KR20050069538A - Glass cleaning system - Google Patents
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Abstract
본 발명은 액정표시장치 제작공정 중, 글라스 세정과정에 사용되는 글라스 세정 시스템에 관한 것으로, 본 발명에 따른 글라스 세정 시스템은, 탈이온화수를 글라스의 표면에 분사하는 다수개의 스팟타입 노즐(10)과, 상기 스팟타입 노즐(10)로 탈이온화수를 공급하는 배관(20)과, 글라스와 접한 상태에서 회전하는 구조로서 상기 노즐(10)의 분사영역 내에 배치되는 다수개의 브러시롤(30)(32)로 구성된 복합 세정부와; 탈이온화수를 캐비테이션 제트 방식으로 고압분사하여 글라스 표면을 세척함과 동시에 메가소닉 메카니즘을 이용하여 미세 이물질을 분리 제거하는 CJ/MS부와; 각 세정작업을 마친 글라스를 건조시키는 에어 나이프부를 포함하여 이루어진다.The present invention relates to a glass cleaning system used in a glass cleaning process during a manufacturing process of a liquid crystal display, and the glass cleaning system according to the present invention includes a plurality of spot type nozzles (10) for spraying deionized water onto a glass surface. And a plurality of brush rolls 30 arranged in a spraying region of the nozzle 10 as a pipe 20 for supplying deionized water to the spot type nozzle 10 and rotating in contact with glass. A composite cleaning section composed of 32); CJ / MS unit for cleaning the glass surface by high-pressure spraying deionized water by cavitation jet method and at the same time separating and removing fine foreign matter using megasonic mechanism; It comprises an air knife unit for drying the glass after each cleaning operation.
상술한 바와 같은 본 발명에 따른 글라스 세정 시스템은 화학적 세정작용을 진행하는 노즐과 물리적 세정작용을 진행하는 브러시롤이 동일 영역에 구성된 구조로 이루어지기 때문에 종래와 동일한 세정효과를 유지함과 더불어 그 부피가 감소되고, 생산 단가가 저렴해진다는 이점을 갖는다. As described above, the glass cleaning system according to the present invention has a structure in which a nozzle for chemical cleaning and a brush roll for physical cleaning are formed in the same area, thereby maintaining the same cleaning effect as in the prior art and having a large volume. It is reduced, and the production cost is low.
Description
본 발명은 LCD-TFT 제작공정 중, 글라스 세정과정에 사용되는 글라스 세정 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 그 부피가 감소하고 제작단가가 낮아지는 글라스 세정 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a glass cleaning system used in the glass cleaning process of the LCD-TFT manufacturing process, and more particularly to a glass cleaning system in which the volume is reduced and the manufacturing cost is lowered.
사회가 정보화시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 근래에 들어 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT) 액정표시장치(TFT-LCD)가 개발됨에 따라 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 대체하고 있다.As the society enters the information age, the display field for processing and displaying a large amount of information has been rapidly developed. In recent years, a thin film transistor (TFT) having excellent performance of thinning, light weight, and low power consumption has been developed. With the development of TFT-LCD, it is replacing the existing cathode ray tube (CRT).
액정표시장치는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용한 것으로, 잘 알려진 바와 같이 액정은 분자구조가 가늘고 길며 배열에 방향성을 갖는 광학적 이방성과 전기장 내에 놓일 경우 분자배열 방향이 변화되는 분극성질을 띤다.The liquid crystal display device uses the optical anisotropy and polarization property of the liquid crystal. As is well known, the liquid crystal has a thin and long molecular structure, and has an optical anisotropy having an orientation in the array and a polarization property in which the direction of molecular arrangement changes when placed in an electric field.
이에 액정표시장치는 서로 마주보는 면으로 각각 전계생성전극이 형성된 한 쌍의 투명절연기판을 구비한 후 그 사이로 액정을 충진시킨 액정패널(liquid crystal panel)을 필수적인 구성요소로 하며, 각 전계생성전극에 적절한 전압을 인가함으로서 전기장 변화를 일으켜 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절한다. The liquid crystal display device is provided with a pair of transparent insulating substrates each having an electric field generating electrode facing each other, and a liquid crystal panel filled with liquid crystal therebetween as an essential component. Applying an appropriate voltage to the device causes electric field changes to artificially adjust the alignment direction of the liquid crystal molecules.
그리고 이때 변화되는 빛의 투과율을 이용하여 여러 가지 화상을 표시한다.In this case, various images are displayed using the change in the transmittance of light.
그러나 액정패널은 자체 발광요소를 갖지 못하는 수광형 소자이므로 별도의 광원(光源)을 필요로 하고, 이를 위하여 액정패널 배면으로 백라이트 어셈블리가 구비되어 액정패널 전면에 빛을 조사하여 비로소 식별 가능한 휘도의 화상을 구현하게 된다.However, since the liquid crystal panel is a light-receiving element that does not have a self-luminous element, it requires a separate light source, and for this purpose, a backlight assembly is provided on the back of the liquid crystal panel so that the image of the luminance can be identified by irradiating light on the front of the liquid crystal panel. Will be implemented.
이러한 일반적인 박막트랜지스터를 채택하는 액정모듈의 제조공정은 박막트랜지스터(TFT) 공정, 셀(Cell) 공정, 모듈(Module) 공정으로 나뉘어 진다. The manufacturing process of a liquid crystal module adopting such a general thin film transistor is divided into a thin film transistor (TFT) process, a cell process, and a module process.
TFT 공정은 반복하여 유리 기판 위에 박막트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정으로서, 진공실 내부에 증착에 필요한 가스를 주입하여 압력과 기판 온도가 설정되면 RF(Radio Frequency)전력을 이용하여 주입된 가스를 플라즈마 상태로 분해하여 기판위에 증착하는 화학기상증착법(PECVD:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 과정, RF 전력이나 DC 전력에 의해 형성된 플라즈마 내에서 높은 에너지를 갖고 있는 기체이온이 타겟표면과 충돌하여 증착하고자 하는 타겟입자들이 튀어나와 기판에 증착되는 스퍼터링(Sputtering) 과정, 감광성 화학약품(PR: Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여 얻고자 하는 패턴의 마스크를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 마스크의 패턴과 동일한 패턴을 형성시키는 현상(Photolithography) 과정, 기체 플라즈마로부터 만들어진 원자나 자유기(radical)와 같은 반응성 물질과 기판에 증착된 물질이 반응하여 휘발성 물질로 변하는 현상을 이용한 식각(Etch)과정으로 이루어진다.The TFT process is a process of repeatedly arranging thin film transistors on a glass substrate, and injecting the gas required for deposition into a vacuum chamber, and when the pressure and the substrate temperature are set, the injected gas is formed by using RF (Radio Frequency) power. PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) process that decomposes and deposits on the substrate, and gas ions having high energy in plasma formed by RF power or DC power collide with target surface to deposit When the sputtering process and photoresist (PR: Photoresist) that are exposed to the substrate and the photoresist (PR) receives the light, it causes chemical reaction to change the properties and selects the light using the mask of the pattern to obtain To form the same pattern as the pattern of the mask by irradiating to PR (Photolithograp) hy) process, an etching process using a phenomenon in which a reactive material such as an atom or radical formed from a gas plasma reacts with a material deposited on a substrate to change into a volatile material.
그리고, 셀(Cell) 공정은 TFT 하판과 컬러필터가 형성된 상판에 배향막을 형성하는 배향막 도포과정, 배향막에 액정이 잘 정렬할 수 있도록 하는 러빙(rubbing) 과정, 스페이서(spacer)를 산포하는 스페이서 과정, 상판과 하판을 합착한 후에 모세관 현상을 이용하여 액정을 내부에 주입한 후, 주입구를 봉지하는 액정주입과정으로 이루어진다.The cell process includes an alignment film coating process for forming an alignment film on a TFT lower plate and an upper plate on which a color filter is formed, a rubbing process for aligning liquid crystals on the alignment film, and a spacer process for dispersing spacers. After the upper and lower plates are bonded together, the liquid crystal is injected into the liquid crystal using a capillary phenomenon, and then the liquid crystal injection process is performed to seal the injection hole.
모듈(Module) 공정은 최종적으로 사용자에게 전해지는 제품 품질을 결정하는 단계로서, 완성된 패널에 편광판을 부착하고 드라이버IC를 실장한 후 PCB(Printed Circuit Board)를 조립하여 최종적으로 백라이트 유닛(Backlight unit)과 기구물을 조립하게 된다. The module process is a step to finally determine the product quality to be delivered to the user, attaching a polarizing plate to the finished panel, mounting a driver IC, and then assembling a printed circuit board (PCB) to finally make a backlight unit. ) And the fixture.
이와 같은 액정표시장치(LCD-TFT)는 다수의 제작공정으로 이루어져 있는 바, 각 제작공정마다 유기성 이물이 발생할 수가 있다. 예를 들어, 작업자의 손이 기판에 닿은 경우도 이에 해당된다. 따라서 이러한 유기성 이물을 제거하는 공정이 각 제조공정 단계별로 설치되어 있는 실정이다. 이러한 세정과정은 화학적 물리적 세정기능을 순차적으로 행할 수 있는 글라스 세정 시스템에 의해 진행된다.Such a liquid crystal display (LCD-TFT) is composed of a number of manufacturing processes, organic foreign matter may occur in each manufacturing process. For example, this is also the case when the operator's hand touches the substrate. Therefore, the process of removing such organic foreign matter is installed in each step of the manufacturing process. This cleaning process is performed by a glass cleaning system which can perform a chemical physical cleaning function sequentially.
상기 글라스 세정 시스템은 먼저 이소프로필알콜(Isopropyl alcohol, IPA)과 반응하여 제거하는 데, 이후, 탈이온화수(Dionized water)를 이용하여 글라스의 표면에 점착된 IPA(Isopropyl alcohol)을 제거하고, 다음 단계로 브러시를 이용하여 글라스 표면의 파티클(particle)을 제거한다. 이후, 탈이온화수를 캐비테이션 젯(Cavitation Jet,CJ ) 방식으로 고압분사하여 글라스 표면을 세척함과 동시에 매가소닉(Megasonic,MS) 메카니즘을 이용하여 미세 이물질을 분리 제거하는 CJ/MS부와, 각 세정작업을 마친 글라스를 건조시키는 에어나이프(Air Knife)부로 이루어져 있다.The glass cleaning system firstly removes by reacting with isopropyl alcohol (Isopropyl alcohol, IPA), and then removes IPA (Isopropyl alcohol) adhered to the surface of the glass using deionized water, and then As a step, particles of the glass surface are removed using a brush. Then, the CJ / MS unit which separates and removes fine foreign matter by using a megasonic (Megasonic, MS) mechanism while washing the glass surface by high-pressure spraying deionized water using a cavitation jet (CJ) method. Consists of Air Knife part to dry glass after cleaning.
여기서, 상기 IPA를 세정하는 수세부는 도 1에 나타난 것과 같이 이른바 노즐샤워방식으로 탈이온화수를 분산 분사하기 위한 다수개의 스팟타입(spot type) 노즐(10)과,노즐(10)로 탈이온화수를 공급하는 배관(20)으로 이루어져 있다.Here, the water washing unit for cleaning the IPA, as shown in Figure 1, a plurality of spot type nozzles (10) for dispersing and spraying the deionized water in a so-called nozzle shower method, and deionized by the nozzle (10) It consists of the piping 20 which supplies water.
상기 스팟타입 노즐(10)은 다수개가 하나의 직선형 보조배관(201)에 일렬 배치되어 하나의 노즐라인을 형성하고, 이러한 노즐라인이 글라스의 진행방향(도면상 화살표시)으로 다수개 배치되는 구조로 설치되어 있다. The spot type nozzle 10 has a structure in which a plurality of spot lines are arranged in one straight auxiliary pipe 201 to form one nozzle line, and a plurality of such nozzle lines are arranged in the advancing direction of the glass (when arrow in the drawing). It is installed.
이러한 수세부를 지난 후에 다른 공정으로 넘어가기전에 마무리작업으로 아쿠아 샤워방식으로 탈이온화수를 분사하기 위한 캐스캐이드 타입(cascade type)노즐(12) 및 이 노즐(12)에 탈이온화수를 공급하는 배관(20)이 배치되어 있다. After passing this water washing part, the cascade type nozzle 12 and the nozzle 12 for supplying the deionized water by the aqua shower method as a finishing operation are supplied to the nozzle 12 before finishing the process. The piping 20 to be arrange | positioned is arrange | positioned.
수세부 다음에는 이물을 물리적으로 제거하는 브러시부가 위치하고 있으며, 글라스의 가로폭을 커버하는 길이의 원주형으로서 글라스와 접한 상태에서 글라스의 진행방향으로 회전하는 정방향 브러쉬롤(30)과, 글라스의 진행방향과 반대로 회전하는 역방향 브러쉬롤(32)로 이루어져 있다. 이때 적은 수의 노즐로 탈이온화수를 공급하여 브러쉬작업을 도울 수 있다.Next to the water washing part, a brush part for physically removing foreign matter is located, and is a cylindrical shape having a length covering the width of the glass, and a forward brush roll 30 rotating in the advancing direction of the glass in contact with the glass, and advancing of the glass. The reverse brush roll 32 rotates in the opposite direction. The deionized water can be supplied to a small number of nozzles to help brush work.
이와 같은 글라스 세정 시스템에 의한 세정작업은 수세부에 의한 IPA 제거 단계, 브러시부에 의한 파티클 제거단계, CJ/MS부에 의한 미세 이물질 제거단계, 에어나이프부에 의한 건조단계가 순차적으로 진행되는 방식으로 이루어지며, 각 처리부는 글라스가 콘베이어 등에 의해 이송되면서 단계별 세정작업을 거칠 수 있도록 소정의 간격을 두고 일렬 배치되어 있다.The cleaning operation by the glass cleaning system is performed by removing the IPA by the water washing unit, removing the particles by the brush unit, removing the fine foreign substances by the CJ / MS unit, and drying by the air knife unit. Each processing unit is arranged in a line at a predetermined interval so that the glass may be moved by a conveyor or the like to undergo a stepwise cleaning operation.
상술한 바와 같은 종래의 글라스 세정 시스템에 의하면 각 처리부가 일렬 배치된 구조상 글라스가 이동하면서 각 단계별 세정처리를 거치게 된다. According to the conventional glass cleaning system as described above, the glass is moved in the structure in which each processing unit is arranged in a row and undergoes the cleaning process for each step.
그러나, 이러한 종래의 글라스 세정 시스템은 상호 반응을 유발하지 않는 수세부와, 브러시부가 별도로 구성되어 있기 때문에 전체적인 공정라인의 길이가 길고, 부피가 크고, 각 제작단가가 비싸다는 문제점을 가지고 있다. However, such a conventional glass cleaning system has a problem that the length of the overall process line is long, bulky, and expensive to produce each unit because the washing unit and the brush unit which do not cause mutual reaction are separately configured.
본 발명은 상기한 종래 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 수세부와 브러시부가 일체로 구성됨으로써 전체적인 라인의 길이가 축소되고, 공정라인 제작단가가 저렴해지는 글라스 세정 시스템의 제공을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a glass cleaning system in which the length of the entire line is reduced and the manufacturing cost of the process line is reduced by integrally configuring the water washing part and the brush part.
상기 목적을 달성하기 위하여 제공되는 글라스 세정 시스템은, 탈이온화수를 글라스의 표면에 분사하는 다수개의 스팟타입 노즐과, 상기 노즐로 탈이온화수를 공급하는 디아이 배관과, 글라스와 접한 상태에서 회전하는 구조로서 상기 노즐의 분사영역 내에 배치되는 다수개의 브러시롤로 구성된 복합 세정부와; 탈이온화수를 캐비테이션 제트 방식으로 고압분사하여 글라스 표면을 세척함과 동시에 메가소닉 메카니즘을 이용하여 미세 이물질을 분리 제거하는 씨제이/엠에스부와; 각 세정작업을 마친 글라스를 건조시키는 에어 나이프부를 포함하여 이루어진다.A glass cleaning system provided to achieve the above object includes a plurality of spot type nozzles for spraying deionized water onto a surface of the glass, a die pipe for supplying deionized water to the nozzles, and rotating in contact with the glass. A composite cleaning part including a plurality of brush rolls disposed in the spraying area of the nozzle as a structure; CJ / MS unit for cleaning the glass surface by high-pressure spraying deionized water by cavitation jet method and separating and removing fine foreign substances using megasonic mechanism; It comprises an air knife unit for drying the glass after each cleaning operation.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도 2를 참조로 하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 2.
본 발명의 실시예에 따른 글라스 세정 시스템은 탈이온화수를 이용한 화학적 세정 및 브러시를 이용한 물리적 세정을 동시에 진행하는 복합 세정부와, CJ/MS부, 에어나이프부로 이루어진다.Glass cleaning system according to an embodiment of the present invention consists of a composite cleaning unit for performing a chemical cleaning using deionized water and a physical cleaning using a brush at the same time, a CJ / MS unit, an air knife unit.
상기 복합세정부는 탈이온화수를 글라스의 표면에 분사하는 다수개의 스팟타입 노즐(10)과, 상기 스팟타입 노즐(10)의 분사영역 내에 배치되는 정 역방향 브러시롤(30)(32)과, 스팟타입 노즐(10)의 일측에 배치되어 마무리단계에서 사용되는 캐스캐이드 타입 노즐(12), 각 노즐(10)(12)로 탈이온화수를 공급하는 배관(20)으로 구성된다The complex washing machine comprises a plurality of spot type nozzles 10 for spraying deionized water onto the surface of the glass, and a reverse brush roll 30 and 32 disposed in the spraying area of the spot type nozzles 10; It is composed of a cascade type nozzle 12 disposed on one side of the spot type nozzle 10 and used in the finishing step, and a pipe 20 for supplying deionized water to each nozzle 10, 12.
상기 스팟타입 노즐(10)은 종래와 마찬가지로 하나의 보조배관(201)에 다수개가 일렬 부착되어 하나의 노즐라인을 형성하고, 이러한 각 노즐라인이 글라스의 진행방향으로 다수개 배치되는 구조로 설치되며, 각 브러시롤(30)은 각 노즐라인과 엇갈리는 위치에 배치된다.The spot type nozzle 10 is attached to one auxiliary pipe 201 in a row as in the prior art to form a single nozzle line, each of these nozzle lines are installed in a structure in which a plurality of the nozzle line is arranged in the advancing direction of the glass , Each brush roll 30 is disposed in a position to cross each nozzle line.
상술한 바와 같이 구성되는 본 발명의 실시예에 의하면 글라스가 상기 복합세정부를 통과하는 과정에서, 스팟타입 노즐(10)에서 분사되는 탈이온화수에 의한 화학적 세정처리 및 각 브러시롤(30)(32)에 의한 물리적 세정처리를 동시에 거치게 된다.According to the embodiment of the present invention configured as described above, in the course of passing the glass through the complex washing, chemical cleaning treatment by deionized water sprayed from the spot type nozzle 10 and each brush roll 30 ( The physical cleaning process by 32 is simultaneously performed.
이때, 탈이온화수에 의한 IPA의 화학적 세정작용 및 브러시롤(30)(32)에 의한 물리적 세정작용은 서로 반응하지 않기 때문에 각 세정작용을 별도로 순차진행하는 경우와 동일한 세정효과가 유지된다. At this time, since the chemical cleaning action of the IPA by deionized water and the physical cleaning action by the brush rolls 30 and 32 do not react with each other, the same cleaning effect is maintained as when each cleaning action is sequentially performed separately.
이상에서 본 발명에 따른 실시예를 설명하였으나, 이는 예시이며 본 발명의 정신을 벗어나지 않고 다양한 변화와 변형이 가능할 것이고, 이러한 변화와 변형은 본 발명의 권리범위에 속하게 됨은 후술하는 청구범위를 통해 이해할 수 있을 것이다. Although the embodiments according to the present invention have been described above, this is merely an example and various changes and modifications may be made without departing from the spirit of the present invention, and the changes and modifications belong to the scope of the present invention to be understood through the following claims. Could be.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따른 글라스 세정 시스템은 IPA세척을 위한 화학적 세정작용을 진행하는 노즐과 물리적 세정작용을 진행하는 브러시롤이 동일 영역에 구성된 구조로 이루어지기 때문에 종래와 동일한 세정효과를 유지함과 더불어 공정라인 길이 및 부피가 감소되고, 생산 단가가 저렴해진다는 이점을 갖는다.As described above, the glass cleaning system according to the present invention maintains the same cleaning effect as the nozzle having the chemical cleaning action for the IPA cleaning and the brush roll having the physical cleaning action in the same area. In addition, the process line length and volume are reduced, and production costs are reduced.
도 1은 종래 글라스 세정 시스템의 구성을 나타낸 구성도이다.1 is a configuration diagram showing the configuration of a conventional glass cleaning system.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 글라스 세정 시스템의 구성을 나타낸 구성도이다. Figure 2 is a block diagram showing the configuration of a glass cleaning system according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10: 스팟타입 노즐 12: 캐스캐이드 타입 노즐10: spot type nozzle 12: cascade type nozzle
20: 배관 201: 보조배관 20: piping 201: auxiliary piping
30: 정방향 브러시롤 32: 역방향 브러시롤 30: forward brush roll 32: reverse brush roll
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2020062365A1 (en) * | 2018-09-30 | 2020-04-02 | 惠科股份有限公司 | Manufacturing device of display panel and cleaning method therefor |
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2003
- 2003-12-31 KR KR1020030101690A patent/KR20050069538A/en not_active Application Discontinuation
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |