KR20050019621A - Repair apparatus of semiconductor memory device capable of selectively programming in wafer test and in post package test and repair method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 특히, 반도체 메모리 장치의 리페어 장치 및 그 리페어 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly, to a repair apparatus for a semiconductor memory device and a repair method thereof.
최근, 반도체 메모리 장치가 고집적화 되고, 미세화 됨에 따라 반도체 메모리 장치의 제조 공정이 점점 더 복잡해지고 있다. 그 결과, 반도체 메모리 장치의 제조 공정 중 발생되는 결함(fail) 메모리 셀의 수가 더욱 증가되고 있다. 따라서, 대부분의 반도체 메모리 장치는 메인 메모리 셀 어레이의 결함 셀들을 리페어(repair) 하는 비교적 적은 수의 리던던시(redundancy) 메모리 셀 어레이를 구비하도록 설계된다. 이러한, 리던던시 메모리 셀 어레이를 구비하는 종래의 반도체 메모리 장치의 리페어 장치가 미국 특허 5,576,999호에 기재되어 있다.In recent years, as semiconductor memory devices are highly integrated and miniaturized, the manufacturing process of semiconductor memory devices is becoming more and more complicated. As a result, the number of fail memory cells generated during the manufacturing process of the semiconductor memory device is further increased. Accordingly, most semiconductor memory devices are designed to have a relatively small number of redundancy memory cell arrays that repair defective cells of the main memory cell array. A repair apparatus of a conventional semiconductor memory device having such a redundant memory cell array is described in US Pat. No. 5,576,999.
하나 이상의 결함 셀들을 가지는 메인 메모리 셀 어레이의 로우 라인 또는 칼럼 라인은 리던던시 메모리 셀들로 대체될 수 있다. 이를 위해서는 결함 셀의 어드레스가 리페어 장치의 리페어 제어회로에 미리 프로그램 되어야 한다. 상기 리페어 제어회로는 내부에 포함되는 퓨즈들을 선택적으로 절단함으로써 결함 셀의 어드레스를 프로그램 한다. 상기 리페어 제어회로에 포함되는 퓨즈는 일반적으로 레이저빔에 의해 절단되는 레이저 퓨즈 또는 전기적으로 절단되는 전기적 퓨즈로 구현될 수 있다.The row line or column line of the main memory cell array with one or more defective cells may be replaced with redundancy memory cells. To do this, the address of the defective cell must be programmed in advance in the repair control circuit of the repair apparatus. The repair control circuit programs the address of the defective cell by selectively cutting the fuses included therein. The fuse included in the repair control circuit may be generally implemented as a laser fuse cut by a laser beam or an electrical fuse cut electrically.
다음으로, 도 1을 참고하여 종래 기술에 따른 리페어 장치를 설명한다. 도 1은 종래 기술에 따른 리페어 장치(150)를 포함하는 반도체 메모리 장치(100)를 나타내는 도면이다. 도 1에서, 상기 반도체 메모리 장치(100)의 다른 내부 회로들은 도면의 간략화를 위해 생략된다. 도 1을 참고하면, 반도체 메모리 장치(100)는 메인 메모리 셀 어레이(110), 노말(normal) 로우 디코더(120), 로우 어드레스 버퍼(130), 로우 프리디코더(predecoder)(140), 및 리페어 장치(150)를 포함한다.Next, a repair apparatus according to the prior art will be described with reference to FIG. 1. 1 illustrates a semiconductor memory device 100 including a repair device 150 according to the prior art. In FIG. 1, other internal circuits of the semiconductor memory device 100 are omitted for simplicity of the drawings. Referring to FIG. 1, the semiconductor memory device 100 may include a main memory cell array 110, a normal row decoder 120, a row address buffer 130, a row predecoder 140, and a repair. Device 150.
상기 리페어 장치(150)는 제1 리던던시 메모리 셀 어레이(151), 제2 리던던시 메모리 셀 어레이(152), 제1 리던던시 로우 디코더(153), 제2 리던던시 로우 디코더(154), 및 리페어 제어회로(155)를 포함한다. 상기 리페어 제어회로(155)는 제1 비교부(161), 제2 비교부(162), 및 퓨즈 박스(163)를 포함한다.The repair device 150 may include a first redundancy memory cell array 151, a second redundancy memory cell array 152, a first redundancy row decoder 153, a second redundancy row decoder 154, and a repair control circuit ( 155). The repair control circuit 155 includes a first comparator 161, a second comparator 162, and a fuse box 163.
상기 제1 리던던시 메모리 셀 어레이(151), 상기 제1 리던던시 로우 디코더(153), 및 상기 제1 비교부(161)는 웨이퍼 상태의 테스트 과정에서 검출된 상기 메인 메모리 셀 어레이(110)의 결함 셀(이하, 제1 결함 셀이라 함)을 리페어 한다. 또, 상기 제2 리던던시 메모리 셀 어레이(152), 상기 제2 리던던시 로우 디코더(154), 상기 제2 비교부(162), 및 상기 퓨즈 박스(163)는 패키지 이 후(이하, 포스트 패키지(post package)라 함)의 테스트 과정에서 검출된 상기 메인 메모리 셀 어레이(110)의 결함 셀(이하, 제2 결함 셀이라 함)을 리페어 한다.The first redundancy memory cell array 151, the first redundancy row decoder 153, and the first comparator 161 are defective cells of the main memory cell array 110 detected during a test process of a wafer state. (Hereinafter referred to as first defective cell) is repaired. In addition, the second redundancy memory cell array 152, the second redundancy row decoder 154, the second comparator 162, and the fuse box 163 may be packaged (hereinafter, referred to as post package). The defective cell (hereinafter referred to as a second defective cell) of the main memory cell array 110 detected in the test process of the package) is repaired.
상기 제1 비교부(161)는 복수의 퓨즈들(도 2의 F1∼F24)을 포함하고, 상기 퓨즈들(F1∼F24)에 상기 제1 결함 셀의 어드레스가 미리 프로그램된다. 상기 제1 비교부(109)는 도 2를 참고하여 좀 더 상세히 후술된다. 상기 퓨즈 박스(163)에는 상기 제2 결함 셀의 어드레스가 미리 프로그램된다.The first comparator 161 includes a plurality of fuses F1 to F24 of FIG. 2, and the addresses of the first defective cells are preprogrammed in the fuses F1 to F24. The first comparison unit 109 will be described later in more detail with reference to FIG. 2. The address of the second defective cell is preprogrammed in the fuse box 163.
도 2를 참고하면, 상기 제1 비교부(161)는 어드레스 비교회로(91)와 논리 회로(92)를 포함한다. 상기 어드레스 비교회로(91)는 복수의 트랜지스터들(21∼49)과 복수의 퓨즈들(F1∼F24)을 포함한다. Referring to FIG. 2, the first comparator 161 includes an address comparison circuit 91 and a logic circuit 92. The address comparison circuit 91 includes a plurality of transistors 21 to 49 and a plurality of fuses F1 to F24.
상술한 종래 기술에 따른 리페어 장치(150)는 웨이퍼 상태의 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어하는 부분(151, 153, 161)과, 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어하는 부분(152, 154, 162, 163)을 포함하는 두 개의 리페어 부분들로 분리되어 있다. 또, 리던던시 메모리 셀 어레이는 상기 두 개의 리페어 부분들 각각에서 사용되는 두 개의 리던던시 메모리 셀 어레이들(151, 152)로 분리되어 있다. 분리된 상기 리던던시 메모리 셀 어레이들(151, 152)이 반도체 메모리 장치에서 더 적은 면적을 차지하도록 하기 위해, 그들 각각에 포함되는 리던던시 메모리 셀의 수는 제한된다.The above-described repair apparatus 150 according to the related art includes parts 151, 153, and 161 for repairing a defect cell detected in a wafer state test process, and a portion 152 for repairing a defect cell detected in a post package test process. 154, 162, and 163 are separated into two repair parts. In addition, the redundancy memory cell array is divided into two redundancy memory cell arrays 151 and 152 used in each of the two repair parts. In order for the separated redundancy memory cell arrays 151 and 152 to occupy less area in a semiconductor memory device, the number of redundancy memory cells included in each of them is limited.
따라서, 종래 기술에 따른 리페어 장치에서는 웨이퍼 상태의 테스트 과정과 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출된 결함 셀들을 각각 리페어 할 수 있는 메모리 셀들이 극히 적은 수만으로 제한되는 문제점이 있다. 또, 종래 기술에 따른 리페어 장치는 상기 두 개의 리페어 부분들의 신호 패스가 서로 다르기 때문에, 상기 리페어 부분들에 대한 타이밍 제어를 각각 별도로 수행해야 하는 문제점이 있다.Accordingly, the repair apparatus according to the related art has a problem in that only a small number of memory cells capable of repairing defective cells detected in a wafer state test process and a post package test process, respectively, are limited. In addition, the repair apparatus according to the prior art has a problem in that timing control for the repair portions is performed separately because the signal paths of the two repair portions are different from each other.
본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는, 웨이퍼 테스트와 포스트 패키지 테스트에서 선택적으로 프로그램 가능한 반도체 메모리 장치의 리페어 장치 및 그 리페어 방법을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a repair apparatus and a repair method for a semiconductor memory device that can be selectively programmed in a wafer test and a post package test.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 리페어 장치는, 복수의 메인 메모리 셀들을 포함하는 메인 메모리 셀 어레이와, 외부의 어드레스 신호를 제1 디코딩하는 프리디코더 및 상기 제1 디코딩된 어드레스 신호를 제2 디코딩하고 상기 복수의 메인 메모리 셀들 중 일부를 선택하여 활성화시키는 노말 디코더를 포함하는 반도체 메모리 장치의 리페어 장치에 있어서, 리페어 제어회로, 리던던시 메모리 셀 어레이, 및 리던던시 디코더를 구비하는 것을 특징으로 한다. 리페어 제어회로는 웨이퍼 테스트 과정에서 검출되는 제1 결함 셀의 어드레스 신호(이하, 제1 어드레스 신호라 함)와 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출되는 제2 결함 셀의 어드레스 신호(이하, 제2 어드레스 신호라 함) 중 어느 하나를 프로그램하고, 제1 디코딩된 어드레스 신호에 응답하여 소정의 제어신호를 출력한다. 리던던시 메모리 셀 어레이는 복수의 리던던시 메모리 셀들을 포함하고, 활성화될 때 메인 메모리 셀 어레이의 제1 결함 셀과 제2 결함 셀 중 어느 하나를 리페어 한다. 리던던시 디코더는 제어신호에 응답하여 인에이블되거나 또는 디세이블되고, 인에이블될 때 리던던시 메모리 셀들 중 일부를 활성화시킨다. 리던던시 디코더가 인에이블될 때, 노말 디코더가 제어신호에 응답하여 디세이블된다.According to another aspect of the present invention, a repair apparatus includes a main memory cell array including a plurality of main memory cells, a predecoder for first decoding an external address signal, and a first decoded address signal. 2. A repair apparatus of a semiconductor memory device including a second decoder for decoding and selecting and activating a part of the plurality of main memory cells, the repair apparatus comprising: a repair control circuit, a redundant memory cell array, and a redundancy decoder. The repair control circuit includes an address signal (hereinafter referred to as a first address signal) of a first defect cell detected in a wafer test process and an address signal (hereinafter referred to as a second address signal) of a second defect cell detected in a post package test process. Program a predetermined control signal in response to the first decoded address signal. The redundancy memory cell array includes a plurality of redundancy memory cells, and when activated, repairs any one of the first defective cell and the second defective cell of the main memory cell array. The redundancy decoder is enabled or disabled in response to the control signal and activates some of the redundant memory cells when enabled. When the redundancy decoder is enabled, the normal decoder is disabled in response to the control signal.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 리페어 방법은, 웨이퍼 테스트 과정에서 검출되는 제1 결함 셀의 어드레스 신호(이하, 제1 어드레스 신호라 함)와 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출되는 제2 결함 셀의 어드레스 신호(이하, 제2 어드레스 신호라 함) 중 어느 하나를 프로그램하고, 프리디코더로부터 수신되는 디코딩된 어드레스 신호에 응답하여 소정의 제어신호를 출력하는 리페어 제어회로와, 복수의 리던던시 메모리 셀들을 포함하는 리던던시 메모리 셀 어레이, 및 상기 제어신호에 응답하여 상기 리던던시 메모리 셀들 중 일부를 활성화시키는 리던던시 디코더를 포함하는 리페어 장치의 리페어 방법에 있어서,The repair method of the semiconductor memory device according to the present invention for achieving the above technical problem, the address signal (hereinafter referred to as the first address signal) of the first defective cell detected during the wafer test process is detected during the post-package test process A repair control circuit for programming any one of the address signals (hereinafter referred to as a second address signal) of the second defective cell and outputting a predetermined control signal in response to the decoded address signal received from the predecoder; 10. A repair method of a repair apparatus including a redundancy memory cell array including redundancy memory cells, and a redundancy decoder activating some of the redundancy memory cells in response to the control signal.
(a) 상기 리페어 제어회로에 프로그램된 어드레스 신호가 상기 제1 어드레스 신호인지의 여부를 판단하는 단계;(a) determining whether an address signal programmed in the repair control circuit is the first address signal;
(b) 상기 (a) 단계에서 상기 제1 어드레스 신호가 프로그램된 경우, 상기 디코딩된 어드레스 신호를 상기 제1 어드레스 신호에 비교하고, 그 비교 결과로서 상기 제어신호를 출력하는 단계;(b) when the first address signal is programmed in step (a), comparing the decoded address signal with the first address signal and outputting the control signal as a result of the comparison;
(c) 상기 (a) 단계에서 상기 제1 어드레스 신호가 프로그램되지 않은 경우, 상기 디코딩된 어드레스 신호를 상기 제2 어드레스 신호에 비교하고, 그 비교 결과로서 상기 제어신호를 출력하는 단계; 및(c) comparing the decoded address signal with the second address signal when the first address signal is not programmed in step (a), and outputting the control signal as a result of the comparison; And
(d) 상기 제어신호가 인에이블될 때, 상기 리던던시 디코더가 인에이블되어 상기 복수의 리던던시 메모리 셀들 중 일부를 활성화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.and (d) when the control signal is enabled, the redundancy decoder is enabled to activate some of the plurality of redundancy memory cells.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 도면에 기재된 내용을 참조하여야 한다.DETAILED DESCRIPTION In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention and the contents described in the drawings.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 웨이퍼 테스트와 포스트 패키지 테스트에서 선택적으로 프로그램 가능한 리페어 장치(250)를 포함하는 반도체 메모리 장치(200)를 나타내는 도면이다. 도 3에서, 상기 반도체 메모리 장치(200)의 다른 내부 회로들은 도면의 간략화를 위해 생략된다. 도 3을 참고하면, 상기 반도체 메모리 장치(200)는 메인 메모리 셀 어레이(210), 노말 로우 디코더(220), 로우 어드레스 버퍼(230), 로우 프리디코더(240), 및 리페어 장치(250)를 포함한다. 상기 메인 메모리 셀 어레이(210)는 매트릭스 형태로 배열되는 복수의 메모리 셀들(미도시)을 포함하고, 상기 복수의 메모리 셀들은 소정의 데이터들을 저장한다. 상기 로우 어드레스 버퍼(230)는 외부로부터 로우 어드레스 신호(RADD)를 수신하여 상기 로우 프리디코더(240)에 출력한다. 상기 로우 프리디코더(240)는 상기 로우 어드레스 신호(RADD)를 디코딩하고, 디코딩된 어드레스 신호(DRA)를 출력한다. 상기 노말 로우 디코더(220)는 소정의 제어신호(REN)에 응답하여 인에이블되거나 또는 디세이블된다. 상기 노말 로우 디코더(220)가 인에이블될 때, 상기 디코딩된 어드레스 신호(DRA)를 디코딩하고, 상기 메인 메모리 셀 어레이(210)의 특정 워드 라인(미도시)을 선택하여 활성화시킨다.3 is a diagram illustrating a semiconductor memory device 200 including a repair device 250 selectively programmable in a wafer test and a post package test, according to an exemplary embodiment. In FIG. 3, other internal circuits of the semiconductor memory device 200 are omitted for simplicity of the drawing. Referring to FIG. 3, the semiconductor memory device 200 may include a main memory cell array 210, a normal row decoder 220, a row address buffer 230, a row predecoder 240, and a repair device 250. Include. The main memory cell array 210 includes a plurality of memory cells (not shown) arranged in a matrix form, and the plurality of memory cells store predetermined data. The row address buffer 230 receives a row address signal RADD from the outside and outputs the row address signal RADD to the row predecoder 240. The row predecoder 240 decodes the row address signal RADD and outputs the decoded address signal DRA. The normal row decoder 220 is enabled or disabled in response to a predetermined control signal REN. When the normal row decoder 220 is enabled, the decoded address signal DRA is decoded, and a specific word line (not shown) of the main memory cell array 210 is selected and activated.
상기 리페어 장치(250)는 리던던시 메모리 셀 어레이(251), 리던던시 로우 디코더(252), 및 리페어 제어회로(253)를 포함한다. 상기 리페어 제어회로(253)는 웨이퍼 리페어 정보 발생부(261), 퓨즈 박스(262), 제어부(263), 및 비교부(264)를 포함한다. 상기 리던던시 로우 디코더(252)는 상기 제어신호(REN)에 응답하여 인에이블되거나 또는 디세이블된다. 여기에서, 상기 리던던시 로우 디코더(252)가 인에이블될 때, 상기 노말 로우 디코더(220)는 디세이블된다.The repair device 250 includes a redundancy memory cell array 251, a redundancy row decoder 252, and a repair control circuit 253. The repair control circuit 253 includes a wafer repair information generator 261, a fuse box 262, a controller 263, and a comparator 264. The redundancy row decoder 252 is enabled or disabled in response to the control signal REN. Here, when the redundancy row decoder 252 is enabled, the normal row decoder 220 is disabled.
상기 리던던시 로우 디코더(252)가 인에이블되면, 상기 리던던시 메모리 셀 어레이(251)의 특정 워드 라인(미도시)을 선택하여 활성화시킨다. 그 결과, 상기 메인 메모리 셀 어레이(210)의 결함 셀을 포함하는 워드 라인이 상기 리던던시 메모리 셀 어레이(251)의 상기 특정 워드 라인으로 대체된다.When the redundancy row decoder 252 is enabled, a specific word line (not shown) of the redundancy memory cell array 251 is selected and activated. As a result, the word line including the defective cell of the main memory cell array 210 is replaced with the specific word line of the redundancy memory cell array 251.
상기 웨이퍼 리페어 정보 발생부(261)는 웨이퍼 상태의 테스트 과정에서 검출된 결함 셀(이하, 제1 결함 셀이라 함)의 어드레스 신호가 상기 비교부(264)에 프로그램되었는지의 여부를 나타내는 웨이퍼 리페어 신호(WRP)를 출력한다. 예를 들면, 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 상기 비교부(264)에 프로그램된 경우 상기 웨이퍼 리페어 정보 발생부(261)는 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)를 인에이블시킨다. 또, 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 상기 비교부(264)에 프로그램되지 않은 경우 상기 웨이퍼 리페어 정보 발생부(261)는 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)를 디세이블시킨다.The wafer repair information generation unit 261 is a wafer repair signal indicating whether or not an address signal of a defect cell (hereinafter, referred to as a first defect cell) detected in a test process of a wafer state is programmed in the comparison unit 264. Output (WRP) For example, when an address signal of the first defective cell is programmed in the comparison unit 264, the wafer repair information generation unit 261 enables the wafer repair signal WRP. In addition, when the address signal of the first defective cell is not programmed in the comparison unit 264, the wafer repair information generation unit 261 disables the wafer repair signal WRP.
상기 퓨즈 박스(262)는 복수의 퓨즈들(미도시)을 포함하고, 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출된 결함 셀(이하, 제2 결함 셀이라 함)의 어드레스 신호가 미리 프로그램된다. 여기에서, 상기 제2 결함 셀에 대한 어드레스 신호의 프로그램은 상기 복수의 퓨즈들이 선택적으로 절단됨으로써 이루어진다. 상기 퓨즈 박스(262)에 포함되는 상기 복수의 퓨즈들은 레이저빔에 의해 절단되는 레이저 퓨즈 또는 전기적으로 절단되는 전기적 퓨즈로 구현될 수 있다.The fuse box 262 includes a plurality of fuses (not shown), and an address signal of a defective cell (hereinafter, referred to as a second defective cell) detected in the post package test process is preprogrammed. Here, the program of the address signal for the second defective cell is made by selectively cutting the plurality of fuses. The plurality of fuses included in the fuse box 262 may be implemented as a laser fuse cut by a laser beam or an electrical fuse cut electrically.
상기 퓨즈 박스(262)에 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)가 미리 프로그램된 경우, 상기 퓨즈 박스(262)는 상기 리페어 장치(250)의 리페어 동작시 인에이블된다. 상기 퓨즈 박스(262)는 프로그램된 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)를 상기 리페어 장치(250)의 리페어 동작 동안 계속 출력한다. 반대로, 상기 퓨즈 박스(262)에 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)가 미리 프로그램되지 않은 경우, 상기 퓨즈 박스(262)는 상기 리페어 장치(250)의 리페어 동작시 디세이블된다.When the address signal PRA of the second defective cell is programmed in the fuse box 262, the fuse box 262 is enabled during the repair operation of the repair apparatus 250. The fuse box 262 continuously outputs the programmed address signal PRA of the second defective cell during the repair operation of the repair apparatus 250. In contrast, when the address signal PRA of the second defective cell is not programmed in the fuse box 262, the fuse box 262 is disabled during the repair operation of the repair apparatus 250.
상기 제어부(263)는 상기 웨이퍼 리페어 정보 발생부(261)로부터 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)를 수신하고, 상기 퓨즈 박스(262)로부터 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)를 수신한다. 여기에서, 상기 퓨즈 박스(262)에 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)가 프로그램되지 않은 경우, 상기 제어부(263)는 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)만을 수신한다.The controller 263 receives the wafer repair signal WRP from the wafer repair information generator 261, and receives an address signal PRA of the second defective cell from the fuse box 262. Here, when the address signal PRA of the second defective cell is not programmed in the fuse box 262, the controller 263 receives only the wafer repair signal WRP.
상기 제어부(263)는 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)와 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)에 응답하여, 상기 리페어 장치(250)의 동작 모드를 결정하는 복수의 모드 결정 신호들(B1∼Bi)과 리페어 인에이블 신호(S)를 출력한다. 즉, 상기 복수의 모드 결정 신호들(B1∼Bi)과 상기 리페어 인에이블 신호(S)에 의해 상기 리페어 장치(250)가 상기 제1 결함 셀을 리페어하도록 동작하거나 또는 상기 제2 결함 셀을 리페어하도록 동작한다. 여기에서, 상기 리페어 장치(250)는 상기 제1 결함 셀과 상기 제2 결함 셀 중 어느 하나만을 리페어 하도록 동작한다.The controller 263 may determine a plurality of mode determination signals B1 ˜, which determine an operation mode of the repair apparatus 250 in response to the wafer repair signal WRP and the address signal PRA of the second defective cell. Bi) and the repair enable signal S are output. That is, the repair apparatus 250 operates to repair the first defective cell or repairs the second defective cell by the plurality of mode determination signals B1 to Bi and the repair enable signal S. FIG. To work. Here, the repair apparatus 250 operates to repair only one of the first defective cell and the second defective cell.
상기 비교부(264)는 상기 로우 프리디코더(240)로부터 상기 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA)를 수신한다. 상기 모드 결정 신호들(B1∼Bi)과 상기 리페어 인에이블 신호(S)에 응답하여 상기 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA)와의 비교 대상으로서, 상기 비교부(264)에 프로그램된 결함 셀의 어드레스 신호가 결정된다. 즉, 상기 모드 결정 신호들(B1∼Bi)과 상기 리페어 인에이블 신호(S)에 따라 상기 비교부(264)에 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 상태로 되거나 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)가 프로그램된 상태로 된다. 이와 관련된 상기 비교부(264)의 구성 및 구체적인 동작은 도 4를 참고하여 좀 더 상세히 후술된다. 상기 비교부(264)는 상기 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA)를 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)와 비교하고, 그 비교 결과로서 상기 제어신호(REN)를 출력한다.The comparator 264 receives the decoded row address signal DRA from the row predecoder 240. An address signal of a defective cell programmed in the comparator 264 as a comparison target between the mode determination signals B1 to Bi and the decoded row address signal DRA in response to the repair enable signal S. FIG. Is determined. That is, according to the mode determination signals B1 to Bi and the repair enable signal S, the address signal of the first defective cell is programmed in the comparing unit 264 or the second defective cell is programmed. The address signal PRA is programmed. The configuration and specific operation of the comparison unit 264 related to this will be described later in more detail with reference to FIG. 4. The comparison unit 264 compares the decoded row address signal DRA with an address signal of the first defective cell or an address signal PRA of the second defective cell, and as a result of the comparison, the control signal REN. )
다음으로, 상기와 같이 구성된 본 발명의 일실시예에 따른 리페어 장치(250)의 동작을 설명하면 다음과 같다.Next, the operation of the repair apparatus 250 according to an embodiment of the present invention configured as described above is as follows.
먼저, 상기 비교부(264)에 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 미리 프로그램된 경우, 상기 웨이퍼 리페어 정보 발생부(261)는 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)를 인에이블시킨다. 이 때, 상기 퓨즈 박스(262)는 디세이블 상태이다. 상기 제어부(263)는 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)에 응답하여 상기 모드 결정 신호들(B1∼Bi)을 인에이블시키고, 상기 리페어 인에이블 신호(S)를 디세이블시킨다. 상기 비교부(264)는 상기 모드 결정 신호들(B∼Bi)과 상기 리페어 인에이블 신호(S)에 응답하여 상기 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA)를 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호와 비교하고, 그 비교 결과로서 상기 제어신호(REN)를 출력한다. 상기 비교부(264)는 상기 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA)와 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 동일할 때 상기 제어신호(REN)를 인에이블시키고, 다를 때 상기 제어신호(REN)를 디세이블시킨다.First, when the address signal of the first defective cell is programmed in the comparator 264, the wafer repair information generator 261 enables the wafer repair signal WRP. At this time, the fuse box 262 is in a disabled state. The controller 263 enables the mode determination signals B1 to Bi in response to the wafer repair signal WRP, and disables the repair enable signal S. FIG. The comparison unit 264 compares the decoded row address signal DRA with an address signal of the first defective cell in response to the mode determination signals Bi to Bi and the repair enable signal S. The control signal REN is output as a result of the comparison. The comparator 264 enables the control signal REN when the decoded row address signal DRA and the address signal of the first defective cell are the same, and decodes the control signal REN when they are different. Enable it.
상기 제어신호(REN)가 인에이블될 때, 상기 리던던시 로우 디코더(252)가 인에이블되고 상기 노말 로우 디코더(220)는 디세이블된다. 상기 리던던시 로우 디코더(252)는 상기 리던던시 메모리 셀 어레이(251)의 워드 라인을 선택하여 활성화시킨다. 그 결과, 상기 메인 메모리 셀 어레이(210)의 결함 셀을 포함하는 워드 라인이 상기 리던던시 메모리 셀 어레이(251)의 워드 라인으로 대체된다.When the control signal REN is enabled, the redundancy row decoder 252 is enabled and the normal row decoder 220 is disabled. The redundancy row decoder 252 selects and activates a word line of the redundancy memory cell array 251. As a result, the word line including the defective cell of the main memory cell array 210 is replaced with the word line of the redundancy memory cell array 251.
또, 상기 제어신호(REN)가 디세이블될 때, 상기 리던던시 로우 디코더(252)는 디세이블되고 상기 노말 로우 디코더(220)가 인에이블된다. 그 결과, 상기 메인 메모리 셀 어레이(110)가 정상적으로 동작한다.In addition, when the control signal REN is disabled, the redundancy row decoder 252 is disabled and the normal row decoder 220 is enabled. As a result, the main memory cell array 110 operates normally.
한편, 상기 비교부(264)에 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 미리 프로그램되지 않은 경우, 상기 웨이퍼 리페어 정보 발생부(261)는 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)를 디세이블시킨다. 이 때, 상기 퓨즈 박스(262)에는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)가 미리 프로그램된 상태이다. 상기 퓨즈 박스(262)는 상기 리페어 장치(250)의 리페어 동작 동안 인에이블 상태를 유지하고, 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)를 출력한다. 상기 제어부(263)는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)와 상기 웨이퍼 리페어 신호(WRP)에 응답하여, 상기 모드 결정 신호들(B1∼Bi)을 부분적으로 인에이블시키고, 상기 리페어 인에이블 신호(S)를 디세이블시킨다. 비교부(264)는 상기 모드 결정 신호들(B∼Bi)과 상기 리페어 인에이블 신호(S)에 응답하여 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)가 프로그램된 상태로 된다. 상기 비교부(264)는 상기 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA)를 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호(PRA)와 비교하고, 그 비교 결과로서 상기 제어신호(REN)를 출력한다. 이 후의 동작은 상술한 것과 동일하므로 생략된다.On the other hand, when the address signal of the first defective cell is not programmed in the comparator 264, the wafer repair information generator 261 disables the wafer repair signal WRP. At this time, an address signal PRA of the second defective cell is programmed in the fuse box 262 in advance. The fuse box 262 maintains an enabled state during the repair operation of the repair apparatus 250 and outputs an address signal PRA of the second defective cell. The controller 263 partially enables the mode determination signals B1 to Bi in response to the address signal PRA and the wafer repair signal WRP of the second defective cell, and enables the repair. Disable signal S. The comparator 264 is configured to program the address signal PRA of the second defective cell in response to the mode determination signals Bi to Bi and the repair enable signal S. FIG. The comparison unit 264 compares the decoded row address signal DRA with the address signal PRA of the second defective cell, and outputs the control signal REN as a result of the comparison. The subsequent operation is the same as that described above, and thus will be omitted.
다음으로, 상기 비교부(264)의 구성 및 구체적인 동작을 도 4를 참고하여 설명한다. 도 4는 도 3에 도시된 비교부(264)를 상세히 나타내는 회로도이다.Next, a configuration and detailed operation of the comparison unit 264 will be described with reference to FIG. 4. 4 is a circuit diagram illustrating in detail the comparison unit 264 shown in FIG. 3.
도 4와 같이, 상기 비교부(264)는 어드레스 비교회로(270)와 논리 회로(280)를 포함한다. 상기 어드레스 비교회로(270)는 복수의 트랜지스터들(T1∼T29)과 복수의 퓨즈들(F1∼F24)을 포함한다. 상기 복수의 퓨즈들(F∼F24)은 레이저빔에 의해 절단되는 레이저 퓨즈 또는 전기적으로 절단되는 전기적 퓨즈로 구현될 수 있다. 상기 트랜지스터들(T1∼T24)은 모드 결정 신호들(B1∼B24)에 응답하여 턴 온 또는 턴 오프된다. 상기 트랜지스터들(T25∼T29)은 상기 리페어 인에이블 신호(S)에 응답하여 턴 온 또는 턴 오프된다. 도 4에서 상기 어드레스 비교회로(270)가 상기 트랜지스터들(T1∼T29)과 상기 퓨즈들(F1∼F24)을 포함하는 것이 일례로서 도시되었지만, 상기 어드레스 비교회로(270)는 필요에 따라 추가의 트랜지스터들 및 퓨즈들을 더 포함할 수 있다. 이 때, 상기 어드레스 비교회로(270)는 추가되는 퓨즈의 수와 동일한 수의 모드 결정 신호를 더 수신한다. 또, 상기 어드레스 비교회로(270)는 추가의 디코딩된 어드레스 신호(DRA)를 더 수신한다.As shown in FIG. 4, the comparison unit 264 includes an address comparison circuit 270 and a logic circuit 280. The address comparison circuit 270 includes a plurality of transistors T1 to T29 and a plurality of fuses F1 to F24. The plurality of fuses F to F24 may be implemented as a laser fuse cut by a laser beam or an electrical fuse cut electrically. The transistors T1 to T24 are turned on or turned off in response to the mode determination signals B1 to B24. The transistors T25 to T29 are turned on or turned off in response to the repair enable signal S. In FIG. 4, the address comparison circuit 270 includes the transistors T1 to T29 and the fuses F1 to F24 as an example. However, the address comparison circuit 270 may be further configured as necessary. It may further include transistors and fuses. At this time, the address comparison circuit 270 further receives the same number of mode determination signals as the number of fuses to be added. The address comparison circuit 270 further receives an additional decoded address signal DRA.
상기 트랜지스터들(T1∼T8)의 드레인들은 노드(ND1)에 연결되고, 소스들은 상기 퓨즈들(F1∼F8)을 통하여 노드(ND2)에 연결된다. 또, 상기 트랜지스터들(T1~T8)의 게이트에는 상기 모드 결정 신호들(B1∼B8)이 입력된다. 상기 트랜지스터들(T1∼T8)은 상기 모드 결정 신호들(B1∼B8)에 응답하여 턴 온되거나 또는 턴 오프된다. 상기 퓨즈들(F1∼F8)은 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호를 나타낼 수 있도록 선택적으로 미리 절단(cut)된다. 이 경우, 상기 모드 결정 신호들(B1∼B8)은 모두 인에이블된다.Drains of the transistors T1 to T8 are connected to the node ND1, and sources are connected to the node ND2 through the fuses F1 to F8. In addition, the mode determination signals B1 to B8 are input to gates of the transistors T1 to T8. The transistors T1 to T8 are turned on or turned off in response to the mode determination signals B1 to B8. The fuses F1 to F8 are selectively cut in advance so as to indicate an address signal of the first defective cell. In this case, all of the mode determination signals B1 to B8 are enabled.
또, 상기 퓨즈들(F1∼F8)이 모두 절단되지 않은 경우, 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호에 대응하여 부분적으로 인에이블되는 상기 모드 결정 신호들(B1∼B8)에 응답하여 상기 트랜지스터들(T1∼T8) 중 일부가 턴 온된다. 그 결과, 상기 트랜지스터들(T1∼T8)과 상기 퓨즈들(F1∼F8)에 제2 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 것과 동일한 효과가 얻어진다.In addition, when all of the fuses F1 to F8 are not blown, the transistors in response to the mode determination signals B1 to B8 which are partially enabled in response to the address signal of the second defective cell. Some of T1 to T8) are turned on. As a result, the same effect as that in which the address signal of the second defective cell is programmed in the transistors T1 to T8 and the fuses F1 to F8 is obtained.
상기 트랜지스터들(T1∼T8)은 상기 노드(ND1)를 통하여 수신되는 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA234)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치할 때, 상기 노드(ND2)로 하이 레벨의 내부신호(FRA234)를 출력한다. 또, 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA234)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치하지 않을 때, 상기 트랜지스터들(T1∼T8)은 로우 레벨의 상기 내부신호(FRA234)를 출력한다.The transistors T1 to T8 are connected to the node ND2 when the decoded row address signal DRA234 received through the node ND1 matches the address signal of the first or second defective cell. Outputs the high level internal signal FRA234. Also, when the decoded row address signal DRA234 does not match the address signal of the first or second defective cell, the transistors T1 to T8 output the low level internal signal FRA234. .
상기 트랜지스터들(T9∼T12)의 드레인들은 노드(ND3)에 연결되고, 소스들은 상기 퓨즈들(F9∼F12)을 통하여 노드(ND4)에 연결된다. 또, 상기 트랜지스터들(T9~T12)의 게이트에는 상기 모드 결정 신호들(B9∼B12)이 입력된다. 상기 트랜지스터들(T9∼T12)은 상기 모드 결정 신호들(B9∼B12)에 응답하여 턴 온되거나 또는 턴 오프된다. 상기 퓨즈들(F9∼F12)은 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호를 나타낼 수 있도록 선택적으로 미리 절단된다. 이 경우, 상기 모드 결정 신호들(B9∼B12)은 모두 인에이블된다.Drains of the transistors T9 to T12 are connected to the node ND3, and sources are connected to the node ND4 through the fuses F9 to F12. In addition, the mode determination signals B9 to B12 are input to gates of the transistors T9 to T12. The transistors T9 to T12 are turned on or turned off in response to the mode determination signals B9 to B12. The fuses F9 to F12 are selectively cut in advance so as to indicate an address signal of the first defective cell. In this case, all of the mode determination signals B9 to B12 are enabled.
또, 상기 퓨즈들(F9∼F12)이 모두 절단되지 않은 경우, 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호에 대응하여 부분적으로 인에이블되는 상기 모드 결정 신호들(B9∼B12)에 응답하여 상기 트랜지스터들(T9∼T12) 중 일부가 턴 온된다. 그 결과, 상기 트랜지스터들(T9∼T12)과 상기 퓨즈들(F9∼F12)에 제2 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 것과 동일한 효과가 얻어진다.In addition, when all of the fuses F9 to F12 are not blown, the transistors in response to the mode determination signals B9 to B12 that are partially enabled in response to the address signal of the second defective cell. Some of T9 to T12) are turned on. As a result, the same effect as that in which the address signal of the second defective cell is programmed in the transistors T9 to T12 and the fuses F9 to F12 is obtained.
상기 트랜지스터들(T9∼T12)은 상기 노드(ND3)를 통하여 수신되는 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA56)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치할 때, 상기 노드(ND4)로 하이 레벨의 내부신호(FRA56)를 출력한다. 또, 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA56)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치하지 않을 때, 상기 트랜지스터들(T9∼T12)은 로우 레벨의 상기 내부신호(FRA56)를 출력한다.The transistors T9 to T12 are connected to the node ND4 when the decoded row address signal DRA56 received through the node ND3 matches an address signal of the first or second defective cell. Outputs the high level internal signal FRA56. When the decoded row address signal DRA56 does not match the address signal of the first or second defective cell, the transistors T9 to T12 output the low level internal signal FRA56. .
상기 트랜지스터들(T13∼T16)의 드레인들은 노드(ND5)에 연결되고, 소스들은 상기 퓨즈들(F13∼F16)을 통하여 노드(ND6)에 연결된다. 또, 상기 트랜지스터들(T13~T16)의 게이트에는 상기 모드 결정 신호들(B13∼B16)이 입력된다. 상기 트랜지스터들(T13∼T16)은 상기 모드 결정 신호들(B13∼B16)에 응답하여 턴 온되거나 또는 턴 오프된다. 상기 퓨즈들(F13∼F16)은 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호를 나타낼 수 있도록 선택적으로 미리 절단된다. 이 경우, 상기 모드 결정 신호들(B13∼B16)은 모두 인에이블된다.Drains of the transistors T13 to T16 are connected to the node ND5, and sources are connected to the node ND6 through the fuses F13 to F16. In addition, the mode determination signals B13 to B16 are input to gates of the transistors T13 to T16. The transistors T13 to T16 are turned on or turned off in response to the mode determination signals B13 to B16. The fuses F13 to F16 are selectively cut in advance so as to indicate an address signal of the first defective cell. In this case, all of the mode determination signals B13 to B16 are enabled.
또, 상기 퓨즈들(F13∼F16)이 모두 절단되지 않은 경우, 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호에 대응하여 부분적으로 인에이블되는 상기 모드 결정 신호들(B13∼B16)에 응답하여 상기 트랜지스터들(T13∼T16) 중 일부가 턴 온된다. 그 결과, 상기 트랜지스터들(T13∼T16)과 상기 퓨즈들(F13∼F16)에 제2 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 것과 동일한 효과가 얻어진다.In addition, when all of the fuses F13 to F16 are not blown, the transistors in response to the mode determination signals B13 to B16 that are partially enabled in response to the address signal of the second defective cell. Some of T13 to T16) are turned on. As a result, the same effect as that in which the address signal of the second defective cell is programmed in the transistors T13 to T16 and the fuses F13 to F16 is obtained.
상기 트랜지스터들(T13∼T16)은 상기 노드(ND5)를 통하여 수신되는 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA78)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치할 때, 상기 노드(ND6)로 하이 레벨의 내부신호(FRA78)를 출력한다. 또, 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA78)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치하지 않을 때, 상기 트랜지스터들(T13∼T16)은 로우 레벨의 상기 내부신호(FRA78)를 출력한다.The transistors T13 to T16 are connected to the node ND6 when the decoded row address signal DRA78 received through the node ND5 matches the address signal of the first or second defective cell. Outputs the high level internal signal FRA78. Also, when the decoded row address signal DRA78 does not match the address signal of the first or second defective cell, the transistors T13 to T16 output the low level internal signal FRA78. .
상기 트랜지스터들(T17∼T20)의 드레인들은 노드(ND7)에 연결되고, 소스들은 상기 퓨즈들(F17∼F20)을 통하여 노드(ND8)에 연결된다. 또, 상기 트랜지스터들(T17~T20)의 게이트에는 상기 모드 결정 신호들(B17∼B20)이 입력된다. 상기 트랜지스터들(T17∼T20)은 상기 모드 결정 신호들(B17∼B20)에 응답하여 턴 온되거나 또는 턴 오프된다. 상기 퓨즈들(F17∼F20)은 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호를 나타낼 수 있도록 선택적으로 미리 절단된다. 이 경우, 상기 모드 결정 신호들(B17∼B20)은 모두 인에이블된다.Drains of the transistors T17 to T20 are connected to the node ND7, and sources are connected to the node ND8 through the fuses F17 to F20. In addition, the mode determination signals B17 to B20 are input to the gates of the transistors T17 to T20. The transistors T17 to T20 are turned on or turned off in response to the mode determination signals B17 to B20. The fuses F17 to F20 are selectively cut in advance so as to indicate an address signal of the first defective cell. In this case, all of the mode determination signals B17 to B20 are enabled.
또, 상기 퓨즈들(F17∼F20)이 모두 절단되지 않은 경우, 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호에 대응하여 부분적으로 인에이블되는 상기 모드 결정 신호들(B17∼B20)에 응답하여 상기 트랜지스터들(T17∼T20) 중 일부가 턴 온된다. 그 결과, 상기 트랜지스터들(T17∼T20)과 상기 퓨즈들(F17∼F20)에 제2 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 것과 동일한 효과가 얻어진다.In addition, when all of the fuses F17 to F20 are not blown, the transistors in response to the mode determination signals B17 to B20 that are partially enabled in response to the address signal of the second defective cell. Some of T17-T20) turn on. As a result, the same effect as that in which the address signal of the second defective cell is programmed in the transistors T17 to T20 and the fuses F17 to F20 is obtained.
상기 트랜지스터들(T17∼T20)은 상기 노드(ND7)를 통하여 수신되는 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA910)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치할 때, 상기 노드(ND8)로 하이 레벨의 내부신호(FRA910)를 출력한다. 또, 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA910)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치하지 않을 때, 상기 트랜지스터들(T17∼T20)은 로우 레벨의 상기 내부신호(FRA910)를 출력한다.The transistors T17 to T20 are connected to the node ND8 when the decoded row address signal DRA910 received through the node ND7 matches the address signal of the first or second defective cell. The high level internal signal FRA910 is output. Also, when the decoded row address signal DRA910 does not match the address signal of the first or second defective cell, the transistors T17 to T20 output the low level internal signal FRA910. .
상기 트랜지스터들(T21∼T24)의 드레인들은 노드(ND9)에 연결되고, 소스들은 상기 퓨즈들(F21∼F24)을 통하여 노드(ND10)에 연결된다. 또, 상기 트랜지스터들(T21~T24)의 게이트에는 상기 모드 결정 신호들(B21∼B24)이 입력된다. 상기 트랜지스터들(T21∼T24)은 상기 모드 결정 신호들(B21∼B24)에 응답하여 턴 온되거나 또는 턴 오프된다. 상기 퓨즈들(F21∼F24)은 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호를 나타낼 수 있도록 선택적으로 미리 절단된다. 이 경우, 상기 모드 결정 신호들(B21∼B24)은 모두 인에이블된다.Drains of the transistors T21 to T24 are connected to a node ND9, and sources are connected to the node ND10 through the fuses F21 to F24. In addition, the mode determination signals B21 to B24 are input to gates of the transistors T21 to T24. The transistors T21 to T24 are turned on or turned off in response to the mode determination signals B21 to B24. The fuses F21 to F24 are selectively cut in advance so as to indicate an address signal of the first defective cell. In this case, all of the mode determination signals B21 to B24 are enabled.
또, 상기 퓨즈들(F21∼F24)이 모두 절단되지 않은 경우, 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호에 대응하여 부분적으로 인에이블되는 상기 모드 결정 신호들(B21∼B24)에 응답하여 상기 트랜지스터들(T21∼T24) 중 일부가 턴 온된다. 그 결과, 상기 트랜지스터들(T21∼T24)과 상기 퓨즈들(F21∼F24)에 제2 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 것과 동일한 효과가 얻어진다.In addition, when all of the fuses F21 to F24 are not blown, the transistors in response to the mode determination signals B21 to B24 that are partially enabled in response to the address signal of the second defective cell. Some of T21 to T24) are turned on. As a result, the same effect as that in which the address signal of the second defective cell is programmed in the transistors T21 to T24 and the fuses F21 to F24 is obtained.
상기 트랜지스터들(T21∼T24)은 상기 노드(ND9)를 통하여 수신되는 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA1112)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치할 때, 상기 노드(ND10)로 하이 레벨의 내부신호(FRA1112)를 출력한다. 또, 디코딩된 로우 어드레스 신호(DRA1112)가 상기 제1 또는 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 일치하지 않을 때, 상기 트랜지스터들(T21∼T24)은 로우 레벨의 상기 내부신호(FRA1112)를 출력한다.The transistors T21 to T24 are connected to the node ND10 when the decoded row address signal DRA1112 received through the node ND9 matches the address signal of the first or second defective cell. Output the high level internal signal FRA1112. Further, when the decoded row address signal DRA1112 does not match the address signal of the first or second defective cell, the transistors T21 to T24 output the low level internal signal FRA1112. .
또, 상기 트랜지스터들(T25∼T29)의 드레인들은 상기 노드들(ND2, ND4, ND6, ND8, ND10)에 연결되고, 소스들은 그라운드 전압에 연결된다. 또, 상기 트랜지스터들(T25∼T29)의 게이트에는 상기 리페어 인에이블 신호(S)가 입력된다. 상기 트랜지스터들(T25∼T29)은 상기 리페어 인에이블 신호(S)에 응답하여 턴 온되거나 또는 턴 오프된다. 상기 리페어 인에이블 신호(S)는 상기 리페어 장치(250)가 리페어 동작을 수행할 때 디세이블되고, 상기 리페어 장치(250)가 리페어 동작을 수행하지 않을 때 인에이블된다. 또, 상기 리페어 인에이블 신호(S)가 인에이블될 때 상기 모드 결정 신호들(B1∼B24)은 모두 디세이블된다.In addition, drains of the transistors T25 to T29 are connected to the nodes ND2, ND4, ND6, ND8, and ND10, and sources are connected to a ground voltage. The repair enable signal S is input to the gates of the transistors T25 to T29. The transistors T25 to T29 are turned on or turned off in response to the repair enable signal S. The repair enable signal S is disabled when the repair device 250 performs a repair operation, and is enabled when the repair device 250 does not perform a repair operation. In addition, when the repair enable signal S is enabled, the mode determination signals B1 to B24 are all disabled.
또, 상기 논리 회로(280)는 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910, FRA1112)에 응답하여 상기 제어신호(REN)를 출력한다. 상기 논리 회로(280)는 NAND 게이트들(281, 282)과 NOR 게이트(283)로 구현될 수 있다. 상기 NAND 게이트(281)는 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78)을 논리 연산하고 그 결과를 출력한다. 상기 NAND 게이트(282)는 상기 내부신호들(FRA910, FRA1112)을 논리 연산하고 그 결과를 출력한다. 상기 NOR 게이트(283)는 상기 NAND 게이트들(281, 282)의 출력 신호들에 응답하여 상기 제어신호(REN)를 출력한다. 또, 상기 어드레스 비교회로(270)가 추가의 트랜지스터들 및 퓨즈들을 더 포함할 때, 상기 논리 회로(280)는 추가의 NAND 게이트들 및 NOR 게이트들을 더 포함할 수 있다.In addition, the logic circuit 280 outputs the control signal REN in response to the internal signals FRA234, FRA56, FRA78, FRA910, and FRA1112. The logic circuit 280 may be implemented with NAND gates 281 and 282 and a NOR gate 283. The NAND gate 281 logically operates the internal signals FRA234, FRA56, and FRA78 and outputs the result. The NAND gate 282 logically operates the internal signals FRA910 and FRA1112 and outputs the result. The NOR gate 283 outputs the control signal REN in response to the output signals of the NAND gates 281 and 282. In addition, when the address comparison circuit 270 further includes additional transistors and fuses, the logic circuit 280 may further include additional NAND gates and NOR gates.
상기와 같이 구성된 비교부(264)의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the comparator 264 configured as described above is as follows.
먼저, 상기 어드레스 비교회로(270)의 상기 퓨즈들(F1∼F24)에 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 경우를 설명한다. 이 경우, 상기 모드 결정 신호들(B1∼B24)은 모두 인에이블되고, 상기 리페어 인에이블 신호(S)는 디세이블된다.First, the case where the address signal of the first defective cell is programmed in the fuses F1 to F24 of the address comparison circuit 270 will be described. In this case, all of the mode determination signals B1 to B24 are enabled, and the repair enable signal S is disabled.
예를 들어, DRA234<000>, DRA56<01>, DRA78<01>, DRA910<10>, DRA1112<10>인 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호에 대하여, 상기 퓨즈들(F1∼F24)은 다음과 같이 절단된다.For example, for the address signal of the first defective cell that is DRA234 <000>, DRA56 <01>, DRA78 <01>, DRA910 <10>, and DRA1112 <10>, the fuses F1 to F24 are next. Is cut as follows.
먼저, 상기 DRA234가 <000>이므로 상기 퓨즈(F1)를 제외한 상기 퓨즈들(F2∼F8)이 절단된다. 또, 상기 DRA56이 <01>이므로 상기 퓨즈(F10)를 제외한 상기 퓨즈들(F9, F11, F12)이 절단된다. 다음으로, 상기 DRA78이 <01>이므로 상기 퓨즈(F14)를 제외한 퓨즈들(F13, F15, F16)이 절단된다. 또, 상기 DRA910이 <10>이므로 상기 퓨즈(F19)를 제외한 퓨즈들(F17, F18, F20)이 절단된다. 또, 상기 DRA1112이 <10>이므로 상기 퓨즈(F23)를 제외한 퓨즈들(F21, F22, F24)이 절단된다. 상기 모드 결정 신호들(B1∼B24)은 모두 인에이블 상태이므로, 상기 트랜지스터들(T1∼T24)은 모두 턴 온된다. 입력되는 디코딩된 어드레스 신호들(DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, DRA1112)이 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호와 동일할 때, 상기 트랜지스터들(T1, T10, T14, T19, T23)은 하이 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)을 출력한다. 또, 입력되는 상기 디코딩된 어드레스 신호들(DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, DRA1112)이 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호와 동일하지 않을 때, 상기 트랜지스터들(T1, T10, T14, T19, T23)은 로우 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)을 출력한다First, since the DRA234 is <000>, the fuses F2 to F8 except the fuse F1 are cut. In addition, since the DRA56 is the fuses F9, F11, and F12 except the fuse F10, the fuses F9, F11, and F12 are cut. Next, since the DRA78 is a fuse (F13, F15, F16) other than the fuse (F14) is cut. In addition, since the DRA910 is <10>, the fuses F17, F18, and F20 except the fuse F19 are cut. In addition, since the DRA1112 is <10>, the fuses F21, F22, and F24 except the fuse F23 are cut. Since all of the mode determination signals B1 to B24 are enabled, all of the transistors T1 to T24 are turned on. When the input decoded address signals DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, and DRA1112 are the same as the address signal of the first defective cell, the transistors T1, T10, T14, T19, and T23 have a high level. The internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 are output. Further, when the decoded address signals DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, and DRA1112 that are input are not the same as the address signal of the first defective cell, the transistors T1, T10, T14, T19, and T23. Outputs the internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 at a low level.
상기 논리 회로(280)는 하이 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)에 응답하여 상기 제어신호(REN)를 인에이블시킨다. 또, 상기 논리 회로(280)는 로우 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)에 응답하여 상기 제어신호(REN)를 디세이블시킨다.The logic circuit 280 enables the control signal REN in response to the internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 at a high level. In addition, the logic circuit 280 disables the control signal REN in response to the internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 at a low level.
다음으로, 상기 퓨즈들(F1∼F24)에 상기 제1 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램되지 않은 경우, 즉, 상기 퓨즈들(F1∼F24)이 모두 절단되지 않은 경우를 설명한다. 이 경우, 상기 모드 결정 신호들(B1∼B24)에 의해, 퓨즈 박스(도 3의 262참고)에 프로그램된 제2 결함 셀의 어드레스 신호가 상기 어드레스 비교회로(270)에 프로그램된 것과 동일한 상태로 된다. 이 때, 상기 모드 결정 신호들(B1∼B24) 중 일부만이 인에이블되고, 상기 리페어 인에이블 신호(S)는 디세이블된다. 이를 좀 더 상세히 설명하면, 예를 들어, DRA234<000>, DRA56<01>, DRA78<01>, DRA910<10>, DRA1112<10>인 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호에 대하여, 제어부(도 3의 263참고)는 상기 모드 결정 신호들(B1, B10, B14, B19, B23)을 인에이블시키고, 나머지 모드 결정 신호들(B2∼B9, B11∼B13, B15∼B18, B21, B22, B24)을 디세이블시킨다.Next, the case where the address signals of the first defective cells are not programmed in the fuses F1 to F24, that is, the fuses F1 to F24 are not all cut off. In this case, the mode determination signals B1 to B24 cause the address signal of the second defective cell programmed in the fuse box (see 262 in FIG. 3) to be the same as that programmed in the address comparison circuit 270. do. At this time, only some of the mode determination signals B1 to B24 are enabled, and the repair enable signal S is disabled. In more detail, for example, for the address signals of the second defective cells DRA234 <000>, DRA56 <01>, DRA78 <01>, DRA910 <10>, and DRA1112 <10>, the control unit (FIG. 3, reference 263) enables the mode determination signals B1, B10, B14, B19, and B23, and the remaining mode determination signals B2 to B9, B11 to B13, B15 to B18, B21, B22, and B24. Disable).
상기 모드 결정 신호들(B1, B10, B14, B19, B23)에 응답하여 상기 트랜지스터들(T1, T10, T14, T19, T23)이 턴 온된다. 또, 모드 결정 신호들(B2∼B9, B11∼B13, B15∼B18, B21, B22, B24)에 응답하여 상기 트랜지스터들(T2∼T9, T11∼T13, T15∼T18, T21, T22, T24)이 턴 오프된다. 그 결과, 상기 어드레스 비교회로(270)에 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램된 것과 동일한 효과가 얻어진다.The transistors T1, T10, T14, T19, and T23 are turned on in response to the mode determination signals B1, B10, B14, B19, and B23. In addition, the transistors T2 to T9, T11 to T13, T15 to T18, T21, T22, and T24 in response to mode decision signals B2 to B9, B11 to B13, B15 to B18, B21, B22, and B24. Is turned off. As a result, the same effect as that in which the address signal of the second defective cell is programmed in the address comparison circuit 270 is obtained.
입력되는 디코딩된 어드레스 신호들(DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, DRA1112)이 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 동일할 때, 상기 트랜지스터들(T1, T10, T14, T19, T23)은 하이 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)을 출력한다. 또, 입력되는 상기 디코딩된 어드레스 신호들(DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, DRA1112)이 상기 제2 결함 셀의 어드레스 신호와 동일하지 않을 때, 상기 트랜지스터들(T1, T10, T14, T19, T23)은 로우 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)을 출력한다When the input decoded address signals DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, and DRA1112 are the same as the address signal of the second defective cell, the transistors T1, T10, T14, T19, and T23 are at a high level. The internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 are output. Further, when the decoded address signals DRA234, DRA56, DRA78, DRA910, and DRA1112 that are input are not the same as the address signal of the second defective cell, the transistors T1, T10, T14, T19, and T23. Outputs the internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 at a low level.
상기 논리 회로(280)는 하이 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)에 응답하여 상기 제어신호(REN)를 인에이블시킨다. 또, 상기 논리 회로(280)는 로우 레벨의 상기 내부신호들(FRA234, FRA56, FRA78, FRA910 FRA1112)에 응답하여 상기 제어신호(REN)를 디세이블시킨다.The logic circuit 280 enables the control signal REN in response to the internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 at a high level. In addition, the logic circuit 280 disables the control signal REN in response to the internal signals FRA234, FRA56, FRA78, and FRA910 FRA1112 at a low level.
도 3 및 도 4에서 본 발명의 일실시예에 따른 리페어 장치가 메인 메모리 셀 어레이의 결함 셀을 포함하는 로우 라인을 리페어하는 것을 예를 들어 설명하였지만, 상기 리페어 장치가 상기 메인 메모리 셀 어레이의 결함 셀을 포함하는 칼럼 라인을 리페어 하도록 구현될 수도 있다.In FIGS. 3 and 4, the repair apparatus according to an embodiment of the present invention has been described for repairing a low line including a defective cell of the main memory cell array, but the repair apparatus is a defect of the main memory cell array. It may be implemented to repair a column line containing a cell.
상기한 것과 같이, 본 발명에 따른 리페어 장치의 리페어 제어회로에는 웨이퍼 상태의 테스트 과정에서 검출된 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램되거나 또는 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출된 결함 셀의 어드레스 신호가 프로그램될 수 있다. 즉, 상기 리페어 장치는 웨이퍼 상태의 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어하거나 또는 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어 할 수 있다.As described above, in the repair control circuit of the repair apparatus according to the present invention, an address signal of a defective cell detected in a wafer state test process may be programmed or an address signal of a defective cell detected in a post package test process may be programmed. . That is, the repair apparatus may repair a defect cell detected in a wafer process test or repair a defect cell detected in a post package test process.
또, 본 발명에 따른 리페어 장치는 분리되지 않은 단일의 리던던시 메모리 셀 어레이를 포함하므로, 반도체 메모리 장치에서 적은 면적을 차지하면서 결함 셀을 리페어 할 수 있는 리던던시 메모리 셀의 수가 증가될 수 있다.In addition, since the repair apparatus according to the present invention includes a single redundant memory cell array that is not separated, the number of redundant memory cells capable of repairing defective cells while occupying a small area in the semiconductor memory device may be increased.
또, 본 발명에 따른 리페어 장치가 선택적으로 웨이퍼 상태의 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어하거나 또는 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어하므로, 리페어 동작을 위한 신호들의 패스가 동일하다. 따라서, 본 발명에 따른 리페어 장치는 별도의 타이밍 제어가 필요 없다.In addition, since the repair apparatus according to the present invention selectively repairs the defective cells detected in the wafer state test process or the defective cells detected in the post package test process, the paths of the signals for the repair operation are the same. Therefore, the repair apparatus according to the present invention does not need any separate timing control.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
상기한 것과 같이, 본 발명에 따른 리페어 장치 및 그 리페어 방법은 웨이퍼 상태의 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어하거나 또는 포스트 패키지 테스트 과정에서 검출된 결함 셀을 리페어 할 수 있는 효과가 있다. As described above, the repair apparatus and the repair method according to the present invention have the effect of repairing the defective cells detected in the wafer state test process or the defective cells detected in the post package test process.
또, 본 발명에 따른 리페어 장치 및 그 리페어 방법은 분리되지 않은 단일의 리던던시 메모리 셀 어레이를 사용하므로, 반도체 메모리 장치 내에서 적은 면적을 차지하면서 비교적 많은 수의 결함 셀들을 리페어 할 수 있는 효과가 있다. In addition, since the repair apparatus and the repair method according to the present invention use a single redundant memory cell array that is not separated, it is possible to repair a relatively large number of defective cells while occupying a small area in the semiconductor memory device. .
도 1은 종래 기술에 따른 리페어 장치를 포함하는 반도체 메모리 장치를 나타내는 도면이다.1 is a diagram illustrating a semiconductor memory device including a repair device according to the prior art.
도 2는 도 1에 도시된 제1 비교부를 상세히 나타내는 회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram illustrating in detail the first comparator shown in FIG. 1.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 웨이퍼 테스트와 포스트 패키지 테스트에서 선택적으로 프로그램 가능한 리페어 장치를 포함하는 반도체 메모리 장치를 나타내는 도면이다.3 is a diagram illustrating a semiconductor memory device including a repair device selectively programmable in a wafer test and a post package test according to an embodiment of the present invention.
도 4는 도 3에 도시된 비교부를 상세히 나타내는 회로도이다.FIG. 4 is a circuit diagram illustrating in detail the comparison unit illustrated in FIG. 3.
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
KR20140071763A (en) * | 2012-12-04 | 2014-06-12 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Semiconductor memory device and method of driving the same |
US8854906B2 (en) | 2010-09-06 | 2014-10-07 | Hynix Semiconductor Inc. | Nonvolatile memory device with improved integrated ratio |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004259338A (en) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
KR100558056B1 (en) * | 2004-11-03 | 2006-03-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | Redundancy fuse control circuit and semiconductor memory device comprising it and redundancy operating method |
US7359261B1 (en) * | 2005-05-23 | 2008-04-15 | Marvell International Ltd. | Memory repair system and method |
KR100799109B1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor device |
KR100757932B1 (en) * | 2006-07-18 | 2007-09-11 | 주식회사 하이닉스반도체 | Apparatus and method for generating test signal in semiconductor integrated circuit |
KR100845774B1 (en) * | 2006-10-13 | 2008-07-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor Memory Apparatus and Method for controlling Voltage Using The Same |
KR100877701B1 (en) * | 2006-11-23 | 2009-01-08 | 삼성전자주식회사 | Semiconductor memory device and redundancy method of the same |
KR100862994B1 (en) * | 2006-12-07 | 2008-10-13 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor Memory Apparatus Having Test Mode Driving Circuit and Test Mode Driving Method |
US7684264B2 (en) * | 2007-01-26 | 2010-03-23 | Freescale Semiconductor, Inc. | Memory system with RAM array and redundant RAM memory cells having a different designed cell circuit topology than cells of non redundant RAM array |
KR100885489B1 (en) * | 2007-03-05 | 2009-02-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | Internal Voltage Generator of Semiconductor Device and Method of same |
US7710102B2 (en) * | 2007-03-08 | 2010-05-04 | Hynix Semiconductor Inc. | Clock test apparatus and method for semiconductor integrated circuit |
US7721163B2 (en) * | 2007-04-23 | 2010-05-18 | Micron Technology, Inc. | JTAG controlled self-repair after packaging |
US7573762B2 (en) * | 2007-06-06 | 2009-08-11 | Freescale Semiconductor, Inc. | One time programmable element system in an integrated circuit |
KR100889312B1 (en) | 2007-06-08 | 2009-03-18 | 주식회사 하이닉스반도체 | Circuit and method for detecting threshold voltage of semiconductor device, internal voltage generating circuit using the same |
KR100907000B1 (en) * | 2007-06-11 | 2009-07-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | Redundancy Circuit |
KR100907929B1 (en) | 2007-06-26 | 2009-07-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | BUUB test apparatus and test method for semiconductor chip |
US7815059B2 (en) * | 2007-06-27 | 2010-10-19 | John Francis Mulholland | Display rack and method for supporting containerized plants |
KR100897274B1 (en) * | 2007-06-28 | 2009-05-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | Test Control Circuit And Reference Voltage Generating Circuit Including The Same |
KR100907930B1 (en) * | 2007-07-03 | 2009-07-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor memory device can reduce test time |
KR100913960B1 (en) * | 2007-12-14 | 2009-08-26 | 주식회사 하이닉스반도체 | Built in self stress control fuse device and control method thereof |
KR100936809B1 (en) * | 2008-01-18 | 2010-01-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor memory apparatus having redundancy circuit for repairing defective unit cell |
KR100974222B1 (en) | 2008-11-13 | 2010-08-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor Memory Apparatus |
KR101069674B1 (en) * | 2009-06-08 | 2011-10-04 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor Memory Apparatus and a Test Method thereof |
KR101094903B1 (en) * | 2009-07-30 | 2011-12-15 | 주식회사 하이닉스반도체 | Test Apparatus in Semiconductor Integrated Circuit |
KR101090393B1 (en) | 2009-09-30 | 2011-12-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | Test Circuit, a Semiconductor Memory Apparatus Using the same, and Test Method of the Semiconductor Memory Apparatus |
KR101143442B1 (en) | 2009-09-30 | 2012-05-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Semiconductor Memory Apparatus and Test Method Using the Same |
KR101124293B1 (en) * | 2009-12-28 | 2012-03-28 | 주식회사 하이닉스반도체 | Device and method for generating test mode signal |
KR101616093B1 (en) * | 2010-02-19 | 2016-04-27 | 삼성전자주식회사 | Nonvolatile memory device conducting repair operation and memory system including the same |
KR101124320B1 (en) * | 2010-03-31 | 2012-03-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | Redundancy Circuit |
JP5647026B2 (en) | 2011-02-02 | 2014-12-24 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US8514643B2 (en) * | 2011-07-22 | 2013-08-20 | Nanya Technology Corp. | Test mode initialization device and method |
KR20150006167A (en) * | 2013-07-08 | 2015-01-16 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Semiconductor system and repair memthod of the same |
US9202595B2 (en) * | 2013-11-12 | 2015-12-01 | Micron Technology, Inc. | Post package repair of memory devices |
US9343184B2 (en) | 2014-04-07 | 2016-05-17 | Micron Technology, Inc. | Soft post package repair of memory devices |
KR20160022097A (en) | 2014-08-19 | 2016-02-29 | 삼성전자주식회사 | Semiconductor memory device and memory module having reconfiguration rejecting function |
KR20160043711A (en) * | 2014-10-14 | 2016-04-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Repair circuit and semiconductor memory device including the same |
US9741403B2 (en) | 2014-11-12 | 2017-08-22 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods to perform post package trim |
US9349491B1 (en) | 2015-04-17 | 2016-05-24 | Micron Technology, Inc. | Repair of memory devices using volatile and non-volatile memory |
US10514983B2 (en) * | 2017-04-26 | 2019-12-24 | Micron Technology, Inc. | Memory apparatus with redundancy array |
US10825544B2 (en) * | 2019-01-03 | 2020-11-03 | Micron Technology, Inc. | Configurable post-package repair |
US10832791B2 (en) | 2019-01-24 | 2020-11-10 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for soft post-package repair |
US11360840B2 (en) | 2020-01-20 | 2022-06-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for performing redundancy analysis of a semiconductor device |
CN112447247A (en) * | 2020-10-19 | 2021-03-05 | 加特兰微电子科技(上海)有限公司 | Data storage device, system-on-chip, radio device and apparatus |
CN115620772B (en) * | 2022-12-05 | 2023-05-09 | 浙江力积存储科技有限公司 | Method for accessing word line and word line decoding circuit structure |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960016807B1 (en) | 1994-06-30 | 1996-12-21 | 삼성전자 주식회사 | Redundancy circuit of semiconductor memory device |
KR0157341B1 (en) | 1995-06-22 | 1998-12-01 | 김광호 | Redundancy for semiconductor memory |
KR20010061172A (en) * | 1999-12-28 | 2001-07-07 | 박종섭 | A method for fabricating ferroelectric capacitor in semiconductor device |
US6754094B2 (en) * | 2002-01-31 | 2004-06-22 | Stmicroelectronics, Inc. | Circuit and method for testing a ferroelectric memory device |
-
2003
- 2003-08-20 KR KR10-2003-0057512A patent/KR100505702B1/en not_active IP Right Cessation
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8854906B2 (en) | 2010-09-06 | 2014-10-07 | Hynix Semiconductor Inc. | Nonvolatile memory device with improved integrated ratio |
KR20140071763A (en) * | 2012-12-04 | 2014-06-12 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Semiconductor memory device and method of driving the same |
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