KR20050073102A - 포토마스크 보관상자 - Google Patents

Abstract

본 발명은 본 발명은 반도체 소자 제조용 포토마스크 보관상자(mask Pod)에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크를 지지할 때 에지부분만을 홀딩할 수 있게 하여 패턴층을 안정적으로 유지하기 위한 반도체 소자 제조용 포토마스크 보관상자에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 포토마스크를 보관하는 보관 상자는 상부덮개; 하부덮개; 및 상기 하부덮개의 각 모서리부에 돌출 형성되어 그 상면에 포토마스크를 지지하는 지지단을 포함하되; 상기 지지단은 포토마스크의 에지부분을 안착할 수 있도록 경사지게 형성된 안착면이 형성된다.

Description

포토마스크 보관상자{MASK POD}

본 발명은 반도체 소자 제조용 포토마스크 보관상자(mask Pod)에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크를 지지할 때 에지부분만을 홀딩할 수 있게 하여 패턴층을 안정적으로 유지하기 위한 반도체 소자 제조용 포토마스크 보관상자에 관한 것이다.

일반적으로 반도체소자를 제조하기 위하여 포토리소그래피(Photo lithography), 확산, 식각, 화학기상증착 등 다양한 단위공정을 진행하며, 이러한 단위공정중 포토리소그래피 공정은 반도체 웨이퍼상에 소정의 패턴을 형성시키기 위한 공정으로서, 반도체 웨이퍼의 상면에 PR(Photoresist)층을 균일하게 도포 형성시킨 후 소정 레이아웃으로 형성된 마스크(또는 레티클)을 위치시켜 조도가 높은 파장의 광을 조사하여 불필요한 PR층을 분리 세정함으로써 반도체 웨이퍼상에 요구되는패턴을 형성한다.

이러한 반도체 웨이퍼상에 소정의 패턴을 형성하기 위한 마스크는 포토마스크 운반박스 내에 보관된다.

기존의 포토마스크를 보관하는 운반박스는 크롬(cr)면이 위로 가는 방향으로만 마스크 장착이 가능하도록 되어 있다. 이를 마스크를 위해 사용할 때에는 낙하는 이물이 부착되는 것을 막기 위해 뒤집어 넣을 수 있어야 하는데 현재 사용하고 있는 것은 이것이 불가능하다. Cr 사이드 다운으로 넣을 경우 현재는 크롬면이 긁게 되어 이물이 발생하고 접촉면이 상하게 된다.

즉, 기존의 보관상자는 실질적으로 포토마스크를 지지하고 있는 지지돌기가 포토마스크의 상하면을 각각 지지하는 것이므로 포토마스크 생산단계에서는 포토마스크에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스트층이 지지돌기와의 접촉으로 떨어져 나와 원하는 패턴을 형성할 수 없을 뿐만 아니라 생산라인을 오염시키게 되고, 완제품의 경우에도 지지돌기와의 접촉으로 크롬 패턴층이 떨어져 나와 마스크 불량을 초래하였던 것이다.

따라서, 본 발명의 목적은 포토마스크 안착홈의 포토마스크 지지부분을 경사지게 구성하여 포토마스크를 지지할 때 그 에지부분만 지지되도록 하여, 포토마스크에 피복되는 크롬층(또는 포토레지스트층)을 안정적으로 유지할 수 있는 포토마스크 보관상자를 제공하는 데 그 목적이 있다.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 포토마스크를 보관하는 보관 상자는 상부덮개; 하부덮개; 및 상기 하부덮개의 각 모서리부에 돌출 형성되어 그 상면에 포토마스크를 지지하는 지지단을 포함하되; 상기 지지단은 포토마스크의 에지부분을 안착할 수 있도록 경사지게 형성된 안착면이 형성된다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 2를 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 상기 도면들에 있어서 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호가 병기되어 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 보관상자를 보여주는 단면도이다. 도 2는 도 1에 도시된 지지돌기의 사시도이다.

도 1 내지 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 포토마스크 보관상자는 포토마스크(P)와의 접촉면적을 최소한으로 줄여 포토마스크(P)에 피복되는 크롬층 또는 포토레지스트층의 손상을 방지하기 위한 것이다.

이를 위해 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 상기 보관상자(100)는 상면에 포토마스크(P)가 안착되어 지지되는 복수의 지지돌기(112)를 갖는 하부몸체(110)와, 상기 하부몸체(110)의 상측에 결합되는 상부몸체(120)로 구성된다.

상기 하부몸체(110)의 각 모서리부에는 지지돌기(112)가 돌출 형성되고, 그 지지돌기(112)는 포토마스크(P)를 안착할 수 있도록 안착면(114)이 형성되어 있다. 이 안착면(114)은 경사지게 형성되어 포토마스크(P)의 에지부분만을 홀딩할 수 있도록 구성한 것이다.

이때, 상기 지지돌기(112)는 경사진 안착면(114)이 일체로 형성되게 사출성형하여 구성할 수도 있고, 경사진 안착면을 갖는 별도의 부품으로 구비할 수도 있다.

상기 상부몸체(120)의 내부면에 설치된 두 개의 지지대(122)는 일정한 탄력을 가지고 상기 포토마스크를 상기 지지돌기(112)에 안착시키는 역할을 한다. 또한, 상기 상부몸체에는 운반시 사용되는 손잡이(124)가 결합된다.

이와 같이 구성된 본 고안에 따른 포토마스크 보관상자는 다음과 같은 작용을 한다.

먼저, 포토마스크(P)를 제조할 때에는 포토마스크(P)의 일면에 크롬층을 피복하고, 크롬층을 소정의 패턴으로 현상해내기 위해 그 위에 포토레지스트층을 피복한 후 노광 현상하게 되므로 포토마스크(P)의 제조단계에서는 포토마스크(P)에 크롬층과 포토레지스트층이 피복되어 있고, 포토마스크(P)의 제조가 완료되면 소정의 패턴을 갖는 크롬층만 피복되어 있게 된다.

이러한 포토마스크(P)는 그 제조중이나 제조완료 후 모두 포토마스크 보관상자(1)에 수납한 상태로 이송, 운반하게 되며, 포토마스크 보관상자(100)는 이러한 포토마스크(P)의 이송, 운반 중 포토마스크(P)의 유동없이 그 위치를 유지할 수 있는 구조를 제공하는 것이다.

여기서, 본 고안에 따른 포토마스크 보관상자(100)는 포토마스크(P)를 수납한 상태로 이송, 운반할 때 포토마스크(P)의 유동없이 그 위치를 원활히 유지할 수 있음은 물론 포토마스크(P)를 유동이 없게 홀딩하여 주는 부위가 포토마스크(P)에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스층에 접촉되지 않거나 최소한의 면적으로 접촉되게 하여 마스크 불량을 방지하기 위한 것으로, 포토마스크(P)를 하부몸체(110)의 각 지지돌기(112)에 얹어 놓게 되면 포토마스크(P)가 지지돌기(112)에 형성된 경사진 안착면(114)의 중간쯤에 얹혀지는 형상이 되어 포토마스크(P)의 에지부분만이 경사진 안착면(114)과 접촉되면서 그 위치를 유동없이 홀딩하게 된다.

따라서, 포토마스크(P)의 에지부분과 경사진 안착면(114)이 접촉될 때 그 면적이 매우 작으므로 포토마스크(P)에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스트층과 경사진 안착면(114)이 접촉되지 않거나 최소한의 면적으로 접촉될 수 있어 크롬층 또는 포토레지스트층이 떨어져 나가 마스크 불량을 초래하거나 생산라인을 오염시키는 문제를 근본적으로 해결할 수 있다.

이와 같은 본 발명을 적용하면, 포토마스크 지지부위에 경사면을 구성하여 포토마스크 에지부분과의 접촉면적을 최소화함으로써, 먼지발생을 억제하거나, 포토마스크 에지 부분을 안정적으로 지지할 수 있는 매우 유용한 효과가 있는 것이다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 보관상자를 보여주는 단면도.

도 2는 도 1에 도시된 지지돌기의 사시도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

110 : 하부 몸체

112 : 지지돌기

114 : 경사진 안착면

Claims (1)

1. 포토마스크를 보관하는 보관 상자에 있어서:

   상부덮개;

   하부덮개; 및

   상기 하부덮개의 각 모서리부에 돌출 형성되어 그 상면에 포토마스크를 지지하는 지지단을 포함하되;

   상기 지지단은 포토마스크의 에지부분을 안착할 수 있도록 경사지게 형성된 안착면이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자.