이고, 4는 전자방출원(CNT film)이고, 5는 잔탄에 묻히지 않고 세워진 카본나노튜브(Uncovered CNT)이고, 6은 CO2 에어로졸을 분사하는 모습을 간략히 나타낸 것이다.Hereinafter, an example of the surface treatment method of the electron emission source of the present invention will be described in more detail with reference to FIG. 1. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a glass substrate deposited with ITO, 2 is a carbon nanotube (Covered CNT) buried with xanthan, 4 is an electron emission source (CNT film), and 5 is carbon which is not buried in xanthan. Nanotubes (Uncovered CNT), 6 is a simplified view of the injection of CO 2 aerosol.

본 발명은 ITO로 증착된 글래스 기판에 전자방출원 형성용 조성물을 인쇄 코팅하고 소성하여 전자방출원을 제조한다. 이러한 과정을 거치면 전자방출원의 유기물 잔탄들과 카본나노튜브는 같이 누워있는 형태가 된다.The present invention is printed coating and firing the composition for forming an electron emission source on a glass substrate deposited with ITO to produce an electron emission source. Through this process, the organic xanthans of the electron emission source and the carbon nanotubes are laid together.

이후, 본 발명은 도 1에 도시한 바와 같이 상기 전자방출원 위에 고압으로 압축되어있는 승화성 가스, 바람직하게는 에어로졸 형태의 CO2 가스를 분사한다.Subsequently, the present invention injects a sublimable gas, preferably an aerosol type CO 2 gas, compressed at high pressure on the electron emission source as shown in FIG. 1.

이러한 과정에서 분사된 승화성 가스인 CO2 는 대기압으로 떨어지며 상변화에 의하여 -75 ℃의 드라이아이스 형태인 CO2 입자로 형성된다. 이러한 CO2 입자는 박리할 표면에서 순간적인 부피팽창을 거쳐 표면 액상에서 기상으로 전환되면서 표면의 유기물이나 이물질을 용해하고 이를 분사가스압력에 의하여 동시에 제거한다.CO 2 , a sublimable gas injected in this process, drops to atmospheric pressure and is formed as CO 2 particles in the form of dry ice at -75 ° C. by phase change. The CO 2 particles are converted from the surface liquid phase to the gas phase through the instantaneous volume expansion at the surface to be peeled, to dissolve organic substances or foreign substances on the surface and to remove them simultaneously by the injection gas pressure.

위의 공정을 거쳐 카본나노튜브가 박리되어 세워지며, 분사압력과 생성되는 입자크기를 조절함으로써 카본나노튜브를 균일하게 박리할 수 있다.Through the above process, the carbon nanotubes are peeled off to stand, and the carbon nanotubes can be uniformly peeled off by controlling the injection pressure and the generated particle size.

즉, 상기 작은 입자인 에어로졸 형태의 CO2는 3차원 구조안에 있는 전자방출원을 균일하게 효과적으로 표면처리를 할 수 있다.That is, the small particles, aerosol-type CO 2 can uniformly and effectively surface the electron emission source in the three-dimensional structure.

상기의 과정을 거쳐 박리된 카본나노튜브(CNT)와 유기물의 잔탄은 승화된 CO2 가스에 의하여 제거되므로 기판에는 이물질이 남지 않는다.Carbon nanotubes (CNT) and organic carbon residues peeled off through the above process are removed by sublimated CO 2 gas so that no foreign matter remains on the substrate.

따라서, 표면에 효과적으로 드러난 카본나노튜브(CNT)에 의하여 전자방출원의 전자방출효율은 종래에 비해 크게 증가될 수 있다.Therefore, the electron emission efficiency of the electron emission source can be greatly increased by the carbon nanotubes (CNT) effectively exposed on the surface.

이하, 본 발명의 전자 방출 표시장치의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 전자방출 표시장치, 그 중에서 전계방출표시장치를 도시한 부분 단면도로서, 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, exemplary embodiments of the electron emission display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 2 is a partial cross-sectional view of an electron emission display device and an electric field emission display device, according to an exemplary embodiment, but is not limited thereto.

도 2를 참조하면, 본 발명의 전자 방출 표시 장치는 임의의 크기를 갖는 제 1 기판(또는 캐소드 기판)(1)과 제 2 기판(또는 애노드 기판)(2)을 내부 공간부가 형성되도록 소정의 간격을 두고 실질적으로 평행하게 배치하고 이들을 서로 결합시켜 장치의 외관인 진공 용기(4)를 형성하고 있다. 상기 진공 용기 내로 제 1 기판(1) 상에는 전자를 방출할 수 있는 전자 방출원의 구성이, 상기 제 2 기판(2) 상에는 상기 전자 방출원에서 방출된 전자에 의해 발광됨으로써 소정의 이미지를 구현할 수 있는 발광부의 구성이 형성된다. 이 발광부의 구성은 일례로 다음과 같이 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 2, in the electron emission display device of the present invention, a first substrate (or cathode substrate) 1 and a second substrate (or anode substrate) 2 having a predetermined size may be formed such that an internal space is formed. They are arranged substantially parallel at intervals and are joined to each other to form a vacuum vessel 4 which is the appearance of the apparatus. The configuration of the electron emission source capable of emitting electrons on the first substrate 1 into the vacuum container, and the emission of electrons emitted from the electron emission source on the second substrate 2 to implement a predetermined image. The configuration of the light emitting portion is formed. The light emitting unit may be configured as follows, for example.

상기 전자 방출원의 구성으로는 상기 제 1 기판(1) 상에 형성되는 캐소드 전극(3), 이 캐소드 전극(3) 위에 형성되는 절연층(5), 이 절연층(5) 위에 형성되는 게이트 전극(7) 및 상기 절연층(5)과 게이트 전극(7)에 관통 형성된 홀(5a),(7a) 내로 배치되면서 상기 캐소드 전극(3) 위에 형성되며, 특히 전자빔이 조사되어 카본나노튜브가 절단된 전자 방출원(15)으로 이루어진다. 이때, 상기 게이트 전극은 제1 기판 상부와 절연층 사이에 배치될 수 있다.The electron emission source includes a cathode electrode 3 formed on the first substrate 1, an insulating layer 5 formed on the cathode electrode 3, and a gate formed on the insulating layer 5. It is formed on the cathode electrode 3 while being disposed in the holes 5a and 7a formed through the electrode 7 and the insulating layer 5 and the gate electrode 7, and in particular, an electron beam is irradiated to form carbon nanotubes. Made of the cut electron emission source 15. In this case, the gate electrode may be disposed between the upper portion of the first substrate and the insulating layer.

도 3a∼도 3e는 본 발명의 전자 방출 표시장치의 제조 과정 중 전자방출원 형성 후 CO2 에어로졸을 분사하는 과정을 일례로 나타낸 개략도이다.3A to 3E are schematic diagrams illustrating an example of spraying a CO 2 aerosol after formation of an electron emission source during a manufacturing process of the electron emission display device of the present invention.

도 3a를 참조하면, 상기한 바와 같이, 후면 기판(1) 위에 캐소드 전극(3)과 절연층(5) 및 게이트 전극(7)을 순차적으로 형성하고, 캐소드 전극(3)과 게이트 전극(7)의 교차 영역에 게이트 전극(7)과 절연층(5)을 관통하는 홀(5a, 7a)들을 형성한다. 이때, 후면 기판(1)은 투명한 글래스 기판으로 이루어지고, 캐소드 전극(3)은 ITO(indium tin oxide)와 같이 광 투과율이 높은 투명 도전막으로 이루어진다.Referring to FIG. 3A, as described above, the cathode electrode 3, the insulating layer 5, and the gate electrode 7 are sequentially formed on the rear substrate 1, and the cathode electrode 3 and the gate electrode 7 are sequentially formed. Holes 5a and 7a penetrating through the gate electrode 7 and the insulating layer 5 are formed in the intersecting region. In this case, the rear substrate 1 is made of a transparent glass substrate, and the cathode electrode 3 is made of a transparent conductive film having a high light transmittance, such as indium tin oxide (ITO).

이후, 도 3b에 도시한 바와 같이, 제 1 기판(1)의 상면 전체에 페이스트상의 전자 방출원 물질(19)을 후막 공정을 이용하여 도포하고, 후면 기판(1)의 배면을 통해 자외선을 조사하여 캐소드 전극(3) 위 전자 방출원 물질(19)을 선택적으로 경화시킨다. 그리고 도 3c에 도시한 바와 같이 경화되지 않은 전자 방출원 물질을 제거한 후 소성하여 전자 방출원(15)을 형성하고 나면, 도 3d에 도시한 바와 같은 후면 기판(1) 구조를 얻을 수 있다. 이후, 도 3e에 도시한 바와 같이, 본 발명은 전자 방출원(15)에 에어로졸 형태의 CO2 가스 분사하고 에칭하여, 즉 에어로졸 형태의 CO2 가스를 통한 표면의 에칭을 통하여, 카본나노튜브를 세워 후면 기판(1) 구조를 완성한다. 또한, 포토리소그래피 공정은 상기 방법으로 한정되는 것은 아니며, 스크린 인쇄 공정도 될 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 3B, the paste-like electron emission source 19 is applied to the entire upper surface of the first substrate 1 by using a thick film process, and ultraviolet rays are irradiated through the rear surface of the rear substrate 1. Thereby selectively curing the electron emission material 19 on the cathode electrode 3. 3C, after removing the uncured electron emission source material and firing to form the electron emission source 15, the back substrate 1 structure as shown in FIG. 3D can be obtained. Then, as shown in FIG. 3e, the present invention is to CO 2 gas of the aerosol spray in the electron emission source (15) and etching, that through the etching of the surface with CO 2 gas in an aerosol form, the carbon nanotube Stand to complete the structure of the rear substrate (1). In addition, the photolithography process is not limited to the above method, but may also be a screen printing process.

상기 전자 방출원(15)은 상기 구멍(5a),(7a) 내로 상기 캐소드 전극(3) 위에 형성되는 바, 이때 이 전자 방출원(15)은 평탄한 형상으로 이루어지며 그 재질은 바람직하게 카본나노튜브가 사용될 수 있다.The electron emission source 15 is formed on the cathode electrode 3 into the holes 5a and 7a, wherein the electron emission source 15 is formed in a flat shape and preferably made of carbon nano. Tubes can be used.

물론, 상기 전자 방출원의 형상(15)은 상기한 예로 한정되는 것은 아니고, 원추형의 형상을 이루면서 형성될 수 있다. 즉, 본 발명에 있어 상기 전자 방출원(15)의 형상은 특정한 경우로 구애받지 않는다.Of course, the shape 15 of the electron emission source is not limited to the above example, but may be formed while forming a conical shape. That is, in the present invention, the shape of the electron emission source 15 is not limited to a specific case.

이에 상기와 같이 구성되는 전자 방출원은, 상기 진공 용기(4)의 외부로부터 상기 캐소드 전극(3) 및 게이트 전극(7)에 인가되는 전압에 의해 상기 캐소드 전극(3)과 게이트 전극(7) 사이에 형성되는 전계 분포에 따라 상기 전자 방출원(15)으로부터 전자를 방출하게 된다.Accordingly, the electron emission source configured as described above is provided with the cathode electrode 3 and the gate electrode 7 by the voltage applied to the cathode electrode 3 and the gate electrode 7 from the outside of the vacuum container 4. Electrons are emitted from the electron emission source 15 according to the electric field distribution formed therebetween.

이때, 본 발명의 전자 방출원에 에어로졸 형태의 CO2를 분사하여 카본나노튜브를 세워주는 전자방출원의 표면처리 방법은 상기 도 1에서 설명된 바와 같다.At this time, the surface treatment method of the electron emission source to erect the carbon nanotubes by spraying aerosol-type CO 2 to the electron emission source of the present invention is as described in FIG.

본 발명에서 전자방출원을 형성시 사용되는 조성물은 카본나노튜브(CNT), 무기분말, 바인더 수지 및 유기용매를 포함하는 것이 바람직하며, 페이스트 또는 슬러리 형태가 될 수 있다.In the present invention, the composition used when forming the electron emission source preferably includes carbon nanotubes (CNT), an inorganic powder, a binder resin, and an organic solvent, and may be in the form of a paste or slurry.

본 발명은 카본나노튜브의 사용량은 조성물 내 20 내지 40 중량%로 사용되는 것이 바람직하다. In the present invention, the carbon nanotube is used in an amount of 20 to 40% by weight in the composition.

상기 무기분말, 바인더수지 및 유기용매는 통상 전자방출원 형성용 조성물 제조시 사용되는 것을 사용할 수 있으며, 특별히 한정되지는 않는다. 본 발명은 필요에 따라 감광성 수지와 UV용 개시제를 더 첨가할 수 있다.The inorganic powder, the binder resin and the organic solvent can be used that is usually used in the preparation of the composition for electron emission source formation, it is not particularly limited. In the present invention, a photosensitive resin and an initiator for UV may be further added as necessary.

상기에서 캐소드 전극(3)은 소정의 패턴 가령, 스트라이트 형상을 취하여 상기 제1 기판(1)의 일 방향을 따라 형성되며, 상기 절연층(5)은 상기 캐소드 전극(3)을 덮으면서 상기 제1 기판(1)상에 전체적으로 배치된다.The cathode electrode 3 is formed along a direction of the first substrate 1 by taking a predetermined pattern, for example, a stripe shape, and the insulating layer 5 covers the cathode electrode 3 while It is disposed on the first substrate 1 as a whole.

또한, 상기 절연층(5) 위에는, 상기 절연층(5)에 형성된 구멍(5a)과 관통되는 구멍(7a)을 갖는 게이트 전극(7)이 복수로 형성되는 바, 이 게이트 전극(7)은 상기 캐소드 전극(3)과 직교하는 방향으로 임의의 간격을 두고 스트라이프 형상을 유지하여 형성된다.Further, on the insulating layer 5, a plurality of gate electrodes 7 having holes 5a and through holes 7a formed in the insulating layer 5 are formed. It is formed by maintaining a stripe shape at an arbitrary interval in the direction orthogonal to the cathode electrode (3).

이러한 전자 방출원의 구성에 비해, 상기 발광부의 구성은, 상기 제2 기판(2)의 일면(상기 제1 기판과 마주하는 면)에 형성되는 애노드 전극(11)과, 이 애노드 전극(11) 위에 형성되는 R,G,B 형광막(13)을 포함하여 이루어진다.Compared with the structure of such an electron emission source, the structure of the said light emitting part is the anode electrode 11 formed in the one surface (surface facing the said 1st board | substrate) of the said 2nd board | substrate 2, and this anode electrode 11 And R, G, and B fluorescent films 13 formed thereon.

상기에서 애노드 전극(11)은 인듐 틴 옥사이드(ITO)와 같은 투명한 재질로 구비되어 상기 캐소드 전극(3)의 길이 방향과 나란한 방향으로 길게 배치되는 스트라이프 패턴을 유지하여 상기 제2 기판(2) 상에 임의의 간격을 두고 복수로 형성되며, 상기 형광막(13)은 상기 애노드 전극(11) 상에 전기 영동법, 스핀인쇄, 스핀 코팅 등의 제조 방법을 통해서 형성될 수 있다.The anode electrode 11 is made of a transparent material such as indium tin oxide (ITO) and maintains a stripe pattern that is elongated in a direction parallel to the longitudinal direction of the cathode electrode 3 on the second substrate 2. A plurality of fluorescent films 13 may be formed at random intervals, and the fluorescent film 13 may be formed on the anode electrode 11 through a manufacturing method such as electrophoresis, spin printing, or spin coating.

또한, 본 발명은 도면에는 도시하지 않았지만, 상기와 동일한 방법으로 전자방출원을 형성하며, 다음과 같은 단계를 포함하여 제조되는 전자방출표시장치를 제공할 수 있다.In addition, although not shown in the drawings, the present invention may provide an electron emission display device manufactured by forming an electron emission source in the same manner as described above and including the following steps.

즉, 본 발명의 전자방출표시장치의 제조방법은That is, the manufacturing method of the electron emission display device of the present invention

(a) 투명한 제1 기판 상부에 게이트층을 형성한 다음, 절연층을 형성하는 단계; (b) 상기 절연층에 캐소드 전극을 형성하는 단계; (c) 상기 캐소드 전극 위에 카본나노튜브를 포함하는 전자방출원 형성용 조성물을 도포한 후 소성하여 전자 방출원을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸을 분사하고 에칭하는 단계를 포함한다.(a) forming a gate layer over the transparent first substrate, and then forming an insulating layer; (b) forming a cathode on the insulating layer; (c) applying an electron emission source forming composition including carbon nanotubes on the cathode and then baking to form an electron emission source; And (d) spraying and etching the CO 2 aerosol compressed at high pressure on the electron emission source.

이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 하기 실시예는 본 발명을 보다 명확히 표현하기 위한 목적으로 기재될 뿐 본 발명의 내용은 하기 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, preferred examples and comparative examples of the present invention are described. The following examples are described for the purpose of more clearly expressing the present invention, but the contents of the present invention are not limited to the following examples.

(실시예 1)(Example 1)

카본나노튜브 0.2 g, 글래스 프릿 0.05 g, 바인더 수지로 아크릴레이트 수지 20 g, 용매로서 부틸 카비톨 아세테이트 2 g을 혼합 교반하여 페이스트 조성물을 제조하였다. 이후, 이 조성물을 ITO가 증착된 글래스 기판에 스크린 프린팅 방법으로 인쇄하고 600 ℃의 온도에서 소성하여 전자방출원을 제조하였다.A paste composition was prepared by mixing and stirring 0.2 g of carbon nanotubes, 0.05 g of glass frit, 20 g of acrylate resin with a binder resin, and 2 g of butyl carbitol acetate as a solvent. Thereafter, the composition was printed on a glass substrate on which ITO was deposited by screen printing, and then fired at a temperature of 600 ° C. to produce an electron emission source.

이후, 고압으로 압축된 입자크기 0.5 nm의 CO2 에어로졸을 분사압력 1 kg중, 유량 10 ℓ/mindm로 분사하여 전자방출원의 표면을 처리하였다.Then, the surface of the electron emission source was treated by spraying a CO 2 aerosol with a particle size of 0.5 nm compressed at high pressure at a flow rate of 10 L / mindm in 1 kg of injection pressure.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

카본나노튜브 0.2 g, 글래스 프릿 0.05 g, 바인더 수지로 아크릴레이트 수지 20 g, 용매로서 부틸 카비톨 아세테이트 2 g을 혼합 교반하여 페이스트 조성물을 제조하였다. 이후, 이 조성물을 ITO가 증착된 글래스 기판에 스크린 프린팅 방법으로 인쇄하고 600 ℃의 온도에서 소성하여 전자방출원을 제조하였다.A paste composition was prepared by mixing and stirring 0.2 g of carbon nanotubes, 0.05 g of glass frit, 20 g of acrylate resin with a binder resin, and 2 g of butyl carbitol acetate as a solvent. Thereafter, the composition was printed on a glass substrate on which ITO was deposited by screen printing, and then fired at a temperature of 600 ° C. to produce an electron emission source.

(실험예)Experimental Example

상기 실시예 1과 비교예 1에 대하여 이극관 방법으로 전자방출원에 대한 전류량을 측정하였고, 그 결과를 도 4에 나타내었다. 도 4의 결과에서 보는 바와 같이 본 발명의 실시예 1의 경우 CO2 에어로졸에 의해 유기잔탄이 제거됨으로써 종래 방법에 따른 유기잔탄에 의해 카본나노튜브가 묻히는 비교예 1과 비교하여, 세워진 카본나노튜브가 증가됨으로써 균일한 전자방출(emission) 특성을 나타내며, 특히 비교예 1 보다 5 V/um의 전계에서 75%의 전자방출 밀도의 향상이 있어 전자방출 특성이 매우 우수함을 알 수 있다.For Example 1 and Comparative Example 1, the amount of current for the electron emission source was measured by the bipolar tube method, and the results are shown in FIG. 4. As shown in the results of FIG. 4, in the case of Example 1 of the present invention, carbon nanotubes erected in comparison with Comparative Example 1 in which carbon nanotubes are buried by organic xanthan according to a conventional method by removing organic xanthan by CO 2 aerosol By increasing, it shows uniform electron emission characteristic, and in particular, the electron emission density of 75% is improved in an electric field of 5 V / um than Comparative Example 1, and it can be seen that the electron emission characteristic is very excellent.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 CO2 가스와 같은 승화성 가스를 이용하여 전자방출원의 표면을 처리함으로써, 종래 유기 잔탄과 함께 묻혀진 카본나노튜브를 효과적으로 세움으로써, 전자방출 특성을 크게 향상시킬 수 있다. 따라서, 종래에 비해 전자방출특성이 우수한 전자방출표시장치를 제공할 수 있다.As described above, the present invention treats the surface of the electron emission source by using a sublimable gas such as CO 2 gas, and effectively establishes carbon nanotubes buried with organic xanthan, thereby greatly improving electron emission characteristics. Can be. Accordingly, an electron emission display device having excellent electron emission characteristics can be provided.

도 1은 본 발명의 CO2 에어로졸에 의한 전자방출원의 카본나노튜브 박리공정 모식도를 나타낸 것이다.Figure 1 shows a schematic view of the carbon nanotube stripping process of the electron emission source by the CO 2 aerosol of the present invention.

도 2는 본 발명의 전자방출 표시 장치의 일례를 도시한 부분 단면도이다.2 is a partial cross-sectional view showing an example of the electron emission display device of the present invention.

도 3a∼도 3e는 본 발명의 전자 방출 표시장치의 제조 과정 중 전자 방출원 형성 후 CO2 에어로졸을 분사하는 과정을 일례로 나타낸 개략도이다.3A to 3E are schematic diagrams illustrating an example of spraying a CO 2 aerosol after formation of an electron emission source during a manufacturing process of the electron emission display device of the present invention.

도 4 본 발명에 따라 CO2 에어로졸에 의한 에칭으로 표면처리한 전자방출원(실시예 1)과 기존의 방법으로 표면처리한 전자방출원(비교예 1)의 I-V 특성을 비교하여 나타낸 것이다.4 shows the IV characteristics of an electron emission source (Example 1) surface-treated by etching with a CO 2 aerosol and a surface-treated electron emission source (Comparative Example 1) according to the present invention.

Claims (14)

유기물 함량이 30 내지 40 중량%인 카본나노튜브를 포함하는 전자방출원.An electron emission source comprising carbon nanotubes having an organic content of 30 to 40% by weight. 제 1항에 있어서, 상기 전자방출원은 CO2 에어로졸을 포함하는 승화성 입자로 표면처리되어 얻어진 것인 전자방출원.The electron emission source according to claim 1, wherein the electron emission source is obtained by surface treatment with sublimable particles containing a CO 2 aerosol. 제 1항에 있어서, 상기 CO2 에어로졸은 입자 크기가 0.1nm 내지 100 ㎛인 전자방출원.The electron emission source of claim 1, wherein the CO 2 aerosol has a particle size of 0.1 nm to 100 μm. 카본나노튜브(CNT), 글래스 프릿(glass frit), 바인더 수지 및 용매를 포함하는 평판표시소자의 전자 방출원 형성용 조성물을 인쇄 코팅한 후 소성하여 전자방출원을 제조하고;Preparing an electron emission source by printing and coating a composition for forming an electron emission source of a flat panel display device including carbon nanotubes (CNT), glass frit, a binder resin, and a solvent; 상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸을 분사하고 에칭하는 단계Spraying and etching the compressed CO 2 aerosol at the electron emission source 을 포함하는 전자방출원의 제조방법.Method of producing an electron emission source comprising a. 제 4항에 있어서, 상기 승화성 가스는 입자 크기 0.1nm 내지 100 ㎛의 CO2 에어로졸인 전자방출원의 제조방법.The method of claim 4, wherein the sublimable gas is a CO 2 aerosol having a particle size of 0.1 nm to 100 μm. 제 4항에 있어서, 상기 승화성 가스는 분사압력 0.5 내지 5 kg중 이고, 유량은 0.1 내지 50 ℓ/min로 분사되는 것인 전자방출원의 제조방법.The method of manufacturing an electron emission source according to claim 4, wherein the sublimable gas is in a spray pressure of 0.5 to 5 kg and a flow rate is injected at 0.1 to 50 l / min. (a) 투명한 제1 기판 상부에 캐소드 전극을 형성하는 단계;(a) forming a cathode electrode on the transparent first substrate; (b) 상기 제1 기판 전면에 절연층을 형성하고, 절연층 위에 게이트층을 형성한 다음, 게이트층과 절연층을 관통하는 홀들을 형성하는 단계;(b) forming an insulating layer on the entire surface of the first substrate, forming a gate layer on the insulating layer, and then forming holes passing through the gate layer and the insulating layer; (c) 상기 제1 기판 전면에 카본나노튜브를 포함하는 전자방출원 형성용 조성물을 도포한 후 소성하여 전자 방출원을 형성하는 단계; 및(c) coating the composition for forming an electron emission source including carbon nanotubes on the entire surface of the first substrate and then baking to form an electron emission source; And (d) 상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸를 분사하고 에칭하는 단계(d) spraying and etching the pressurized CO 2 aerosol on the electron emission source; 를 포함하는 전자 방출 표시장치의 제조 방법.Method of manufacturing an electron emission display device comprising a. 제 7항에 있어서, 상기 CO2 에어로졸은 입자 크기가 0.1nm 내지 100 ㎛인 전자 방출 표시장치의 제조 방법.The method of claim 7, wherein the CO 2 aerosol has a particle size of 0.1 nm to 100 μm. 제 7항에 있어서, 상기 CO2 에어로졸은 분사압력 0.5 내지 5 kg중 이고, 유량은 0.1 내지 50 ℓ/min로 분사되는 것인 전자방출원의 제조방법.8. The method of claim 7, wherein the CO 2 aerosol is in the injection pressure of 0.5 to 5 kg, the flow rate is injected at 0.1 to 50 l / min. (a) 투명한 제1 기판 상부에 게이트층을 형성한 다음, 절연층을 형성하는 단계;(a) forming a gate layer over the transparent first substrate, and then forming an insulating layer; (b) 상기 절연층에 캐소드 전극을 형성하는 단계;(b) forming a cathode on the insulating layer; (c) 상기 캐소드 전극 위에 카본나노튜브를 포함하는 전자방출원 형성용 조성물을 도포한 후 소성하여 전자 방출원을 형성하는 단계; 및(c) applying an electron emission source forming composition including carbon nanotubes on the cathode and then baking to form an electron emission source; And (d) 상기 전자방출원에 고압으로 압축된 CO2 에어로졸을 분사하고 에칭하는 단계(d) spraying and etching the pressurized CO 2 aerosol on the electron emission source; 를 포함하는 전자 방출 표시장치의 제조 방법.Method of manufacturing an electron emission display device comprising a. 제 10항에 있어서, 상기 CO2 에어로졸은 입자 크기가 0.1nm 내지 100 ㎛인 전자 방출 표시장치의 제조 방법.The method of claim 10, wherein the CO 2 aerosol has a particle size of 0.1 nm to 100 μm. 제 10항에 있어서, 상기 CO2 에어로졸은 분사압력 0.5 내지 5 kg중 이고, 유량은 0.1 내지 50 ℓ/min로 분사되는 것인 전자방출원의 제조방법.The method according to claim 10, wherein the CO 2 aerosol is in the injection pressure of 0.5 to 5 kg, the flow rate is injected at 0.1 to 50 L / min. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항의 전자방출원을 포함하는 전자 방출 표시장치.An electron emission display device comprising the electron emission source of any one of claims 1 to 3. 제 4항의 방법으로 제조된 전자방출원을 포함하는 전자 방출 표시장치.An electron emission display device comprising an electron emission source manufactured by the method of claim 4.
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