KR20050018520A - Liquid crystal display having multi domain and panel for the same - Google Patents

Liquid crystal display having multi domain and panel for the same

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KR20050018520A
KR20050018520A KR1020030056546A KR20030056546A KR20050018520A KR 20050018520 A KR20050018520 A KR 20050018520A KR 1020030056546 A KR1020030056546 A KR 1020030056546A KR 20030056546 A KR20030056546 A KR 20030056546A KR 20050018520 A KR20050018520 A KR 20050018520A
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Abstract

PURPOSE: A multi-domain LCD(Liquid Crystal Display) and a TFT(Thin Film Transistor) substrate used for the LCD are provided to improve visibility and luminance by dividing a pixel electrode into at least two sub-pixel electrodes and applying different voltages to the sub-pixel electrodes. CONSTITUTION: A TFT substrate includes an insulating substrate, the first signal line formed on the insulating substrate, and the second signal line(171) intersecting the first signal line, being insulated from the first signal line. The TFT substrate further includes the first electrode and the second electrode(190b) formed in a pixel region disposed at the intersection of the first and second signal lines, and the third electrode(176) formed in the pixel region and superposed on the second electrode. The TFT substrate also has the first TFT(TFT1) having the first and second terminals connected to the first and second signal lines and the third terminal commonly connected to the first and second electrodes, and the second TFT(TFT2) having the first and second terminals respectively connected to the first signal line and the first electrode and the third terminal connected to the third electrode.

Description

다중 도메인 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 표시판{LIQUID CRYSTAL DISPLAY HAVING MULTI DOMAIN AND PANEL FOR THE SAME}Multi-domain liquid crystal display and display panel used therefor {LIQUID CRYSTAL DISPLAY HAVING MULTI DOMAIN AND PANEL FOR THE SAME}

본 발명은 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 표시판에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a display panel used therefor.

액정 표시 장치는 일반적으로 공통 전극과 색 필터(color filter) 등이 형성되어 있는 상부 표시판과 박막 트랜지스터와 화소 전극 등이 형성되어 있는 하부 표시판 사이에 액정 물질을 주입해 놓고 화소 전극과 공통 전극에 서로 다른 전압을 인가함으로써 전계를 형성하여 액정 분자들의 배열을 변경시키고, 이를 통해 빛의 투과율을 조절함으로써 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device injects a liquid crystal material between an upper display panel on which a common electrode, a color filter, and the like are formed, and a lower display panel on which a thin film transistor and a pixel electrode are formed. By applying a different voltage to form an electric field to change the arrangement of the liquid crystal molecules, and through this to adjust the transmittance of light to represent the image.

그런데 액정 표시 장치는 시야각이 좁은 것이 중요한 단점이다. 이러한 단점을 극복하고자 시야각을 넓히기 위한 다양한 방안이 개발되고 있는데, 그 중에서도 액정 분자를 상하 표시판에 대하여 수직으로 배향하고 화소 전극과 그 대향 전극인 공통 전극에 일정한 절개 패턴을 형성하거나 돌기를 형성하는 방법이 유력시되고 있다. However, it is an important disadvantage that the liquid crystal display device has a narrow viewing angle. In order to overcome these disadvantages, various methods for widening the viewing angle have been developed. Among them, liquid crystal molecules are oriented vertically with respect to the upper and lower display panels, and a method of forming a constant incision pattern or forming protrusions on the pixel electrode and the common electrode that is opposite thereto. This is becoming potent.

절개 패턴을 형성하는 방법으로는 화소 전극과 공통 전극에 각각 절개 패턴을 형성하여 이들 절개 패턴으로 인하여 형성되는 프린지 필드(fringe field)를 이용하여 액정 분자들이 눕는 방향을 조절함으로써 시야각을 넓히는 방법이 있다. As a method of forming an incision pattern, an incision pattern is formed on each of the pixel electrode and the common electrode, and the viewing angle is widened by adjusting the direction in which the liquid crystal molecules lie down using a fringe field formed by the incision patterns. .

돌기를 형성하는 방법은 상하 표시판에 형성되어 있는 화소 전극과 공통 전극 위에 각각 돌기를 형성해 둠으로써 돌기에 의하여 왜곡되는 전기장을 이용하여 액정 분자의 눕는 방향을 조절하는 방식이다.The protrusions are formed by forming protrusions on the pixel electrode and the common electrode formed on the upper and lower display panels, respectively, to adjust the lying direction of the liquid crystal molecules using an electric field distorted by the protrusions.

또 다른 방법으로는, 하부 표시판 위에 형성되어 있는 화소 전극에는 절개 패턴을 형성하고 상부 표시판에 형성되어 있는 공통 전극 위에는 돌기를 형성하여 절개 패턴과 돌기에 의하여 형성되는 프린지 필드를 이용하여 액정의 눕는 방향을 조절함으로써 도메인을 형성하는 방식이 있다.In another method, an incision pattern is formed on the pixel electrode formed on the lower panel, and protrusions are formed on the common electrode formed on the upper panel, so that the liquid crystal lies down using a fringe field formed by the incision pattern and the protrusion. There is a way to form a domain by controlling.

이러한 다중 도메인 액정 표시 장치는 1:10의 대비비를 기준으로 하는 대비비 기준 시야각이나 계조간의 휘도 반전의 한계 각도로 정의되는 계조 반전 기준 시야각은 전 방향 80°이상으로 매우 우수하다. 그러나 정면의 감마(gamma)곡선과 측면의 감마 곡선이 일치하지 않는 측면 감마 곡선 왜곡 현상이 발생하여 TN(twisted nematic) 모드 액정 표시 장치에 비하여도 좌우측면에서 열등한 시인성을 나타낸다. 예를 들어, 도메인 분할 수단으로 절개부를 형성하는 PVA(patterned vertically aligned) 모드의 경우에는 측면으로 갈수록 전체적으로 화면이 밝게 보이고 색은 흰색 쪽으로 이동하는 경향이 있으며, 심한 경우에는 밝은 계조 사이의 간격 차이가 없어져서 그림이 뭉그러져 보이는 경우도 발생한다. 그런데 최근 액정 표시 장치가 멀티 미디어용으로 사용되면서 그림을 보거나 동영상을 보는 일이 증가하면서 시인성이 점점 더 중요시되고 있다.In such a multi-domain liquid crystal display, the gray scale inversion reference viewing angle defined as a contrast ratio reference viewing angle based on a contrast ratio of 1:10 or a limit angle of luminance inversion between gray scales is excellent, more than 80 ° in all directions. However, the gamma curve of the front side and the gamma curve of the side do not coincide with each other, resulting in inferior visibility in the left and right sides compared to the TN (twisted nematic) mode liquid crystal display. For example, in the patterned vertically aligned (PVA) mode, which makes an incision by domain dividing means, the screen looks brighter and the color tends to shift toward white as the side faces. Occasionally, the picture appears clumped and disappears. However, as liquid crystal display devices are used for multimedia in recent years, visibility has become increasingly important as pictures and moving pictures are viewed.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 시인성이 우수한 다중 도메인 액정 표시 장치를 구현하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to implement a multi-domain liquid crystal display device having excellent visibility.

본 발명이 이루고자하는 다른 기술적 과제는 시인성을 확보하면서, 휘도가 감소 또는 문자 흐려짐을 방지할 수 있는 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치에 관한 것이다.Another object of the present invention is to provide a thin film transistor array panel and a liquid crystal display including the same, which can prevent brightness from being reduced or blurring while ensuring visibility.

이러한 과제를 해결하기 위하여 본 발명에서는 화소 전극을 둘 이상으로 나누고 둘 이상의 서브 화소 전극에 서로 다른 전위가 인가되도록 한다. 이때, 서로 다른 전위는 데이터선을 통하여 전달되는 화상 신호 전압보다 같거나 높거나 낮다.In order to solve this problem, the present invention divides the pixel electrode into two or more, and different potentials are applied to the two or more sub pixel electrodes. At this time, different potentials are the same, higher or lower than the image signal voltage transmitted through the data line.

더욱 상세하게, 본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판에는 절연 기판 위에 제1 신호선이 형성되어 있고, 제1 신호선과 절연되어 교차하고 있는 제2 신호선이 형성되어 있다. 제1 신호선과 제2 신호선이 교차하여 정의하는 각 화소 영역마다 제1 및 제2 전극과 제2 전극에 중첩되어 있는 제3 전극이 형성되어 있다. 또한, 각각의 화소에는 제1 및 제2 단자는 제1 신호선 및 제2 신호선에 연결되어 있고, 제3 단자는 제1 및 제2 전극에 공통으로 연결되어 있는 제1 박막 트랜지스터와 제1 및 제2 단자는 이웃하는 제1 신호선 및 제1 전극에 각각 연결되어 있고, 제3 단자는 제3 전극에 연결되어 있는 제2 박막 트랜지스터가 형성되어 있다.More specifically, in the thin film transistor array panel according to the exemplary embodiment of the present invention, a first signal line is formed on an insulating substrate, and a second signal line insulated from and intersecting the first signal line is formed. A third electrode overlapping the first and second electrodes and the second electrode is formed in each pixel region defined by the intersection of the first signal line and the second signal line. In each pixel, the first thin film transistor and the first and second terminals are connected to the first signal line and the second signal line, and the third terminal is commonly connected to the first and second electrodes. The second terminal is connected to the neighboring first signal line and the first electrode, respectively, and the third terminal is formed with a second thin film transistor connected to the third electrode.

이때, 제1 및 제2 전극은 분할된 제1 및 제2 화소 전극이며, 제3 전극은 제2 박막 트랜지스터의 제3 단자로부터 연결되어 있는 결합 전극인 것이 바람직하다.In this case, the first and second electrodes are divided first and second pixel electrodes, and the third electrode is a coupling electrode connected from the third terminal of the second thin film transistor.

제1 및 제2 화소 전극 중 적어도 하나는 도메인 분할 수단을 가지는 것이 바람직하며, 결합 전극은 상기 제2 박막 트랜지스터의 드레인 전극으로부터 연장되어 있는 것이 바람직하다.At least one of the first and second pixel electrodes preferably has domain dividing means, and the coupling electrode preferably extends from the drain electrode of the second thin film transistor.

제1 신호선과 제2 신호선 사이에 형성되어 있는 게이트 절연막과 제2 신호선과 제1 및 제2 화소 전극 사이에 형성되어 있는 보호막을 더 포함하고, 제2 박막 트랜지스터의 제2 단자는 보호막에 형성되어 있는 접촉구를 통하여 제1 화소 전극과 연결되어 있다.A gate insulating film formed between the first signal line and the second signal line, and a passivation film formed between the second signal line and the first and second pixel electrodes, wherein the second terminal of the second thin film transistor is formed on the passivation film. It is connected to the first pixel electrode through a contact hole.

제1 및 제2 화소 전극이 화소 영역의 상하 이등분선에 대하여 실질적으로 거울상 대칭을 이루며, 제1 화소 전극과 제2 화소 전극의 서로 인접한 경계선 중 긴변 2개는 제1 신호선과 45°를 이루는 것이 바람직하다.The first and second pixel electrodes are substantially mirror-symmetrical with respect to the upper and lower bisectors of the pixel region, and two long sides of the adjacent boundary lines between the first pixel electrode and the second pixel electrode form 45 ° with the first signal line. Do.

제2 신호선과 절연되어 교차하고 있으며 기준 전위가 인가되는 제3 신호선을 더 포함할 수 있으며, 제3 신호선의 일부는 제2 박막 트랜지스터의 제3 단자와 중첩되어 있는 것이 바람직하다.The display device may further include a third signal line that is insulated from and crosses the second signal line and to which a reference potential is applied, and a portion of the third signal line overlaps with the third terminal of the second thin film transistor.

제1 화소 전극의 면적과 제2 화소 전극의 면적은 50:50-80:20 범위인 것이 바람직하며, 제1 박막 트랜지스터에 연결되어 있는 제3 화소 전극을 더 포함할 수 있다.The area of the first pixel electrode and the area of the second pixel electrode may be in a range of 50: 50-80: 20, and may further include a third pixel electrode connected to the first thin film transistor.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는 제1 절연 기판, 제1 절연 기판 위에 형성되어 있으며 제1 및 제2 게이트 전극을 포함하는 게이트선, 게이트선 위에 형성되어 있는 게이트 절연막, 게이트 절연막 위에 형성되어 있는 반도체층, 반도체층 위에 형성되어 저항성 접촉층, 게이트 절연막 위에 형성되어 있으며 적어도 일부가 저항성 접촉층 위에 형성되어 있는 제1 소스 전극을 포함하는 데이터선, 적어도 일부가 저항성 접촉층 위에 형성되어 있으며 제1 게이트 전극에 대하여 1 소스 전극과 각각 대향하는 제1 및 제2 드레인 전극, 게이트 절연막 상부에 형성되어 있으며, 제2 게이트 전극을 중심으로 서로 마주하는 제2 소스 전극과 제3 드레인 전극, 게이트 절연막 위에 형성되어 있는 결합 전극, 데이터선, 제2 소스 전극 및 제1 내지 제3 드레인 전극 및 상기 결합 전극 위에 형성되어 있는 보호막, 보호막 위에 형성되어 있으며 제1 드레인 전극과 제2 소스 전극에 연결되어 있는 제1 화소 전극, 제1 화소 전극과 절연되어 있고, 제2 드레인 전극과 연결되어 있고 결합 전극과 적어도 일부분이 중첩하는 제2 화소 전극, 제1 절연 기판과 대향하고 있는 제2 절연 기판, 제2 절연 기판 위에 형성되어 있는 공통 전극, 제1 기판 및 상기 제2 기판 중의 적어도 하나에 형성되어 있는 제1 도메인 분할 수단, 제1 기판 및 제2 기판 중의 적어도 하나에 형성되어 있으며 제1 도메인 분할 수단과 함께 화소 영역을 다수의 소도메인으로 분할하는 제2 도메인 분할 수단을 포함한다.In addition, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a first insulating substrate, a gate line formed on the first insulating substrate and including first and second gate electrodes, a gate insulating film formed on the gate line, and a gate insulating film. A data line including a first semiconductor layer formed on the semiconductor layer, a resistive contact layer formed on the semiconductor layer, and a gate insulating layer, and at least a portion of which is formed on the resistive contact layer, and at least part formed on the resistive contact layer. First and second drain electrodes facing the first gate electrode with respect to the first gate electrode, and formed on an upper portion of the gate insulating layer, and having a second source electrode and a third drain electrode facing each other with respect to the second gate electrode; And the coupling electrode, the data line, the second source electrode, and the first to third drains formed on the gate insulating layer. A passivation layer formed on the pole and the coupling electrode and on the passivation layer and insulated from the first pixel electrode and the first pixel electrode connected to the first drain electrode and the second source electrode and connected to the second drain electrode. At least one of a second pixel electrode, at least partially overlapping the coupling electrode, a second insulating substrate facing the first insulating substrate, a common electrode formed on the second insulating substrate, a first substrate, and the second substrate; And second domain dividing means formed on at least one of the formed first domain dividing means, the first substrate, and the second substrate and dividing the pixel region into a plurality of small domains together with the first domain dividing means.

결합 전극은 제3 드레인 전극으로부터 연장되어 있는 것이 바람직하고, 제1 도메인 분할 수단은 제1 화소 전극과 제2 화소 전극 중의 적어도 하나가 가지는 절개부이고, 제2 도메인 분할 수단은 공통 전극이 가지는 절개부인 것이 바람직하다.Preferably, the coupling electrode extends from the third drain electrode, the first domain dividing means is a cutout of at least one of the first pixel electrode and the second pixel electrode, and the second domain dividing means is a cutoff of the common electrode. It is desirable to disclaim.

제1 화소 전극의 면적과 제2 화소 전극의 면적은 50:50-80:20 범위인 것이 바람직하고, 적어도 일부가 저항성 접촉층 위에 형성되어 있으며 제1 게이트 전극에 대하여 1 소스 전극과 대향하는 제4 드레인 전극 및 제4 드레인 전극과 연결되어 있는 제3 화소 전극을 더 포함할 수 있다.Preferably, the area of the first pixel electrode and the area of the second pixel electrode are in a range of 50: 50-80: 20, at least a portion of which is formed on the ohmic contact layer and faces the first source electrode with respect to the first gate electrode. The display device may further include a third pixel electrode connected to the fourth drain electrode and the fourth drain electrode.

보호막은 유기 절연 물질로 이루어진 것이 바람직하며, 반도체층은 데이터선의 하부까지 연장되어 있을 수 있으며, 제1 및 제2 절연 기판 중 하나의 상부에 형성되어 있는 색 필터를 더 포함할 수 있다.Preferably, the passivation layer is formed of an organic insulating material, and the semiconductor layer may extend to a lower portion of the data line, and may further include a color filter formed on one of the first and second insulating substrates.

또한 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치는 제1 신호선, 제1 신호선과 절연되어 교차하고 있는 제2 신호선, 제1 신호선과 제2 신호선이 교차하여 정의하는 각 화소 영역마다 형성되어 있으며, 서로 분리되어 있는 제1 및 제2 화소 전극, 제1 및 제2 화소 전극과 마주하는 공통 전극을 포함하며, 공통 전극의 공통 전압에 대하여 제1 및 제2 화소 전극의 제1 및 제2 화소 전압은 제2 신호선을 통하여 전달되는 화상 신호 전압과 다르다.In addition, the liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention is formed for each pixel region defined by crossing the first signal line, the second signal line insulated from the first signal line, and the first signal line and the second signal line. First and second pixel electrodes separated from each other, and a common electrode facing the first and second pixel electrodes, wherein the first and second pixel voltages of the first and second pixel electrodes with respect to the common voltage of the common electrode; Is different from the image signal voltage transmitted through the second signal line.

제1 화소 전압의 절대값은 제2 화소 전압의 절대값보다 작은 것이 바람직하며, 제1 및 제2 화소 전극에 공통으로 전달되는 화상 신호 전압을 제어하는 제1 박막 트랜지스터와 제1 화소 전극에 연결되어 있으며, 하나의 단자는 제2 화소 전극은 결합 용량으로 연결하는 제2 박막 트랜지스터를 더 포함할 수 있다.Preferably, the absolute value of the first pixel voltage is smaller than the absolute value of the second pixel voltage, and is connected to the first thin film transistor and the first pixel electrode for controlling the image signal voltage which is commonly transmitted to the first and second pixel electrodes. One terminal may further include a second thin film transistor connecting the second pixel electrode with a coupling capacitance.

제2 박막 트랜지스터에 연결되어 있으며, 제2 화소 전극과 절연 상태로 중첩하고 있는 결합 전극을 더 포함할 수 있으며, 제1 화소 전극과 제2 화소 전극 중 적어도 하나는 도메인 분할 수단을 가지는 것이 바람직하다.The display device may further include a coupling electrode connected to the second thin film transistor and overlapping the second pixel electrode in an insulated state, wherein at least one of the first pixel electrode and the second pixel electrode has domain division means. .

결합 전극은 제2 박막 트랜지스터의 드레인 전극으로부터 연장되어 있으며, 제1 및 제2 화소 전극이 화소 영역의 상하 이등분선에 대하여 실질적으로 거울상 대칭을 이루며, 제1 화소 전극과 제2 화소 전극의 서로 인접한 경계선 중 긴변 2개는 제1 신호선과 45°를 이루는 것이 바람직하다.The coupling electrode extends from the drain electrode of the second thin film transistor, and the first and second pixel electrodes are substantially mirror-symmetrical with respect to the upper and lower bisectors of the pixel region, and adjacent boundary lines of the first pixel electrode and the second pixel electrode are adjacent to each other. It is preferable that two long sides form 45 degrees with a 1st signal line.

제1 화소 전극의 면적과 제2 화소 전극의 면적은 50:50-80:20 범위이며, 화상 신호 전압이 전달되는 제3 화소 전극을 더 포함하는 것이 바람직하다.The area of the first pixel electrode and the area of the second pixel electrode are in a range of 50: 50-80: 20 and preferably further include a third pixel electrode to which an image signal voltage is transmitted.

첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity. Like parts are designated by like reference numerals throughout the specification. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the other part being "right over" but also another part in the middle. On the contrary, when a part is "just above" another part, there is no other part in the middle.

그러면 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조에 대하여 설명한다.Next, a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 배치도이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 대향 표시판의 배치도이고, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 4 및 도 5는 도 3의 액정 표시 장치를 IV-IV'선 및 V-V' 선을 따라 각각 잘라 도시한 단면도이고, 도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조를 도시한 회로도이다.1 is a layout view of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a layout view of an opposing display panel for a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 4 and 5 are cross-sectional views of the liquid crystal display of FIG. 3 taken along lines IV-IV 'and VV', respectively, and FIG. A circuit diagram showing a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는 하부 표시판(100)과 이와 마주보고 있는 상부 표시판(200) 및 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 사이에 주입되어 표시판(100, 200)에 수직으로 배향되어 있는 액정 분자를 포함하는 액정층(3)으로 이루어진다. 이때, 각각의 표시판(100, 200)에는 배향막(11, 21)이 형성되어 있으며, 배향막(11, 21)은 액정층(3)의 액정 분자를 표시판(100, 200)에 대하여 수직으로 배향되도록 하는 수직 배향 모드인 것이 바람직하나, 그렇지 않을 수도 있다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention is injected between the lower panel 100 and the upper panel 200 facing the lower panel 100 and the lower panel 100 and the upper panel 200 to be perpendicular to the display panels 100 and 200. It consists of the liquid crystal layer 3 containing the liquid crystal molecule orientated in the direction. In this case, alignment layers 11 and 21 are formed on each of the display panels 100 and 200, and the alignment layers 11 and 21 may align the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 3 to be perpendicular to the display panels 100 and 200. It is preferred that the vertical alignment mode be, but it may not be.

먼저, 하부 표시판의 구성은 다음과 같다.First, the configuration of the lower panel is as follows.

유리등의 투명한 절연 물질로 이루어진 하부 절연 기판(110) 위에 ITO(indium tin oxide)나 IZO(indium zinc oxide) 등의 투명한 도전 물질로 이루어져 있는 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b) 및 결합 전극(176)이 형성되어 있다. 이중 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)은 제1 박막 트랜지스터(TFT1, 도 6 참조)에 직접 연결되어 함께 화상 신호 전압을 인가 받는데, 제2 화소 전극(190b)은 또한 제1 화소 전극(190a)과 연결되어 있는 제2 박막 트랜지스터(TFT2, 도 6참조)에 연결되어 있는 결합 전극(176)과 중첩하고 있다. 제1 박막 트랜지스터(TFT1)는 주사 신호를 전달하는 게이트선(121)과 화상 신호를 전달하는 데이터선(171)에 각각 연결되어 주사 신호에 따라 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)에 인가되는 화상 신호를 온(on) 오프(off)한다. 또한, 제2 박막 트랜지스터(TFT2)는 이웃하는 게이트선(121) 및 제1 화소 전극(190a)에 연결되어 주사 신호에 따라 결합 전극(176)에 전달되는 제1 화소 전극(190a)의 화상 신호를 제어한다. 제2 박막 트랜지스터(TFT2)가 온되었을 때, 결합 전극(176)에는 제1 화소 전극(190a)에 전달된 화소 전압이 전달되는데, 결합 전극(176)은 제2 화소 전극(190b)과 중첩하여 용량성으로 결합되어 초기에 전달된 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 화소 전압이 변하게 되며, 이에 대해서는 이후에 구체적으로 설명한다. 이때, 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)은 절개부(191, 193)를 통하여 분리되어 있고, 결합 전극(176)은 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 한 단자로부터 연장되어 있으며, 제2 화소 전극(192)은 절개부(192)를 가진다. 또, 절연 기판(110)의 아래 면에는 하부 편광판(도시하지 않음)이 부착되어 있다. 여기서, 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)은 반사형 액정 표시 장치인 경우 투명한 물질로 이루어지지 않을 수도 있고, 이 경우에는 하부 편광판도 불필요하게 된다.First and second pixel electrodes 190a and 190b and a combination of transparent conductive materials such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) on the lower insulating substrate 110 made of a transparent insulating material such as glass An electrode 176 is formed. The first and second pixel electrodes 190a and 190b are directly connected to the first thin film transistor TFT1 (see FIG. 6) to receive an image signal voltage together. The second pixel electrode 190b may also be connected to the first pixel electrode. It overlaps with the coupling electrode 176 connected to the second thin film transistor TFT2 (see FIG. 6) connected to 190a. The first thin film transistor TFT1 is connected to the gate line 121 that transmits the scan signal and the data line 171 that transmits the image signal, respectively, to the first and second pixel electrodes 190a and 190b according to the scan signal. The applied image signal is turned on. In addition, the second thin film transistor TFT2 is connected to the neighboring gate line 121 and the first pixel electrode 190a and is transferred to the coupling electrode 176 according to a scan signal, and thus an image signal of the first pixel electrode 190a. To control. When the second thin film transistor TFT2 is turned on, the pixel voltage transferred to the first pixel electrode 190a is transferred to the coupling electrode 176, and the coupling electrode 176 overlaps the second pixel electrode 190b. The pixel voltages of the first and second pixel electrodes 190a and 190b that are coupled and capacitively transferred initially are changed, which will be described in detail later. In this case, the first and second pixel electrodes 190a and 190b are separated through the cutouts 191 and 193, and the coupling electrode 176 extends from one terminal of the second thin film transistor TFT2. The two pixel electrode 192 has a cutout 192. In addition, a lower polarizing plate (not shown) is attached to the lower surface of the insulating substrate 110. Here, the first and second pixel electrodes 190a and 190b may not be made of a transparent material in the case of a reflective liquid crystal display, and in this case, the lower polarizer is also unnecessary.

다음, 상부 표시판의 구성은 다음과 같다.Next, the configuration of the upper panel is as follows.

역시 유리등의 투명한 절연 물질로 이루어진 상부 절연 기판(210)의 아래 면에 화소 영역에 개구부를 가지며 화소 영역 사이에서 누설되는 빛을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(220)와 적, 녹, 청의 색 필터(230) 및 ITO 또는 IZO 등의 투명한 도전 물질로 이루어져 있는 공통 전극(270)이 형성되어 있다. 여기서, 공통 전극(270)에는 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 절개부(191, 192, 193)와 함께 프린지 필드를 형성하여 액정 분자를 분할 배향하는 도메인 분할 수단인 절개부(271, 272, 273)가 형성되어 있다. 블랙 매트릭스(220)는 화소 영역의 둘레 부분뿐만 아니라 공통 전극(270)의 절개부(271, 272, 273)와 중첩하는 부분에도 형성할 수 있다. 이는 절개부(271, 272, 273)로 인해 발생하는 빛샘을 방지하기 위함이다.Also, a black matrix 220 and a red, green, and blue color filter having an opening in the pixel area on the bottom surface of the upper insulating substrate 210 made of a transparent insulating material such as glass to prevent light leaking between the pixel areas ( 230 and a common electrode 270 formed of a transparent conductive material such as ITO or IZO. Herein, the common electrode 270 forms a fringe field together with the cutouts 191, 192, and 193 of the first and second pixel electrodes 190a and 190b to cut and align the liquid crystal molecules. 271, 272, and 273 are formed. The black matrix 220 may be formed not only in the peripheral portion of the pixel region but also in the portion overlapping the cutouts 271, 272, and 273 of the common electrode 270. This is to prevent light leakage caused by the cutouts 271, 272, and 273.

제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 표시판에 대하여 도 1, 도 3 내지 도 6을 참조하여 좀 더 상세히 한다.The thin film transistor array panel of the liquid crystal display according to the first embodiment will be described in more detail with reference to FIGS. 1 and 3 to 6.

하부의 절연 기판(110) 위에 주로 가로 방향으로 뻗어 있는 복수의 게이트선(121)과 유지 전극 배선이 형성되어 있다. A plurality of gate lines 121 and storage electrode wirings extending mainly in the horizontal direction are formed on the lower insulating substrate 110.

게이트선(121)은 복수의 부분이 아래 위로 확장되어 제1 및 제2 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)의 게이트 전극(124a, 124c)을 이룬다. 게이트선(121)의 한쪽 끝 부분은 외부의 게이트 구동 회로와의 연결을 위하여 넓게 확장되어 접촉부를 이룰 수 있으며, 본 실시예와 같이 접촉부를 가지지 않는 경우에는 기판의 상부에 직접 형성되어 있는 게이트 구동 회로의 출력단에 게이트선(121)의 끝 부분이 직접 연결되어 있다.A plurality of portions of the gate line 121 extend upward and downward to form gate electrodes 124a and 124c of the first and second thin film transistors TFT1 and TFT2. One end portion of the gate line 121 may be widely extended to form a contact portion for connection with an external gate driving circuit, and in the case of having no contact portion as in the present embodiment, the gate driving portion is directly formed on the upper portion of the substrate. An end portion of the gate line 121 is directly connected to the output terminal of the circuit.

각 유지 전극 배선은 화소 영역의 중앙을 가로질러 가로 방향으로 뻗어 있는 유지 전극선(131)과 그로부터 뻗어 나온 여러 벌의 유지 전극(storage electrode)(133a, 133b, 136)을 포함한다. 한 벌의 유지 전극(133a, 133b, 136)은 세로 방향으로 뻗어나오며 가로 방향으로 뻗은 유지 전극선(131)에 의하여 서로 연결되어 있다. 이 때, 각 유지 전극선(131)은 2개 이상의 가로선으로 이루어질 수도 있다. 또한, 유지 전극(136)은 넓은 면적으로 확장되어 있으며, 이후의 결합 전극(176)과 중첩되어 유지 축전기를 이룬다.Each storage electrode wiring includes a storage electrode line 131 extending in the horizontal direction across the center of the pixel region and a plurality of storage electrodes 133a, 133b, and 136 extending therefrom. The pair of storage electrodes 133a, 133b, and 136 extend in the vertical direction and are connected to each other by the storage electrode line 131 extending in the horizontal direction. In this case, each of the storage electrode lines 131 may be formed of two or more horizontal lines. In addition, the storage electrode 136 extends in a large area, and overlaps with the subsequent coupling electrode 176 to form a storage capacitor.

게이트선(121) 및 유지 전극 배선(131, 133a, 133b, 136)은 Al, Al 합금, Ag, Ag 합금, Cr, Ti, Ta, Mo 등의 금속 따위로 만들어진다. 도 4 및 도 5에 나타난 바와 같이, 본 실시예의 게이트선(121) 및 유지 전극 배선(131, 133a, 133b, 136)은 단일층으로 이루어지지만, 물리 화학적 특성이 우수한 Cr, Mo, Ti, Ta 등의 금속층과 비저항이 작은 Al 계열 또는 Ag 계열의 금속층을 포함하는 이중층으로 이루어질 수도 있다. 이외에도 여러 다양한 금속 또는 도전체로 게이트선(121)과 유지 전극선(131, 133a, 133b, 136)을 만들 수 있다.The gate line 121 and the sustain electrode wirings 131, 133a, 133b, and 136 are made of metal such as Al, Al alloy, Ag, Ag alloy, Cr, Ti, Ta, Mo, or the like. 4 and 5, the gate line 121 and the sustain electrode wirings 131, 133a, 133b, and 136 of the present embodiment are formed of a single layer, but have excellent physicochemical properties of Cr, Mo, Ti, and Ta. It may be composed of a double layer including a metal layer such as Al and an Al-based or Ag-based metal layer having a low specific resistance. In addition, the gate line 121 and the storage electrode lines 131, 133a, 133b, and 136 may be made of various metals or conductors.

게이트선(121)과 유지 전극선(131, 133a, 133b, 136)이 측면은 경사져 있으며 수평면에 대한 경사각은 30-80°인 것이 바람직하다.The gate line 121 and the storage electrode lines 131, 133a, 133b, and 136 are inclined at sides and preferably have an inclination angle of 30 to 80 ° with respect to the horizontal plane.

게이트선(121)과 유지 전극선(131, 133a, 133b, 136)의 위에는 질화규소(SiNx) 등으로 이루어진 게이트 절연막(140)이 형성되어 있다. The gate insulating layer 140 made of silicon nitride (SiNx) or the like is formed on the gate line 121 and the storage electrode lines 131, 133a, 133b, and 136.

게이트 절연막(140) 위에는 복수의 데이터선(171)을 비롯하여 복수의 드레인 전극(drain electrode)(175a, 175b, 175c), 복수의 결합 전극(176)이 형성되어 있다. 각 데이터선(171)은 주로 세로 방향으로 뻗어 있으며, 각 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)을 향하여 복수의 분지를 내어 데이터선(171)으로부터 확장된 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 소스 전극(source electrode)(173a)을 가진다. 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 제2 드레인 전극(175b)은 화소 영역의 중앙부까지 연장되어 있다. 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 드레인 전극(175c)은 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 게이트 전극(124c) 상부에 위치하며, 연장되어 결합 전극(176)과 연결되어 있으며, 게이트 전극(124c)을 중심으로 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 드레인 전극(175c)의 맞은편에는 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 소스 전극(173c)이 형성되어 있다. 결합 전극(176)은 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 드레인 전극(175c)과 연결되어 있고, 넓은 면적으로 확장되어 유지 전극(136)과 중첩하고 있다.A plurality of drain electrodes 175a, 175b, and 175c, and a plurality of coupling electrodes 176 are formed on the gate insulating layer 140, as well as a plurality of data lines 171. Each of the data lines 171 extends mainly in the vertical direction and extends from the data lines 171 by emitting a plurality of branches toward the first and second drain electrodes 175a and 175b of each of the first thin film transistors TFT1. The source electrode 173a of the first thin film transistor TFT1 is provided. The second drain electrode 175b of the first thin film transistor TFT1 extends to the center portion of the pixel area. The drain electrode 175c of the second thin film transistor TFT2 is positioned above the gate electrode 124c of the second thin film transistor TFT2 and extends to be connected to the coupling electrode 176. A source electrode 173c of the second thin film transistor TFT2 is formed on the opposite side of the drain electrode 175c of the second thin film transistor TFT2. The coupling electrode 176 is connected to the drain electrode 175c of the second thin film transistor TFT2 and extends in a large area to overlap the storage electrode 136.

데이터선(171), 소스 전극(173a, 173c), 드레인 전극(175a, 175b, 175c), 결합 전극(176))도 게이트선(121)과 마찬가지로 크롬과 알루미늄 등의 물질로 만들어지며, 단일층 또는 다중층으로 이루어질 수 있다.The data line 171, the source electrodes 173a and 173c, the drain electrodes 175a, 175b and 175c, and the coupling electrode 176 are also made of a material such as chromium and aluminum, like the gate line 121. Or it may be made of multiple layers.

데이터선(171), 소스 전극(173a, 173c), 드레인 전극(175a, 175b, 175c), 의 아래에는 데이터선(171)을 따라 주로 세로로 길게 뻗은 복수의 선형 반도체(151)가 형성되어 있다. 비정질 규소 따위로 이루어진 각 선형 반도체(151)는 각 게이트 전극(124a, 124c), 소스 전극(173a, 173c) 및 드레인 전극(175a, 175b, 175c)을 향하여 확장되어 제1 및 제2 박막 트랜지스터의 채널부(154a, 154c)를 이룬다.Below the data line 171, the source electrodes 173a and 173c, and the drain electrodes 175a, 175b, and 175c, a plurality of linear semiconductors 151 extending vertically along the data line 171 are formed. . Each linear semiconductor 151 made of amorphous silicon extends toward the gate electrodes 124a and 124c, the source electrodes 173a and 173c, and the drain electrodes 175a, 175b and 175c, respectively, to form the first and second thin film transistors. The channel portions 154a and 154c are formed.

반도체(151)와 데이터선(171) 및 소스 전극(173a, 173c), 드레인 전극(175a, 175b, 175c) 사이에는 둘 사이의 접촉 저항을 각각 감소시키기 위한 복수의 선형 저항성 접촉 부재(ohmic contact)(161)와 섬형의 저항성 접촉 부재(165a, 165b)가 형성되어 있다. 저항성 접촉 부재(161)는 실리사이드나 n형 불순물이 고농도로 도핑된 비정질 규소 따위로 만들어지며, 분지로 뻗은 저항성 접촉 부재(163a)를 가진다. A plurality of linear ohmic contacts between the semiconductor 151 and the data line 171, the source electrodes 173a and 173c, and the drain electrodes 175a, 175b, and 175c to reduce contact resistance between the two, respectively. 161 and the island-like resistive contact members 165a and 165b are formed. The ohmic contact 161 is made of amorphous silicon doped with silicide or n-type impurities at a high concentration, and has an ohmic contact 163a extending in a branch.

데이터선(171), 소스 전극(173a, 173c) 및 드레인 전극(175a, 175b, 175c) 위에는 평탄화 특성이 우수하며 감광성을 가지는 유기 물질, 플라스마 화학 기상 증착(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)으로 형성되는 a-Si:C:O, a-Si:O:F 등의 저유전율 절연 물질 또는 질화 규소 따위로 이루어진 보호막(180)이 형성되어 있다.On the data line 171, the source electrodes 173a and 173c, and the drain electrodes 175a, 175b, and 175c, an organic material having excellent planarization characteristics, photosensitive properties, and plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is formed. A protective film 180 made of a low dielectric constant insulating material such as a-Si: C: O, a-Si: O: F, or silicon nitride is formed.

보호막(180)에는 제1 박막 트랜지스터의 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)의 적어도 일부와 데이터선(171)의 끝 부분(179)을 각각 노출시키는 복수의 접촉 구멍(185a, 185b, 182)이 구비되어 있으며, 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 소스 전극(173c)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(183c)이 구비되어 있다. 한편, 게이트선(121)의 끝 부분도 외부의 구동 회로와 연결되기 위한 접촉부를 가지는 경우에는 복수의 접촉 구멍이 게이트 절연막(140)과 보호막(180)을 관통하여 게이트선(121)의 끝 부분을 드러낼 수 있다. The passivation layer 180 may include a plurality of contact holes 185a and 185b exposing at least a portion of the first and second drain electrodes 175a and 175b of the first thin film transistor and the end portion 179 of the data line 171, respectively. 182 is provided, and a plurality of contact holes 183c exposing the source electrode 173c of the second thin film transistor TFT2 is provided. On the other hand, when the end portion of the gate line 121 also has a contact portion for connecting to an external driving circuit, a plurality of contact holes penetrate the gate insulating layer 140 and the passivation layer 180 to end portions of the gate line 121. Can be exposed.

보호막(180) 위에는 복수의 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)을 비롯하여 복수의 접촉 보조 부재(contact assistant)(82)가 형성되어 있다. 화소 전극(190a, 190b), 접촉 보조 부재(82)는 ITO(indium tin oxide)나 IZO(indium zinc oxide) 등과 같은 투명 도전체나 알루미늄(Al)과 같은 광 반사 특성이 우수한 불투명 도전체 따위로 만들어진다. A plurality of contact assistants 82 are formed on the passivation layer 180, including a plurality of first and second pixel electrodes 190a and 190b. The pixel electrodes 190a and 190b and the contact assistant 82 are made of a transparent conductor such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), or an opaque conductor having excellent light reflection characteristics such as aluminum (Al). .

화소 전극은 제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)으로 분류되며, 제1 화소 전극(190a)은 접촉 구멍(185a)을 통하여 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 드레인 전극(175a)과 연결되어 있고, 제2 화소 전극(190b)은 접촉 구멍(185b)을 통하여 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 드레인 전극(175b)과 연결되어 있다. 또한, 제1 화소 전극(190a)은 접촉 구멍(183c)을 통하여 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 소스 전극(173c)과 연결되어 있고, 제2 화소 전극(190b)은 드레인 전극(175c)과 연결된 결합 전극(176)과 중첩하고 있다. 따라서, 제2 화소 전극(190b)은 제1 화소 전극(190a)에 연결된 제2 박막 트랜지스터(TFT2)에 연결되어 있는 결합 전극(176)과 전자기적으로 결합(용량성 결합)되어 있다.The pixel electrode is classified into a first pixel electrode 190a and a second pixel electrode 190b, and the first pixel electrode 190a is a drain electrode 175a of the first thin film transistor TFT1 through the contact hole 185a. The second pixel electrode 190b is connected to the drain electrode 175b of the first thin film transistor TFT1 through the contact hole 185b. In addition, the first pixel electrode 190a is connected to the source electrode 173c of the second thin film transistor TFT2 through the contact hole 183c, and the second pixel electrode 190b is connected to the drain electrode 175c. It overlaps with the coupling electrode 176. Accordingly, the second pixel electrode 190b is electromagnetically coupled (capacitively coupled) to the coupling electrode 176 connected to the second thin film transistor TFT2 connected to the first pixel electrode 190a.

제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)을 나누는 경계는 게이트선(121)에 대하여 45°를 이루는 부분(191, 193)과 수직을 이루는 부분으로 구분되고, 이중 45°를 이루는 두 부분(191, 193)이 수직을 이루는 부분에 비하여 길이가 길다. 또, 45°를 이루는 두 부분(191, 193)은 서로 수직을 이루고 있다. The boundary dividing the first pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b is divided into portions perpendicular to the portions 191 and 193 forming 45 ° with respect to the gate line 121, and forming a 45 ° portion. The length of the two parts 191 and 193 is longer than that of the vertical part. In addition, the two portions 191 and 193 constituting 45 ° are perpendicular to each other.

제2 화소 전극(190b)은 절개부(192)를 가지며, 절개부(192)는 제2 화소 전극(190b)의 오른쪽 변에서 왼쪽 변을 향하여 파고 들어간 형태이고, 입구는 넓게 확장되어 있다.The second pixel electrode 190b has a cutout 192, and the cutout 192 penetrates from the right side of the second pixel electrode 190b toward the left side, and the inlet is widened.

제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)은 각각 게이트선(121)과 데이터선(171)이 교차하여 정의하는 화소 영역을 상하로 이등분하는 선(게이트선과 나란한 선)에 대하여 실질적으로 거울상 대칭을 이루고 있다.Each of the first pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b is substantially a line (parallel with the gate line) that bisects the pixel region defined by the intersection of the gate line 121 and the data line 171. Mirror image symmetry.

데이터 접촉 보조 부재(82)는 접촉 구멍(182)을 통하여 데이터선의 끝 부분(179)에 연결되어 있다. 이때, 게이트선(121)도 끝 부분에 접촉부를 가지는 실시예에서는 보호막(180)의 상부에 게이트선(121)과 연결되는 게이트 접촉 보조 부재(81)가 추가될 수 있다.The data contact auxiliary member 82 is connected to the end portion 179 of the data line through the contact hole 182. At this time, in the embodiment in which the gate line 121 also has a contact portion at an end portion, a gate contact auxiliary member 81 connected to the gate line 121 may be added on the passivation layer 180.

하부 절연 기판(110)과 마주하는 상부 절연 기판(210)에는 도 2, 도 3 내지 도 5에서 보는 바와 같이, 빛이 새는 것을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(220)가 형성되어 있다. 이때, 블랙 매트릭스(220)는 개략적으로 도시한 것이며, 화소 영역 주변 또는 박막 트랜지스터의 주변에서 누설되는 빛을 차단하기 위해 다양한 모양으로 변경될 수 있다. 블랙 매트릭스(220) 위에는 적, 녹, 청색 색 필터(230)가 순차적으로 형성되어 있다. 색 필터(230)의 위에는 복수 벌의 절개부(271, 272, 273)를 가지는 공통 전극(270)이 형성되어 있다. 공통 전극(270)은 ITO 또는 IZO(indium zinc oxide) 등의 투명한 도전체로 형성한다.As illustrated in FIGS. 2 and 3 to 5, a black matrix 220 is formed on the upper insulating substrate 210 facing the lower insulating substrate 110 to prevent light leakage. In this case, the black matrix 220 is schematically illustrated and may be changed into various shapes to block light leaking from around the pixel area or around the thin film transistor. The red, green, and blue color filters 230 are sequentially formed on the black matrix 220. The common electrode 270 having a plurality of cutouts 271, 272, and 273 is formed on the color filter 230. The common electrode 270 is formed of a transparent conductor such as ITO or indium zinc oxide (IZO).

공통 전극(270)의 한 벌의 절개부(271, 272, 273)는 제1 화소 전극(190a, 190b)의 경계 중 게이트선(121)에 대하여 45°를 이루는 부분(191, 193)과 교대로 배치되어 이와 나란한 사선부와 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 변과 중첩되어 있는 단부를 포함하고 있다. 이 때, 단부는 세로 방향 단부와 가로 방향 단부로 분류된다. The pair of cutouts 271, 272, and 273 of the common electrode 270 alternate with the portions 191 and 193 that form an angle of 45 ° with respect to the gate line 121 among the boundaries of the first pixel electrodes 190a and 190b. And an end portion arranged in parallel with the diagonal portions and overlapping sides of the first and second pixel electrodes 190a and 190b. At this time, the end is classified into a longitudinal end part and a horizontal end part.

이상과 같은 구조의 박막 트랜지스터 표시판과 색 필터 표시판을 정렬하여 결합하고 그 사이에 액정 물질을 주입하여 수직 배향하면 본 발명에 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 기본 구조가 마련된다. When the thin film transistor array panel and the color filter display panel having the above structure are aligned and combined, and a liquid crystal material is injected and vertically aligned therebetween, a basic structure of the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention is provided.

박막 트랜지스터 표시판과 색 필터 표시판을 정렬했을 때 공통 전극(270)의 한 벌의 절개부(271, 272, 273)는 도메인 분할 수단으로 두 화소 전극(190a, 190b)을 각각 복수의 부영역(subarea)으로 구분하는데, 본 실시예에서는 도 3에 도시한 바와 같이 두 화소 전극(190a, 190b)을 각각 4개의 부영역으로 나눈다. 도 3에서 알 수 있는 바와 같이, 각 부영역은 길쭉하게 형성되어 있어서 폭 방향과 길이 방향이 구별된다.When the thin film transistor array panel and the color filter display panel are aligned, a pair of cutouts 271, 272, and 273 of the common electrode 270 divide two pixel electrodes 190a and 190b into a plurality of subregions by domain dividing means, respectively. In the present exemplary embodiment, as illustrated in FIG. 3, the two pixel electrodes 190a and 190b are divided into four sub-regions, respectively. As can be seen in FIG. 3, each subregion is elongated to distinguish the width direction from the length direction.

화소 전극(190a, 190b)의 각 부영역과 이에 대응하는 기준 전극(270)의 각 부영역 사이에 있는 액정층(3) 부분을 앞으로는 "소영역(subregion)"이라고 하며, 이들 소영역은 전계 인가시 그 내부에 위치하는 액정 분자의 평균 장축 방향에 따라 4개의 종류로 분류되며 앞으로는 이를 "도메인(domain)"이라고 한다. The portion of the liquid crystal layer 3 between the respective subregions of the pixel electrodes 190a and 190b and the corresponding subregions of the reference electrode 270 is referred to as " subregion " When applied, it is classified into four types according to the average major axis direction of the liquid crystal molecules positioned therein, and this is referred to as "domain" in the future.

이러한 구조의 액정 표시 장치에서 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)에는 데이터선(171)을 통하여 전달되는 화상 신호 전압을 제1 박막 트랜지스터(TFT1)를 통하여 동일한 화상 신호 전압을 인가받는데, 제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)은 결합 전극(176)을 통한 용량성 결합에 의하여 인가된 전압이 변동된다. 이때, 제1 화소 전극(190a)전압은 데이터선(171)을 통하여 전달된 화상 신호 전압보다 낮고 제2 화소 전극(190b)의 전압은 화상 신호 전압보다 높게 된다. 이와 같이, 하나의 화소 영역 내에서 전압이 다른 두 화소 전극을 배치하면 두 화소 전극이 서로 보상하여 감마 곡선의 왜곡을 줄일 수 있으며, 이후에 구체적으로 설명하기로 한다.In the liquid crystal display having the structure, an image signal voltage transmitted through the data line 171 is applied to the first and second pixel electrodes 190a and 190b through the first thin film transistor TFT1. The voltage applied to the first pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b is changed by capacitive coupling through the coupling electrode 176. In this case, the voltage of the first pixel electrode 190a is lower than the image signal voltage transmitted through the data line 171, and the voltage of the second pixel electrode 190b is higher than the image signal voltage. As such, when two pixel electrodes having different voltages are disposed in one pixel area, the two pixel electrodes may compensate for each other to reduce distortion of the gamma curve, which will be described later.

그러면, 먼저 화상 신호 전압에 대하여 낮은 제1 화소 전극(190a)의 전압과 높은 제2 화소 전극(190b)의 전압으로 변동하는 이유를 도 7을 참고로 하여 설명한다.Next, the reason why the voltage of the first pixel electrode 190a low and the voltage of the high second pixel electrode 190b changes with respect to the image signal voltage will be described with reference to FIG. 7.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치를 이용한 시뮬레이션에서 전압의 변화를 측정한 그래프이다. 액정 표시 장치에서 화소 전극의 전압은 공통 전극의 공통 전압을 기준으로 한다.7 is a graph illustrating a change in voltage in a simulation using a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. In the liquid crystal display, the voltage of the pixel electrode is based on the common voltage of the common electrode.

도 6에서 보는 바와 같이, 상측에 위치하는 게이트선(121)에 온(ON) 신호가 전달되면, 제1 박막 트랜지스터(TFT1)를 통하여 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)에는 동일한 화상 신호 전압이 전달되며, 상측 게이트선(121)이 오프(OFF)되면 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)은 분리된다. 이어, 하측 게이트선(121)에 온(ON) 신호가 전달되면, 제2 박막 트랜지스터(TFT2)를 통하여 제1 화소 전극(190a)과 결합 전극(176)은 서로 전기적으로 연결되어 공통 전극(270)의 공통 전압에 대하여 동일한 전위가 형성된다. 이때, 결합 전극(176)과 제2 화소 전극(190b)은 서로 중첩하여 용량성으로 연결되어 있기 때문에 결합 전극(178)의 전압이 변하게 되면 제2 화소 전극(190b)의 전압도 변하게 된다.As shown in FIG. 6, when an ON signal is transmitted to the gate line 121 positioned above, the same image is applied to the first and second pixel electrodes 190a and 190b through the first thin film transistor TFT1. When the signal voltage is transferred and the upper gate line 121 is turned off, the first and second pixel electrodes 190a and 190b are separated. Subsequently, when an ON signal is transmitted to the lower gate line 121, the first pixel electrode 190a and the coupling electrode 176 are electrically connected to each other through the second thin film transistor TFT2 so that the common electrode 270 is connected. The same potential is formed with respect to the common voltage. In this case, since the coupling electrode 176 and the second pixel electrode 190b overlap each other and are connected capacitively, when the voltage of the coupling electrode 178 changes, the voltage of the second pixel electrode 190b also changes.

이때, 본 발명의 실시예에 시뮬레이션에서 따른 액정 표시 장치에서 Clca는 제1 화소 전극(190a)과 공통 전극(270) 사이에서 형성되는 액정 용량을 나타내고, Csta는 제1 화소 전극(190a)과 유지 전극 배선(131, 133a) 사이에서 형성되는 유지 용량을 나타내고, Cgda은 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 제1 드레인 전극(175a)과 게이트 전극(124a) 사이에서 형성되는 기생 용량을 나타내고, Cgsa는 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 소스 전극(173c)과 게이트 전극(124c) 사이에서 형성되는 기생 용량이다. Clcb는 제2 화소 전극(190b)과 공통 전극(270) 사이에서 형성되는 액정 용량을 나타내고, Cstb는 제2 화소 전극(190b)과 유지 전극 배선(131, 133b, 136) 사이에서 형성되는 유지 용량이고, Cbc는 제2 화소 전극(190b)과 결합 전극(176) 사이에서 형성되는 결합 용량을 나타내고, Cgdb은 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 제2 드레인 전극(175b)과 게이트 전극(124a) 사이에서 형성되는 기생 용량을 나타낸다. Clcc는 결합 전극(176)과 공통 전극(270) 사이에서 형성되는 액정 용량을 나타내고, Cstc는 결합 전극(176)과 유지 전극 배선(136) 사이에서 형성되는 유지 용량이고, Cgdc는 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 드레인 전극(175c)과 게이트 전극(124c) 사이에서 형성되는 기생 용량을 나타낸다. In this case, in the liquid crystal display according to the embodiment of the present invention, Clca represents a liquid crystal capacitance formed between the first pixel electrode 190a and the common electrode 270, and Csta represents the first pixel electrode 190a and the sustain. Cgda represents a storage capacitance formed between the electrode wirings 131 and 133a, and Cgda represents a parasitic capacitance formed between the first drain electrode 175a and the gate electrode 124a of the first thin film transistor TFT1. The parasitic capacitance is formed between the source electrode 173c and the gate electrode 124c of the second thin film transistor TFT2. Clcb represents a liquid crystal capacitor formed between the second pixel electrode 190b and the common electrode 270, and Cstb represents a storage capacitor formed between the second pixel electrode 190b and the storage electrode wirings 131, 133b, and 136. Cbc denotes a coupling capacitance formed between the second pixel electrode 190b and the coupling electrode 176, and Cgdb denotes between the second drain electrode 175b and the gate electrode 124a of the first thin film transistor TFT1. Parasitic doses formed in Clcc represents a liquid crystal capacitance formed between the coupling electrode 176 and the common electrode 270, Cstc represents a storage capacitance formed between the coupling electrode 176 and the sustain electrode wiring 136, and Cgdc represents a second thin film transistor. The parasitic capacitance formed between the drain electrode 175c and the gate electrode 124c of (TFT2) is shown.

도 7에서 "A"는 제1 화소 전극(190a)에 전달된 전압의 변화를 나타낸 선이고, "B"는 제2 화소 전극(190b)에 전달된 전압의 변화를 나타낸 선이고, "C"는 결합 전극(176)에 전달된 전압의 변화를 나타낸 선이고, "D"는 상측 게이트선(121)에 전달된 게이트 전압을 나타낸 선이고, "E"는 하측 게이트선(121)에 전달된 게이트 전압을 나타낸 선이며, "F"는 데이터선(171)을 통하여 전달되는 화상 신호 전압을 나타낸 선이다. 가로축은 시간이며, 세로축은 기준 전압인 공통 전압(Vcom)과 계조 전압(-1V, -2V, -3V, -4V, -5V, -6V)을 타나낸 것이다. In FIG. 7, "A" is a line indicating a change in voltage delivered to the first pixel electrode 190a, and "B" is a line showing a change in voltage delivered to the second pixel electrode 190b and "C". Is a line representing the change in voltage delivered to the coupling electrode 176, "D" is a line representing the gate voltage transferred to the upper gate line 121, "E" is transmitted to the lower gate line 121. A line representing the gate voltage, and "F" is a line representing the image signal voltage transmitted through the data line 171. The horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the common voltage Vcom and the gray scale voltages (-1V, -2V, -3V, -4V, -5V, and -6V).

도 7에서 보는 바와 같이, n 및 n+1 번째 각각의 프레임(frame)에서는 5번의 전압 변화가 발생하였다. 즉, 상측 게이트선(121)이 온된 상태에서는 각각의 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)에 동일한 화상 신호 전압(A, B)이 전달되며 결합 전극(176)에는 임의 전압(C)이 충전된다. 이어, 상측 게이트선(121)이 오프되었을 때 제1 박막 트랜지스터(TFT1)의 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)과 게이트 전극(124a)의 기생 용량에 의한 킥백 전압(kick back voltage)으로 인하여 각각의 전극(190a, 190b, 176)에 전달된 전압(A, B, C)은 미세하게 변한다. 이어, 하측 게이트선(121)이 온되었을 때 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 드레인 전극(175c)과 게이트 전극(124c)의 기생 용량에 의한 킥백 전압으로 인하여 각각의 전극(190a, 190b, 176)에 전달된 전압(A, B, C)은 미세하게 변한다. 이어, 하측 게이트선(121)이 온된 상태에서는 제a 화소 전극(190a)과 결합 전극(176)에는 동일한 전위(A, C)를 이루며, 제2 화소 전극(190b)의 전압(B)이 변하게 되는데, 이때, 제1 화소 전극(190a)에 전달된 전압(A)의 절대값은 데이터선(171)을 통하여 전달된 화상 신호 전압(F)보다 작으며, 제2 화소 전극(190b)에 전달된 전압(B)의 절대값은 화상 신호 전압(F)보다 크다. 이어, 제2 박막 트랜지스터(TFT2)가 오프되었을 때 제2 박막 트랜지스터(TFT2)의 드레인 전극(175c)과 게이트 전극(124c) 사이에서 발생하는 기생 용량에 의한 킥백 전압으로 인하여 각각의 전극(190a, 190b, 176)에 전달된 전압(A, B, C)은 미세하게 변한다. 이때에도, 제1 화소 전극(190a)에 전달된 전압(A)의 절대값은 데이터선(171)을 통하여 전달된 화상 신호 전압(F)보다 작으며, 제2 화소 전극(190b)에 전달된 전압(B)의 절대값은 화상 신호 전압(F)보다 크게 유지된다.As shown in FIG. 7, five voltage changes occurred in each of the n and n + 1 th frames. That is, when the upper gate line 121 is turned on, the same image signal voltages A and B are transmitted to the first and second pixel electrodes 190a and 190b, and the arbitrary voltage C is applied to the coupling electrode 176. Is charged. Subsequently, when the upper gate line 121 is turned off, kickback voltages due to parasitic capacitances of the first and second drain electrodes 175a and 175b and the gate electrode 124a of the first thin film transistor TFT1 are performed. Due to this, the voltages A, B, and C delivered to the respective electrodes 190a, 190b, and 176 vary slightly. Subsequently, when the lower gate line 121 is turned on, each of the electrodes 190a, 190b, and 176 due to the kickback voltage due to the parasitic capacitance of the drain electrode 175c and the gate electrode 124c of the second thin film transistor TFT2. The voltages A, B, and C delivered to are slightly changed. Subsequently, when the lower gate line 121 is turned on, the same potentials A and C are formed at the a pixel electrode 190a and the coupling electrode 176, and the voltage B of the second pixel electrode 190b is changed. In this case, the absolute value of the voltage A transmitted to the first pixel electrode 190a is smaller than the image signal voltage F transmitted through the data line 171 and is transferred to the second pixel electrode 190b. The absolute value of the given voltage B is larger than the image signal voltage F. FIG. Subsequently, when the second thin film transistor TFT2 is turned off, each electrode 190a, due to the kickback voltage due to the parasitic capacitance generated between the drain electrode 175c and the gate electrode 124c of the second thin film transistor TFT2, is formed. Voltages A, B, and C delivered to 190b and 176 vary slightly. In this case, the absolute value of the voltage A transmitted to the first pixel electrode 190a is smaller than the image signal voltage F transmitted through the data line 171 and transmitted to the second pixel electrode 190b. The absolute value of the voltage B is kept larger than the image signal voltage F.

이때, 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 전압 차는 앞에 기재한 다양한 용량에 의해 결정되는데 가장 중용한 변수는 결합 전극(176)과 제2 화소 전극(190b) 사이의 결합 용량(Cbc)과 결합 전극(176)과 유지 용량 배선(136) 사이의 유지 용량(Cstc)이다. 이때, 결합 전극(176)과 유지 용량 배선(136) 사이의 유지 용량(Cstc)은 제1 화소 전극(190a)과 유지 용량 배선(131, 133a) 사이의 유지 용량(Csta)에 비하여 1/10-1/3 범위로 작은 것이 바람직하며, 결합 전극(176)과 제2 화소 전극(190b) 사이의 결합 용량(Cbc)은 결합 전극(176)과 유지 용량 배선(136) 사이의 유지 용량(Cstc)과 비슷한 범위로 서로에 대하여 2배를 넘지 않는 것이 바람직하다. In this case, the voltage difference between the first and second pixel electrodes 190a and 190b is determined by the various capacitances described above, and the most important variable is the coupling capacitance Cbc between the coupling electrode 176 and the second pixel electrode 190b. ) And the storage capacitor Cstc between the coupling electrode 176 and the storage capacitor wiring 136. At this time, the storage capacitor Cstc between the coupling electrode 176 and the storage capacitor wiring 136 is 1/10 of the storage capacitor Csta between the first pixel electrode 190a and the storage capacitor wirings 131 and 133a. It is preferable to be as small as -1/3, and the coupling capacitor Cbc between the coupling electrode 176 and the second pixel electrode 190b may include the storage capacitor Cstc between the coupling electrode 176 and the storage capacitor wiring 136. It is desirable not to exceed twice each other in a range similar to).

또한, 결합 전극(176)은 제2 화소 전극(190b)에 완전히 덮이는 것이 바람직하고, 이에 따라 결합 전극(176)과 공통 전극(270) 사이의 액정 용량(Clcc)은 거의 0에 근접한 것이 바람직하다. 본 발명의 실시예에서와 같이, 결합 전극(176)은 데이터선(171)과 동일한 층으로 형성하여, 제2 화소 전극(190b)과 유지 전극(136) 사이에 배치하는 것이 바람직하며, 이때 최대의 개구율을 확보할 수 있다. 물론, 유지 전극(136)과 결합 전극(176)은 서로 중첩시키지 않고 배치될 수도 있으며, 유지 용량 배선(131, 133a 133b, 136) 구조는 다양하게 변형될 수 있으며, 결합 전극(176) 또한 다양하게 변형될 수 있다.In addition, it is preferable that the coupling electrode 176 is completely covered by the second pixel electrode 190b, and thus the liquid crystal capacitance Clcc between the coupling electrode 176 and the common electrode 270 is almost close to zero. desirable. As in the exemplary embodiment of the present invention, the coupling electrode 176 is preferably formed of the same layer as the data line 171 and disposed between the second pixel electrode 190b and the storage electrode 136, where the maximum The aperture ratio of can be secured. Of course, the storage electrode 136 and the coupling electrode 176 may be disposed without overlapping each other, and the structure of the storage capacitor wirings 131, 133a 133b, and 136 may be variously modified, and the coupling electrode 176 may also be varied. Can be modified.

또한, Cgda와 Cgdb는 서로 유사한 크기를 가지는 것이 바람직하며, Cgdc는 Cgdb보다 커야 한다.In addition, it is preferable that Cgda and Cgdb have similar sizes to each other, and Cgdc should be larger than Cgdb.

다음은, 시뮬레이션을 통하여 얻어진 화소 전압과 화상 신호 전압에 대하여 구체적으로 설명하기 한다.Next, the pixel voltage and the image signal voltage obtained through the simulation will be described in detail.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치를 이용한 시뮬레이션을 통하여 얻어진 화소 전압과 화상 신호 전압을 나타낸 그래프이다. 여기서 화소 전압은 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)에 전달된 전압으로 "A" 및 "B"이며, 화상 신호 전압은 데이터선(171)을 통하여 전달된 전압으로 실선으로 나타내었다. 8 is a graph illustrating pixel voltages and image signal voltages obtained through a simulation using a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. The pixel voltages are “A” and “B” as voltages transmitted to the first and second pixel electrodes 190a and 190b, and the image signal voltages are represented by solid lines as voltages transmitted through the data line 171.

도 8에서 보는 바와 같이, 화상 신호 전압이 2V일 때는 인 경우에 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 전압의 차는 0.59V로 나타났으며, 화상 신호 전압이 5V일 때는 1.19V로 나타났다. 5V일 때, 제1 화소 전극(190a) 전압 강하는 0.55V이고, 제2 화소 전극(190b)의 전압 상승은 0.64V로 나타났다. 여기서, 용량 값 또는 전극의 면적을 변화시키면 전압 강하나 전압 상승은 자유롭게 조절할 수 있다.As shown in FIG. 8, when the image signal voltage is 2V, the difference between the voltages of the first and second pixel electrodes 190a and 190b is 0.59V, and when the image signal voltage is 5V, it is 1.19V. appear. At 5V, the voltage drop of the first pixel electrode 190a was 0.55V, and the voltage rise of the second pixel electrode 190b was 0.64V. Here, the voltage drop or the voltage rise can be freely adjusted by changing the capacitance value or the area of the electrode.

본 발명의 실시예에 따른 시뮬레이션에서 최적의 조건에서 제1 화소 전극(190a)의 면적과 제2 화소 전극(190b)의 면적의 비율은 50:50-80:20 범위인 것이 바람직하며, 70:30 내지 80:20 범위인 것이 가장 바람직하며, 제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b) 사이의 전압 비율은 1:1.3 내지 1:1.5 범위인 것이 가장 바람직한데, 이에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.In the simulation according to the exemplary embodiment of the present invention, the ratio of the area of the first pixel electrode 190a to the area of the second pixel electrode 190b is preferably in a range of 50: 50-80: 20 under 70 ° C. It is most preferably in the range of 30 to 80:20, and the voltage ratio between the first pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b is most preferably in the range of 1: 1.3 to 1: 1.5. Let's explain.

도 9 및 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치를 이용한 시뮬레이션을 통하여 얻어진 분할된 화소 전극의 전압비와 면적비를 나타낸 각각 그래프이다. 도 9에서 가로축은 하나의 단위 화소에서 제2 화소 전극(190b)이 차지하는 의 면적비이며, 도 10에서 가로축은 제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)의 화소 전압비이며, 도 9 및 도 10에서 세로축은 시인성 왜곡량이다. 여기서, "우측 60도"는 액정 표시 장치의 정면으로부터 오른쪽 방향으로 60도가 되는 위치이며, "대각 60도"는 액정 표시 장치의 정면으로부터 대각선 방향으로 60도가 되는 위치를 의미한다.9 and 10 are graphs showing voltage ratios and area ratios of divided pixel electrodes obtained through a simulation using a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. In FIG. 9, the horizontal axis represents an area ratio of occupied by the second pixel electrode 190b in one unit pixel. In FIG. 10, the horizontal axis represents a pixel voltage ratio of the first pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b. And the vertical axis in FIG. 10 is the amount of visibility distortion. Here, "60 degrees to the right" is a position which becomes 60 degrees to the right direction from the front of a liquid crystal display, and "diagonal 60 degrees" means the position which becomes 60 degrees to a diagonal direction from the front of a liquid crystal display.

화소 전극을 분할하더라도 액정 표시 장치의 표시 특성을 확보하기 위해서는 시인성이 왜곡은 것을 최소가 되어야 하므로, 도 9에서 보는 바와 같이 시인성 왜곡량을 최소화하기 위해서는 제2 화소 전극(190b)이 차지하는 면적은 20-30%가 바람직하다. 따라서, 제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)의 면적비는 80:20-70:30 범위인 것이 바람직하다.Even if the pixel electrode is divided, the visibility of the liquid crystal display device must be minimized in order to ensure display characteristics. As shown in FIG. 9, the area occupied by the second pixel electrode 190b is 20 to minimize the amount of visibility distortion. -30% is preferred. Therefore, the area ratio of the first pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b is preferably in the range of 80: 20-70: 30.

또한, 도 10에서 보는 바와 같이, 시인성 왜곡량을 최소화하기 위해서는 제1 화소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)간의 전압비는 1.3-1.5 범위인 것이 바람직하다.In addition, as shown in FIG. 10, in order to minimize the amount of visibility distortion, the voltage ratio between the first pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b is preferably in the range of 1.3 to 1.5.

다음은, 앞에서 설명한 바와 같이 하나의 화소 내에 다른 전압이 전달되는 둘 이상의 화소 전극을 배치하면 각각의 서브 화소 전극이 서로 보상하여 감마 곡선의 왜곡이 감소하는 원리에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.Next, as described above, when two or more pixel electrodes in which different voltages are transmitted are disposed in one pixel, the sub-pixel electrodes compensate for each other, and thus the distortion of the gamma curve will be described in detail.

도 11a는 한 화소를 분할하지 않은 액정 표시 장치에서 감마 곡선의 왜곡을 나타낸 그래프이고, 도 11b는 본 발명의 실시예와 같이 한 화소를 서로 다른 화소 전압이 전달되는 두 서브 화소로 분할한 액정 표시 장치에서 감마 곡선의 왜곡을 나타낸 그래프이고, 도 11c는 한 화소를 서로 다른 화소 전압이 전달되는 세 서브 화소로 분할한 액정 표시 장치에서 감마 곡선의 왜곡을 나타낸 그래프이다. 1계조에서부터 64계조에 따른 휘도량을 측정한 곡선으로, 도 11a 내지 도 11c에서 가로축은 계조이고, 세로축은 계조에 따른 휘도량이며, 실선은 정면 감마 곡선을 나타낸 것이고, 점선은 측면 감마 곡선을 나타낸 것이다.FIG. 11A is a graph illustrating distortion of a gamma curve in a liquid crystal display without dividing one pixel, and FIG. 11B is a liquid crystal display in which one pixel is divided into two subpixels to which different pixel voltages are transmitted, as in an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 11C is a graph illustrating distortion of a gamma curve in a liquid crystal display in which a pixel is divided into three sub-pixels to which different pixel voltages are transmitted. 11A to 11C, the horizontal axis is gray scale, the vertical axis is luminance amount according to gray scale, the solid line shows the front gamma curve, and the dotted line shows the side gamma curve. It is shown.

도 11a에서 보는 바와 같이, 일반적인 액정 표시 장치, 즉 하나의 화소에 하나의 화소 전극만이 형성되어 있는 액정 표시 장치에서는 정면 감마 곡선에 비하여 측면의 감마 곡선이 위쪽으로 크게 왜곡됨을 알 수 있다. 특히, 낮은 계조에서 휘도량이 급격하게 증가하여 감마 곡선의 왜곡이 심하게 나타남을 알 수 있다.As shown in FIG. 11A, in the general liquid crystal display, that is, the liquid crystal display in which only one pixel electrode is formed in one pixel, the gamma curve of the side surface is greatly distorted upward compared to the front gamma curve. In particular, it can be seen that the luminance is drastically increased at low gray levels, resulting in severe distortion of the gamma curve.

그러나 도 11b에서 보는 바와 같이 화소 전극을 두 개의 화소 전극(제1 서브 화소 전극 및 제2 서브 화소 전극)으로 분할하고, 이들 제1 및 제2 서브 화소 전극을 박막 트랜지스터 또는 결합 전극을 이용하여 용량성으로 결합하였을 때 본 발명의 실시예에서와 같이 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)은 데이터선(171)을 통하여 전달되는 화상 신호 전압보다 높거나 낮은 화소 전압이 전달되어 화상을 표시한다. 이 때, 화상 신호 전압보다 높은 화소 전압이 전달되는 화소 전극을 가지는 부분을 제1 서브 화소이고, 화상 신호 전압보다 낮은 화소 전압이 전달되는 화소 전극을 가지는 부분을 제2 서브 화소라 하면, 낮은 계조에서 낮은 화소 전압으로 쉬프트되는 제2 서브 화소는 거의 블랙 상태를 유지하고 높은 전압으로 쉬프트되는 제1 서브 화소만이 주로 화상을 표시하여 전체 화소의 휘도량이 감소한다(도 11b에서 "제1 서브 화소" 부분). 한편, 임의 계조 이상의 높은 계조에서는 제2 서브 화소도 화상을 표시하여 전체 화소의 휘도량이 증가하게 된다(도 11b에서 "제2 서브 화소"). 따라서, 도 11b에 나타낸 바와 같이, 측면 감마 곡선의 왜곡이 감소하게 된다.However, as shown in FIG. 11B, the pixel electrode is divided into two pixel electrodes (a first sub pixel electrode and a second sub pixel electrode), and the first and second sub pixel electrodes are divided by a thin film transistor or a coupling electrode. When combined with each other, as in the exemplary embodiment of the present invention, the first and second pixel electrodes 190a and 190b transmit a pixel voltage higher or lower than the image signal voltage transmitted through the data line 171 to display an image. do. In this case, when the portion having the pixel electrode to which the pixel voltage higher than the image signal voltage is transmitted is the first sub pixel, and the portion having the pixel electrode to which the pixel voltage lower than the image signal voltage is transmitted is the second sub pixel, The second sub-pixel shifted to a low pixel voltage at is almost black, and only the first sub-pixel shifted to a high voltage mainly displays an image so that the luminance amount of all the pixels is reduced (Fig. 11B). " part). On the other hand, in a high gradation of more than an arbitrary gradation, the second sub-pixel also displays an image so that the luminance amount of all the pixels increases ("second sub-pixel" in Fig. 11B). Therefore, as shown in Fig. 11B, the distortion of the side gamma curve is reduced.

물론, 하나의 화소 전극을 세 부분으로 분할하는 실시예에서는 동일한 원리를 통하여 도 11c에서 보는 바와 같은 측면 감마 곡선을 얻을 수 있어, 더욱 측면 감마 곡선의 왜곡이 감소되며, 이에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.Of course, in an embodiment in which one pixel electrode is divided into three parts, a side gamma curve as shown in FIG. 11C can be obtained through the same principle, and thus distortion of the side gamma curve is further reduced, which will be described in detail. do.

앞의 실시예에서는 도 6에서 보는 바와 같이 단위 화소의 화소 전극을 둘로 분할한 구조에 대해서만 설명하였지만, 화소 전극은 둘 이상으로 분할 할 수 있으며, 화소 전극을 셋으로 분할하는 실시예에 대하여 설명하기로 한다.In the above embodiment, only the structure in which the pixel electrode of the unit pixel is divided into two as shown in FIG. 6 is described. However, the pixel electrode may be divided into two or more, and the pixel electrode is divided into three. Shall be.

도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판을 포함하는 액정 표시 장치의 구조를 개략적으로 나타낸 회로도이다.12 is a circuit diagram schematically illustrating a structure of a liquid crystal display including a thin film transistor array panel according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 12에서 보는 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판의 구조는 대부분 도 6과 동일하다.As shown in FIG. 12, the structure of the thin film transistor array panel according to the second exemplary embodiment of the present invention is substantially the same as that of FIG. 6.

하지만, 도 6과 달리 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)뿐아니라 각각의 단위 화소에서 제3 화소 전극(190c)이 형성되어 있으며, 이러한 제3 화소 전극(190c)은 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)이 공통으로 연결되어 있는 제1 박막 트랜지스터(TFT1)에 연결되어 있다.However, unlike FIG. 6, not only the first and second pixel electrodes 190a and 190b but also the third pixel electrode 190c are formed in each unit pixel, and the third pixel electrode 190c is formed of the first and second pixel electrodes 190c. The two pixel electrodes 190a and 190b are connected to the first thin film transistor TFT1 which is commonly connected.

이러한 구조에서는 제1 내지 제3 화소 전극(190a, 190b, 190c)은 제1 박막 트랜지스터(TFT1, 도 6 참조)에 연결되어 함께 화상 신호 전압을 인가 받는데, 앞에서 설명한 바와 같이 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)에 전달된 화소 전압을 변하게 되는데, 제3 화소 전극(190c)에는 데이터선(171)을 통하여 전달되는 화상 전압이 그대로 유지된다.In this structure, the first to third pixel electrodes 190a, 190b, and 190c are connected to the first thin film transistor TFT1 (see FIG. 6) to receive an image signal voltage together. As described above, the first and second pixels The pixel voltage transmitted to the electrodes 190a and 190b is changed, and the image voltage transmitted through the data line 171 is maintained in the third pixel electrode 190c.

표시 장치의 측면 시인성을 개선하기 위해 화소 전극을 분할하여 화소 전압이 다르게 인가되도록 하더라도, 전압 강하가 1V 이상 심하게 발생하면 화소의 휘도가 심하게 발생하는 문제점이 난다. 또한, 전압 상승을 위하여 하나의 화소 전극에는 화상 신호 전압이 그대로 전달되고 나머지 다른 화소 전극을 결합 용량으로 연결하는 경우에는 휘도가 감소하는 문제점을 발생하지 않으나, 문자 흐려짐 등의 문제점이 발생한다. Even if the pixel voltage is applied differently by dividing the pixel electrode to improve the side visibility of the display device, if the voltage drop is excessively greater than 1V, the luminance of the pixel is severe. In addition, when the image signal voltage is transmitted to one pixel electrode as it is to increase the voltage and the other pixel electrode is connected by the coupling capacitance, the brightness does not decrease, but there is a problem such as blurring of characters.

본 발명의 실시예에서와 같은 구조에서는 전압 강하가 심하게 발생하지 않아 측면 시인성을 개선하는 동시에 휘도가 감소하는 것을 방지할 수 있었으며, 문자 흐려짐 등의 문제점이 나타나지 않아, 표시 장치의 표시 특성을 확보할 수 있었다. In the structure as in the embodiment of the present invention, since the voltage drop does not occur severely, the side visibility can be improved and the luminance can be prevented from being reduced. Also, there is no problem such as blurring of characters, thereby ensuring display characteristics of the display device. Could.

한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판은 도 1-도 5와 다른 구조를 가질 수 있으며, 적, 녹, 청의 색 필터를 포함할 수도 있으며, 두 가지의 특징은 택일적으로 적용할 수 있으나, 본 실시예에서는 을 모두 가지는 구조에 대하여 도면을 참조하여 구체적으로 설명하기로 한다.Meanwhile, the thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention may have a structure different from those of FIGS. 1 to 5, and may include red, green, and blue color filters. In this embodiment, a structure having all of them will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 13은 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조를 도시한 배치도이고, 도 14 및 도 15는 도 13에서 XIV-XIV' 선 및 XV-XV' 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.FIG. 13 is a layout view illustrating a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 14 and 15 are cut along the lines XIV-XIV ′ and XV-XV ′ in FIG. 13. It is sectional drawing.

도 13 내지 도 15에서 보는 바와 같이, 본 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 층상 구조는 대개 도 1 내지 도 5에 도시한 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 층상 구조와 동일하다. 즉, 기판(110) 위에 복수의 게이트 전극(124a, 124b)을 포함하는 복수의 게이트선(121)이 형성되어 있고, 그 위에 게이트 절연막(140), 복수의 돌출부(154a, 154b)를 포함하는 복수의 선형 반도체(151), 복수의 돌출부(163a)를 각각 포함하는 복수의 선형 저항성 접촉 부재(161) 및 복수의 섬형 저항성 접촉 부재(163c, 165a, 165b, 165c)가 차례로 형성되어 있다. 저항성 접촉 부재(161, 165a, 165b, 165c) 및 게이트 절연막(140) 위에는 복수의 소스 전극(173a)을 포함하는 복수의 데이터선(171), 제1 박막 트랜지스터의 제1 및 제2 드레인 전극(175a,. 175b), 제2 박막 트랜지스터의 소스 전극(173c) 및 드레인 전극(175c) 및 결합 전극(176)이 형성되어 있고 그 위에 보호막(180)이 형성되어 있다. 보호막(180) 및/또는 복수의 접촉 구멍(182, 185a, 185b, 183c)이 형성되어 있으며, 보호막(180) 위에는 복수의 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)과 복수의 접촉 보조 부재(82)가 형성되어 있다.As shown in FIGS. 13 to 15, the layer structure of the thin film transistor array panel for a liquid crystal display device according to the present embodiment is generally the same as the layer structure of the thin film transistor array panel for liquid crystal display devices shown in FIGS. 1 to 5. That is, the plurality of gate lines 121 including the plurality of gate electrodes 124a and 124b are formed on the substrate 110, and the gate insulating layer 140 and the plurality of protrusions 154a and 154b are formed thereon. A plurality of linear semiconductors 151, a plurality of linear ohmic contacts 161 each including a plurality of protrusions 163a, and a plurality of island-type ohmic contacts 163c, 165a, 165b, and 165c are formed in this order. On the ohmic contacts 161, 165a, 165b, and 165c and the gate insulating layer 140, a plurality of data lines 171 including a plurality of source electrodes 173a, first and second drain electrodes of the first thin film transistor ( 175a, .175b, the source electrode 173c, the drain electrode 175c, and the coupling electrode 176 of the second thin film transistor are formed, and a protective film 180 is formed thereon. The passivation layer 180 and / or the plurality of contact holes 182, 185a, 185b, and 183c are formed, and the plurality of first and second pixel electrodes 190a and 190b and the plurality of contact assistant members are disposed on the passivation layer 180. 82 is formed.

그러나 도 1 내지 도 5에 도시한 박막 트랜지스터 표시판과 달리, 본 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판에서 반도체(151)는 박막 트랜지스터가 위치하는 돌출부(154a, 154b)를 제외하면 데이터선(171), 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b), 제2 박막 트랜지스터의 소스 전극(173c) 및 드레인 전극(175c) 및 그 하부의 저항성 접촉 부재(161, 163c, 165a, 165b, 165c)와 실질적으로 동일한 평면 형태를 가지고 있다. However, unlike the thin film transistor array panel illustrated in FIGS. 1 to 5, in the thin film transistor array panel according to the present exemplary embodiment, the semiconductor 151 may include the data line 171 and the first line except for the protrusions 154a and 154b in which the thin film transistor is located. Substantially the same as the first and second drain electrodes 175a and 175b, the source electrode 173c and the drain electrode 175c of the second thin film transistor, and the ohmic contacts 161, 163c, 165a, 165b, and 165c thereunder. It has a flat shape.

또한, 보호막(180)의 하부에는 적, 녹 및 청의 색 필터(230)가 화소에 순차적으로 형성되어 있다. 적, 녹, 청의 색 필터(230)는 각각 데이터선(171) 상부에 경계를 두고 있으며 화소 열을 따라 세로로 길게 형성되어 있으며, 서로 이웃하는 색 필터가 데이터선(171) 위에서 서로 부분적으로 중첩되어 있어서 데이터선(171) 위에서 언덕을 이룰 수 있다. 이때, 서로 중첩되어 있는 적, 녹, 청의 색 필터(230)는 서로 이웃하는 화소 영역 사이에서 누설되는 빛을 차단하는 블랙 매트릭스의 기능을 가질 수 있다. 따라서, 본 실시예에 따른 액정 표시 장치용 대향 표시판에는 블랙 매트릭스가 생략되어 공통 전극(270)만 형성될 수 있다. In addition, red, green, and blue color filters 230 are sequentially formed in the lower portion of the passivation layer 180. The red, green, and blue color filters 230 each have a boundary above the data line 171 and are vertically formed along a pixel column, and neighboring color filters partially overlap each other on the data line 171. The hill can be formed on the data line 171. In this case, the red, green, and blue color filters 230 overlapping each other may have a function of a black matrix that blocks light leaking between neighboring pixel areas. Accordingly, the black matrix may be omitted in the opposing display panel for the liquid crystal display according to the present exemplary embodiment so that only the common electrode 270 may be formed.

이러한 본 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판은 데이터선(171) 및 드레인 전극(175a, 175b. 175c)과 반도체층(151)을 하나의 감광막 패턴을 이용한 사진 식각 공정으로 형성하며, 이러한 감광막 패턴은 박막 트랜지스터의 채널부에 대응하는 부분은 다른 데이터선 및 드레인 전극에 대응하는 부분보다 낮은 두께를 가진다. 이때, 감광막 패턴은 반도체(151)를 패터닝하기 위한 식각 마스크이며, 두꺼운 부분은 데이터선 및 드레인 전극을 패터닝하기 위한 식각 마스크로 사용한다. 이러한 제조 방법은 서로 다른 두 박막을 하나의 감광막 패턴으로 형성하여 제조 비용을 최소화할 수 있다.The thin film transistor array panel for the present liquid crystal display device forms the data line 171, the drain electrodes 175a, 175b, and 175c and the semiconductor layer 151 by a photolithography process using a single photoresist pattern, and the photoresist pattern is a thin film. The portion corresponding to the channel portion of the transistor has a lower thickness than the portion corresponding to other data lines and drain electrodes. In this case, the photoresist pattern is an etch mask for patterning the semiconductor 151, and the thick portion is used as an etch mask for patterning the data line and the drain electrode. In this manufacturing method, two different thin films may be formed in one photosensitive film pattern to minimize manufacturing costs.

또한, 게이트 전극(124a, 124b)을 가지는 게이트선(121)은 한쪽 끝 부분(129)은 외부 회로와의 연결을 위한 접촉부를 가진다.In addition, one end portion 129 of the gate line 121 having the gate electrodes 124a and 124b has a contact portion for connection with an external circuit.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다. 특히, 화소 전극과 공통 전극에 형성하는 절개부의 배치는 여러 다양한 변형이 있을 수 있다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights. In particular, the arrangement of the cutouts formed in the pixel electrode and the common electrode may be variously modified.

이상과 같은 구성을 통하여 휘도가 감소하는 것을 방지하고 문자 흐트러짐을 제거하면서 액정 표시 장치의 측면 시인성을 향상시켜 표시 특성을 향상시킬 수 있다.Through the above configuration, the display characteristics can be improved by improving the side visibility of the liquid crystal display device while preventing luminance from being reduced and eliminating character disturbances.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 배치도이고, 1 is a layout view of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 대향 표시판의 배치도이고, 2 is a layout view of an opposing display panel for a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 3 is a layout view of a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention;

도 4 및 도 5는 도 3의 액정 표시 장치를 IV-IV'선 및 V-V' 선을 따라 각각 잘라 도시한 단면도이고, 4 and 5 are cross-sectional views of the liquid crystal display of FIG. 3 taken along lines IV-IV 'and V-V', respectively;

도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조를 도시한 회로도이고,6 is a circuit diagram illustrating a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치를 이용한 시뮬레이션에서 전압의 변화를 측정한 그래프이고, 7 is a graph illustrating a change in voltage in a simulation using a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치를 이용한 시뮬레이션을 통하여 얻어진 화소 전압과 화상 신호 전압을 나타낸 그래프이고, 8 is a graph illustrating pixel voltages and image signal voltages obtained through a simulation using a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조를 도시한 배치도이고, 9 is a layout view illustrating a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 10 및 도 11은 도 9에서 X-X' 선 및 XI-XI' 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고,10 and 11 are cross-sectional views taken along the lines X-X 'and XI-XI' of FIG. 9;

도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판을 포함하는 액정 표시 장치의 구조를 개략적으로 나타낸 회로도이고,12 is a circuit diagram schematically illustrating a structure of a liquid crystal display including a thin film transistor array panel according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 13은 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조를 도시한 배치도이고, FIG. 13 is a layout view illustrating a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to a third exemplary embodiment of the present invention.

도 14 및 도 15는 도 13에서 XIV-XIV' 선 및 XV-XV' 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.14 and 15 are cross-sectional views taken along the lines XIV-XIV ′ and XV-XV ′ in FIG. 13.

121 게이트선, 124a, 124c 게이트 전극,121 gate line, 124a, 124c gate electrode,

131, 133a, 133b 유지 전극, 176 결합 전극,131, 133a, and 133b sustain electrodes, 176 bond electrodes,

171 데이터선, 173a, 173c 소스 전극,171 data lines, 173a, 173c source electrode,

175a, 175b, 175c 드레인 전극, 190a, 190b 화소 전극,175a, 175b, 175c drain electrodes, 190a, 190b pixel electrodes,

191, 192, 193 절개부, 151, 154a, 154c 비정질 규소층,191, 192, 193 incisions, 151, 154a, 154c amorphous silicon layer,

270 공통 전극, 271, 272, 273 절개부270 common electrode, 271, 272, 273 incision

Claims (30)

절연 기판,Insulation board, 상기 절연 기판 위에 형성되어 있는 제1 신호선,A first signal line formed on the insulating substrate, 상기 제1 신호선과 절연되어 교차하고 있는 제2 신호선,A second signal line insulated from and intersecting the first signal line, 상기 제1 신호선과 상기 제2 신호선이 교차하여 정의하는 각 화소 영역마다 형성되어 있는 제1 및 제2 전극,First and second electrodes formed in respective pixel regions defined by the crossing of the first signal line and the second signal line; 상기 화소마다 각각 형성되어 있으며, 상기 제2 전극에 중첩되어 있는 제3 전극,A third electrode formed in each of the pixels and overlapping the second electrode; 제1 및 제2 단자는 상기 제1 신호선 및 상기 제2 신호선에 연결되어 있고, 제3 단자는 제1 및 제2 전극에 공통으로 연결되어 있는 제1 박막 트랜지스터,A first thin film transistor having first and second terminals connected to the first signal line and the second signal line, and having a third terminal connected to the first and second electrodes in common; 제1 및 제2 단자는 이웃하는 상기 제1 신호선 및 상기 제1 전극에 각각 연결되어 있고, 제3 단자는 상기 제3 전극에 연결되어 있는 제2 박막 트랜지스터First and second terminals are respectively connected to the adjacent first signal line and the first electrode, and the third terminal is connected to the third electrode. 를 포함하는 박막 트랜지스터 표시판.Thin film transistor array panel comprising a. 제1항에서,In claim 1, 상기 제1 및 제2 전극은 분할된 제1 및 제2 화소 전극이며,The first and second electrodes are divided first and second pixel electrodes. 상기 제3 전극은 상기 제2 박막 트랜지스터의 제3 단자에 연결되어 있는 결합 전극인 박막 트랜지스터 표시판.The third electrode is a thin film transistor array panel connected to the third terminal of the second thin film transistor. 제2항에서,In claim 2, 상기 제1 및 제2 화소 전극 중 적어도 하나는 도메인 분할 수단을 가지는 박막 트랜지스터 표시판.And at least one of the first and second pixel electrodes has domain dividing means. 제2항에서,In claim 2, 상기 결합 전극은 상기 제2 박막 트랜지스터의 드레인 전극으로부터 연장되어 있는 박막 트랜지스터 표시판.And the coupling electrode extends from the drain electrode of the second thin film transistor. 제2항에서,In claim 2, 상기 제1 신호선과 상기 제2 신호선 사이에 형성되어 있는 게이트 절연막과 상기 제2 신호선과 상기 제1 및 제2 화소 전극 사이에 형성되어 있는 보호막을 더 포함하고,A gate insulating film formed between the first signal line and the second signal line and a protective film formed between the second signal line and the first and second pixel electrodes; 상기 제2 박막 트랜지스터의 제2 단자는 상기 보호막에 형성되어 있는 접촉구를 통하여 상기 제1 화소 전극과 연결되어 있는 박막 트랜지스터 표시판.The second terminal of the second thin film transistor is connected to the first pixel electrode through a contact hole formed in the passivation layer. 제2항에서,In claim 2, 상기 제1 및 제2 화소 전극이 상기 화소 영역의 상하 이등분선에 대하여 실질적으로 거울상 대칭을 이루는 박막 트랜지스터 표시판.The thin film transistor array panel of claim 1, wherein the first and second pixel electrodes are substantially mirror-symmetric with respect to upper and lower bisectors of the pixel region. 제6항에서,In claim 6, 상기 제1 화소 전극과 상기 제2 화소 전극의 서로 인접한 경계선 중 긴변 2개는 제1 신호선과 45°를 이루는 박막 트랜지스터 표시판.2. The thin film transistor array panel of claim 1, wherein two long sides of adjacent boundary lines between the first pixel electrode and the second pixel electrode form a 45 ° angle with the first signal line. 제2항에서,In claim 2, 상기 제2 신호선과 절연되어 교차하고 있으며 기준 전위가 인가되는 제3 신호선을 더 포함하는 박막 트랜지스터 표시판.And a third signal line insulated from and intersecting the second signal line and to which a reference potential is applied. 제8항에서,In claim 8, 상기 제3 신호선의 일부는 상기 제2 박막 트랜지스터의 상기 제3 단자와 중첩되어 있는 박막 트랜지스터 표시판.A portion of the third signal line overlaps with the third terminal of the second thin film transistor. 제2항에서,In claim 2, 상기 제1 화소 전극의 면적과 상기 제2 화소 전극의 면적은 50:50-80:20 범위인 박막 트랜지스터 표시판.The area of the first pixel electrode and the area of the second pixel electrode are in a range of 50: 50-80: 20. 제2항에서,In claim 2, 상기 제1 박막 트랜지스터에 연결되어 있는 제3 화소 전극을 더 포함하는 박막 트랜지스터 표시판.And a third pixel electrode connected to the first thin film transistor. 제1 절연 기판,First insulating substrate, 상기 제1 절연 기판 위에 형성되어 있으며 제1 및 제2 게이트 전극을 포함하는 게이트선,A gate line formed on the first insulating substrate and including first and second gate electrodes; 상기 게이트선 위에 형성되어 있는 게이트 절연막,A gate insulating film formed on the gate line, 상기 게이트 절연막 위에 형성되어 있는 반도체층,A semiconductor layer formed on the gate insulating film, 상기 반도체층 위에 형성되어 저항성 접촉층,An ohmic contact layer formed on the semiconductor layer; 상기 게이트 절연막 위에 형성되어 있으며 적어도 일부가 상기 저항성 접촉층 위에 형성되어 있는 제1 소스 전극을 포함하는 데이터선,A data line formed on the gate insulating layer and including at least a portion of a first source electrode formed on the ohmic contact layer; 적어도 일부가 상기 저항성 접촉층 위에 형성되어 있으며 상기 제1 게이트 전극에 대하여 상기 1 소스 전극과 각각 대향하는 제1 및 제2 드레인 전극,First and second drain electrodes at least partially formed on the ohmic contact layer and facing the first source electrode with respect to the first gate electrode, 상기 게이트 절연막 상부에 형성되어 있으며, 상기 제2 게이트 전극을 중심으로 서로 마주하는 제2 소스 전극과 제3 드레인 전극,A second source electrode and a third drain electrode formed on the gate insulating layer and facing each other with respect to the second gate electrode; 상기 게이트 절연막 위에 형성되어 있는 결합 전극,A coupling electrode formed on the gate insulating film, 상기 데이터선, 상기 제2 소스 전극 및 제1 내지 제3 드레인 전극 및 상기 결합 전극 위에 형성되어 있는 보호막,A passivation layer formed on the data line, the second source electrode, the first to third drain electrodes, and the coupling electrode; 상기 보호막 위에 형성되어 있으며 상기 제1 드레인 전극과 상기 제2 소스 전극에 연결되어 있는 제1 화소 전극,A first pixel electrode formed on the passivation layer and connected to the first drain electrode and the second source electrode; 상기 제1 화소 전극과 절연되어 있고, 상기 제2 드레인 전극과 연결되어 있고 상기 결합 전극과 적어도 일부분이 중첩하는 제2 화소 전극,A second pixel electrode insulated from the first pixel electrode, connected to the second drain electrode, and overlapping at least a portion of the coupling electrode; 상기 제1 절연 기판과 대향하고 있는 제2 절연 기판,A second insulating substrate facing the first insulating substrate, 상기 제2 절연 기판 위에 형성되어 있는 공통 전극,A common electrode formed on the second insulating substrate, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중의 적어도 하나에 형성되어 있는 제1 도메인 분할 수단,First domain dividing means formed on at least one of the first substrate and the second substrate, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중의 적어도 하나에 형성되어 있으며 상기 제1 도메인 분할 수단과 함께 화소 영역을 다수의 소도메인으로 분할하는 제2 도메인 분할 수단Second domain dividing means formed on at least one of the first substrate and the second substrate and dividing the pixel region into a plurality of small domains together with the first domain dividing means; 을 포함하는 액정 표시 장치.Liquid crystal display comprising a. 제12항에서,In claim 12, 상기 결합 전극은 상기 제3 드레인 전극으로부터 연장되어 있는 액정 표시 장치.And the coupling electrode extends from the third drain electrode. 제12항에서,In claim 12, 상기 제1 도메인 분할 수단은 상기 제1 화소 전극과 상기 제2 화소 전극 중의 적어도 하나가 가지는 절개부이고,The first domain dividing means is a cutout portion of at least one of the first pixel electrode and the second pixel electrode. 상기 제2 도메인 분할 수단은 상기 공통 전극이 가지는 절개부인 액정 표시 장치.And the second domain dividing means is a cutout of the common electrode. 제12항에서,In claim 12, 상기 제1 화소 전극의 면적과 상기 제2 화소 전극의 면적은 50:50-80:20 범위인 액정 표시 장치.The area of the first pixel electrode and the area of the second pixel electrode are in a range of 50: 50-80: 20. 제12항에서,In claim 12, 적어도 일부가 상기 저항성 접촉층 위에 형성되어 있으며 상기 제1 게이트 전극에 대하여 상기 1 소스 전극과 대향하는 제4 드레인 전극,A fourth drain electrode formed on at least a portion of the ohmic contact layer and facing the first source electrode with respect to the first gate electrode, 상기 제4 드레인 전극과 연결되어 있는 제3 화소 전극A third pixel electrode connected to the fourth drain electrode 을 더 포함하는 액정 표시 장치.Liquid crystal display further comprising. 제12항에서,In claim 12, 상기 보호막은 유기 절연 물질로 이루어진 액정 표시 장치.The passivation layer is formed of an organic insulating material. 제12항에서,In claim 12, 상기 반도체층은 상기 데이터선의 하부까지 연장되어 있는 액정 표시 장치.And the semiconductor layer extends below the data line. 제12항에서,In claim 12, 상기 제1 및 상기 제2 절연 기판 중 하나의 상부에 형성되어 있는 색 필터를 더 포함하는 액정 표시 장치.And a color filter formed on one of the first and second insulating substrates. 제1 신호선,First signal line, 상기 제1 신호선과 절연되어 교차하고 있는 제2 신호선,A second signal line insulated from and intersecting the first signal line, 상기 제1 신호선과 상기 제2 신호선이 교차하여 정의하는 각 화소 영역마다 형성되어 있으며, 서로 분리되어 있는 제1 및 제2 화소 전극,First and second pixel electrodes formed in respective pixel regions defined by crossing the first signal line and the second signal line, and separated from each other; 상기 제1 및 제2 화소 전극과 마주하는 공통 전극A common electrode facing the first and second pixel electrodes 을 포함하며,Including; 상기 공통 전극의 공통 전압에 대하여 상기 제1 및 제2 화소 전극의 제1 및 제2 화소 전압은 상기 제2 신호선을 통하여 전달되는 화상 신호 전압과 다른 액정 표시 장치.The first and second pixel voltages of the first and second pixel electrodes with respect to the common voltage of the common electrode are different from the image signal voltage transmitted through the second signal line. 제20항에서,The method of claim 20, 상기 제1 화소 전압의 절대값은 상기 제2 화소 전압의 절대값보다 작은 액정 표시 장치.The absolute value of the first pixel voltage is less than the absolute value of the second pixel voltage. 제20항에서,The method of claim 20, 상기 제1 및 제2 화소 전극에 공통으로 전달되는 상기 화상 신호 전압을 제어하는 제1 박막 트랜지스터를 더 포함하는 액정 표시 장치.And a first thin film transistor configured to control the image signal voltage which is commonly transmitted to the first and second pixel electrodes. 제22항에서,The method of claim 22, 상기 제1 화소 전극에 연결되어 있으며, 하나의 단자는 상기 제2 화소 전극은 결합 용량으로 연결하는 제2 박막 트랜지스터를 더 포함하는 액정 표시 장치. And a second thin film transistor connected to the first pixel electrode and having one terminal connected to the second pixel electrode with a coupling capacitance. 제23항에서,The method of claim 23, 상기 제2 박막 트랜지스터에 연결되어 있으며, 상기 제2 화소 전극과 절연 상태로 중첩하고 있는 결합 전극을 더 포함하는 액정 표시 장치.And a coupling electrode connected to the second thin film transistor and overlapping the second pixel electrode in an insulated state. 제24항에서,The method of claim 24, 상기 제1 화소 전극과 상기 제2 화소 전극 중 적어도 하나는 도메인 분할 수단을 가지는 액정 표시 장치.And at least one of the first pixel electrode and the second pixel electrode has domain dividing means. 제24항에서,The method of claim 24, 상기 결합 전극은 상기 제2 박막 트랜지스터의 드레인 전극으로부터 연장되어 있는 액정 표시 장치.And the coupling electrode extends from the drain electrode of the second thin film transistor. 제24항에서,The method of claim 24, 상기 제1 및 제2 화소 전극이 상기 화소 영역의 상하 이등분선에 대하여 실질적으로 거울상 대칭을 이루는 액정 표시 장치.And the first and second pixel electrodes are substantially mirror-symmetric with respect to upper and lower bisectors of the pixel region. 제27항에서,The method of claim 27, 상기 제1 화소 전극과 상기 제2 화소 전극의 서로 인접한 경계선 중 긴변 2개는 제1 신호선과 45°를 이루는 액정 표시 장치.And two long sides of adjacent boundary lines between the first pixel electrode and the second pixel electrode are 45 ° with the first signal line. 제20항에서,The method of claim 20, 상기 제1 화소 전극의 면적과 상기 제2 화소 전극의 면적은 50:50-80:20 범위인 액정 표시 장치.The area of the first pixel electrode and the area of the second pixel electrode are in a range of 50: 50-80: 20. 제20항에서,The method of claim 20, 상기 화상 신호 전압이 전달되는 제3 화소 전극을 더 포함하는 액정 표시 장치.And a third pixel electrode to which the image signal voltage is transmitted.
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