KR20050040009A - Exposure system - Google Patents
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Abstract
도포 장치, 도포 장치에서 반출된 기판이 반입되는 베이킹 장치, 베이킹 장치에서 반출된 기판이 반입되는 제1 버퍼, 제1 버퍼의 아래 또는 위에 설치되어 있는 제1 턴테이블, 기판을 도포 장치, 베이킹 장치, 제1 버퍼 및 제1 턴테이블에 반송하는 제1 반송 장치, 제1 턴테이블로부터 반출된 기판이 반입되는 노광 장치, 노광 장치로부터 반출된 기판이 반입되는 제2 버퍼, 제2 버퍼의 아래 또는 위에 설치되어 있는 제2 턴테이블, 기판을 제1 턴테이블, 노광 장치, 제2 버퍼 및 제2 턴테이블에 반송하는 제2 반송 장치, 제2 턴테이블로부터 반출된 기판이 반입되는 현상 장치를 포함하는 노광 시스템.A coating apparatus, a baking apparatus into which the substrate carried out from the coating apparatus is carried in, a first buffer into which the substrate carried out from the baking apparatus is carried in, a first turntable provided below or above the first buffer, a substrate applying apparatus, a baking apparatus, A first conveying apparatus conveyed to the first buffer and the first turntable, an exposure apparatus into which the substrate carried out from the first turntable is carried in, a second buffer into which the substrate carried out from the exposure apparatus is carried in, or installed below or above the second buffer And a second turntable, a second transfer device for transferring the substrate to the first turntable, the exposure apparatus, the second buffer and the second turntable, and a developing apparatus into which the substrate carried out from the second turntable is loaded.
Description
본 발명은 노광 시스템에 관한 것으로서, 특히 액정 표시 장치에 이용되는 노광 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to exposure systems, and more particularly to exposure systems used in liquid crystal display devices.
액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 전계 생성 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어져, 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 액정층을 통과하는 빛의 투과율을 조절하는 표시 장치이다.The liquid crystal display is one of the most widely used flat panel display devices. The liquid crystal display includes two display panels on which a field generating electrode is formed and a liquid crystal layer interposed therebetween. It is a display device which controls the transmittance | permeability of the light which passes through a liquid crystal layer by rearranging.
이러한 액정 표시 장치(liquid crystal display)는 기판 상에 클리닝(cleaning), 레지스트 코팅(resist coating), 노광(exposure), 현상(development), 에칭(etching), 층간 절연막 형성, 열처리, 다이싱(dicing) 등과 같은 일련의 처리를 함으로써 제조된다.Such liquid crystal displays include cleaning, resist coating, exposure, development, etching, interlayer insulation film formation, heat treatment, and dicing on a substrate. It is produced by a series of treatments such as).
리소그래피 공정에는 노광 장치를 이용한 노광 공정에 전후하여 기판의 표면에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 공정과 기판을 현상하는 현상 공정이 포함된다. The lithography step includes a resist coating step of applying a resist to the surface of the substrate before and after the exposure step using the exposure apparatus and a developing step of developing the substrate.
리소그래피 공정에서는 상기의 레지스트 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정 등의 처리 공정마다 별도의 처리 루트를 형성하는 번잡함을 피하고, 고감도 레지스트의 일종인 화학 증폭형 레지스트 등의 화학적 특성을 유지하면서 스루풋(throughput)을 향상시킬 목적으로, 노광 장치의 우횡 또는 좌횡 또는 전방 또는 후방에 도포 장치 또는 현상 장치를 설치하여, 이들을 직접 또는 접속부를 통해 접속하고, 기판을 장치들 사이에서 자동으로 반송하는 인라인 시스템이 많이 채용되고 있다.In the lithography process, throughput is avoided while maintaining the chemical characteristics of a chemically amplified resist, which is a kind of high-sensitivity resist, while avoiding the complexity of forming a separate processing route for each of the above-described resist coating step, exposure step, and developing step. In order to improve the efficiency, many inline systems employing a coating device or a developing device on the right side, left side, front or back side of the exposure apparatus, connecting them directly or through a connecting portion, and automatically conveying the substrate between the apparatuses are employed. It is becoming.
이러한 노광 장치와 도포 장치 및 현상 장치간의 인라인 반송을 채용하는 리소그래피 시스템에서는 대부분의 경우 노광 장치와 도포 장치 및 현상 장치사이에는 기판을 반송하기 위한 반송부가 설치되어 있다. In a lithographic system employing inline conveyance between such an exposure apparatus, the coating apparatus, and the developing apparatus, in most cases, a conveying unit for conveying a substrate is provided between the exposure apparatus, the coating apparatus, and the developing apparatus.
노광 장치에서는 노광 스테이지 상에서 끊임없이 기판이 노광될 정도로 효율이 좋기 때문에 노광 스테이지 상에 기판이 존재하지 않는 상태가 발생하지 않도록 노광 스테이지 상으로의 기판의 반입과 노광 처리 완료된 기판의 노광 스테이지로부터의 반출을 교대로 또는 동시에 실행할 필요가 있다. In the exposure apparatus, the efficiency is such that the substrate is continuously exposed on the exposure stage, so that the substrate is not loaded onto the exposure stage and the substrate is removed from the exposure stage. You need to run them alternately or simultaneously.
노광 후의 기판에서는 화학 변화가 지속되고 있으므로 가능한 한 즉석에서 기판을 반출하여 현상 장치로 반입할 필요가 있다. 이러한 사정을 고려하여, 노광 장치로의 반입, 노광 장치로부터의 반출의 순서로 기판을 반송하고 있지만, 반송 장치가 노광 처리 전의 기판을 수취하려고 해도 도포 장치로부터 아직 반송되지 않았기 때문에 수취할 수 없거나, 노광 처리 완료된 기판을 반송 장치를 통해 현상 장치로 반송하려고 해도 현상 장치가 수취할 수 없는 등의 상태가 발생하는 일이 있다. 이와 같은 경우, 반송 장치나 노광 장치가 일정 시간 대기하는 시간이 발생하므로 로스 타임(loss time)이 발생하게 된다. Since the chemical change is continued in the board | substrate after exposure, it is necessary to carry out a board | substrate as soon as possible and carry it into a developing apparatus. In consideration of such circumstances, the substrates are conveyed in the order of bringing them into the exposure apparatus and carrying them out of the exposure apparatus, but even if the conveying apparatus tries to receive the substrate before the exposure treatment, the substrate cannot be received because it has not yet been conveyed from the coating apparatus. Even if it is going to convey the board | substrate with which the exposure process was completed to the developing apparatus through a conveying apparatus, the state which a developing apparatus cannot receive, etc. may arise. In such a case, a time in which the conveying apparatus or the exposure apparatus waits for a predetermined time occurs, so that a loss time occurs.
즉, 액정 표시 장치의 노광 시스템의 도포 장치, 현상 장치 및 노광 장치가 인 라인으로 배열되어 있을 때, 이 들 장치간의 택트 타임(tact time)이 서로 다르므로 전체적인 인라인 시스템에서 진행하지 않고 대기하는 장치가 발생하게 되고 따라서, 로스 타임이 발생하게 된다. That is, when the coating apparatus, the developing apparatus, and the exposure apparatus of the exposure system of a liquid crystal display device are arranged inline, since the tact time between these apparatuses differs, it is the apparatus which waits without advancing in the whole inline system. Is generated and thus a loss time is generated.
본 발명의 기술적 과제는 인라인 반송간의 로스 타임을 최소화할 수 있는 노광 시스템을 제공하는 것이다. The technical problem of the present invention is to provide an exposure system capable of minimizing the loss time between inline conveyances.
본 발명에 따른 노광 시스템은 도포 장치, 상기 도포 장치에서 반출된 기판이 반입되는 베이킹 장치, 상기 베이킹 장치에서 반출된 기판이 반입되는 제1 버퍼, 상기 제1 버퍼의 아래 또는 위에 설치되어 있는 제1 턴테이블, 상기 기판을 상기 도포 장치, 베이킹 장치, 제1 버퍼 및 제1 턴테이블에 반송하는 제1 반송 장치, 상기 제1 턴테이블로부터 반출된 기판이 반입되는 노광 장치, 상기 노광 장치로부터 반출된 기판이 반입되는 제2 버퍼, 상기 제2 버퍼의 아래 또는 위에 설치되어 있는 제2 턴테이블, 상기 기판을 상기 제1 턴테이블, 상기 노광 장치, 제2 버퍼 및 제2 턴테이블에 반송하는 제2 반송 장치, 상기 제2 턴테이블로부터 반출된 기판이 반입되는 현상 장치를 포함하는 것이 바람직하다. An exposure system according to the present invention includes a coating apparatus, a baking apparatus into which a substrate carried out from the coating apparatus is carried in, a first buffer into which a substrate carried out from the baking apparatus is carried in, a first buffer provided below or above the first buffer. A turntable, a first conveying apparatus for conveying the substrate to the coating device, a baking apparatus, a first buffer and a first turntable, an exposure apparatus into which a substrate carried out from the first turntable is loaded, and a substrate carried out from the exposure apparatus A second buffer, a second turntable provided below or above the second buffer, a second conveying device for conveying the substrate to the first turntable, the exposure apparatus, the second buffer and the second turntable, and the second It is preferable to include the developing apparatus to which the board | substrate carried out from the turntable is carried.
또한, 상기 제1 반송 장치는 상기 도포 장치, 베이킹 장치, 제1 버퍼 및 제1 턴테이블에 둘러싸여 있는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the said 1st conveying apparatus is surrounded by the said coating apparatus, the baking apparatus, the 1st buffer, and the 1st turntable.
또한, 상기 제1 반송 장치는 상기 기판을 상기 도포 장치로부터 반출하고, 상기 베이킹 장치 및 제1 버퍼에 반입 및 반출하며, 상기 제1 턴테이블에 반입하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the said 1st conveying apparatus carries out the said board | substrate from the said apply | coating apparatus, carry in and carry out to the said baking apparatus and a 1st buffer, and carry in to the said 1st turntable.
또한, 상기 제2 반송 장치는 상기 제1 버퍼 및 제1 턴테이블, 노광 장치, 제2 버퍼 및 제2 턴테이블에 둘러싸여 있는 것이 바람직하다. The second conveying apparatus is preferably surrounded by the first buffer and the first turntable, the exposure apparatus, the second buffer and the second turntable.
또한, 상기 제2 반송 장치는 상기 기판을 상기 제1 턴테이블로부터 반출하고, 상기 노광 장치 및 제2 버퍼에 반입 및 반출하며, 상기 제2 턴테이블에 반입하는 것이 바람직하다. In addition, the second conveying apparatus is preferably carried out from the first turntable, carried in and out of the exposure apparatus and the second buffer, and carried into the second turntable.
또한, 상기 제2 턴테이블과 상기 현상 장치사이에는 주변 노광기가 더 설치되어 있는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that a peripheral exposure machine is further provided between the second turntable and the developing apparatus.
또한, 상기 제1 반송 장치를 이용하여 상기 제1 버퍼로부터 상기 기판을 반출하여 상기 기판을 상기 제1 턴테이블에 반입하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable to carry out the said board | substrate from the said 1st buffer using the said 1st conveying apparatus, and to carry the said board | substrate to the said 1st turntable.
또한, 상기 제2 반송 장치를 이용하여 상기 제2 버퍼로부터 상기 기판을 반출하여 상기 기판을 상기 제2 턴테이블에 반입하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable to carry out the said board | substrate from the said 2nd buffer using the said 2nd conveying apparatus, and to carry the said board | substrate to the said 2nd turntable.
또한, 상기 제2 턴테이블에 위치하는 기판은 상기 주변 노광기 및 현상 장치로 컨베이어를 이용하여 이송되는 것이 바람직하다. In addition, the substrate positioned on the second turntable may be transferred to the peripheral exposure apparatus and the developing apparatus by using a conveyor.
또한, 상기 제2 턴테이블과 상기 주변 노광기 사이에 제3 반송 장치를 더 설치하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable to further provide a 3rd conveying apparatus between the said 2nd turntable and the said peripheral exposure machine.
그러면, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. Then, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.
이제 본 발명의 실시예에 따른 노광 시스템에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.An exposure system according to an embodiment of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.
먼저, 도 1 및 도 2를 참고로 하여 본 발명의 바람직한 한 실시예에 따른 노광 시스템에 대하여 상세히 설명한다.First, an exposure system according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 시스템의 배치도이고, 도 2는 도 1의 노광 시스템의 제1 버퍼 및 턴테이블, 제2 버퍼 및 턴테이블의 단면도이다. 1 is a layout view of an exposure system according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a first buffer and a turntable, a second buffer and a turntable of the exposure system of FIG. 1.
도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 시스템은 도포 장치(10), 베이킹 장치(20), 제1 버퍼(31) 및 제1 턴테이블(32), 노광 장치(40), 제2 버퍼(51) 및 제2 턴테이블(52), 주변 노광기(60) 및 현상 장치(70)가 U 자 모양으로 설치되어 있다. Referring to FIG. 1, an exposure system according to a first embodiment of the present invention includes an application apparatus 10, a baking apparatus 20, a first buffer 31 and a first turntable 32, an exposure apparatus 40, The 2nd buffer 51, the 2nd turntable 52, the peripheral exposure machine 60, and the developing apparatus 70 are provided in U shape.
그리고, 도포 장치(10), 베이킹 장치(20), 제1 버퍼(31) 및 제1 턴테이블(32)에 둘러싸여 제1 반송 장치(81)가 설치되어 있다. 그리고, 제1 버퍼(31) 및 제1 턴테이블(32), 노광 장치(40), 제2 버퍼(51) 및 제2 턴테이블(52)에 둘러싸여 제2 반송 장치(82)가 설치되어 있다. 이러한 제1 및 제2 반송 장치(81, 82)는 로봇 아암(robot arm)의 형태인 것이 바람직하다. And the 1st conveying apparatus 81 is provided in the coating apparatus 10, the baking apparatus 20, the 1st buffer 31, and the 1st turntable 32. As shown in FIG. And the 2nd conveyance apparatus 82 is provided in the 1st buffer 31, the 1st turntable 32, the exposure apparatus 40, the 2nd buffer 51, and the 2nd turntable 52, and is enclosed. Such first and second conveying devices 81 and 82 are preferably in the form of robot arms.
즉, 제1 및 제2 반송 장치(81, 82)는 이송 팔(arm)을 가지고 있으며, 수직으로 움직이거나 회전 또는 수평으로 이송 팔을 왕복운동 시킬 수 있다. 또한, 이송 팔은 스스로 가로 방향이나 세로 방향을 따라서 이동함으로써 가로 방향이나 세로 방향을 따라 이송 팔을 수평으로 움직일 수 있다. That is, the first and second conveying devices 81 and 82 have a conveying arm, and can move vertically or reciprocate the conveying arm horizontally or horizontally. In addition, the transfer arm can move the transfer arm horizontally along the horizontal or vertical direction by moving itself along the horizontal or vertical direction.
도포 장치(10)는 기판(1) 상에 포토레지스트(Photo Resist)를 균일하게 떨어뜨려 균일한 감광막(Resist) 코팅을 수행한다.The coating apparatus 10 uniformly drops a photoresist on the substrate 1 to perform a uniform photoresist coating.
도포 장치(10)에서 감광막이 도포된 기판(1)은 제1 반송 장치(81)에 의해 반출되어 베이킹 장치(20)로 반입된다. The board | substrate 1 to which the photosensitive film was apply | coated in the coating device 10 is carried out by the 1st conveying apparatus 81, and is carried in to the baking apparatus 20. FIG.
베이킹 장치(20)는 기판(1) 상에 소프트 베이크(Soft Bake)를 실행한다. 이는 기판(1) 상에 도포된 감광막 중의 잔류 용제를 증발시키고, 감광막과 기판(1)간의 밀착성 강화를 위해 실행하는 열처리이다. The baking apparatus 20 executes a soft bake on the substrate 1. This is a heat treatment performed to evaporate the remaining solvent in the photosensitive film applied on the substrate 1 and to enhance adhesion between the photosensitive film and the substrate 1.
베이킹 장치(20)에서 소프트 베이킹된 기판(1)은 제1 반송 장치(81)에 의해 반출되어 제1 버퍼(31)로 반입된다. The board | substrate 1 soft-baked by the baking apparatus 20 is carried out by the 1st conveying apparatus 81, and is carried in to the 1st buffer 31. FIG.
제1 버퍼(31)는 도포 장치(10)에서 도포된 기판(1)이 노광 장치(40)로 반송되기 전에 기판(1)을 일시적으로 보관하여 두는 장치이다. 즉, 제1 버퍼(31)는 노광 장치(40)와 베이킹 장치(20)간의 처리 시간의 차이를 없애기 위해서 기판(1)을 일시적으로 저장하는 버퍼(buffer)이다. The 1st buffer 31 is an apparatus which temporarily stores the board | substrate 1 before the board | substrate 1 apply | coated by the coating device 10 is conveyed to the exposure apparatus 40. FIG. That is, the first buffer 31 is a buffer for temporarily storing the substrate 1 in order to eliminate the difference in processing time between the exposure apparatus 40 and the baking apparatus 20.
제1 버퍼(31)의 아래에는 제1 턴테이블(32)이 설치되어 있다. 한편, 제1 버퍼(31)의 위에 제1 턴테이블(32)이 설치될 수도 있다. The first turntable 32 is provided below the first buffer 31. Meanwhile, the first turntable 32 may be installed on the first buffer 31.
따라서, 제1 반송 장치(81)를 이용하여 제1 버퍼(31)로부터 기판(1)을 반출하여 수직 아래에 위치한 제1 턴테이블(32)에 기판(1)을 반입한다. 제1 턴테이블(32)은 기판(1)을 회전시켜 노광 장치(40)로 반입될 수 있도록 기판(1)을 정렬시킨다. Therefore, the board | substrate 1 is carried in from the 1st buffer 31 using the 1st conveying apparatus 81, and the board | substrate 1 is carried in to the 1st turntable 32 located below the perpendicular | vertical. The first turntable 32 aligns the substrate 1 so that the substrate 1 can be rotated and brought into the exposure apparatus 40.
이와 같이 베이킹 장치(20)로 기판(1)을 반입 및 반출한 제1 반송 장치(81)를 이용하여 제1 버퍼(31)로 기판(1)을 이송시키고, 제1 버퍼(31)의 아래에 제1 턴테이블(32)을 위치시켜 제1 버퍼(31)에서 제1 턴테이블(32)간의 이송도 제1 반송 장치(81)를 이용함으로써 베이킹 장치(20)에 기판(1)을 반입 및 반출하기 위한 반송 장치와 제1 버퍼(31) 및 제1 턴테이블(32)간의 이송을 위한 반송 장치를 별도로 사용하지 않아도 된다는 장점이 있다. Thus, the board | substrate 1 is conveyed to the 1st buffer 31 using the 1st conveying apparatus 81 which carried in and carried out the board | substrate 1 with the baking apparatus 20, and below the 1st buffer 31. The first turntable 32 is placed in the table, and the conveyance between the first buffer 31 and the first turntable 32 is used to bring the substrate 1 into and out of the baking apparatus 20 by using the first conveying apparatus 81. There is an advantage in that it is not necessary to separately use a conveying device for conveying and a conveying device for conveying between the first buffer 31 and the first turntable 32.
이를 상세히 설명하기 위해, 도 3에는 종래의 노광 시스템의 배치도가 도시되어 있다. To illustrate this in detail, FIG. 3 is a layout view of a conventional exposure system.
도 3에 도시된 바와 같이, 종래의 노광 시스템은 3개의 반송 장치(81, 82, 83)와 1개의 버퍼(31) 및 1개의 턴테이블(32)로 이루어져 있다. As shown in FIG. 3, the conventional exposure system consists of three conveying devices 81, 82, 83, one buffer 31 and one turntable 32. As shown in FIG.
이 경우 제2 반송 장치(82)는 버퍼(31), 턴테이블(32) 및 주변 노광기(60)에 기판(1)을 반입 및 반출하는 동작을 모두 하므로 제2 반송 장치(82)에서 병목 현상이 발생하게 되고, 따라서, 제1 반송 장치(81) 및 제3 반송 장치(83)에서 대기 시간이 발생하게 된다. In this case, since the second conveying device 82 performs both the operation of bringing the substrate 1 into and out of the buffer 31, the turntable 32, and the peripheral exposure machine 60, the bottleneck phenomenon in the second conveying device 82 is eliminated. As a result, a waiting time is generated in the first conveying apparatus 81 and the third conveying apparatus 83.
이러한 제2 반송 장치(82)에서의 병목 현상을 방지하기 위해 본 발명의 제1 실시예에서는 두 개의 턴테이블(32, 52)과 두 개의 반송 장치(31, 51)를 설치한다. In order to prevent the bottleneck in the second conveying device 82, two turntables 32 and 52 and two conveying devices 31 and 51 are provided in the first embodiment of the present invention.
한편, 제1 턴테이블(32)에서 정렬된 기판(1)은 제2 반송 장치(82)를 이용하여 노광 장치(40)로 반입되어 노광된다. On the other hand, the board | substrate 1 aligned by the 1st turntable 32 is carried in to the exposure apparatus 40 using the 2nd conveyance apparatus 82, and is exposed.
노광된 기판(1)은 제2 반송 장치(82)를 이용하여 반출되어 제2 버퍼(51)로 반입된다. The exposed board | substrate 1 is carried out using the 2nd conveyance apparatus 82, and is carried in to the 2nd buffer 51. FIG.
제2 버퍼(51)의 아래에는 제2 턴테이블(52)이 설치되어 있다. A second turntable 52 is provided below the second buffer 51.
따라서, 제2 반송 장치(82)를 이용하여 제2 버퍼(51)로부터 기판(1)을 반출하여 기판(1)을 제2 턴테이블(52)에 반입한다. 제2 턴테이블(52)은 기판(1)을 회전시켜 주변 노광기(60)로 반입될 수 있도록 기판(1)을 정렬시킨다. 한편, 제2 버퍼(51)의 위에 제2 턴테이블(52)이 설치될 수도 있다. Therefore, the board | substrate 1 is carried out from the 2nd buffer 51 using the 2nd conveying apparatus 82, and the board | substrate 1 is carried in to the 2nd turntable 52. FIG. The second turntable 52 rotates the substrate 1 to align the substrate 1 so that it can be carried into the peripheral exposure machine 60. Meanwhile, the second turntable 52 may be installed on the second buffer 51.
정렬되어 제2 턴테이블(52)에 위치하는 기판(1)은 컨베이어(90)를 이용하여 주변 노광기(60)로 이송된다. 주변 노광기(60)는 타이틀러(Titler)와 함께 설치되는 것이 바람직하다. The substrate 1 aligned and positioned on the second turntable 52 is transferred to the peripheral exposure machine 60 using the conveyor 90. The peripheral exposure machine 60 is preferably installed with a titler.
그리고, 주변 노광기(60)에서 반출된 기판(1)은 컨베이어(90)를 이용하여 현상 장치(70)로 이송된다. Subsequently, the substrate 1 carried out from the peripheral exposure machine 60 is transferred to the developing apparatus 70 using the conveyor 90.
이와 같이, 베이킹 장치(20)에서 노광 장치(40)사이에는 2개의 반송 장치(81, 82) 및 2개의 턴테이블(32, 52)이 설치되어 있고, 버퍼(31, 51)와 턴테이블(32, 52)이 수직으로 설치되어 있어서 병목 현상도 감소하여 전체 택트 타임(tact time)이 줄어들고 효율적으로 노광 시스템이 운영된다. Thus, two conveying apparatuses 81 and 82 and two turntables 32 and 52 are provided between the baking apparatus 20 and the exposure apparatus 40, and the buffers 31 and 51 and the turntables 32, 52) is installed vertically, reducing bottlenecks, reducing the overall tact time and operating the exposure system efficiently.
여기서, 택트 타임(Tact time)이란 장치 내에 기판 반입으로부터 기판 반출까지의 시간을 말하며, 전체 택트 타임이란 전체 액정 표시 장치의 노광 시스템에 기판(1)이 반입된 순간부터 기판(1)이 반출되는 순간까지의 시간을 말한다. Here, the tact time refers to the time from the substrate loading to the substrate carrying out in the apparatus, and the total tact time means the substrate 1 is taken out from the moment when the substrate 1 is brought into the exposure system of all the liquid crystal display devices. Say the time to the moment.
도 4에는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 시스템의 순서도가 도시되어 있다. 4 is a flowchart of an exposure system according to a first embodiment of the present invention.
도 1 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 시스템은 우선, 도포 장치(10)에서 감광막이 도포된 기판(1)이 제1 반송 장치(81)에 의해 반출되어 베이킹 장치(20)로 반입된다.(S100) As shown in Fig. 1 and Fig. 4, in the exposure system according to the first embodiment of the present invention, first, the substrate 1 to which the photosensitive film is applied in the coating device 10 is carried out by the first transfer device 81. Then, it is carried into the baking apparatus 20. (S100)
다음으로, 베이킹 장치(20)에서 소프트 베이킹된 기판(1)은 제1 반송 장치(81)에 의해 반출되어 제1 버퍼(31)로 반입된다.(S200) Next, the board | substrate 1 soft-baked by the baking apparatus 20 is carried out by the 1st conveying apparatus 81, and is carried in to the 1st buffer 31. (S200)
다음으로, 제1 반송 장치(81)를 이용하여 제1 버퍼(31)로부터 기판(1)을 반출하여 수직 아래에 위치한 제1 턴테이블(32)에 기판(1)을 반입한다. 그리고, 제1 턴테이블(32)은 기판(1)을 회전시켜 노광 장치(40)로 반입될 수 있도록 기판(1)을 정렬시킨다.(S300) Next, the board | substrate 1 is carried out from the 1st buffer 31 using the 1st conveying apparatus 81, and the board | substrate 1 is carried in to the 1st turntable 32 located below the perpendicular | vertical. The first turntable 32 rotates the substrate 1 to align the substrate 1 to be loaded into the exposure apparatus 40 (S300).
다음으로, 제1 턴테이블(32)에서 정렬된 기판(1)은 제2 반송 장치(82)를 이용하여 노광 장치(40)로 반입되어 노광된다.(S400) Next, the board | substrate 1 aligned by the 1st turntable 32 is carried in to the exposure apparatus 40 using the 2nd conveyance apparatus 82, and is exposed. (S400)
다음으로, 노광된 기판(1)은 제2 반송 장치(82)를 이용하여 반출되어 제2 버퍼(51)로 반입된다.(S500) Next, the exposed board | substrate 1 is carried out using the 2nd conveying apparatus 82, and is carried in to the 2nd buffer 51. (S500)
그리고, 제2 반송 장치(82)를 이용하여 제2 버퍼(51)로부터 기판(1)을 반출하여 기판(1)을 제2 턴테이블(52)에 반입한다. 제2 턴테이블(52)은 기판(1)을 회전시켜 주변 노광기(60)로 반입될 수 있도록 기판(1)을 정렬시킨다.(S600) And the board | substrate 1 is carried out from the 2nd buffer 51 using the 2nd conveying apparatus 82, and the board | substrate 1 is carried in to the 2nd turntable 52. FIG. The second turntable 52 rotates the substrate 1 to align the substrate 1 to be carried into the peripheral exposure machine 60 (S600).
그리고, 제2 턴테이블(52)에 위치하는 기판(1)은 컨베이어를 이용하여 주변 노광기(60)로 이송된다.(S700) Subsequently, the substrate 1 positioned on the second turntable 52 is transferred to the peripheral exposure machine 60 by using the conveyor (S700).
그리고, 주변 노광기(60)에서 반출된 기판(1)은 컨베이어를 이용하여 현상 장치(70)로 이송된다.(S800) Subsequently, the substrate 1 carried out from the peripheral exposure machine 60 is transferred to the developing apparatus 70 using a conveyor. (S800)
본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 시스템이 도 5에 도시되어 있다. 여기서, 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조부호는 동일한 기능을 하는 동일한 부재를 가리킨다. An exposure system according to a second embodiment of the present invention is shown in FIG. Here, the same reference numerals as in the above-described drawings indicate the same members having the same function.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 시스템은 도 1에 도시된 제1 실시예와 대부분 동일하나, 제2 턴테이블(52)과 주변 노광기(60) 사이에 제3 반송 장치(83)가 더 설치되어 있는 점에서 구별된다. As shown in FIG. 5, the exposure system according to the second embodiment of the present invention is largely the same as the first embodiment shown in FIG. 1, but between the second turntable 52 and the peripheral exposure machine 60. It is distinguished by the point in which the conveying apparatus 83 is further provided.
제1 실시예와 동일하게, 제2 반송 장치(82)를 이용하여 제2 버퍼(51)로부터 기판(1)을 반출하여 기판(1)을 제2 턴테이블(52)에 반입한다. 제2 턴테이블(52)은 기판(1)을 회전시켜 주변 노광기(60)로 반입될 수 있도록 기판(1)을 정렬시킨다. In the same manner as in the first embodiment, the substrate 1 is carried out from the second buffer 51 using the second transfer device 82 to carry the substrate 1 into the second turntable 52. The second turntable 52 rotates the substrate 1 to align the substrate 1 so that it can be carried into the peripheral exposure machine 60.
정렬되어 제2 턴테이블(52)에 위치하는 기판(1)은 제2 턴테이블(52)과 주변 노광기(60) 사이에 설치된 제3 반송 장치(83)를 이용하여 주변 노광기(60)로 이송된다. 주변 노광기(60)는 타이틀러(Titler)와 함께 설치되는 것이 바람직하다. The substrate 1 aligned and positioned on the second turntable 52 is transferred to the peripheral exposure machine 60 using the third transfer device 83 provided between the second turntable 52 and the peripheral exposure machine 60. The peripheral exposure machine 60 is preferably installed with a titler.
그리고, 주변 노광기(60)에서 반출된 기판(1)은 컨베이어(90)를 이용하여 현상 장치(70)로 이송된다. Subsequently, the substrate 1 carried out from the peripheral exposure machine 60 is transferred to the developing apparatus 70 using the conveyor 90.
이와 같이, 베이킹 장치(20)에서 노광 장치(40)사이에는 2개의 반송 장치(81, 82) 및 2개의 턴테이블(32, 52)이 설치되어 있고, 버퍼(31, 51)와 턴테이블(32, 52)이 수직으로 설치되어 있어서 병목 현상도 감소하여 전체 택트 타임(tact time)이 줄어들고 효율적으로 노광 시스템이 운영된다. Thus, two conveying apparatuses 81 and 82 and two turntables 32 and 52 are provided between the baking apparatus 20 and the exposure apparatus 40, and the buffers 31 and 51 and the turntables 32, 52) is installed vertically, reducing bottlenecks, reducing the overall tact time and operating the exposure system efficiently.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Could be. Accordingly, the true scope of protection of the invention should be defined only by the appended claims.
본 발명에 따른 노광 시스템은 반송 장치에 걸리는 부하를 제거함으로써 인라인 반송간의 로스 타임을 최소화할 수 있다는 장점이 있다. The exposure system according to the present invention has the advantage that the loss time between inline conveyances can be minimized by removing the load on the conveying apparatus.
또한, 반송 장치에 걸리는 부하를 제거함으로써 노광 시스템의 전체 택트 타임을 노광 장치의 택트 타임에 일치시킬 수 있다.In addition, the total tact time of the exposure system can be matched to the tact time of the exposure apparatus by removing the load applied to the transfer apparatus.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 시스템의 배치도이고,1 is a layout view of an exposure system according to a first embodiment of the present invention,
도 2는 도 1의 노광 시스템의 제1 버퍼 및 턴테이블, 제2 버퍼 및 턴테이블의 단면도이고, 2 is a cross-sectional view of the first buffer and the turntable, the second buffer and the turntable of the exposure system of FIG. 1,
도 3은 종래의 노광 시스템의 배치도이고,3 is a layout view of a conventional exposure system,
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 시스템의 순서도이고, 4 is a flowchart of an exposure system according to a first embodiment of the present invention,
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 시스템의 배치도이다. 5 is a layout view of an exposure system according to a second embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
1 : 기판 10 : 도포 장치1 substrate 10 coating device
31 : 제1 버퍼 32 : 제1 턴테이블31: first buffer 32: first turntable
40 : 노광 장치 51 : 제2 버퍼40: exposure apparatus 51: second buffer
52 : 제2 턴테이블 70 : 현상 장치52: second turntable 70: developing device
81 : 제1 반송 장치 82 : 제2 반송 장치 81: 1st conveyance apparatus 82: 2nd conveyance apparatus
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