KR20040086779A - 대물을 이송하는 이송장치와 그 사용 방법 및 이러한이송장치를 포함하는 리소그래피투영장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 대물(W)을 이송하는 이송장치에 있어서,제1위치에서 상기 대물(W)을 그리핑하고, 리시버(20)에 근접한 제2위치에서 상기 대물을 해제하고, 상기 리시버(20)에 근접한 제2위치에서 상기 대물을 그리핑한 후에 제1위치에서 상기 대물(W)을 해제하는 것 중 적어도 하나를 수행하는 그리퍼(15)를 포함하고,ㆍ상기 이송장치에는 상기 리시버(20)에 대한 그리퍼(15)의 상대 위치를 1차원 이상으로 측정하도록 구성된 측정장치(22)가 더 제공되며,ㆍ상기 상대 위치 오차는, 상기 측정된 상대 위치에 기초하여 원하는 상대 위치에 대하여 정의되며,ㆍ상기 그리퍼(15) 및 상기 리시버(20)의 상대 위치는 상기 제2위치에서의 상기 상대 위치 오차를 최소화하기 위해 조정되는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항에 있어서,상기 대물은, 마스크(MA) 또는 웨이퍼(W)와 같은 기판이며, 상기 리시버(20)는 마스크테이블(MT) 또는 웨이퍼테이블(WT)과 같은 기판테이블인 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 그리퍼(15) 및 상기 리시버(20)의 상대 위치는 상기 리시버(20)의 제2기준지점과 상기 그리퍼(15)의 제2기준지점(16) 사이의 상대 위치를 측정함으로써 측정되는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 측정장치(22)는 상기 리시버(20)상에 제공된 1이상의 센서를 포함하고, 상기 센서(22)상에는 제1기준지점이 제공되며, 상기 그리퍼(15)상에 또는 상기 그리퍼(15)의 대물(W)상에 제2기준지점(16)이 제공되는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 측정장치(22)는 상기 그리퍼(15)상에 제공된 1이상의 센서를 포함하고, 상기 센서(22)상에는 제1기준지점이 제공되며, 상기 리시버(20)상에는 제2기준지점(16)이 제공되는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 측정장치(22)는 상기 그리퍼(15) 및 상기 리시버(20)에 대하여 비교적 안정된 프레임(30)상에 제공된 1이상의 센서를 포함하고, 상기 그리퍼(15) 또는 상기 그리퍼(15)상의 대물(W)상에 제1기준지점(32)이 제공되며, 상기 리시버(20)상에 제2기준지점(31)이 제공되는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 이송장치는 상기 그리퍼(15)를 프레임(30)에 기계적으로 도킹시키는 기계적인 도킹수단을 포함하고, 상기 측정장치는 상기 그리퍼(15) 및 상기 리시버(20)에 대하여 비교적 안정된 상기 프레임(30)상에 제공된 1이상의 센서를 포함하며, 상기 리시버(20)상에는 기준지점(31)이 제공되는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 그리퍼(15)와 상기 리시버(20)간의 상대 속도차는 상기 제2위치에서 최소인 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 그리퍼(15)와 상기 리시버(20)간의 상대 가속도차는 상기 제2위치에서 최소인 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 측정장치(22)는 2이상의 방향으로 상대 위치를 측정하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 상대 위치 오차는 상기 그리퍼(15)에 대한 대물(W)의 상대 위치에 관한 정보를 이용하여 또한 결정되는 것을 특징으로 하는 이송장치.
- 리소그래피 투영장치에 있어서,- 방사선의 투영빔을 제공하는 방사선시스템;- 원하는 패턴에 따라 상기 투영빔을 패터닝하는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체;- 기판을 유지하는 기판테이블; 및- 상기 기판의 타겟부상에 상기 패터닝된 빔을 투영하는 투영시스템을 포함하며,상기 리소그래피 투영장치는 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 이송 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
- 제1위치에서 상기 대물(W)을 그리핑하고, 리시버(20)에 근접한 제2위치에서 대물(W)을 해제하며, 상기 리시버(20)에 근접한 제2위치에서 상기 대물(W)을 그리핑한 후에 제1위치에서 상기 대물(W)을 해제하는 것 중 적어도 하나를 수행하는 것을 포함하는 그리퍼(15)에 의하여 이송 장치에 대물(W)을 이송하는 방법에 있어서,ㆍ상기 리시버(20)에 대한 상기 그리퍼(15)의 상대 위치를 1차원 이상으로 측정하는 단계,ㆍ측정된 상대 위치에 기초하여 원하는 상대 위치에 대한 상대 위치 오차를 정의하는 단계, 및ㆍ상기 제2위치에서의 상대 위치 오차를 최소화하기 위해 상기 그리퍼(15) 및 상기 리시버(20)의 상대 위치를 조정하는 단계를 특징으로 하는 방법.
- 디바이스 제조방법에 있어서,- 부분적 또는 전체적으로 방사선감응재층으로 덮인 기판(W)을 제공하는 단계;- 방사선시스템(Ex, IL)을 사용하여 방사선의 투영빔(PB)을 제공하는 단계;- 패터닝수단(MA)을 사용하여 상기 투영빔(PB)의 단면에 패턴을 부여하는 단계;- 상기 방사선감응재층의 타겟부(C)상에 상기 방사선의 패터닝된 빔(PB)을 투영하는 단계를 포함하며,상기 원하는 위치로 상기 기판(W)을 이송하기 위해서 제13항에 따른 방법을 이용하는 단계를 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP03075929.4 | 2003-03-31 | ||
EP03075929 | 2003-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040086779A true KR20040086779A (ko) | 2004-10-12 |
KR100614954B1 KR100614954B1 (ko) | 2006-08-25 |
Family
ID=33395904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040021659A KR100614954B1 (ko) | 2003-03-31 | 2004-03-30 | 대물을 이송하는 이송장치와 그 사용 방법 및 이러한이송장치를 포함하는 리소그래피투영장치 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7397539B2 (ko) |
JP (1) | JP3926805B2 (ko) |
KR (1) | KR100614954B1 (ko) |
CN (1) | CN100487576C (ko) |
SG (1) | SG115656A1 (ko) |
TW (1) | TWI283800B (ko) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG125948A1 (en) * | 2003-03-31 | 2006-10-30 | Asml Netherlands Bv | Supporting structure for use in a lithographic apparatus |
KR101363591B1 (ko) * | 2005-07-11 | 2014-02-14 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 자동 정렬 기능을 갖는 기판 이송 장치 |
DE202005016654U1 (de) * | 2005-10-21 | 2007-03-01 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Vorrichtung zur Überwachung der Relativposition mehrerer Einrichtungen |
JP4642787B2 (ja) | 2006-05-09 | 2011-03-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置及び縦型熱処理装置 |
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CN102156393B (zh) * | 2010-02-11 | 2012-10-03 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻机中掩模版的上版方法 |
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DE102014221877A1 (de) | 2014-10-28 | 2016-04-28 | Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft | System und Verfahren zum lagegenauen Platzieren eines zu bearbeitenden Objekts an einer Fertigungsvorrichtung |
TWI710440B (zh) | 2014-11-10 | 2020-11-21 | 美商布魯克斯自動機械公司 | 工具自動教導方法及設備 |
CN109426082A (zh) * | 2017-08-21 | 2019-03-05 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种掩模版的传输系统以及传输方法 |
CN110658684B (zh) * | 2018-06-28 | 2020-11-20 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 取放版手单元、掩模传输系统和掩模传输方法 |
KR20210125067A (ko) | 2019-02-08 | 2021-10-15 | 야스카와 아메리카 인코포레이티드 | 관통 빔 자동 티칭 |
TWI747079B (zh) * | 2019-11-19 | 2021-11-21 | 財團法人資訊工業策進會 | 機械手臂的定位精度量測系統與方法 |
CN114408518B (zh) * | 2022-04-01 | 2022-08-19 | 深圳市龙图光电有限公司 | 半导体芯片用掩模版传送装置及其传送方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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ATE123885T1 (de) * | 1990-05-02 | 1995-06-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Belichtungsvorrichtung. |
US5229872A (en) * | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
JP2683208B2 (ja) * | 1993-01-28 | 1997-11-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ロボット機構を用いた搬入および搬出のためのワークピース位置合わせ方法および装置 |
JP2970342B2 (ja) * | 1993-10-06 | 1999-11-02 | 株式会社日立製作所 | ライブラリ装置 |
US6366830B2 (en) * | 1995-07-10 | 2002-04-02 | Newport Corporation | Self-teaching robot arm position method to compensate for support structure component alignment offset |
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ATE216091T1 (de) | 1997-01-29 | 2002-04-15 | Micronic Laser Systems Ab | Verfahren und gerät zur erzeugung eines musters auf einem mit fotoresist beschichteten substrat mittels fokusiertem laserstrahl |
SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
JP3626504B2 (ja) | 1997-03-10 | 2005-03-09 | アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ | 2個の物品ホルダを有する位置決め装置 |
US6242879B1 (en) * | 2000-03-13 | 2001-06-05 | Berkeley Process Control, Inc. | Touch calibration system for wafer transfer robot |
EP1052546B1 (en) | 1999-04-21 | 2004-09-15 | ASML Netherlands B.V. | Substrate handler for use in lithographic projection apparatus |
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US6591160B2 (en) * | 2000-12-04 | 2003-07-08 | Asyst Technologies, Inc. | Self teaching robot |
-
2004
- 2004-03-23 US US10/806,345 patent/US7397539B2/en active Active
- 2004-03-26 SG SG200401669A patent/SG115656A1/en unknown
- 2004-03-30 CN CNB2004100318523A patent/CN100487576C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-30 TW TW093108690A patent/TWI283800B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-03-30 KR KR1020040021659A patent/KR100614954B1/ko active IP Right Grant
- 2004-03-31 JP JP2004102918A patent/JP3926805B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7397539B2 (en) | 2008-07-08 |
KR100614954B1 (ko) | 2006-08-25 |
JP3926805B2 (ja) | 2007-06-06 |
TW200428160A (en) | 2004-12-16 |
SG115656A1 (en) | 2005-10-28 |
JP2004343077A (ja) | 2004-12-02 |
CN100487576C (zh) | 2009-05-13 |
US20040227924A1 (en) | 2004-11-18 |
CN1534385A (zh) | 2004-10-06 |
TWI283800B (en) | 2007-07-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120803 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130809 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140808 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150807 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160805 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170804 Year of fee payment: 12 |