KR200495818Y1 - 이중-나선 세정 브러쉬 장치 - Google Patents

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Abstract

세정 브러쉬가 제공된다. 세정 유닛은 이중-나선 배치로 상기 캐리어의 표면 상에 고정되는 세정 빈들을 포함한다. 상기 세정 빈들은 베이스라인을 따라 상기 캐리어의 중심 상에 비균등하게 이격되는 방식으로 배치되고; 이로써, 이중-나선들은 중심에 형성되고 또한 2 개의 다른 외측 방향들로 감긴다. 2 개의 환형 나선 곡선 경로들은 상기 캐리어를 감고 또한 상기 2 개의 방향들을 따라 연장되는 상기 세정 빈들로 형성된다. 캐리어가 전자 장치를 세정할 때, 용액 또는 세정제는 나선 접선 방향들로 상기 곡선 경로들을 따라 방출된다. 이로 인해, 이중-나선 세정 유닛은 복수의 흐름 필드들을 생성하기 위해 회전할 때 양의 방향 및 음의 방향을 획득한다. 오염은 넓은 접촉 표면, 좋은 세정 효율, 및 높은 오염제거율이 달성되는 한편 일방향 나선 세정 장치들과 비교했을 때 향상된 물 분배와 함께, 쉽게 방출된다.

Description

이중-나선 세정 브러쉬 장치{DEVICE OF BI-SPIRAL CLEANING BRUSH}
본 고안은 세정 브러쉬에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 세정 동작 동안, 더 효과적인 세정 효율을 제공하고 또한 물 분배를 효과적으로 개선시키기 위해 중심으로부터 2 개의 외측 끝단들을 향하는 방향성을 가지고 오염을 밀도록 이중-나선 방식을 적용하는 것에 관한 것이다.
정밀 전자 구성요소들(실리콘 웨이퍼, 하드 드라이브 디스크, 반도체 및 CPU 칩과 같은)을 세정하기 위한 제1 종래 기술은, 폴리비닐 아세탈인 탄성적인 다공성 스폰지로 만들어지는 일반적인 장치이다. 복수의 돌출부들이 측면 표면 상에 설정된다. 돌출부들의 상단들은 회전하여 세정을 위해 세정될 물체의 표면에 접촉한다. 이때, 돌출부들은 행렬로 배치되고; 각각의 돌출부의 상단은 높은 평탄도를 가지는 표면 층으로 형성된다. 이로써, 엑츄에이터와의 협동으로, 표면 상의 복수의 돌출부들은 정밀 전자 구성요소들을 세정하는 데 이용된다.
제2 종래 기술은 내부 표면 및 외부 표면을 가지는, 회전가능한 베이스; 및 기판으로부터 물질들을 제거하는 데 사용되기 위해, 회전가능한 베이스의 외부 표면의 적어도 일부를 덮는, 다공성 패드 물질을 포함한다. 다공성 패드 물질은 돌출부들이 다공성 패드 물질의 표면 상에 정렬되어 유지되는 동안, 회전가능한 베이스와 결합된다. 이때, 돌출부들은 다공성 패드 물질의 표면 상의 행렬 배치로 보인다. 이로써, 엑츄에이터의 협력으로, 돌출부들은 정밀 전자 구성요소들을 세정하는 데 이용된다.
제3/제4 종래 기술은 캐리어/브러쉬; 및 행렬 배치로 캐리어/브러쉬의 표면 상에 설정되고 그 끝단 표면들이 볼록/오목한, 복수의 세정 유닛들/노듈들을 포함한다. 이로써, 세정 유닛들/노듈들은 넓은 접촉 면적, 빠른 세정 효율 및 높은 효과성으로, 오염 제거를 달성하기 위해 그들의 볼록/오목한 표면들을 이용한다.
4 가지의 종래 기술들 모두는 정밀 전자 구성요소들을 세정하기 위해 제공된다. 하지만, 제3 종래 기술이 높은 평탄도를 갖는 표면들로 형성된 상단들로 행렬 배치된 그 돌출부들을 편평한 평면들로서 이용하고 또한 제2 종래 기술 또한 행렬 배치로 편평한 평면들로 형성된 그 돌출부들을 가지기 때문에, 상기의 2 가지의 종래 기술들은 그 표면들이 불규칙한 정밀 전자 구성요소들과는 효율적으로 접촉하지 않는다. 게다가, 제1 및 제4 종래 기술들은 불규칙한 표면들을 갖는 정밀 전자 구성요소들과 효율적으로 접촉하기 위해 그 상단들 상에 볼록/오목한 표면들을 갖는 세정 유닛들/노듈들을 이용하지만, 세정 유닛들/노듈들은 여전히 행렬 배치로 형성된다. 이로써, 상기의 4 가지의 종래 기술들은 쉽게 세정 동안 입자들이 방향성 없이 분사되도록 할 수 있다. 입자들이 방향성을 가지고 제거되지 않을 뿐만 아니라, 이들은 세정 유닛들과 정밀 전자 부품들 사이에 모일 수 있어, 정밀 전자 구성요소들에 이로써 야기되는 손상들은 말할 필요도 없다.
이에 더하여, 제5 종래 기술은 나선 배치로 캐리어의 표면 상에 고정되는 복수의 세정 빈들을 포함하는 나선형 세정 유닛을 이용한다. 수평 세정 동작 동안, 오염 입자들은 일 측으로부터 타 측으로 밀린다. 효과적인 세정 효율은 종래의 행렬-구조 장치에 비하여 더 제공된다. 하지만, 세정 유닛의 나선 구조는 단-나선이어서, 오염은 단 하나의 필드 분포(one field distribution)를 형성하는 흐름을 갖고 한 방향으로 그리고 수평으로 밀린다.
따라서, 종래 기술들은 실제 사용에 대한 모든 사용자들의 요청들을 충족시키지 않는다.
본 고안의 주요 목적은, 이중-나선 배치로 캐리어의 표면 상에 고정되는 복수의 세정 빈들을 포함하는, 세정 유닛을 제공하는데, 이때, 상기 세정 빈들은 회전시 양의 방향 및 음의 방향을 획득하기 위해 베이스라인을 따라 캐리어의 중심에서 비균등하게 이격되는 방식으로 배치되고; 이 이중-나선 세정 유닛은 수직 방향에 더하여, 세정될 물체를 향하는 횡단 방향이 획득될 때 수 개의 흐름 필드들을 생성하고; 흐름 필드들은 상기 중심으로부터 서로 다른 방향들로 외측으로 용액을 미는 것에 의해 도입되고; 이로써, 넓은 접촉 표면, 좋은 세정 효율, 및 높은 오염제거율이 달성되면서, 오염은 전통적인 행렬 세정 장치들에 비하여 더 쉽게 방출될 수 있다.
상기의 목적을 달성하기 위해, 본 고안은 캐리어 및 이중-나선 세정 유닛을 포함하는, 이중-나선 세정 브러쉬 장치이고, 이때 상기 캐리어는 원통형 형태를 가지고; 슬리브 유닛은 상기 캐리어 중심에 설정되고; 상기 슬리브 유닛은 엑츄에이팅 장치와 조립되고; 상기 이중-나선 세정 유닛은 이중-나선 배치로 상기 캐리어의 표면 상에 고정되는 복수의 세정 빈들을 포함하고; 상기 세정 빈들은 베이스라인을 따라 상기 캐리어의 중심 상에 비균등하게 이격되는 방식으로 배치되고; 상기 세정 빈들을 이용해, 복수의 이중-나선들은 다른 방향들로 2 개의 외측 끝단들을 향해 상기 캐리어의 중심을 나선형으로 감도록 형성되고; 2 개의 환형 나선 곡선 경로들은 상기 캐리어를 감도록 상기 세정 빈들로 획득되고 또한 둘레로 상기 2 개의 외측 끝단들을 향하여 상기 중심 상에서 연장되고; 상기 세정 빈들로 전자 장치를 세정하기 위해 상기 엑츄에이팅 장치에 의해 상기 캐리어를 움직일 때, 상기 캐리어에 부착된 용액 또는 세정제는 복수의 나선 접선 방향들로 상기 환형 나선 곡선 경로들을 따라 방출된다. 이에 따라, 새로운 이중-나선 세정 브러쉬 장치가 획득된다.
본 고안은 첨부된 도면들과 함께, 본 고안에 따른 바람직한 실시예의 이하의 상세한 설명으로부터 더 잘 이해될 것이다.
도 1은 본 고안에 따른 바람직한 실시예를 보여주는 도면이다.
도 2는 사용 상태를 보여주는 도면이다.
바람직한 실시예의 이하의 설명은 본 고안의 특징들 및 구조들을 이해하기 위해 제공된다.
본 고안에 따른 바람직한 실시예를 보여주는 도면; 및 사용 상태를 보여주는 도면인, 도 1 및 도 2를 참조하자. 도면들에 도시된 바와 같이, 본 고안은 캐리어(1) 및 이중-나선 세정 유닛(2)을 포함하는, 이중-나선 세정 브러쉬 장치(100)이다. 이때, 주어진 요청에 따라, 캐리어(1) 및 이중-나선 세정 유닛(2)은 복합, 스폰지, 폴리우레탄(PU), 폴리비닐 알코올(PVA) 및/또는 통합적으로 발포되고 형성될 부드러운 거품들로서의 고분자 물질과 같은, 서로 다른 고분자 물질들을 이용한다.
캐리어(1)는 원통형 형태를 가지고, 이때 슬리브 유닛(11)은 엑츄에이팅 장치와 조립되기 위해 중심에 설정된다(미도시).
이중-나선 세정 유닛(2)은 캐리어(1)의 외부 테두리 상에 배치되고 또한 이중-나선 배치로 캐리어(1)의 표면 상에 고정된 복수의 세정 빈들(21)을 포함하는데, 이때 세정 빈들(21)은 베이스라인(101)을 따라 캐리어(1)의 중심에 비균등하게 이격된 방식으로 배치되고; 베이스라인(101)은 직선이고; 캐리어(1)의 축 방향은 베이스라인(101)에 수직이다. 세정 빈들(21)으로, 복수의 이중-나선들은 다른 방향들로 2 개의 외측 끝단들을 향해 캐리어(1)의 중심을 나선으로 감도록 형성되고; 세정 빈들(21)은 캐리어(1)의 표면으로부터 소정의 거리로 돌출되고; 2 개의 환형 나선 곡선 경로들(22, 23)은 캐리어(1)를 감도록 세정 빈들(21)로 형성되고 또한 원주로 2 개의 외측 끝단들을 향해 중심에서 연장되고; 세정 빈들(21) 각각의 끝단 표면은 오목 호(24)를 획득하기 위해 중심에서 오목해지고; 오목 호(24)는 70~99 퍼센트(%)의 곡률을 가지고; 세정 빈들(21) 각각은 원기둥 형태 또는 다각형 형태를 가진다. 이로써, 새로운 이중-나선 세정 브러쉬 장치가 획득된다.
한편, 상기 베이스라인(101)은 캐리어(1)를 길이 방향에 대해 양분하도록 캐리어 길이 방향에 대해 수직하게 지나는 직선으로서, 상기 베이스라인(101)의 직선 상에는 세정 빈의 반경 중심부를 지나도록 상기 세정 빈이 일렬로 배치된다.
본 고안을 사용할 때, 하나 또는 복수의 캐리어들(1)은 슬리브 유닛(11)을 이용함으로써, 관련된 엑츄에이팅 장치(미도시)와 조립되어, 엑츄에이팅 장치는 캐리어들(1)을 회전시키기 위해 전달하고 또한 캐리어(1)의 외부 테두리 상에 이중-나선 유닛(2)의 세정 빈들(21)을 세정을 위해 관련된 정밀 전자 장치(3)의 표면과 접촉하도록 해주기 위한 엑츄에이팅 장치의 위치 및 요청된 세정 조건에 따라 움직인다. 도 2에 도시된 바와 같이 사용 상태에 있어서, 세정을 위해 움직일 때, 정밀 전자 장치(3)(예. 웨이퍼)는 원점에서 시계방향 또는 반시계방향으로 회전하는 것으로 가정된다. 이중-나선 세정 유닛(2)을 갖는 원통형 캐리어(1) 역시 회전한다. 다른 방향들로 나선형으로 감겨 있는 이중-나선 세정 유닛(2)은 캐리어(1)를 감고 원주로 2 개의 외측 끝단들을 향해 중심에서 연장된(도 2의 제1 화살표들(31)에 의해 도시된 바와 같이) 세정 빈들(21)로 형성된 2 개의 환형 나선 곡선 경로들(22, 23)을 이용함으로써 2 개의 외측 끝단들을 향해 캐리어(1)의 중심으로부터 오염(예. 입자들)을 밀어서, 오염은 더 효과적인 세정 효율을 제공하기 위해 중심으로부터 방향성을 가지고 밀린다. 캐리어(1)에 부착된 용액 또는 세정제는 복수의 나선 접선 방향들로(도 2의 제2 화살표들(32)에 의해 도시된 바와 같이) 환형 나선 곡선 경로들(22, 23)을 따라 방출되어서, 물 분배는 세정 브러쉬(100)와 전자 장치(3) 사이에 갇힌 입자들에 있어서 중요한 감소를 달성하기 위해 개선된다. 이에 더하여, 세정 빈들(21) 각각의 끝단 표면 상에 설정되는 오목 호(24)는 70%와 99% 사이의 곡률을 가져서, 세정 빈들(21)을 이용함으로써, 넓은 접촉 표면, 좋은 세정 효율, 및 높은 오염제거율이 달성된다.
요약하면, 본 고안은 이중-나선 세정 브러쉬 장치이고, 이때 세정 유닛은 이중-나선 배치로 캐리어의 표면 상에 고정되는 복수의 세정 빈들을 포함하고; 세정 빈들은 회전을 위한 양의 방향 및 음의 방향을 획득하기 위해 베이스라인을 따라 캐리어의 중심에서 비균등하게 이격되는 방식으로 배치되고; 이 이중-나선 세정 유닛은 수직 방향에 더하여, 세정될 물체를 향하는 횡단 방향이 획득될 때 수 개의 흐름 필드들을 생성하고; 흐름 필드들은 중심으로부터 서로 다른 방향들로 외측으로 용액을 미는 것에 의해 도입되고; 이로써, 오염은 일방향 나선 세정 장치들과 비교했을 때 향상된 물 분배와 함께, 전통적인 행렬 세정 장치들보다 더 쉽게 방출된다.
여기에 개시된 바람직한 실시예는 본 고안의 범위를 불필요하게 한정하고자 하는 것은 아니다. 그러므로, 청구항들의 범위와 균등한 범위에 속하는, 단순한 변형들 또는 변경들 및 등록을 위해 여기에 개시된 지시들은 모두 본 고안의 범위 내에 있다.

Claims (9)

  1. 이중-나선 세정 브러쉬 장치에 있어서,
    캐리어, 이때 상기 캐리어는 원통 형태를 가지고; 슬리브 유닛은 상기 캐리어 중심에서 획득되고; 상기 슬리브 유닛은 엑츄에이팅 장치와 조립되고; 및
    이중-나선 세정 유닛을 포함하고, 상기 이중-나선 세정 유닛은 상기 캐리어의 외부 테두리 상에서 획득되되, 이중-나선 배치로 상기 캐리어의 표면 상에 고정되는 복수의 세정 빈들을 포함하고; 상기 세정 빈들은 베이스라인을 기준으로 그 양측에 상기 캐리어의 중심 상에 비균등하게 이격되는 방식으로 배치되고; 상기 세정 빈들을 이용해, 복수의 이중-나선들은 다른 방향들로 2 개의 외측 끝단들을 향해 상기 캐리어의 중심을 나선형으로 감도록 획득되고; 2 개의 환형 나선 곡선 경로들은 상기 캐리어를 감도록 상기 세정 빈들로 획득되고 또한 둘레로 상기 2 개의 외측 끝단들을 향하여 상기 중심 상에서 연장되고, 이때 상기 세정 빈들로 전자 장치를 세정하기 위해 상기 엑츄에이팅 장치에 의해 상기 캐리어를 움직일 때, 용액 및 세정제로 구성된 군으로부터 선택되고 또한 상기 캐리어에 부착된 액체는 복수의 나선 접선 방향들로 상기 환형 나선 곡선 경로들을 따라 방출되며,
    상기 세정 빈들 각각의 끝단 표면은 오목한 호를 획득하기 위해 중심에서 오목하고; 상기 오목한 호는 70~99 퍼센트(%)의 곡률을 가지고,
    상기 캐리어 및 상기 이중-나선 세정 유닛은 통합적으로 형성되는 부드러운 거품을 갖고 발포되며,
    상기 세정 빈들 각각은 원기둥 형태를 가지고 상기 캐리어의 상기 표면으로부터 소정의 거리로 돌출되고,
    상기 베이스라인은 캐리어를 길이 방향에 대해 양분하도록 캐리어 길이 방향에 대해 수직하게 지나는 직선으로서, 상기 베이스라인의 직선 상에는 세정 빈의 반경 중심부를 지나도록 상기 세정 빈이 일렬로 배치되는 것을 특징으로 하는, 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009066527A (ja) * 2007-09-13 2009-04-02 Nec Electronics Corp 洗浄用ローラおよび洗浄装置

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