KR20050004351A - UV Exposure apparatus of LCD substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, LCD 기판의 노광 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 마스크를 사용하지 않고 실 라인(seal line)을 노광하는 LCD 기판의 노광장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus for an LCD substrate, and more particularly, to an exposure apparatus for an LCD substrate that exposes a seal line without using a mask.
일반적으로, LCD(Liquid Crystal Display) 제작 공정은, 배향막 및 러빙(Rubbing)공정과 기판 어셈블리(Assembly) 공정과 액정 주입의 공정을 수행하여, 완성된 LCD를 제조한다.In general, a liquid crystal display (LCD) manufacturing process performs an alignment film, a rubbing process, a substrate assembly process, and a liquid crystal injection process to manufacture a completed LCD.
그러나, 종래의 LCD공정을 통해서는 기판과 기판 사이의 간격을 줄여 반응이 빠른 제품을 제조하기 어렵다. 또한, 큰 사이즈의 LCD를 제조하는데 있어 액정 주입 공정을 진공 분위기 하에서 수행하는데 어려움이 있다. 이러한 문제점들을 해결하는 공정이 최근에 많이 행해지고 있는 ODF(one drop filling) 공정이다.However, it is difficult to manufacture a fast reaction product by reducing the gap between the substrate and the substrate through the conventional LCD process. In addition, there is a difficulty in performing a liquid crystal injection process in a vacuum atmosphere in manufacturing a large size LCD. The process of solving these problems is an ODF (one drop filling) process that is being performed a lot recently.
ODF공정은, 제 1기판과 제 2기판 사이에 UV 실란트(Ultra Violet sealant)를 마련하고, 상기 UV 실란트에 UV광을 조사하여 경화시키는 것에 의해 제1기판과 제2기판을 합착시키는 노광 공정을 포함하고 있다.In the ODF process, an ultraviolet light sealant (Ultra Violet sealant) is provided between the first substrate and the second substrate, and the exposure process is performed by bonding the first substrate and the second substrate by irradiating and curing the UV sealant with UV light. It is included.
이러한 종래의 노광 공정에 있어서는 UV광을 조사할 때 액티브(Active) 영역에 UV가 조사되지 않도록 마스크를 적용하고 있는 것이 일반적이다.In such a conventional exposure process, it is common to apply a mask so that UV is not irradiated to an active area when irradiating UV light.
도 1은 종래 기술에 따른 ODF 공정이다. 이 도면에서 도시 된 바와 같이, 종래의 공정은 제1기판(10)과 제2기판(20) 준비 및 제1기판에 실 라인 그리기(S1), 진공 챔버(Chamber)에서 액정 액 강하(S2), 제1기판(10)과 제2기판(20) 합착(S3), 커팅(cutting)(S4)의 공정으로 진행된다. 제1기판과 제2기판 준비 및 실 라인 그리기 공정(S1)에서는 스페이서(spacer)를 마련하여 제1 기판(10)과 제2기판(20)의 간격을 조정하는 공정이 포함된다.1 is an ODF process according to the prior art. As shown in this figure, the conventional process is preparing the first substrate 10 and the second substrate 20, drawing a seal line on the first substrate (S1), the liquid crystal liquid drop (S2) in the vacuum chamber (Chamber) The first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other (S3) and the cutting (cutting) (S4) process. The first substrate and the second substrate preparation and seal line drawing process S1 includes a process of adjusting a gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 by providing a spacer.
액정 강하 공정(S2)에서는 진공 챔버 안에서 액정이 흐르지 않도록 실 라인 안에 LC액을 넣는다.In the liquid crystal dropping step (S2), the LC liquid is put into the seal line so that the liquid crystal does not flow in the vacuum chamber.
기판 합착(S3)에서는 제1기판(10)과 제2기판(20)을 합착하기 위해 배향막과 액정 부분에 마스크를 씌워 상기 배향막과 액정 부분을 UV광으로부터 차광하도록 한 후, UV광을 조사하여 UV 실란트를 경화시킴으로써, 제1기판(10)과 제2기판(20)을 합착한다.In the substrate bonding S3, a mask is placed on the alignment layer and the liquid crystal part to bond the first substrate 10 and the second substrate 20 to shield the alignment layer and the liquid crystal part from UV light, and then irradiate UV light. By curing the UV sealant, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together.
커팅 공정(S4)에는 UV광 차단 마스크를 벗기고, 액정이 들어 있는 실 라인 주변밖에 불필요한 기판을 컷팅 한다.In the cutting process S4, the UV light blocking mask is removed, and the unnecessary substrate is cut only around the seal line containing the liquid crystal.
그러나, 이러한 종래의 UV 실란트를 사용한 노광 장치는 마스크를 쿼츠(Quartz)나 유리기판 위에 LCD의 액티브 영역부분을 UV가 투과하지 않는 물질, 대표적으로 금속 등으로 패터닝하여 사용하고 있다.However, in the exposure apparatus using the conventional UV sealant, a mask is patterned on a quartz or glass substrate with a material that does not transmit UV, typically a metal, on the active region of the LCD.
그리고 점점 LCD가 대형화되고 있는 추세에 마스크를 대형화된 쿼츠로 제작은 불가능해지고, 유리 마스크를 사용하는 경우에는 작업성 및 공정성이 크게 떨어지는 문제점이 있었다.In addition, as LCDs are becoming larger in size, it is impossible to manufacture masks in large-sized quartz, and in the case of using glass masks, workability and fairness are inferior.
또한, 300nm이하의 UV는 배향막과 액정을 변형을 일으켜, 얼룩 또는 구동시에 표시 품질을 저하시키는 문제점도 있다.In addition, UV of 300 nm or less may cause deformation of the alignment film and the liquid crystal, thereby degrading display quality during unevenness or driving.
따라서, 본 발명의 목적은, 공정의 단순화와 품질 좋은 LCD를 생산할 수 있는 노광 장치를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of simplifying the process and producing a high quality LCD.
도 1은 종래 액정표시장치의 제조 공정 흐름도이고,1 is a flowchart of a manufacturing process of a conventional liquid crystal display device;
도 2는 본 발명의 노광 장치의 사시도이고,2 is a perspective view of an exposure apparatus of the present invention,
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ'에 따른 단면도이고,3 is a cross-sectional view taken along line III-III ′ of FIG. 2,
도 4는 투과슬릿의 개폐를 위한 셔터의 동작도이고,4 is an operation of the shutter for opening and closing of the transmission slit,
도 5는 단위 투과슬릿의 확대도이고,5 is an enlarged view of a unit transmission slit,
도 6은 본 발명에 따른 노광장치의 제어 블록도이다.6 is a control block diagram of an exposure apparatus according to the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
1 : 램프하우징 2 : 하우징 구동부1 lamp housing 2 housing drive part
10 : 제 1기판 20 : 제 2기판10: first substrate 20: second substrate
30 : 가로 방향1번 실 라인 31 : 세로 방향1번 실 라인30: horizontal direction # 1 thread line 31: vertical direction # 1 thread line
32 : 세로 방향2번 실 라인 33 : 가로 방향2번 실 라인32: vertical thread line 2 33: horizontal thread line 2
40 : UV 광 50 : 차광 마스크40: UV light 50: shading mask
60 : 반사판 70 : UV 램프60: reflector 70: UV lamp
80 : 집광렌즈 90 : 투과슬릿80: condenser lens 90: transmissive slit
91 : 슬릿부재 100 : 셔터91: slit member 100: shutter
105 : 회전축 110 : 구동부105: rotating shaft 110: drive unit
120 : 제어부 130 : 데이터 메모리120: control unit 130: data memory
상기 목적은, 본 발명에 따라, LCD 기판 상에 자외선에 의해 노광되며 실란트에 의해 형성된 실 라인을 노광시키기 위한 노광장치에 있어서, UV 램프와; 상기 UV 램프에 의해 형성된 자외선 광을 통과시켜 LCD기판에 투사 되도록 하는 적어도 하나의 투과슬릿을 가지고 상기 LCD기판 면을 따라 이동하는 램프하우징과; 상기 투과슬릿을 적어도 일부 구간 차단 및 개방을 할 수 있는 적어도 하나의 셔터와; 상기 램프하우징이 상기 기판 면을 따라 이동 할 때 상기 실란트에 대응하는 슬릿구간이 개폐되도록 하는 셔터 구동부를 제어하는 제어부를 포함하는 것에 의해 달성된다.The object is, according to the present invention, an exposure apparatus for exposing a seal line formed by a sealant and exposed by ultraviolet light on an LCD substrate, comprising: a UV lamp; A lamp housing moving along the surface of the LCD substrate with at least one transmissive slit for passing the ultraviolet light generated by the UV lamp to be projected onto the LCD substrate; At least one shutter capable of blocking and opening at least a portion of the transmission slit; And a control unit for controlling the shutter driver to open and close the slit section corresponding to the sealant when the lamp housing moves along the substrate surface.
여기서, 상기 투과슬릿은 상기 램프하우징이 이동되는 방향의 가로 방향으로 형성되는 것이 바람직하다.Here, the transmission slit is preferably formed in the transverse direction of the direction in which the lamp housing is moved.
또한, 상기 투과 슬릿은 0.5mm 내지 2.0mm의 폭으로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the transmission slit is preferably formed in a width of 0.5mm to 2.0mm.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명에서는 ODF 공정상에서 행하여지는 것을 예로 한다.In this invention, what is performed on the ODF process is taken as an example.
도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 노광 장치의 사시도 및 단면도에 관한 도면이다. 도 2의 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 노광 장치는 UV 광을 발광하는 UV 램프(70)와 LCD 기판 면을 따라 이동하는 램프하우징(1)과 UV 광을 투과하는 투과슬릿(90)과 투과슬릿(90)의 개폐를 결정하는 셔터(100)와 하우징 구동부와 셔터 구동부를 제어하는 제어부를 포함한다. 하우징 구동부과 제어부는 종래에 쓰이는 장비이므로 미도시하였다.2 and 3 are views of a perspective view and a cross-sectional view of the exposure apparatus according to the present invention. As shown in the figure of FIG. 2, the exposure apparatus according to the present invention includes a UV lamp 70 for emitting UV light, a lamp housing 1 moving along the LCD substrate surface, and a transmission slit 90 for transmitting UV light. ) And a shutter 100 for determining the opening and closing of the transmission slit 90, a control unit for controlling the housing driver and the shutter driver. The housing driver and the controller are not shown because they are conventionally used equipment.
UV 램프(70)는 UV 실란트를 경화시키기 위해 UV 광을 발광하는 램프이다.The UV lamp 70 is a lamp that emits UV light to cure the UV sealant.
램프하우징(1)은 UV 광을 모아주는 반사판(60)과, UV 광을 집광해 주는 집광렌즈(80)와, UV 광을 투과하는 투과슬릿(90)을 포함한다.The lamp housing 1 includes a reflector 60 for collecting UV light, a condenser lens 80 for condensing UV light, and a transmission slit 90 for transmitting UV light.
여기서, 반사판(60)과 집광렌즈(80)는 UV 램프(70)에서 발광하는 UV 광의 세기가 약하게 될 수도 있기 때문에 UV 광의 세기 조절 및 UV 광을 모아 주는 역할을 한다.Here, the reflector 60 and the condenser lens 80 may serve to control the intensity of the UV light and collect the UV light because the intensity of the UV light emitted from the UV lamp 70 may be weakened.
투과슬릿(90)은 UV를 투과 시키는 역할을 하는데 도 5는 투과슬릿의 확대도이다. 투과슬릿(90)의 폭은 0.5 내지 2.0mm로 하는 것이 바람직하다. 이는 실 라인(30)의 폭이 대략 0.5 내지 1.5mm 이며 BM(black matrix)의 폭이 2 내지 4mm 정도 된다. 이것 때문에 투과슬릿(90)의 폭이 2.0mm 이상이 되면 조사되는 UV 광이 액정을 구동 시키는 액티브 영역에까지 영향을 준다. 이로 인해 배향막 및 액정을 손상 시켜 얼룩등과 같은 문제점을 유발 시킬 수 있다. 반면, 투과슬릿(90)의 폭이 0.5mm 이하가 되면 UV 광의 충분한 세기를 얻지 못해 UV 실란트를 경화시키기에 충분한 UV 조사량을 얻지 못하게 될 수도 있다.The transmission slit 90 serves to transmit UV, but FIG. 5 is an enlarged view of the transmission slit. The width of the transmission slit 90 is preferably 0.5 to 2.0 mm. This is approximately 0.5 to 1.5mm in width of the seal line 30 and 2 to 4mm in width of the black matrix (BM). For this reason, when the width | variety of the transmission slit 90 becomes 2.0 mm or more, the irradiated UV light will affect the active area which drives a liquid crystal. This may cause problems such as staining by damaging the alignment layer and the liquid crystal. On the other hand, when the width of the transmissive slit 90 is 0.5 mm or less, sufficient intensity of UV light may not be obtained, and thus, a sufficient amount of UV radiation may be obtained to cure the UV sealant.
하우징 구동부(2)는 UV 광을 충분히 얻도록 기판 면과 램프하우징(1)이 수직을 이루도록 해준다. 또한, 하우징 구동부(2)는 램프하우징(1)이 기판 면을 따라 스캔하도록 구동하는데, UV 광의 충분한 조사량을 위해서 램프하우징(1)의 스캔 구동속도를 제어하거나 투과슬릿을 여러 개 설치하여 충분한 조사량을 얻을 수도 있다.The housing driver 2 allows the substrate face and the lamp housing 1 to be perpendicular to the UV light sufficiently. In addition, the housing driver 2 drives the lamp housing 1 to scan along the surface of the substrate, and in order to provide a sufficient irradiation amount of UV light, the driving amount of the lamp housing 1 is controlled by controlling the scan driving speed of the lamp housing 1 or by installing several transmission slits. You can also get
이러한 투과슬릿(90)에 의해서, 마스크 제작이 필요 없게 되었으며, 공정의 단순화 효과가 있다. 또한, 투과슬릿(90)을 멀티로 구성하여 구동 속도를 높임으로써 생산성이 향상 될 수 있다.By the transmissive slit 90, no mask fabrication is required, and the process is simplified. In addition, the productivity can be improved by increasing the driving speed by configuring the transmission slit 90 in a multi.
도 4은 투과슬릿의 개폐를 위한 셔터의 동작도이다. 셔터(100)는 투과슬릿(90)의 하부에 배치된다. 셔터(120)는 셔터의 회전축(105)과 회전축 구동을 위한 구동부(110)를 포함한다. 구동부(110)는 셔터(100)를 전체 또는 개별적으로 구동이 가능하게 하였다. 또한, 셔터(100)의 동작을 통해 UV 광의 차광과 노광 부분을 구별하여 선택적으로 조사 할 수 있다.4 is an operation diagram of a shutter for opening and closing the transmission slit. The shutter 100 is disposed under the transmission slit 90. The shutter 120 includes a rotating shaft 105 of the shutter and a driving unit 110 for driving the rotating shaft. The driving unit 110 may drive the shutter 100 entirely or individually. In addition, through the operation of the shutter 100 can be selectively irradiated by distinguishing the light shielding and the exposure portion of the UV light.
도 4의 도면을 참조하면, 셔터의 구동부(110)에 의해서 회전축(105)이 구동되어 개별 슬릿 및 전체 투과슬릿은 전체 및 일부가 차단된다.Referring to the drawing of FIG. 4, the rotating shaft 105 is driven by the driving unit 110 of the shutter so that the individual slits and the entire transmissive slits are blocked in whole and in part.
구동부(110)는 리니어 모터 또는 마이크로 모터 등 다양한 구동방식을 포함한다.The driving unit 110 includes various driving methods such as a linear motor or a micro motor.
셔터(100)는 램프 하우스(1)가 이동하면서 기판(10) 위에 형성된 실 라인(30)의 모양에 따라 슬릿(90)의 개폐를 결정짓는다. 액티브(Active) 영역에는 UV 광이 노광 되지 않도록 셔터(100)로 개폐를 연속적으로 한다.The shutter 100 determines the opening and closing of the slit 90 according to the shape of the seal line 30 formed on the substrate 10 while the lamp house 1 moves. In the active area, the shutter 100 is opened and closed continuously so that UV light is not exposed.
도 6은 본 발명에 따른 노광장치의 제어 블록도이다. 제어부(120)는 저장된데이터 메모리(130)에 의해 UV광을 발광하는 UV 램프(70)와 셔터(100)의 개폐를 동작하는 셔터 구동부(110)와 램프하우스(1)가 소정의 위치로 이동하도록 하는 하우징 구동부(2)를 제어 한다. UV 램프(70)는 UV 광을 발광 하도록 제어부(120)에서 ON/OFF 할 수 있다. 하우징 구동부(2)는 램프하우스(1)가 제어부(120)에 의해 기판 면을 따라 이동하도록 한다. 셔터 구동부(110)는 제어부(120)를 통해 셔터의 동작으로 투과슬릿(90)의 개폐를 결정한다. 제어부(120)는 저장된 데이터 메모리(130)에 따라 가로방향1번 실 라인(30)에 위치했을 때 셔터는 모두 열림(open)상태가 된다. 셔터(100)가 열림 상태가 됨으로 UV광이 투과슬릿(90)을 투사하여 실란트를 경화시킨다. 램프하우징(1)이 세로방향1번(31)과 세로방향2번 실란트(32)에 도달했을 때는 셔터가 액티브 영역부분에서 닫힘(close)상태로 되고, 양쪽 실 라인 위치(세로방향1번 실라인(31), 세로방향2번 실라인(32))에서는 셔터가 열림상태로 되여 UV광이 투과하여 실 라인을 경화 시킨다. 또한 램프하우징(1)이 가로방향2번 실 라인(33)에 도달 했을 때는 가로 방향1번(30) 실 라인을 경화 시키는 동작과 같은 동작을 한다. 제어부(120)는 셔터(100)가 연속적으로 개폐하도록 제어하여 형성된 실 라인의 모양과 크기에 따라 실 라인을 노광할 수 있게 한다.6 is a control block diagram of an exposure apparatus according to the present invention. The controller 120 moves the UV lamp 70 emitting the UV light by the stored data memory 130, the shutter driver 110 operating the opening and closing of the shutter 100, and the lamp house 1 to a predetermined position. To control the housing drive unit (2). The UV lamp 70 may be turned on / off by the controller 120 to emit UV light. The housing driver 2 allows the lamp house 1 to move along the substrate surface by the controller 120. The shutter driver 110 determines the opening and closing of the transmission slit 90 through the operation of the shutter through the controller 120. When the control unit 120 is located in the horizontal direction first seal line 30 according to the stored data memory 130, all of the shutters are in an open state. As the shutter 100 is opened, UV light projects the transmission slit 90 to cure the sealant. When the lamp housing 1 reaches the longitudinal direction 1st 31 and the longitudinal direction 2nd sealant 32, the shutter is closed in the active area and both seal line positions (vertical direction 1st) In the phosphorus 31 and the second longitudinal seal line 32, the shutter is opened and UV light is transmitted to cure the seal line. In addition, when the lamp housing 1 reaches the seal line 33 in the lateral direction 2, the lamp housing 1 performs the same operation as the curing of the seal line in the lateral direction 1 30. The control unit 120 controls the shutter 100 to be continuously opened and closed to expose the seal line according to the shape and size of the seal line.
이와 같이, ODF 공정에서 실 라인(30)을 경화시키는 노광 단계에 있어서 UV 램프와 램프하우징(1)과, 투과슬릿(90)과 셔터(100)와 구동부(110)와 제어부(120)를 마련하였다. 이 노광장치를 통해 액정 영역에 손상을 주지 않고 실 라인을 따라 노광함으로써 대형화된 마스크 제작이 필요 없게 되었다. 또한, 본 발명의 노광 장치는 판넬 패턴에 관계없이 적용이 가능하고, 마스크의 취급이 없으므로 설비 및작업이 간단해 진다. 크기가 다른 유리기판으로 교환할 경우도 부수적인 작업이 제거됨으로써, 제품의 질 향상과 생산성을 향상시킬 수 있다.As such, in the exposure step of curing the seal line 30 in the ODF process, a UV lamp and a lamp housing 1, a transmission slit 90, a shutter 100, a driver 110, and a controller 120 are provided. It was. The exposure apparatus was exposed along the seal line without damaging the liquid crystal region through the exposure apparatus, thereby making it unnecessary to fabricate a larger mask. In addition, the exposure apparatus of the present invention can be applied irrespective of the panel pattern, and there is no handling of the mask, thereby simplifying installation and operation. In the case of replacing glass substrates of different sizes, the secondary work is eliminated, thereby improving product quality and productivity.
상기 실시 예에서 기판 합착 단계에 대해 설명했지만, 본 발명에 따라 차광과 노광의 구분이 필요한 기판이라면 어떠한 형태의 실 라인에 대해 한정 되지 않고 적용이 가능하다.Although the substrate bonding step has been described in the above embodiment, any substrate that requires the separation of light shielding and exposure according to the present invention may be applied without being limited to any type of seal line.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 본 발명의 노광장치는 판넬 패턴(panel pattern)에 상관없이 적용이 가능하고 마스크 제작의 공정이 없어 설비 및 작업, 제작 공정을 단순화 시킨다. 본 발명의 노광장치는 UV가 액티브 영역의 조사로 인해 제품의 질 저하가 일어나는 것을 줄일 수 있다. 또한, 본 발명의 노광장치는 크기가 다른 유리기판을 교환할 경우 마스크의 교환 등의 부수적인 작업이 없어지므로 전체 공정의 단축으로 생산성을 높일 수 있다.As described above, according to the present invention, the exposure apparatus of the present invention can be applied irrespective of a panel pattern, and there is no mask manufacturing process, thereby simplifying equipment, work, and manufacturing process. The exposure apparatus of the present invention can reduce the deterioration of the product due to the UV irradiation of the active region. In addition, since the exposure apparatus of the present invention replaces glass substrates of different sizes, the secondary work such as replacement of the mask is eliminated, and thus productivity can be increased by shortening the entire process.
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100698593B1 (en) * | 2005-10-21 | 2007-03-22 | 주식회사 디엠에스 | Apparatus for hardening sealant |
| KR100780367B1 (en) * | 2006-12-22 | 2007-11-30 | (주)리드 | Apparatus for hardening sealant of substrate for liquid crystal display panel and method for hardening sealant using the same |
| KR101011778B1 (en) * | 2008-10-08 | 2011-02-07 | 에이피시스템 주식회사 | Hardening module and substrate bonding apparatus |
| WO2020199247A1 (en) * | 2019-04-04 | 2020-10-08 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Sealant curing device and method |
| KR20200141644A (en) * | 2019-06-11 | 2020-12-21 | 세메스 주식회사 | Apparatus for curing droplet |
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