KR20040102538A - Holder for coating white metal-platinum on three dimensions - Google Patents

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KR20040102538A
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이훈
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주식회사 솔고 바이오메디칼
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Abstract

PURPOSE: To provide a holder capable of evenly coating an object, which will be coated, with platinum by moving the object formed in a three dimensional structure during coating of platinum performed to improve adhesion and densification of coating film using an unbalanced magnetron sputtering source. CONSTITUTION: In a holder for fixing an object, which will be coated, to the inner part of a chamber in which vacuum deposition is carried out using a sputtering source in the vacuum state, the holder comprises a motor(11) installed at an outer side of the chamber; the first rotation part for rotating the first rotation plate(12) using driving force transferred from the motor; and the second rotation part engaged with the first rotation part to fix the object(90) to a plurality of second rotation plates(13) rotated along with the first rotation plate according to rotation of the first rotation plate.

Description

3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더{HOLDER FOR COATING WHITE METAL-PLATINUM ON THREE DIMENSIONS}HOLDER FOR COATING WHITE METAL-PLATINUM ON THREE DIMENSIONS}

본 발명은 홀더에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 외주면이 곡선인 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더에 관한 것이다.The present invention relates to a holder, and more particularly, to a holder used for coating platinum to a three-dimensional structure of a curved outer peripheral surface.

일반적으로 의료기기는 기계적, 전기적 또는 화학적 방식을 채택한 도구를 이용하여 손상된 신체 부위를 정상적으로 치료하는 장치 및 도구를 총칭한다.In general, a medical device is a generic term for devices and tools that normally treat damaged body parts using tools employing mechanical, electrical or chemical methods.

암(Cancer)은 현대인의 건강을 위협하는 무서운 질병으로 세포의 돌연변이적 변형이나 증식에 의해 정상적인 세포들이 파괴됨으로써 생명을 잃게 되는 무서운 병이다.Cancer is a terrible disease that threatens the health of modern people. It is a terrible disease in which normal cells are destroyed by mutations or proliferation of cells.

이러한 암의 종양을 치료하는 방법은 종양을 절제하는 외과적 방법, 종양에 방사선을 쬐어 조직을 파괴하는 방법 그리고 항암제를 투여하여 암 세포를 괴사시키는 방법 등이 널리 사용되고 있다.As a method for treating a tumor of cancer, a surgical method of resecting the tumor, a method of destroying tissue by irradiating the tumor, and a method of necroticting cancer cells by administering an anticancer agent are widely used.

종양을 절제하는 외과적 방법은 초기 암 종양에 대해서는 확실한 치료방법이지만 악성 종양에 대해서는 위험 부담이 있고, 방사선 치료나 항암제 치료는 초기 암 종양에는 효과가 크지만 악성종양에 대해서는 반응을 보이지 않는 경우가 많으며, 특히 환자의 면역력이 떨어져 몸이 허약해지기 때문에 허약한 환자들에게 적용할 수 없는 문제가 있다.Surgical methods for resecting tumors are a definite treatment for early cancer tumors, but there are risks for malignant tumors. Radiation or chemotherapy is effective for early cancer tumors but does not respond to malignancies. Many, especially because the patient's immunity is weakened because the body is weak, there is a problem that can not be applied to the weak patients.

이러한 문제점을 해결하고자 본 출원인은 전기화학적 치료기를 개발하여 특허출원 제2001-85992호로 출원한 바 있다. 기출원된 전기화학적 치료기는 직류전류의 전하량과 전류강도를 종량의 크기에 따라 적절히 조절하여 암의 종양에 전도시킴으로써 전기화학적이고 전기생물학적 반응을 유도함으로써 암 세포를 괴사하고종양의 크기를 줄여 없애는 의료기기이다.In order to solve this problem, the present applicant has developed an electrochemical treatment device and has applied for a patent application No. 2001-85992. The previously applied electrochemical treatment device regulates the amount of charge and current intensity of DC current according to the size of the tumor and induces an electrochemical and electro-biological response by inducing the cancer tumor, thereby killing the cancer cells and reducing the size of the tumor. Appliance.

상기한 전기화학적 치료기에 사용되어야 할 전극은 전기화학적으로 물성이 안정하여 높은 전류 밀도에도 내구성이 뛰어나 부식되지 않고 전극의 성분을 유지하여 생체적으로 독성을 유발하지 않는 생체 전극이어야 한다.The electrode to be used in the electrochemical treatment device should be a bioelectrode that is stable in electrochemical properties and excellent in durability even at high current density and does not cause corrosion by maintaining components of the electrode without causing corrosion.

본 출원인은 이러한 점에 착안하여 산업의 여러분야에서 광범위하게 사용되고 있는 백금에 주목하였다. 백금(Platinum)은 은백색의 귀금속으로 내약품성이 우수하고 생체 친화성이 있는 물질로서 예전부터 각종 전극재료 및 생체 재료로 많이 이용되어 왔다.The Applicant pays attention to this point and pays attention to platinum which is widely used in the industry. Platinum (Platinum) is a silver-white noble metal having excellent chemical resistance and biocompatibility, and has been widely used for various electrode materials and biomaterials.

한편, 금속을 피막으로 형성하는 방법 중에서 일반적으로 알려진 방법은 전기도금방식과 물리증착기술의 하나인 진공증착법이 있다.On the other hand, among the methods of forming a metal film, generally known methods are the vacuum deposition method, which is one of electroplating methods and physical vapor deposition techniques.

물리증착법은 일반적으로 순도가 높고 표면이 평활한 금속피막을 손쉽게 제조가 가능한 것으로 잘 알려져 있다. 물리증착법에는 크게 진공증착, 스퍼터링(sputtering) 그리고 이온플레이팅이 있다.Physical vapor deposition is generally well known that it is easy to manufacture a metal film with high purity and smooth surface. Physical vapor deposition includes vacuum deposition, sputtering and ion plating.

여기서 진공증착법은 물리 증착 기술의 일종으로 진공이나 플라즈마 분위기에서 물질을 가열하거나 운동량 전달을 이용하여 피막 물질을 증발시켜서 코팅하고자 하는 기판에 피막을 제조하는 방법이다.Here, the vacuum deposition method is a method of manufacturing a film on a substrate to be coated by heating the material in a vacuum or plasma atmosphere or by evaporating the coating material by using momentum transfer as a kind of physical vapor deposition technology.

그리고 일반적으로 금속피막의 제조는 진공증착방식을 이용하나, 피막의 밀착력과 치밀도를 향상시키기 위한 목적일 경우에는 스퍼터링과 이온플레이팅 방식을 이용하는 경우가 많다. 이러한 금속피막의 제조에 관련하여 국내실용신안출원번호 제1997-6014호 및 국내특허출원번호 제1999-46122호에 자세히 소개되어 있다.In general, the metal film is manufactured using a vacuum deposition method, but in order to improve the adhesion and the density of the film, sputtering and ion plating are often used. Regarding the production of such a metal coating, it is introduced in detail in Korean Utility Model Application No. 1997-6014 and Korean Patent Application No. 1999-46122.

그 중에서 소개된 스퍼터링은 불활성 가스 분위기에서 타겟에 고전압을 인가하여 글로방전이 발생되도록 하고, 이때 발생된 글로방전 내에 존재하는 불활성가스 이온을 타겟에 충돌시켜 떼어낸 타겟 물질을 기판에 응고시키는 방법이다. 스퍼터링에는 직류 이극 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링 등 다양한 소스가 개발되어 있으며 현재는 증발률이 높은 마그네트론 스퍼터링 방법이 가장 많이 이용되고 있다.The sputtering introduced is a method of applying a high voltage to a target in an inert gas atmosphere to generate a glow discharge, and solidifying the target material removed by colliding the inert gas ions present in the generated glow discharge with the target. . Various sources such as direct current dipole sputtering and magnetron sputtering have been developed for sputtering, and the magnetron sputtering method with high evaporation rate is most widely used.

마그네트론 스퍼터링은 기존의 이극 직류 스퍼터링에 비해 타겟의 증발율이 매우 높고 방전 가스 압력을 10배 이상, 타겟 전압 역시 수 백 볼트 정도로 낮추었다. 그러나, 타겟과 피코팅체 사이의 거리가 5~10cm 이내로 제한이 되며 피코팅체에 흐르는 전류가 낮아 코팅층의 밀도와 부착력 등 도금층의 품질 특성에 있어서는 큰 성과가 없었다.Magnetron sputtering has a much higher evaporation rate of the target, more than 10 times the discharge gas pressure, and a few hundred volts of the target voltage compared to the conventional two-pole DC sputtering. However, the distance between the target and the coated body is limited to within 5 ~ 10cm, and the current flowing through the coated body is low, so there was no great effect in the quality characteristics of the coating layer, such as the density and adhesion of the coating layer.

따라서, 새로운 방식의 기술로 고안된 것이 바로 비평형 마그네트론 스퍼터링(Unbalanced Magnetron Sputtering)이다. 종래의 마그네트론 방식은 영구 자석에 의한 자장이 타겟 부근에서만 형성되나, 비평형 마그네트론 방식에서는 내부의 자석과 자장의 크기가 다른 자석을 외부에도 설치, 일부의 자장이 피코팅체에도 영향을 미치도록 하여 피코팅체 부근에서도 이온화가 일어나므로써 도금층의 특성을 향상시켰다.Thus, what was devised in a new way is unbalanced magnetron sputtering. In the conventional magnetron method, the magnetic field generated by the permanent magnet is formed only near the target, but in the non-balanced magnetron method, a magnet having a different size of the internal magnet and the magnetic field is also installed outside, so that some magnetic fields also affect the coated body. Ionization also occurs in the vicinity of the coated body, thereby improving the properties of the plating layer.

본 발명은 기출원된 전기화학적 치료기의 연구 발전에 따른 연장선상에서 창출된 것으로, 비평형 마그네트론 스퍼터링 소스를 이용하여 피막의 밀착력과 치밀도를 향상시키기 위해 실시되는 백금 코팅시에, 3차원 구조물로 이루어진 피코팅체에 움직임을 주어 피코팅체 전체에 고른 코팅이 가능하도록 하는 홀더를 제공하는 데 있다.The present invention has been created in line with the research and development of the previously-applied electrochemical treatment device, when the platinum coating is carried out to improve the adhesion and density of the film by using an unbalanced magnetron sputtering source, consisting of a three-dimensional structure It is to provide a holder to move the coated body to evenly coat the entire coated body.

도 1은 본 발명에 따른 홀더가 사용되는 챔버를 개략적으로 도시한 도면이고,1 is a view schematically showing a chamber in which a holder according to the present invention is used,

도 2는 본 발명에 따른 홀더를 도시한 사시도이고,2 is a perspective view of a holder according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 홀더를 도시한 측면도이고,3 is a side view showing a holder according to the present invention,

도 4는 본 발명의 다른 실시예인 홀더를 도시한 측면도이다.Figure 4 is a side view showing a holder which is another embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10...홀더 11...모터10 ... holder 11 ... motor

12...제1 회전판 13...제2 회전판12 ... 1st tumbler 13 ... 2nd tumbler

14...구동풀리 15...종동풀리14 ... driven pulley 15 ... driven pulley

16...벨트 17...소기어 판16 ... belt 17 ... gear plate

18...대기어 판 20...챔버18 ... gear plate 20 ... chamber

30...백금 타겟 50...셔터30 ... platinum target 50 ... shutter

80...스퍼터링 소스 90...피코팅체80 ... sputtering source 90 ... coated body

상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 홀더는, 진공을 유지한 채로 스퍼터링 소스를 이용한 진공 증착을 실시하는 챔버의 내부에 피코팅체를 고정하는 홀더에 있어서, 상기 챔버의 외측에 설치되는 모터; 상기 모터로부터 전달된 구동력을 이용하여 제1 회전판을 회전시키는 제1 회전부; 및 상기 제1 회전부에 치합되어 제1 회전판의 회전에 따라 함께 회전하는 다수개의 제2 회전판에 피코팅체를 고정하는 제2 회전부를 포함한다.In order to achieve the above object of the present invention, the holder of the present invention is provided on the outside of the chamber in a holder for fixing a to-be-coated body in a chamber in which vacuum deposition is performed using a sputtering source while maintaining a vacuum. Motor; A first rotating part rotating the first rotating plate by using the driving force transmitted from the motor; And a second rotating part which is engaged with the first rotating part and fixes the to-be-coated body to the plurality of second rotating plates which rotate together with the rotation of the first rotating plate.

여기서 제2 회전판에는 상기 피코팅체를 수직되는 방향으로 고정시킬 수 있는 다수개의 고정홀이 형성되는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that a plurality of fixing holes are formed in the second rotating plate to fix the coated body in a vertical direction.

그리고, 상기 모터의 구동력을 제1 회전판에 전달하기 위해서, 상기 모터의 회전축에 구동풀리를 고정하고, 상기 제1 회전판의 중심부에 고정된 고정축에 종동풀리를 고정하며, 상기 구동풀리와 종동풀리를 벨트로 연결하는 것이 바람직하다.In addition, in order to transmit the driving force of the motor to the first rotating plate, the driving pulley is fixed to the rotating shaft of the motor, the driven pulley is fixed to the fixed shaft fixed to the center of the first rotating plate, the driving pulley and the driven pulley It is preferable to connect with a belt.

또한, 모터의 구동력에 의해 상기 제1 회전판과 제2 회전판이 동시에 회전할 수 있도록 상기 제1 회전판에 대기어 판을 설치하고, 상기 대기어 판에 치합되는 소기어 판을 상기 제2 회전판에 설치하는 것이 바람직하다.In addition, the first rotation plate and the second rotating plate by the driving force of the motor to rotate at the same time to install the air gear plate on the first rotating plate, the small gear plate meshed with the air gear plate is installed on the second rotating plate It is desirable to.

이러한 구성에서 사용되는 피코팅체는 소정 길이로 절단된 텅스텐 재질의 와이어 형태의 전극인 것이 바람직하다.It is preferable that the to-be-coated body used by such a structure is a tungsten wire-shaped electrode cut | disconnected to predetermined length.

본 발명의 다른 실시예에 따른 홀더는 진공을 유지한 채로 스퍼터링 소스를 이용한 진공 증착을 실시하는 챔버의 내부에 피코팅체를 고정하는 홀더에 있어서, 상기 챔버의 외측에 설치되는 모터; 상기 모터로부터 전달된 구동력을 이용하여 제3 회전판 및 상단에 물결모양의 레일이 형성된 승하강캠을 회전시키는 제3 회전부; 및 상기 승하강캠에 치합되어 제3 회전판의 회전에 따라 함께 회전함과 동시에 상기 레일을 따라 승하강하는 다수개의 제4 회전판에 피코팅체를 고정하는 제4 회전부를 포함한다.A holder according to another embodiment of the present invention is a holder for fixing a to-be-coated body in a chamber for performing vacuum deposition using a sputtering source while maintaining a vacuum, comprising: a motor installed outside the chamber; A third rotating part which rotates a lifting cam having a third rail and a wavy rail formed thereon using a driving force transmitted from the motor; And a fourth rotating part which is engaged with the lifting cam and rotates together with the rotation of the third rotating plate and simultaneously fixes the to-be-coated body to the plurality of fourth rotating plates which are moved up and down along the rail.

이하, 첨부도면을 참조로 하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 도 1은 본 발명에 따른 홀더가 사용되는 챔버를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 홀더를 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 홀더를 도시한 측면도이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 is a view schematically showing a chamber in which a holder according to the present invention is used, FIG. 2 is a perspective view showing a holder according to the present invention, and FIG. 3 is a side view showing the holder according to the present invention.

본 발명의 홀더(10)는 챔버(20)의 내부에 설치되는 것으로, 먼저 챔버(20)의 구조를 살펴보면, 챔버(20)는 작업실에 진공 펌프(도시 생략됨)를 연결하여 작업실의 내부를 진공으로 유지되도록 하고, 그 작업실의 내부에 백금 타겟(platinum)(30), 홀더(holder)(10), 히터(heater)(40), 셔터(shutter)(50), 가스 주입구(60), 그리고 진공 게이지(70)를 설치하며, 작업실의 외측에 스퍼터링 소스(80)를 설치한다.Holder 10 of the present invention is to be installed in the interior of the chamber 20, first look at the structure of the chamber 20, the chamber 20 is connected to a vacuum pump (not shown) in the working room to connect the interior of the working room To maintain a vacuum, the platinum target 30, the holder 10, the heater 40, the shutter 50, the gas inlet 60, Then, the vacuum gauge 70 is installed, and the sputtering source 80 is installed outside the work room.

백금 타겟(30)은 백금으로 만든 타겟(30)으로 가속된 전자가 표면에 물리적 충돌할 때 백금 이온을 형성토록 한다.The platinum target 30 causes platinum ions to form when electrons accelerated to the target 30 made of platinum physically collide with the surface.

이러한 백금 타겟(30)과 홀더(10)의 사이에는 셔터(50)가 배치된다.셔터(50)는 백금 타겟(30)에서 발생된 이온화된 백금 이온이 홀더 쪽으로 이동하는 것을 선택적으로 차단하게 된다.The shutter 50 is disposed between the platinum target 30 and the holder 10. The shutter 50 selectively blocks the ionized platinum ions generated from the platinum target 30 from moving toward the holder. .

작업실의 중심에는 작업실을 개폐하게 되는 뚜껑(22)이 설치된다. 그 뚜껑(22)에는 작업실의 내부로 배치되는 히터(40)가 설치되고, 히터(40)에는 온도조절부가 설치되어 히터(40)에서 발생되는 열을 조절하게 된다.In the center of the working room is provided with a lid 22 to open and close the working room. The lid 22 is provided with a heater 40 disposed in the interior of the working room, the heater 40 is provided with a temperature control unit to adjust the heat generated from the heater 40.

가스 주입구(60)는 진공 상태로 유지된 작업실의 내부에 불활성 가스인 아르곤 가스를 주입하기 위한 주입구이다.The gas inlet 60 is an inlet for injecting argon gas, which is an inert gas, into the interior of the working chamber maintained in a vacuum state.

진공 게이지(70)는 작업실 내부의 진공 정도를 파악하기 위해 설치되는 게이지이다.The vacuum gauge 70 is a gauge installed to determine the degree of vacuum in the working room.

작업실의 외측에 고정되는 스퍼터링 소스(80)는 비평형 마그네트론 방식이 이용되었으며, 비평형을 유지하기 위한 방법으로 전자석(82)을 이용한다. 여기서 비평형이란 작업실에 전자석(82)을 이용한 자기장의 요동을 형성하여 작업실 내에서 형성된 플라즈마의 이동을 고의로 불안정하게 형성시키는 것으로서, 전자석(82)의 피코팅체(90)가 평평한 기판이 아닌 굴곡진 형상의 것일 때 표면의 전체에 골고루 피막이 형성될 수 있도록 하기 위한 것이다.As the sputtering source 80 fixed to the outside of the work room, an unbalanced magnetron method was used, and the electromagnet 82 is used as a method for maintaining the non-equilibrium. Here, the non-equilibrium is a deliberately unstable movement of the plasma formed in the work room by forming a fluctuation of the magnetic field using the electromagnet 82 in the work room, and the coated body 90 of the electromagnet 82 is not a flat substrate but is bent. When it is a true shape, it is intended to be able to form a film evenly over the whole surface.

이렇게 구성된 챔버(20)의 하부 중심부에는 본 발명의 특징에 따른 홀더가 설치된다.The holder according to the characteristics of the present invention is installed at the lower center of the chamber 20 configured as described above.

홀더(10)는 모터(11)로부터 전달된 구동력을 이용하여 제1 회전판(12)을 회전시키는 제1 회전부와, 이 제1 회전부에 치합되어 제1 회전판(12)과 함께 회전되며 피코팅체(90)를 고정할 수 있는 다수개의 제2 회전판(13)을 회전시키는 제2 회전부를 포함한다.The holder 10 has a first rotating part for rotating the first rotating plate 12 by using the driving force transmitted from the motor 11, and is rotated together with the first rotating plate 12 in engagement with the first rotating part to be coated. And a second rotating part for rotating the plurality of second rotating plates 13 capable of fixing the 90.

여기서 모터(11)는 작업실의 외측에, 제1 회전판(12)은 작업실의 내측에 설치된다.Here, the motor 11 is provided outside the work room, and the first rotating plate 12 is provided inside the work room.

모터(11)와 제1 회전판(12)은 동력전달부재를 통해 상호 연결된다. 예를 들면, 동력전달부재로서 모터(11)의 회전축에는 구동풀리(14)가 고정되고, 제1 회전판(12)의 중심부에 고정된 고정축에 종동풀리(15)를 고정하며, 구동풀리(14)와 종동풀리(15)를 벨트(16)로 연결함으로써 모터(11)에서 전달된 구동력을 제1 회전판(12)으로 전달하게 된다.The motor 11 and the first rotating plate 12 are interconnected through a power transmission member. For example, the driving pulley 14 is fixed to the rotating shaft of the motor 11 as a power transmission member, and the driven pulley 15 is fixed to the fixed shaft fixed to the center of the first rotating plate 12, and the driving pulley ( By connecting the 14 and the driven pulley 15 with the belt 16, the driving force transmitted from the motor 11 is transmitted to the first rotating plate 12.

상기한 제2 회전판(13)은 제1 회전판(12)의 가장자리부에 위치하는 바, 제2 회전판(13)의 중심부에 고정된 지지축(13a)이 제1 회전판(12)을 관통하여 회전 가능하도록 삽입된다. 이러한 제2 회전판(13)에는 다수개의 고정홀(13b)이 제2 회전판(13)의 원주 방향을 따라 다수개가 형성되어 피코팅체(90)를 고정홀(13b)의 각각에 삽입하여 고정한다. 상기 다수개의 고정홀(13b)은 피코팅체가 삽입된 상태에서 수직방향으로 자세를 유지하도록 제2 회전판(13)에 대해 수직되는 방향으로 형성되는 것이 바람직하다.The second rotating plate 13 is located at the edge of the first rotating plate 12, and the support shaft 13a fixed to the center of the second rotating plate 13 rotates through the first rotating plate 12. Inserted as possible. A plurality of fixing holes 13b are formed in the second rotating plate 13 along the circumferential direction of the second rotating plate 13 to insert and fix the coated body 90 into each of the fixing holes 13b. . The plurality of fixing holes 13b may be formed in a direction perpendicular to the second rotating plate 13 to maintain a posture in a vertical direction in a state where the coated body is inserted.

이러한 제2 회전판(13)이 제1 회전판(12)의 회전에 따라 회전될 수 있도록 제2 회전판(13)의 지지축(13a)에는 소기어 판(17)이 고정되고, 제1 회전판(12)의 고정축에는 소기어 판(17)에 치합되는 대기어 판(18)이 고정된다.The small gear plate 17 is fixed to the support shaft 13a of the second rotating plate 13 so that the second rotating plate 13 can be rotated according to the rotation of the first rotating plate 12, and the first rotating plate 12 is fixed. ), The air gear plate 18 meshed with the small gear plate 17 is fixed.

홀더(10)의 고정홀(13b)에 삽입되어 고정되는 피코팅체(90)는 3차원 구조물인 것을 사용해도 골고루 코팅이 가능하다.The to-be-coated body 90 inserted into and fixed to the fixing hole 13b of the holder 10 may be evenly coated even when using a three-dimensional structure.

본 발명에서 사용되는 피코팅체(90)의 일례로 전기화학적 치료기에 사용되는 전극은 와이어 형태의 침 모양으로 형성된다.As an example of the to-be-coated body 90 used in the present invention, the electrode used in the electrochemical treatment device is formed in the shape of a wire in the form of a needle.

이러한 피코팅체(90)는 다양한 재질의 것이 사용될 수 있겠으나, 본 발명의 실시예에 따라 코팅이 이루어지는 피코팅체(90)가 생체에 사용되는 것을 감안할 때 의료시술이 진행되는 동안 파손이나 절단이 발생되면 안되기 때문에 내구성이 뛰어난 재질인 텅스텐으로 제조된 와이어를 사용한다. 이러한 텅스텐 와이어는 지름이 0.8mm 정도이고 길이는 15cm 정도가 되도록 절단하여 사용한다.Such a coating body 90 may be of various materials, but considering that the coating body 90 is coated according to an embodiment of the present invention is used in a living body, breakage or cutting during a medical procedure. Because this should not occur, use a wire made of tungsten, which is a durable material. These tungsten wires are cut to have a diameter of about 0.8 mm and a length of about 15 cm.

이상과 같이 구성되는 본 발명에 따른 홀더는 다음과 같은 작용을 나타낸다.The holder according to the present invention configured as described above exhibits the following actions.

먼저 챔버(20)의 내부에 피코팅체(90)를 고정하기 전에, 피코팅체(90)인 텅스텐 와이어의 표면에 이물질이 있으면 안되기 때문에 세정을 실시한다.First, before fixing the to-be-coated body 90 to the inside of the chamber 20, since the foreign substance should not exist in the surface of the tungsten wire which is the to-be-coated body 90, cleaning is performed.

세정은 염산이 물에 희석된 묽은 염산용액(염산 대 물이 1 대 9의 비율로 혼합된 용액)에 10분간 담근 후 아세톤과 알코올을 이용하여 각각 15분간 초음파 세척을 실시한다.Washing is soaked in dilute hydrochloric acid solution (hydrochloric acid to water in a ratio of 1 to 9) diluted with hydrochloric acid for 10 minutes, and then ultrasonically cleaned for 15 minutes using acetone and alcohol.

이렇게 1차로 세정된 피코팅체(90)는 제2 회전판(13)의 모든 고정홀(13b)에 각각 삽입한 후, 뚜껑(22)을 닫는다.The first to be cleaned 90 to be coated is inserted into all the fixing holes 13b of the second rotating plate 13, and then the lid 22 is closed.

뚜껑(22)을 닫은 상태에서 피코팅체(90)를 2차로 세정하게 된다. 2차 세정은 작업실의 내부에서 이루어지게 되며, 세정을 위하여 먼저 챔버(20)의 내부를 진공으로 만들기 위해 진공펌프를 작동하여 챔버(20) 내부의 진공도를 원하는 진공도까지 배기한다.The to-be-coated body 90 is secondarily cleaned in a state where the lid 22 is closed. Secondary cleaning is performed in the interior of the working chamber, and for cleaning, first, a vacuum pump is operated to vacuum the inside of the chamber 20 to exhaust the vacuum degree inside the chamber 20 to the desired degree of vacuum.

진공도가 10-5토르(Torr) 이하가 되면 가스 주입구(60)를 통해 작업실(1)의 내부로 아르곤 가스를 주입하고 글로 방전(glow discharge)을 실시한다.When the vacuum degree is 10 -5 Torr or less, argon gas is injected into the interior of the work chamber 1 through the gas inlet 60 and glow discharge is performed.

글로 방전은 제2 회전판(13)에 음의 전압을 인가하여 피코팅체(90)에서 글로 방전이 발생되도록 함으로써 피코팅체(90)에 존재하는 유기물과 같은 불순물뿐만 아니라 자연적으로 존재하는 산화막을 제거하게 된다. 이들 불순물이 충분히 제거되지 않으면 밀착성에 영향을 주므로 충분히 세정을 한다.The glow discharge is applied to the second rotating plate 13 by applying a negative voltage so that the glow discharge occurs in the coated body 90, thereby preventing not only impurities such as organic substances present in the coated body 90 but also naturally occurring oxide films. Will be removed. If these impurities are not sufficiently removed, the adhesiveness is affected. Therefore, the cleaning is sufficiently performed.

피코팅체(90)의 세정이 완료되면, 백금 타겟(30)을 세정한다. 백금 타겟(30)의 세정은 백금 타겟(30) 표면에 존재하는 불순물을 제거하기 위한 것으로 스퍼터링 공정의 바로 전에 실시한다. 본 발명에서는 셔터(50)가 닫힌 상태에서 스퍼터링 소스(80)에 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키면 백금 타겟(30)이 세정된다. 이때의 작업실 내부 조건은 후술하는 코팅을 실시하는 단계에서와 동일하게 유지한다.When the cleaning of the to-be-coated body 90 is completed, the platinum target 30 is cleaned. The cleaning of the platinum target 30 is performed to remove impurities existing on the surface of the platinum target 30 and is performed just before the sputtering process. In the present invention, when the plasma is generated by applying power to the sputtering source 80 while the shutter 50 is closed, the platinum target 30 is cleaned. At this time, the interior conditions of the working room are kept the same as in the step of carrying out the coating described later.

백금 타겟(30)의 세정이 끝나면, 코팅을 실시하는 단계를 진행하여 피코팅체(90)의 표면에 백금 피막이 형성되도록 한다. 이 단계의 진행시에는 백금 타겟(30)과 피코팅체(90) 사이에 닫혀있던 셔터(50)를 열어 비평형 마그네트론 스퍼터링 소스(80)에 의해 형성된 자기장의 영역이 피코팅체(90)까지 영향을 미치게 되고, 그 결과 백금 타겟(30)의 표면 근처에 형성된 백금 플라즈마 이온들이 피코팅체(90)를 향해 이동하여 피막을 형성하도록 한다.After the cleaning of the platinum target 30 is finished, the coating process is performed so that a platinum film is formed on the surface of the coated body 90. During this step, the shutter 50, which is closed between the platinum target 30 and the coated body 90, is opened to open the region of the magnetic field formed by the non-equivalent magnetron sputtering source 80 to the coated body 90. Affects, and as a result, the platinum plasma ions formed near the surface of the platinum target 30 move toward the coated body 90 to form a film.

이와 동시에 모터(11)를 구동하여 동력전달부재를 통해 연결된 제1회전판(12)을 회전시킨다. 그러면 제1 회전판(12)의 대기어 판(17)과 치합된 소기어 판(16)도 동시에 회전하게 되고, 제2 회전판(13)도 함께 회전하게 된다.At the same time, the motor 11 is driven to rotate the first rotating plate 12 connected through the power transmission member. Then, the small gear plate 16 meshed with the air gear plate 17 of the first rotating plate 12 also rotates at the same time, and the second rotating plate 13 also rotates together.

그 결과 백금 타겟(30)에서 발생된 백금 플라즈마 이온들이 챔버(20) 내부에서 계속해서 회전되고 있는 피코팅체(90)의 표면에 피막을 형성하게 된다.As a result, the platinum plasma ions generated from the platinum target 30 form a film on the surface of the to-be-coated body 90 which is continuously rotating in the chamber 20.

이때 제1 회전판(12)과 제2 회전판(13)이 동시에 회전되고 있기 때문에 피코팅체(90)의 전체에 골고루 코팅이 이루어진다.At this time, since the first rotating plate 12 and the second rotating plate 13 are being rotated at the same time, the entire coating body 90 is uniformly coated.

한편, 본 발명의 다른 실시예인 홀더는 도 4를 참조하여 상세히 설명한다.On the other hand, another embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

이 실시예에서 홀더(100)는 회전과 동시에 상하방향으로 물결치듯이 승하강하도록 구성된다.In this embodiment, the holder 100 is configured to move up and down as it is waved in the vertical direction at the same time as the rotation.

좀 더 상세히 설명하면, 홀더(100)는 모터(102)로부터 전달된 구동력을 이용하여 제3 회전판(104) 및 승하강캠(106)을 회전시키는 제3 회전부와, 이 제3 회전부에 치합되어 제3 회전판(104)과 함께 회전됨과 동시에 승하강하며 피코팅체(90)를 고정할 수 있는 다수개의 제4 회전판(108)을 회전시키는 제4 회전부를 포함한다.In more detail, the holder 100 is engaged with the third rotating part for rotating the third rotating plate 104 and the lifting cam 106 by using the driving force transmitted from the motor 102. And a fourth rotating part for rotating the plurality of fourth rotating plates 108 capable of being rotated together with the third rotating plate 104 and simultaneously lifting and lowering the fixed body 90.

여기서 모터(102)는 작업실의 외측에 제3 회전판(104)은 작업실의 내측에 설치된다.Here, the motor 102 is installed outside the work room, and the third rotating plate 104 is installed inside the work room.

모터(102)로부터 전달된 구동력을 이용하여 제3 회전판(104) 및 승하강캠(106)을 동시에 회전시키기 위해서 제3 회전판(104)과 승하강캠(106)은 상호 고정축(110)에 고정되고, 고정축(110)의 끝부분에 종동풀리(112)를 설치하며, 이 종동풀리(112)는 모터(102)의 회전축에 고정된 구동풀리(114)와 벨트(116)를 통해 상호 연결된다.In order to simultaneously rotate the third rotating plate 104 and the elevating cam 106 by using the driving force transmitted from the motor 102, the third rotating plate 104 and the elevating cam 106 are connected to the mutually fixed shaft 110. It is fixed, and the driven pulley 112 is installed at the end of the fixed shaft 110, the driven pulley 112 is mutually through the drive pulley 114 and the belt 116 fixed to the rotating shaft of the motor 102 Connected.

제3 회전판(104)은 상부 내주면 상에 제1 베벨기어(104a)가 형성되어 후술하는 제2 베벨기어와 치합된다.The third rotating plate 104 has a first bevel gear 104a formed on the upper inner circumferential surface thereof and is engaged with the second bevel gear, which will be described later.

고정축(110)의 상부에는 승하강캠(106)이 고정되는 데, 승하강캠(106)의 상부에는 물결모양의 레일이 형성된다.The lifting cam 106 is fixed to the upper portion of the fixed shaft 110, and the rail of the wave shape is formed on the raising cam 106.

이러한 물결모양의 레일을 따라 승하강하면서 회전하게 되는 제4 회전판(108)이 지지된 상태에서 회전할 수 있도록 중심부에 삽입공이 형성되고, 이 삽입공으로 지지축(118)이 삽입된다.An insertion hole is formed in the center portion so that the fourth rotating plate 108 that rotates while descending and descending along the wavy rail is supported, and the support shaft 118 is inserted into the insertion hole.

지지축(118)이 삽입공에 삽입된 상태에서 지지축(118)의 회전에 따라 제4 회전판(108)도 함께 회전할 수 있도록 지지축(118)의 측면에 축방향으로 돌출가이드(118a)를 형성하고, 이에 대응되는 인입홈을 삽입공의 내주면 상에 형성하는 것이 바람직하다.Protruding guide 118a in the axial direction on the side of the support shaft 118 so that the fourth rotating plate 108 also rotates in accordance with the rotation of the support shaft 118 with the support shaft 118 is inserted into the insertion hole It is preferable to form, and to form a corresponding recess groove on the inner peripheral surface of the insertion hole.

삽입공을 관통한 지지축(118)은 승하강캠(106)도 관통하며 그 하부 끝단에 제2 베벨기어(118b)가 설치되어 상술한 제1 베벨기어(104a)와 치합된다. 이때 지지축(118)은 승하강캠(106)을 관통한 상태에서 회전할 수 있다.The support shaft 118 penetrating the insertion hole also penetrates the elevating cam 106, and a second bevel gear 118b is installed at the lower end thereof and is engaged with the first bevel gear 104a described above. At this time, the support shaft 118 may rotate in a state passing through the elevating cam 106.

제4 회전판(108)에는 제3 회전판(104)의 가장자리부에 위치하는 바, 상술한 실시예에서와 동일하게 다수개의 고정홀이 제4 회전판(108)의 원주 방향을 따라 다수개가 형성되어 피코팅체(90)를 고정홀의 각각에 삽입하여 고정한다.The fourth rotary plate 108 is located at the edge of the third rotary plate 104, and as shown in the above-described embodiment, a plurality of fixing holes are formed along the circumferential direction of the fourth rotary plate 108 to be avoided. The coating body 90 is inserted into each of the fixing holes and fixed.

홀더(100)의 고정홀에 삽입되어 고정되는 피코팅체(90)는 상술한 실시예와 동일한 것을 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use the same coating body 90 as that to be inserted and fixed in the fixing hole of the holder 100.

이상과 같이 구성되는 본 발명에 따른 다른 실시예는 다음과 같은 작용을 나타낸다.Another embodiment according to the present invention configured as described above exhibits the following actions.

홀더(100)의 작동 이외에는 전술한 실시예와 동일하므로 그 설명을 생략하기로 하고 홀더에 대한 작동만 기술하고자 한다.Since the operation of the holder 100 is the same as the above-described embodiment, the description thereof will be omitted and only the operation of the holder will be described.

먼저 모터(102)를 구동하여 동력전달부재를 통해 연결된 제3 회전판(104) 및 승하강캠(106)을 회전시킨다.First, the motor 102 is driven to rotate the third rotating plate 104 and the lifting cam 106 connected through the power transmission member.

그러면 제3 회전판(104)의 제1 베벨기어(104a)와 치합된 제2 베벨기어(118b)가 회전되면서 돌출가이드(118a)와 인입홈으로 연결된 제4 회전판(108)이 회전하게 된다.Then, as the second bevel gear 118b engaged with the first bevel gear 104a of the third rotating plate 104 rotates, the fourth rotating plate 108 connected to the protruding guide 118a and the inlet groove rotates.

이때 고정축(110)에 고정된 승하강캠(106)도 제3 회전판(104)과 더불어 회전하기 때문에 제4 회전판(108)이 물결 모양의 레일을 따라 승하강하게 된다.At this time, since the lifting cam 106 fixed to the fixed shaft 110 also rotates along with the third rotating plate 104, the fourth rotating plate 108 moves up and down along the wavy rail.

따라서 백금 타겟(30)에서 발생된 백금 플라즈마 이온이 스퍼터링 소스(80)에서 발생된 자기장의 영향을 받아 피코팅체(90)로 이동하여 피코팅체(90)의 표면에 피막을 형성하게 된다. 이때 피코팅체(90)가 고정된 제4 회전판(108)이 회전과 동시에 승하강하기 때문에 피코팅체(90)의 전체에서 고른 백금 코팅이 이루어진다.Therefore, the platinum plasma ions generated from the platinum target 30 move to the coated body 90 under the influence of the magnetic field generated from the sputtering source 80 to form a film on the surface of the coated body 90. At this time, since the fourth rotating plate 108 on which the to-be-coated body 90 is fixed moves up and down at the same time as the rotation, even platinum coating is performed on the entire to-be-coated body 90.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the range of.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 의하면, 상기와 같은 홀더를 통해 텅스텐 와이어에 백금이 코팅됨으로써 텅스텐 와이어 전체에서 고른 백금 코팅이 이루어져 치밀하고 밀착력이 우수한 전극을 형성할 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, platinum is coated on the tungsten wire through the holder as described above, so that evenly coated platinum is formed on the entire tungsten wire, thereby forming an electrode having excellent compactness and adhesion.

Claims (7)

진공을 유지한 채로 스퍼터링 소스를 이용한 진공 증착을 실시하는 챔버의 내부에 피코팅체를 고정하는 홀더에 있어서,A holder for fixing a to-be-coated body in a chamber in which vacuum deposition is performed using a sputtering source while maintaining a vacuum, 상기 챔버의 외측에 설치되는 모터;A motor installed outside the chamber; 상기 모터로부터 전달된 구동력을 이용하여 제1 회전판을 회전시키는 제1 회전부; 및A first rotating part rotating the first rotating plate by using the driving force transmitted from the motor; And 상기 제1 회전부에 치합되어 제1 회전판의 회전에 따라 함께 회전하는 다수개의 제2 회전판에 피코팅체를 고정하는 제2 회전부A second rotating part which is engaged with the first rotating part and fixes the to-be-coated body to the plurality of second rotating plates which rotate together with the rotation of the first rotating plate. 를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더.Holder used to coat the platinum on a three-dimensional structure comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 제2 회전판에는 상기 피코팅체를 수직되는 방향으로 고정시킬 수 있는 다수개의 고정홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더.The holder of claim 1, wherein the second rotating plate is provided with a plurality of fixing holes for fixing the coated body in a vertical direction. 제 1 항에 있어서, 상기 모터의 구동력을 제1 회전판에 전달하기 위해서, 상기 모터의 회전축에 구동풀리를 고정하고, 상기 제1 회전판의 중심부에 고정된 고정축에 종동풀리를 고정하며, 상기 구동풀리와 종동풀리를 벨트로 연결하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더.According to claim 1, In order to transmit the driving force of the motor to the first rotating plate, the driving pulley is fixed to the rotating shaft of the motor, the driven pulley is fixed to the fixed shaft fixed to the center of the first rotating plate, the drive A holder used to coat platinum on a three-dimensional structure, characterized by connecting a pulley and a driven pulley with a belt. 제 2 항에 있어서, 상기 모터의 구동력에 의해 상기 제1 회전판과 제2 회전판이 동시에 회전할 수 있도록 상기 제1 회전판에 대기어 판을 설치하고, 상기 대기어 판에 치합되는 소기어 판을 상기 제2 회전판에 설치하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더.The small gear plate of claim 2, wherein a standby gear plate is installed on the first rotary plate so that the first rotary plate and the second rotary plate can rotate at the same time by the driving force of the motor. A holder used for coating platinum on a three-dimensional structure, characterized in that it is installed on the second rotating plate. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 피코팅체는 소정 길이로 절단된 와이어 형태의 전극인 것을 특징으로 하는 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더.The holder according to any one of claims 1 to 4, wherein the coated body is an electrode in the form of a wire cut to a predetermined length. 제 5 항에 있어서, 상기 와이어의 재질은 텅스텐인 것을 특징으로 하는 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더.6. The holder of claim 5 wherein the wire is made of tungsten. 진공을 유지한 채로 스퍼터링 소스를 이용한 진공 증착을 실시하는 챔버의 내부에 피코팅체를 고정하는 홀더에 있어서,A holder for fixing a to-be-coated body in a chamber in which vacuum deposition is performed using a sputtering source while maintaining a vacuum, 상기 챔버의 외측에 설치되는 모터;A motor installed outside the chamber; 상기 모터로부터 전달된 구동력을 이용하여 제3 회전판 및 상단에 물결모양의 레일이 형성된 승하강캠을 회전시키는 제3 회전부; 및A third rotating part which rotates a lifting cam having a third rail and a wavy rail formed thereon using a driving force transmitted from the motor; And 상기 승하강캠에 치합되어 제3 회전판의 회전에 따라 함께 회전함과 동시에 상기 레일을 따라 승하강하는 다수개의 제4 회전판에 피코팅체를 고정하는 제4 회전부A fourth rotating part which is engaged with the lifting cam and rotates together with the rotation of the third rotating plate and simultaneously fixes the to-be-coated body to the plurality of fourth rotating plates which are moved up and down along the rail; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더.Holder used to coat the platinum on a three-dimensional structure comprising a.
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