KR20050078413A - Apparatus for measuring illuminance - Google Patents
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Abstract
본 발명은 패턴노광장치의 조도를 측정하는 장치에 관한 것으로 특히 패턴노광장치에서 기판이 안착되는 베이스상면의 절대조도 및 상대조도분포를 효율적으로 측정할 수 있는 조도측정장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for measuring illuminance of a pattern exposure apparatus, and more particularly, to an illuminance measuring apparatus capable of efficiently measuring the absolute illuminance and relative illuminance distribution of a base upper surface on which a substrate is mounted in a pattern exposure apparatus.
Description
본 발명은 패턴노광장치의 조도를 측정하는 장치에 관한 것으로 특히 패턴노광장치에서 기판이 안착되는 베이스상면의 절대조도 및 상대조도분포를 효율적으로 측정할 수 있는 조도측정장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for measuring illuminance of a pattern exposure apparatus, and more particularly, to an illuminance measuring apparatus capable of efficiently measuring the absolute illuminance and relative illuminance distribution of a base upper surface on which a substrate is mounted in a pattern exposure apparatus.
PDP(Plasma Display Panel), LCD(Liquid Crystal Display) 등에 사용되는 기판의 제조에 있어서 기판에 전극패턴을 형성하는 방법으로 패턴노광장치의 빛을 패턴이 형성된 마스크를 투영시켜 포토레지스트가 도포된 기판에 조사하여 기판에 마스크의 패턴이 형성되도록 하는 방법이 사용된다.In the manufacture of substrates used for plasma display panels (PDPs) and liquid crystal displays (LCDs), an electrode pattern is formed on a substrate to project light of a pattern exposure apparatus onto a patterned mask and onto a photoresist-coated substrate. The method of irradiating and forming the pattern of a mask in a board | substrate is used.
도 1은 일반적으로 사용되는 패턴노광장치를 나타낸다. 패턴노광장치는 빛을 조사하는 조명시스템(10)과 조사된 빛을 얼라인시키고 초점을 조정하는 광학시스템(20)과 기판(30)이 안착되는 베이스(40)가 포함되어 형성된다. 상기 조명시스템(10)은 초고압수은램프, 할로겐램프 등 광원(12)과 광원(12)의 빛을 한 방향으로 조사하기 위한 광원커버(14)를 포함하여 구성된다. 상기 광학시스템(20)은 빛의 진행방향과 특성을 조정하기 위하여 다수의 반사경(22)과 광학렌즈(24) 등이 포함하여 구성된다.1 shows a pattern exposure apparatus generally used. The pattern exposure apparatus includes an illumination system 10 for irradiating light, an optical system 20 for aligning and adjusting the irradiated light, and a base 40 on which the substrate 30 is seated. The lighting system 10 includes a light source 12 such as an ultra-high pressure mercury lamp, a halogen lamp, and a light source cover 14 for irradiating light from the light source 12 in one direction. The optical system 20 includes a plurality of reflectors 22, optical lenses 24 and the like to adjust the direction and characteristics of the light.
상기 패턴노광장치를 사용하여 패턴을 형성하는 경우에는 기판에 형성되는 패턴의 위치별 품질 차이를 줄이기 위해서는 기판의 위치별로 조사되는 빛의 광량 즉 조도가 일정해야 한다. 특히 기판이 대형화되는 추세에서 기판이 커지는 경우에는 기판상의 위치별로 조도의 차이가 더 클 수 있으므로 절대조도뿐 만 아니라 위치별 조도분포도 관리를 하여야 한다. When the pattern is formed using the pattern exposure apparatus, in order to reduce the quality difference for each position of the pattern formed on the substrate, the amount of light irradiated to each position of the substrate, that is, illuminance, must be constant. In particular, when the substrate becomes larger in the trend of larger substrate, the difference in illuminance for each position on the substrate may be greater. Therefore, not only the absolute illuminance but also the illuminance distribution for each position should be managed.
종래의 조도를 측정하는 방법으로는 테스트벤치를 사용하여 기판이 안착되는 베이스상의 조도를 측정하고자 하는 위치에 조도센서를 일일이 부착 및 탈착시키면서 조도를 측정하거나, 별도의 조도측정시스템을 이용하여 조도를 측정하는 방법이 사용되고 있다.In the conventional method of measuring illuminance, the illuminance is measured by attaching and detaching the illuminance sensor at the position where the illuminance on the base on which the substrate is seated is measured using a test bench, or by using a separate illuminance measuring system. The measuring method is used.
그러나 종래의 테스트벤치를 사용하는 경우에는 측정을 원하는 위치에 조도센서를 정확히 설치하기가 어렵고, 조도센서가 테스트벤치에 완전한 밀착되기 어려워 절대조도와 상대조도분포를 정확히 측정하기가 어려운 문제점이 있다. However, in the case of using a conventional test bench, it is difficult to accurately install the illuminance sensor at a desired position to measure, and it is difficult to accurately measure the absolute illuminance and relative illuminance distribution because the illuminance sensor is not completely in close contact with the test bench.
또한 다수의 위치에 대하여 조도를 측정하는 경우에는 일일이 측정위치별로 베이스에 조도센서를 부착하여 측정해야하므로 작업시간이 오래 걸리고, 중간에 작업자가 바뀌는 경우에는 작업자간 측정치에 차이가 발생되어 정확한 측정이 어려운 문제점이 있다.In addition, when measuring illuminance for multiple positions, it is necessary to attach the illuminance sensor to the base for each measuring position. Therefore, it takes a long time, and if the operator changes in the middle, the measurement value is different between workers. There is a difficult problem.
한편 별도의 조도측정장치를 사용하는 경우에는 실시간 조도측정이 어렵고 측정할 때마다 조도측정장치를 다시 설정해야 하는 불편함이 있다.On the other hand, in the case of using a separate illuminance measuring device, it is difficult to measure real-time illuminance, and there is an inconvenience of having to reset the illuminance measuring device every time it is measured.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명은 패턴노광장치에서 기판이 안착되는 베이스상면의 절대조도 및 상대조도분포를 효율적으로 측정할 수 있는 조도측정장치를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention devised to solve the above problems is an object of the present invention to provide an illuminance measuring apparatus that can efficiently measure the absolute illuminance and relative illuminance distribution of the base upper surface on which the substrate is mounted in the pattern exposure apparatus.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명은 조명시스템과 광학시스템과 베이스를 포함하는 패턴노광장치의 조도측정장치에 있어서, 상기 광학시스템에서 베이스로 조사되는 빛의 광량을 측정하여 전기적 신호를 전송하는 적어도 두 개의 조도센서와 상면에 상기 조도센서가 각각 장착되는 조도센서홈이 형성되며 상기 베이스에 안착되는 스테이지 및 상기 조도센서에 연결되어 전기적 신호를 수신하여 절대조도를 측정하는 조도모니터링시스템을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for solving the above problems in the illuminance measuring apparatus of the pattern exposure apparatus including the illumination system, the optical system and the base, measuring the amount of light irradiated to the base from the optical system to transmit an electrical signal At least two illuminance sensors and an illuminance sensor groove on which the illuminance sensors are mounted, respectively, are formed on the upper surface, and the stage is mounted on the base and an illuminance monitoring system connected to the illuminance sensors to receive an electrical signal and measure absolute illuminance. It is characterized by.
또한 본 발명에서 상기 스테이지는 사각형 판상으로 상면의 중앙과 각 모서리 및 각 변의 가운데에 상기 조도센서홈이 형성되고, 상기 각 조도센서홈에 상기 조도센서가 각각 결합될 수 있다. In addition, in the present invention, the stage is a rectangular plate shape, the illuminance sensor groove is formed in the center and each corner and each side of the upper surface, the illuminance sensor may be coupled to each of the illuminance sensor grooves.
또한 본 발명에서 상기 조도모니터링시스템은 상기 조도센서의 절대조도로부터 절대조도평균치와 각 위치별 상대조도분포를 포함한 조도분포를 산출하고 표시할 수 있다.In the present invention, the illuminance monitoring system may calculate and display an illuminance distribution including an absolute illuminance average value and a relative illuminance distribution for each position from the absolute illuminance of the illuminance sensor.
또한 본 발명에서 상기 베이스와 상기 스테이지는 일체로 형성될 수 있다. In the present invention, the base and the stage may be integrally formed.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 따른 조도측정장치의 실시예에 대한 구성도를 나타낸다. 도 3a는 본 발명에 따른 조도측정장치의 스테이지의 사시도를 나타낸다. 도 3b는 도 3a의 A-A'단면도를 나타낸다. 도 4는 본 발명에 따른 조도측정장치의 스테이지가 설치된 패턴노광장치의 구성도를 나타낸다.2 shows a block diagram of an embodiment of a roughness measuring apparatus according to the present invention. Figure 3a shows a perspective view of a stage of the illuminance measuring apparatus according to the present invention. 3B is a cross-sectional view along the line AA ′ of FIG. 3A. 4 is a block diagram of a pattern exposure apparatus provided with a stage of the illuminance measuring apparatus according to the present invention.
본 발명에 따른 조도측정장치는 도 2와 도 3a 및 도 3b를 참조하여 보면 다수의 조도센서(50)와 스테이지(60) 및 조도모니터링시스템(70)을 포함하여 구성된다.2 and 3A and 3B, the illuminance measuring apparatus according to the present invention includes a plurality of illuminance sensors 50, a stage 60, and an illuminance monitoring system 70.
상기 조도센서(50)는 상기 광학시스템(20)에서 조사되는 빛의 광량을 내부의 광변환소자(도면에 표시하지 않음)에 의하여 전기적신호로 변환하여 전송하게 되며, 다양한 형태의 조도측정용 센서가 사용될 수 있다. 조도센서(50)는 조도를 측정하고자 하는 상기 스테이지(60)의 크기와 위치에 따라 적정한 수의 조도센서(50)가 사용된다.The illuminance sensor 50 converts the amount of light irradiated from the optical system 20 into an electrical signal by an internal light conversion element (not shown), and transmits the illuminance sensor of various types. Can be used. The illuminance sensor 50 uses an appropriate number of illuminance sensors 50 according to the size and position of the stage 60 to measure illuminance.
상기 스테이지(60)는 도 3a와 도 3b를 참조하여 보면 사각형의 판상으로 상면에 상기 다수의 조도센서(50)가 결합되는 조도센서홈(65)이 조도센서(50)의 수량과 동일하게 형성되며, 바람직하게는 스테이지(60) 상면의 중앙과 각 모서리와 각 변의 중심에 형성되며 총 9개의 조도센서홈(65)이 형성된다. 스테이지(60)는 기판(30)이 안착되는 베이스(40) 상면에 설치되며, 기판(30)의 크기에 따라 적정한 크기로 형성된다.Referring to FIGS. 3A and 3B, the stage 60 has a rectangular plate shape, and an illuminance sensor groove 65 to which the plurality of illuminance sensors 50 are coupled to the upper surface is formed in the same quantity as the illuminance sensor 50. Preferably, it is formed at the center of the upper surface of the stage 60, each corner and the center of each side, a total of nine roughness sensor grooves 65 are formed. The stage 60 is installed on the upper surface of the base 40 on which the substrate 30 is mounted, and is formed in an appropriate size according to the size of the substrate 30.
상기 스테이지(60)는 패턴노광장치의 베이스(40)와 일체로 형성될 수 있음은 물론이다. 즉 상기 조도센서(50)가 베이스(40)에 설치될 수 있다. 조도센서(50)를 베이스(40)에 설치하게 되면 공정에서 기판(30)이 베이스(40)에서 이송되는 순간에 조도측정이 가능하게 된다. 이때는 조도센서홈(65)에 조도센서(50)가 결합된 후에 조도센서(50)의 상면이 베이스(40)의 상면과 동일 평면을 이루도록 홈의 깊이를 형성한다.The stage 60 may be formed integrally with the base 40 of the pattern exposure apparatus. That is, the illuminance sensor 50 may be installed in the base 40. When the illuminance sensor 50 is installed in the base 40, illuminance measurement is possible at the moment when the substrate 30 is transferred from the base 40 in the process. In this case, after the illumination sensor 50 is coupled to the illumination sensor groove 65, the depth of the groove is formed such that the top surface of the illumination sensor 50 forms the same plane as the top surface of the base 40.
상기 조도모니터링시스템(70)은 상기 다수의 조도센서(50)에 병렬로 연결되어 각 조도센서(50)에서 전송하는 전기적신호를 수신하여 절대조도를 산출하고 표시하게 된다. 조도모니터링시스템(70)은 각 조도센서(50)의 신호로부터 절대조도평균값과 각 위치에 따른 상대조도분포 등 조도분포를 산출하게 된다. 상기 상대조도분포는 조도센서(50)의 각 위치별로 절대조도와 절대조도평균치의 차이를 나타낸다. The illuminance monitoring system 70 is connected to the plurality of illuminance sensors 50 in parallel to receive an electrical signal transmitted from each illuminance sensor 50 to calculate and display an absolute illuminance. The illuminance monitoring system 70 calculates an illuminance distribution such as an absolute illuminance average value and a relative illuminance distribution according to each position from the signal of each illuminance sensor 50. The relative illuminance distribution indicates the difference between the absolute illuminance and the absolute illuminance average for each position of the illuminance sensor 50.
상기 조도모니터링시스템(70)은 각 조도센서(50)의 절대조도와 조도분포를 실시간으로 표시할 수 있으며 별도의 저장장치(도면에 표시하지 않음)에 절대조도를 위치별로 저장할 수 있다. The illuminance monitoring system 70 may display the absolute illuminance and illuminance distribution of each illuminance sensor 50 in real time, and store the absolute illuminance for each location in a separate storage device (not shown).
다음은 본 발명에 따른 조도측정장치의 작용에 대하여 설명한다.Next will be described the operation of the roughness measuring apparatus according to the present invention.
본 실시예에서는 도 3a에서 보는 바와 같이 스테이지(60)에 총 9개의 조도센서(50)가 사용된다. 조도센서(50)는 스테이지의 각 외곽에 8개가 설치되고 중앙에 1개가 설치되어 스테이지(60) 전체적으로 조도가 측정되도록 설치된다. In the present embodiment, as shown in FIG. 3A, a total of nine illuminance sensors 50 are used in the stage 60. The illuminance sensors 50 are installed at each of the outer periphery of the stage and one is installed at the center so that the illuminance is measured on the entire stage 60.
도 4를 참조하여 보면 상기 스테이지(60)는 패턴노광장치의 베이스(40) 상면에 설치한다. 패턴노광장치의 조명시스템(10)과 광학시스템(20)을 작동시켜 스테이지(60)에 빛이 조사되도록 한다. 스테이지(60)에 빛이 조사되면 조도센서(50)와 조도모니터링시스템(70)이 작동되어 스테이지(60)의 각 위치별로 절대조도를 측정하게 된다. 즉 조도센서(50)에 빛이 조사되면 조도센서(50)는 조사되는 빛의 광량에 해당하는 전기적 신호를 조도모니터링시스템(70)으로 전송하게 된다. 이때 각 조도센서(50)는 병렬로 조도모니터링시스템(70)에 연결되어 있으므로 각 조도센서(50)는 각각 위치별로 동시에 전기적 신호를 전송하게 된다.Referring to FIG. 4, the stage 60 is installed on the upper surface of the base 40 of the pattern exposure apparatus. The illumination system 10 and the optical system 20 of the pattern exposure apparatus are operated to irradiate light to the stage 60. When light is irradiated to the stage 60, the illumination sensor 50 and the illumination monitoring system 70 are operated to measure absolute illumination at each position of the stage 60. That is, when light is irradiated to the illuminance sensor 50, the illuminance sensor 50 transmits an electrical signal corresponding to the amount of light irradiated to the illuminance monitoring system 70. At this time, since each illuminance sensor 50 is connected to the illuminance monitoring system 70 in parallel, each illuminance sensor 50 transmits an electrical signal simultaneously for each position.
상기 조도모니터링시스템(70)은 각 조도센서(50)로부터 수신된 전기적신호를 절대조도로 변환시켜 표시하게 된다. 또한 각 조도센서(50)의 절대조도로부터 절대조도평균치, 각 위치별 상대조도분포 등을 산출하여 조도분포를 표시할 수 있다.The illuminance monitoring system 70 converts an electrical signal received from each illuminance sensor 50 into an absolute illuminance and displays it. In addition, the absolute illuminance average value, the relative illuminance distribution for each position, etc. may be calculated from the absolute illuminance of each illuminance sensor 50 to display the illuminance distribution.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형의 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 특허청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.As described above, the present invention is not limited to the specific preferred embodiments described above, and any person having ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the gist of the present invention claimed in the claims. Various modifications are possible, of course, and such changes are within the scope of the claims.
본 발명에 의한 조도측정장치에 의하면 기판이 안착되는 베이스의 위치별 절대조도와 조도분포를 한번에 측정하는 것이 가능하여 조도측정에 소요되는 시간을 줄일 수 있는 효과가 있다. According to the illuminance measuring apparatus according to the present invention, it is possible to measure the absolute illuminance and illuminance distribution for each position of the base on which the substrate is seated at a time, thereby reducing the time required for illuminance measurement.
또한 본 발명에 의하면 다수의 조도센서가 설치된 스페이서를 사용하여 조도를 측정하므로 작업자간의 측정오차를 줄일 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, since the illuminance is measured using a spacer provided with a plurality of illuminance sensors, there is an effect of reducing the measurement error between workers.
또한 본 발명에 의하면 베이스에 조도센서를 설치하게 되면 기판이 이송되는 과정에서 조도의 실시간 측정이 가능한 효과가 있다.In addition, according to the present invention, if the illuminance sensor is installed on the base, it is possible to measure the illuminance in real time in the process of transferring the substrate.
도 1은 패턴노광장치의 구성도.1 is a configuration diagram of a pattern exposure apparatus.
도 2는 본 발명에 따른 조도측정장치의 구성도.2 is a block diagram of a roughness measuring apparatus according to the present invention.
도 3a는 본 발명에 따른 조도측정장치의 스테이지의 사시도.Figure 3a is a perspective view of the stage of the illuminance measuring apparatus according to the present invention.
도 3b는 도 3a의 A-A'단면도.3B is a cross-sectional view along the line AA ′ of FIG. 3A;
도 4는 본 발명에 따른 조도측정장치의 스테이지가 설치된 패턴노광장치의 구성도.4 is a configuration diagram of a pattern exposure apparatus provided with a stage of the illuminance measuring apparatus according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Description of the reference numerals for the main parts of the drawings>
10 - 조명시스템 20 - 광학시스템10-Lighting system 20-Optical system
30 - 기판 40 - 베이스30-Board 40-Base
50 - 조도센서 60 - 스테이지50-Ambient Light Sensor 60-Stage
70 - 조도모니터링시스템70-Illuminance Monitoring System
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101319639B1 (en) * | 2011-12-19 | 2013-10-17 | 삼성전기주식회사 | Illuminance measuring module and multi channel detector using thereof |
| KR102579001B1 (en) * | 2022-11-30 | 2023-09-15 | 김재근 | illuminance predictor |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10284401A (en) * | 1997-04-03 | 1998-10-23 | Nikon Corp | Aligner |
| KR19990052513A (en) * | 1997-12-22 | 1999-07-15 | 유무성 | Exposure apparatus and measuring method of illuminance uniformity and parallelism of stage motion |
| KR20000066449A (en) * | 1999-04-16 | 2000-11-15 | 김영환 | Method exposure illumination for exposing |
| KR20010030512A (en) * | 1999-09-28 | 2001-04-16 | 오노 시게오 | Illumination meter and method of measuring a illuminance using the same, and exposure apparatus |
| KR20040005387A (en) * | 2002-07-10 | 2004-01-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | Method for measuring illumination uniformity of semiconductor exposure equipment |
-
2004
- 2004-01-29 KR KR1020040005842A patent/KR20050078413A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10284401A (en) * | 1997-04-03 | 1998-10-23 | Nikon Corp | Aligner |
| KR19990052513A (en) * | 1997-12-22 | 1999-07-15 | 유무성 | Exposure apparatus and measuring method of illuminance uniformity and parallelism of stage motion |
| KR20000066449A (en) * | 1999-04-16 | 2000-11-15 | 김영환 | Method exposure illumination for exposing |
| KR20010030512A (en) * | 1999-09-28 | 2001-04-16 | 오노 시게오 | Illumination meter and method of measuring a illuminance using the same, and exposure apparatus |
| KR20040005387A (en) * | 2002-07-10 | 2004-01-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | Method for measuring illumination uniformity of semiconductor exposure equipment |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101319639B1 (en) * | 2011-12-19 | 2013-10-17 | 삼성전기주식회사 | Illuminance measuring module and multi channel detector using thereof |
| KR102579001B1 (en) * | 2022-11-30 | 2023-09-15 | 김재근 | illuminance predictor |
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