KR20050000585A - Method for manufacturing microchip - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 마이크로칩의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 PDMS를 이용한 실험실 칩 채널 내부를 코팅하기 위해 사진공정을 이용하여 미세유로를 형성하고 이온보조반응 진공증착법을 이용하여 상온에서 칩 채널 내부에 SiO2박막을 증착하여 채널 내부를 코팅함으로써 유기용매에 대한 적용성을 개선하고 특정반응을 수행하여 분석시 검출한계를 향상시킬 수 있도록 한 마이크로칩의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a microchip, and more particularly, to form a micro channel using a photo process to coat the inside of a laboratory chip channel using PDMS, and inside the chip channel at room temperature using an ion assist reaction vacuum deposition method. The present invention relates to a method for manufacturing a microchip in which an SiO 2 thin film is coated on a channel to improve the applicability to an organic solvent and perform a specific reaction to improve a detection limit in an analysis.
최근 합성화학과 생명과학의 발전으로 신약개발이나 진단 등의 분야에서 분석해야 하는 표적물질의 증가를 가져오게 되었고, 이에 따라 고가의 시약이나 시료가 다량으로 필요하게 되어 극미량 분석을 통한 비용 절감의 필요성이 높아지고 있다.Recent advances in synthetic chemistry and life sciences have led to an increase in target materials that need to be analyzed in new drug development and diagnostics, and as a result, expensive reagents and samples are required in large quantities, which leads to the need for cost reduction through trace analysis. It is rising.
극미량의 시료나 시약을 다루는 일의 비중이 증가하면서 각광받게 된 것이 실험실칩(lab-on-a-chip) 기술이다. 실험실칩은 반도체 분야에서 널리 사용되는 사진식각인쇄(photolithography)기술이나 미세 가공 기술(micromachining)을 이용하여 유리, 실리콘 또는 플라스틱으로 된 수 ㎠ 크기의 칩 위에 여러 가지 장치들을 집적시킨 화학 마이크로 프로세서로서, 고속, 고효율 및 저비용의 자동화된 실험이가능하다.Lab-on-a-chip technology has come to the fore in the face of the increasing proportion of working with very small amounts of samples or reagents. Laboratory chips are chemical microprocessors that integrate various devices on a few cm 2 chip made of glass, silicon, or plastic using photolithography or micromachining techniques widely used in the semiconductor field. High speed, high efficiency and low cost automated experiments are possible.
실험실칩 내에서 극미량 유체를 이송하는 방법은 시료의 양이 매우 작고, 대부분의 경우 유체의 이송이 매우 작은 크기의 미세 채널에서 이루어지므로 기존의 유체 이송방법과는 전혀 다르다.The method of transporting trace fluid in the lab chip is very different from the existing fluid transport method because the amount of sample is very small and in most cases the fluid is transported in a very small microchannel.
PDMS(poly dimethyl siloxane)을 이용한 실험실 칩은 펌프나 밸브 등의 유체 제어장치 없이 전기장만으로 유체의 흐름을 조절할 수 있어 장치가 매우 간단하며 운용이 용이하고, 고속 분석이 가능하다.The lab chip using PDMS (poly dimethyl siloxane) can control the flow of fluid through the electric field without the need for fluid control devices such as pumps or valves, making the device very simple, easy to operate, and high-speed analysis.
이와 같은 PDMS를 이용한 실험실 칩의 핵심은 분리분석이 일어나는 미세유로가 새겨진 마이크로칩으로써 마이크로칩의 최근 제작동향은 네 가지가 주류를 이루고 있다. 즉, 실리콘 타입, 유리형, 폴리머 형 그리고 두가지 이상의 조합으로 이루어진 조합형이 있다.The core of the lab chip using PDMS is a microchip engraved with a microchannel in which separation analysis takes place. There are four main trends in the manufacturing of microchips. That is, there are silicon type, glass type, polymer type and combination type consisting of two or more combinations.
그 중 첫째, 실리콘 타입의 경우는 복잡한 3차원 구조의 제작이 용이하며, 각 공정의 노하우가 많이 알려져 있다. 뿐만 아니라 MOS 트랜지스터를 비롯한 각종 소자들을 칩 안에 집어넣을 수가 있어서 진정한 의미의 실험실칩(Lab-on-a-chip)을 구현할 수 있다.First of all, in the case of silicon type, it is easy to manufacture a complex three-dimensional structure, and the know-how of each process is known a lot. In addition, MOS transistors and other devices can be inserted into the chip, creating a true lab-on-a-chip.
그러나 상기 실리콘 타입은 실리콘 위에 금속막 히터를 구현하거나 DNA분리를 위한 전기영동시 전극간 절연파괴가 일어나기 쉬운 단점이 있다. 또한 실리콘은 불투명하기 때문에 DNA나 단백질 분석에 통상적으로 사용되는 자외선-가시광선 분광 광도법이나 형광 검출법을 사용하기가 용이하지 않은 문제점이 있다.However, the silicon type has a disadvantage in that the breakdown between the electrodes is likely to occur when the metal film heater is implemented on the silicon or during electrophoresis for DNA separation. In addition, since silicon is opaque, there is a problem in that it is not easy to use ultraviolet-visible spectrophotometry or fluorescence detection method commonly used for DNA or protein analysis.
둘째, 유리형 칩의 경우는 절연성 및 열적 안정성이 뛰어나고 광학적 검출방법을 사용할 경우 아주 유리하다. 하지만 에칭이나 접합과 같은 제조공정 상에서 발생하는 다수의 기술적인 어려움이 단점으로 대두되고 있다.Secondly, the glass type chip has excellent insulation and thermal stability and is very advantageous when the optical detection method is used. However, a number of technical difficulties that arise during the manufacturing process, such as etching or bonding has emerged as a disadvantage.
셋째, 최근 들어 가장 각광을 받고 있는 것으로써 폴리머형 칩은 주로 PMMA(poly methylmeth acrylate), PDMS(poly dimethly siloxane), 폴리탄산에스테르(Poly carbonate), 폴리프로필렌(Poly propylene)등 MEMS (Micro Electric Mechanical System) 분야에서 많이 사용하는 고분자 재료를 이용한다. 이와 같은 재료를 이용한 폴리머형 칩은 제조단가가 매우 저렴하고 대량생산이 용이하며 다양한 구조를 용이하게 형성하는 장점을 구비한다.Third, polymer chips are the most in the spotlight in recent years. MEMS (Micro Electric Mechanical) such as PMMA (poly methylmeth acrylate), PDMS (poly dimethly siloxane), poly carbonate, poly propylene, etc. It uses polymer material that is used a lot in the system field. Polymeric chips using such materials have the advantages of very low manufacturing cost, easy mass production, and easy formation of various structures.
그러나 폴리머형 칩은 열적 안정성에 문제가 있을 수 있고 재질에 따라서는 소수성을 구비하고 있어 유체의 흐름에 악영향을 미칠 수 있으므로 친수성 표면처리가 필요한 경우도 있다. 그리고 유기용매에 대한 적용성의 개선 또한 필요한데 수용액 시스템에서는 PDMS를 이용한 실험실칩의 이용이 매우 용이하지만, 유기용매가 사용되는 시스템에서는 사용이 거의 불가능하다. 또한, 어떤 물질들은 수용액 시스템에서조차 PDMS 사이로 흡수되어 들어가는데 이는 PDMS를 이용한 실험실칩이 특정반응을 수행하는데 방해가 되며, 분석시에 검출한계를 저하시키는 원인이 되기도 한다.However, polymer type chips may have a problem of thermal stability and hydrophobicity may be adversely affected due to hydrophobicity depending on the material, so that hydrophilic surface treatment may be required. In addition, it is also necessary to improve the applicability to organic solvents. In an aqueous solution system, it is very easy to use a lab chip using PDMS, but it is almost impossible to use in a system in which an organic solvent is used. In addition, some substances are absorbed between PDMS even in aqueous systems, which interferes with the performance of certain reactions in the lab chip using PDMS and can cause lower detection limits in the analysis.
이와 같이 종래의 실험실칩은 주로 유리형 칩과 폴리머형 칩을 사용했는데 유리형 칩은 에칭과 접합 등 제조공정상 어려움이 많고 폴리머형 칩의 경우 열적 안정성에 문제와 유기용매가 사용되는 시스템에서는 사용이 거의 불가능하며 수용액 시스템에서조차 어떤 물질들은 PDMS 사이로 흡수되어 들어가게 되어 PDMS를 이용한 실험실칩이 특정반응을 수행하는데 방해가 되며, 분석시에 검출한계를 저하시키는 원인이 되는 문제점이 있었다.As such, the conventional laboratory chips mainly use glass chips and polymer chips. Glass chips have a lot of difficulties in manufacturing processes such as etching and bonding, and polymer chips have problems with thermal stability and are not used in systems where organic solvents are used. It is almost impossible and even in an aqueous solution system, some substances are absorbed into PDMS, which hinders the laboratory chip using PDMS from carrying out a specific reaction and lowers the detection limit in the analysis.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창작된 것으로서, 본 발명의 목적은 PDMS를 이용한 실험실 칩 채널 내부를 코팅하기 위해 사진공정을 이용하여 미세유로를 형성하고 이온보조반응 진공증착법을 이용하여 상온에서 칩 채널 내부에 SiO2박막을 증착하여 채널 내부를 코팅함으로써 유기용매에 대한 적용성을 개선하고 특정반응을 수행하여 분석시 검출한계를 향상시킬 수 있도록 한 마이크로칩의 제조방법을 제공함에 있다.The present invention was created to solve the above problems, an object of the present invention is to form a micro-channel using a photo process to coat the inside of the laboratory chip channel using PDMS and room temperature using an ion assisted vacuum deposition method In the present invention, a method of manufacturing a microchip is provided to improve the applicability to an organic solvent and to improve a detection limit in an analysis by performing a specific reaction by coating an inside of a channel by depositing a SiO 2 thin film inside the chip channel.
도 1a 내지 도 1f는 본 발명에 따른 마이크로칩의 제조방법에 있어서 마이크로칩 상부의 제작 공정을 순차적으로 도시한 단면도들이다.1A to 1F are cross-sectional views sequentially illustrating a manufacturing process of the upper part of the microchip in the method of manufacturing the microchip according to the present invention.
도 2a 내지 도 2b는 본 발명에 따른 마이크로칩의 제조방법에 있어서 마이크로칩 하부의 제작 공정을 순차적으로 도시한 단면도들이다.2A to 2B are cross-sectional views sequentially illustrating a manufacturing process of a microchip under the method of manufacturing a microchip according to the present invention.
도 3은 본 발명에 의한 마이크로칩의 제조방법에 있어서 마이크로칩 하부와 마이크로칩 상부의 접합상태를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a bonding state between a microchip lower part and a microchip upper part in the method of manufacturing a microchip according to the present invention.
- 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 --Explanation of symbols for the main parts of the drawings-
1 : 실리콘 웨이퍼 3 : 포토레지스트1: silicon wafer 3: photoresist
5 : 포토마스크 7 : 자외선5: photomask 7: ultraviolet
9 : 양각주형틀 11 : PDMS9: embossed mold 11: PDMS
13 : 음각부 15 : SiO2박막13: intaglio portion 15: SiO 2 thin film
17 : 마이크로칩 상부 21 : 천공판17: upper microchip 21: perforated plate
23 : PDMS플레이트 25 : SiO2박막23: PDMS plate 25: SiO 2 thin film
27 : 마이크로칩 하부 30 : 마이크로칩27: microchip lower portion 30: microchip
상기와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은 웨이퍼 상부에 네가티브 포토레지스트를 코팅하여 소프트 베이킹하는 제 1 단계와; 상기 네가티브 포토레지스트가 코팅된 웨이퍼 상부에 포토마스크를 배열하고 자외선에 일정시간 노출시키는 제 2 단계와; 상기 자외선을 일정시간 노출시킨 후 현상액으로 기판의 포토레지스트를 현상하여 양각틀을 완성하는 제 3 단계와; 상기 양각틀에 PDMS를 주입하고 고형화 시킨 후 고형화된 PDMS를 이형하여 마이크로칩 상부를 완성하는 제 4 단계와; PDMS플레이트 상면에 이온보조반응 진공증착법에 의해 SiO2박막을 형성하여 마이크로칩하부를 형성하는 제 5 단계와; 상기 마이크로칩 상부의 음각부에 이온보조반응 진공증착법에 의해 SiO2박막을 형성한 후 상기 마이크로칩 하부를 접착하여 마이크로칩을 형성하는 제 6 단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention for realizing the above object comprises a first step of soft baking by coating a negative photoresist on the wafer; Arranging a photomask on the negative photoresist-coated wafer and exposing it to ultraviolet light for a predetermined time; A third step of completing the relief frame by exposing the ultraviolet light for a predetermined time and developing the photoresist of the substrate with a developer; Injecting and solidifying the PDMS into the relief frame and releasing the solidified PDMS to complete the upper part of the microchip; A fifth step of forming a microchip lower portion by forming a SiO 2 thin film on the upper surface of the PDMS plate by ion assist reaction vacuum deposition; The sixth step of forming a microchip by forming a SiO 2 thin film by the ion assist reaction vacuum deposition method on the intaglio portion of the upper microchip, and then bonding the lower microchip.
위와 같이 이루어진 본 발명은 PDMS를 이용한 실험실 칩 채널 내부를 이온보조반응 진공증착법을 이용하여 상온에서 SiO2박막을 형성하여 코팅함으로써 열적안정성의 문제와 재질에 따라 친수성처리를 하여야하는 문제점을 구비하는 폴리머형 칩의 단점과 제조공정상 다수의 어려움을 구비하는 유리형 칩의 단점을 보완하여 두 칩의 장점을 통합하여 유기용매에 대한 적용성을 개선하고 실험실칩의 특정반응을 수행하는데 장점을 제공하고 분석시 검출한계를 향상시킬 수 있게 된다.The present invention made as described above is a polymer having a problem of thermal stability and hydrophilic treatment according to the material by coating the inside of the lab chip channel using PDMS to form a SiO 2 thin film at room temperature using an ion assist reaction vacuum deposition method Complements the disadvantages of the glass chips, which have many difficulties in the manufacturing process and the disadvantages of the chips, and integrates the advantages of the two chips to improve the applicability to organic solvents and provide advantages for performing specific reactions of laboratory chips. The detection limit can be improved.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 또한 본 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니고, 단지 예시로 제시된 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, this embodiment is not intended to limit the scope of the present invention, but is presented by way of example only.
도 1a 내지 도 1f는 본 발명에 따른 마이크로칩의 제조방법에 있어서 마이크로칩 상부의 제작 공정을 순차적으로 도시한 단면도들이다.1A to 1F are cross-sectional views sequentially illustrating a manufacturing process of the upper part of the microchip in the method of manufacturing the microchip according to the present invention.
도 1a에 도시된 바와 같이 원하는 분리분석용 미세유로 패턴을 포토마스크로 제작(미도시)한 후, 실리콘 웨이퍼(1)에 네가티브 포토레지스트(3)인 SU-8을 스핀코팅한 후 소프트 베이킹한다.As shown in FIG. 1A, a desired microanalysis pattern for separation analysis is manufactured as a photomask (not shown), followed by spin coating SU-8, which is a negative photoresist 3, on the silicon wafer 1 and then soft baking. .
그 후 도 1b와 같이 포토레지스트(3)가 코팅된 실리콘 웨이퍼(1)의 상면에포토마스크(5)를 정렬하고, 자외선(7)에 일정시간 노출한다.Thereafter, as shown in FIG. 1B, the photomask 5 is aligned on the upper surface of the silicon wafer 1 coated with the photoresist 3, and exposed to the ultraviolet light 7 for a predetermined time.
그런다음 도 1c와 같이 현상액으로 포토레지스트(3)를 현상하면 자외선(7)에 노출되지 않는 부분이 제거되어 마이크로칩용 양각주형틀(9)이 완성된다.Then, when the photoresist 3 is developed with a developer as shown in FIG. 1C, a portion not exposed to the ultraviolet ray 7 is removed to complete the embossed mold 9 for the microchip.
그런다음 도 1d와 같이 상기 양각주형틀(9)에 PDMS(11)를 주입한 후 진공상태로 만들어 PDMS(11) 주입시 발생한 기포를 모두 제거한다.Then, as shown in FIG. 1D, the PDMS 11 is injected into the embossed mold 9, and the vacuum state is removed to remove all the bubbles generated during the PDMS 11 injection.
그런다음 도 1e와 같이 70℃오븐에서 2시간 정도 고형화시킨 후 주형틀(9)과 고형화된 PDMS(11)를 이형하여 미세유로의 음각부(13)를 형성한다.Then, after solidifying for about 2 hours at 70 ℃ oven as shown in Figure 1e to mold the mold 9 and the solidified PDMS (11) to form the intaglio portion 13 of the fine flow path.
그런다음 도 1f와 같이 이형된 PDMS(11)의 음각부(13)에 이온보조반응 진공증착법을 이용하여 SiO2박막(15)을 형성하여 마이크로칩 상부(17)를 형성한다.Then, as shown in FIG. 1F, the SiO 2 thin film 15 is formed on the indented portion 13 of the deformed PDMS 11 by using the ion assist reaction vacuum deposition method to form the upper portion of the microchip 17.
이와 같이 이온보조반응 진공증착법은 규소(Si) 결정을 녹여서 규소이온을 직접 분사하여 물리적으로 증착하는 것으로써 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)에 비해 증착속도가 빠르고 막을 두껍게 입힐 수 있을 뿐만 아니라 대량생산이 용이하고, 상온에서도 증착이 가능하며 설비비가 저렴하다는 이점이 있다.In this way, the ion assisted vacuum deposition method dissolves the silicon (Si) crystal and directly deposits the silicon ions to physically deposit the film, which is faster than the PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). It is easy, it is possible to deposit at room temperature, and there is an advantage that the equipment cost is low.
다음으로 본 발명에 따른 마이크로칩의 하부를 제작하는 방법에 대해서 도 2a 내지 도 2b에 도시된 마이크로칩 하부의 제작 공정을 순차적으로 도시한 단면도들을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Next, a method of fabricating the lower portion of the microchip according to the present invention will be described with reference to cross-sectional views sequentially illustrating a fabrication process of the lower portion of the microchip illustrated in FIGS. 2A to 2B.
도 2a에 도시한 바와 같이 PDMS플레이트(23)의 상면에 원하는 형상의 천공판(21)을 정열한다. 이때 천공판(21)은 미세유로 부분을 천공시킨 형상으로써 SiO2박막(25)이 불필요한 부분에 코팅되는 것을 막기 위해 정열하는 것으로 SiO2박막(25)이 형성되는 부분에 홀을 뚫은 것이다.As shown in FIG. 2A, the perforated plate 21 having a desired shape is arranged on the upper surface of the PDMS plate 23. The perforated plate 21 is drilled a hole in the portion in which the SiO 2 film 25 formed by aligned to prevent the SiO 2 film 25 is coated on the unnecessary portion by a perforation shape which fine flow path part.
이와 같이 천공판을 정열한 후 도 2b에 도시된 바와 같이 이온보조반응 진공증착법을 이용하여 SiO2박막(25)을 형성하고 천공판(21)을 떼어내어 마이크로칩 하부(27)를 형성한다.After aligning the perforated plate in this manner, as shown in FIG. 2B, the SiO 2 thin film 25 is formed by using an ion assist reaction vacuum deposition method, and the perforated plate 21 is removed to form the microchip lower portion 27.
이후 도 3에 도시된 바와 같이 위에서 형성된 마이크로칩 상부(17)와 마이크로칩 하부(27)를 코로나방전을 이용하여 접합함으로써 마이크로칩(30)을 완성하게 된다.Thereafter, as shown in FIG. 3, the microchip upper part 17 and the microchip lower part 27 formed thereon are joined by corona discharge to complete the microchip 30.
이와 같은 방법에 의해 형성된 마이크로칩을 이용하여 기존의 모세관 전기영동 장치의 분리분석을 위한 최적의 조건을 제공하고 기존의 대표적인 5가지 분리모드인 모세관구역 전기영동법, 마이셀 동전기 크로마토그래피법, 모세관 겔 전기영동법, 모세관 등전집중법, 모세관 등속전기영동법의 수행이 가능하게 되고, 다양한 시료의 분리 및 분석을 가능하게 하고 분리분석 조건 결정을 보다 용이하게 하며 기존의 시스템보다 분리분석 시간을 10배 이상 단축시킬 수 있게 된다.Using the microchip formed by the above method, it provides the optimal conditions for the separation analysis of the existing capillary electrophoresis device and the five representative separation modes, capillary zone electrophoresis, micelle electrokinetic chromatography, capillary gel Electrophoresis, capillary isoelectric focusing, capillary constant velocity electrophoresis can be performed, and separation and analysis of various samples can be easily performed, and determination of separation analysis conditions is easier. It can be shortened.
또한, 초고속, 초소형 진단 시스템에도 응용이 가능하고 특정 시료 연구, 실험용 마이크로 칩 모세관 전기영동 시스템 제작에도 많은 장점을 제공할 수 있게 된다.In addition, it can be applied to ultra-fast and micro-diagnostic systems, and can provide many advantages for specific sample research and experimental microchip capillary electrophoresis system.
상기한 바와 같이 본 발명은 PDMS를 이용한 실험실 칩 채널 내부를 코팅하기 위해 사진공정을 이용하여 미세유로를 형성하고 이온보조반응 진공증착법을 이용하여 상온에서 칩 채널 내부에 SiO2박막을 증착하여 채널 내부를 코팅함으로써 열적 안정성의 문제와 재질에 따라 친수성처리를 하여야하는 문제를 구비하는 폴리머형 칩의 단점과 제조공정상 다수의 어려움을 구비하는 유리형 칩의 단점을 보완하여 유기용매에 대한 적용성을 개선하고 특정반응을 수행하여 분석시 검출한계를 향상시킬 수 있는 이점이 있다.As described above, the present invention forms a microchannel using a photo process to coat the inside of a laboratory chip channel using PDMS, and deposits a SiO 2 thin film inside the chip channel at room temperature using an ion assist reaction vacuum deposition method. By improving the applicability to organic solvents, it is possible to compensate for the shortcomings of polymer chips having problems of thermal stability and hydrophilic treatment depending on materials and the shortcomings of glass chips having many difficulties in manufacturing process. And by performing a specific reaction there is an advantage that can improve the detection limit in the analysis.
또한, 본 발명은 제작시 주조방법을 이용하기 때문에 기존의 유리형 마이크로칩의 단점인 에칭접합과 같은 제조공정상의 어려움을 해소하고, 수산화칼륨(KOH)용액을 미세유로에 흘려주면 실라놀기(silanol group) 치환하여 친수성 표면으로 변환이 가능하기 때문에 유체의 흐름에 악영향을 미칠 요인을 해소할 수 있는 이점이 있다.In addition, the present invention eliminates difficulties in the manufacturing process, such as etching bonding, which is a disadvantage of the conventional glass microchip, because the casting method is used in manufacturing, and when the potassium hydroxide (KOH) solution is poured into the microchannel, silanol groups (silanol) Since it is possible to convert to a hydrophilic surface by substituting it, there is an advantage that it is possible to solve the factors that adversely affect the flow of the fluid.
또한 본 발명에 의한 마이크로 칩은 초고속, 초소형 진단 시스템에도 응용이 가능하고 특정 시료를 위한 연구, 실험용 마이크로 칩 모세관 전기영동 시스템제작에도 많은 장점을 제공할 수 있는 이점이 있다.In addition, the microchip according to the present invention has an advantage that can be applied to an ultra-fast, ultra-small diagnostic system and can provide many advantages in the manufacture of a microchip capillary electrophoresis system for research and experiments for a specific sample.
또한, 본 발명에 의한 마이크로 칩이 내장된 모세관 전기영동 시스템은 자외선-가시광선 분광광도법과 레이저 유발 형광 검출법을 동시 수행이 가능하게 하여 다양한 시료들을 검출할 수 있는 이점이 있다.In addition, the capillary electrophoresis system incorporating the microchip according to the present invention has the advantage of being able to simultaneously perform ultraviolet-visible spectrophotometry and laser-induced fluorescence detection to detect various samples.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030041037A KR20050000585A (en) | 2003-06-24 | 2003-06-24 | Method for manufacturing microchip |
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| KR1020030041037A KR20050000585A (en) | 2003-06-24 | 2003-06-24 | Method for manufacturing microchip |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050000585A true KR20050000585A (en) | 2005-01-06 |
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ID=37216521
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| KR1020030041037A KR20050000585A (en) | 2003-06-24 | 2003-06-24 | Method for manufacturing microchip |
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| KR (1) | KR20050000585A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100815265B1 (en) * | 2006-08-28 | 2008-03-19 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | Method for manufacturing micro heater and crucible, and vacuum deposition apparatus of organic substances having the micro heater and crucible |
-
2003
- 2003-06-24 KR KR1020030041037A patent/KR20050000585A/en active IP Right Grant
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| KR100815265B1 (en) * | 2006-08-28 | 2008-03-19 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | Method for manufacturing micro heater and crucible, and vacuum deposition apparatus of organic substances having the micro heater and crucible |
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