KR20040084128A - Chuck table of Sawing equipment - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 BGA(Ball Grid Array)형태의 반도체 패키지 스트립(Strip)을 절단하는 반도체 쏘잉(Sawing)장치에 설치되는 척테이블에 관한 것이다.The present invention relates to a chuck table installed in a semiconductor sawing device for cutting a semiconductor package strip in the form of a ball grid array (BGA).
정보통신 기술이 발전함에 따라 반도체 패키지의 고집적화가 요구되고 있는데, 이를 달성하기 위해 전통적 형태의 리드프레임 대신에 고집적화가 가능한 솔더볼타입의 스트립을 이용한 반도체 패키지 생산이 확대되고 있으며, 종래 솔더볼타입의 스트립은 대한민국 특허등록 제366922호의 도 1 및 도 2에 도시된 것이 대표적으라 할 수 있다. 이러한 종래 솔더볼타입의 스트립은 대한민국 특허등록 제366922호의 도 6에 도시된 바와 같이 관절형 로봇인 매뉴플레이터에 흡착되어 절단장치로 이동된 후에 절단장치에 의해서 절단되기도 하고, 또는 대한민국 실용신안등록 제304725호에 개시된 바와 같이 반도체 쏘잉장치의 척테이블에 흡착되어 절단장치로 이동된 후에 척테이블과 절단장치가 상호 연동되면서 절단되기도 한다.With the development of information and communication technology, high integration of semiconductor packages is required.In order to achieve this, semiconductor package production using solder ball type strips that can be highly integrated instead of the traditional lead frame is expanding. 1 and 2 of the Republic of Korea Patent No. 366922 may be representative. Such a conventional solder ball type strip is adsorbed by a manipulator which is an articulated robot as shown in FIG. 6 of Korean Patent Registration No. 3,692,22 and is then cut by a cutting device after being moved to a cutting device, or the Republic of Korea Utility Model Registration As disclosed in 304725, the chuck table and the cutting device may be cut while being interlocked with the chuck table of the semiconductor sawing device and moved to the cutting device.
상기 척테이블은 절단톱날에 의한 피가공물의 절단시 척테이블에 안착되어진 피가공물이 유동되지 않도록 고정하는 역할을 하는데, 종래 척테이블은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같으며, 편의상 척테이블의 회전 및 왕복운동과 관련된 서보모터 및 볼스크류는 생략하였다.The chuck table serves to fix the workpiece placed on the chuck table when the workpiece is cut by the cutting saw blade, so as not to flow, the conventional chuck table is as shown in Figures 1 and 2, for convenience of The servomotor and ball screw related to rotation and reciprocation are omitted.
이에 의하면, 종래 척테이블은, 상면이 개구되어진 진공압 분배홈(111)과, 이에 연통되어진 진공압 공급구멍(112)이 형성되어진 테이블베이스(110)와 ; 이 테이블베이스(110)에 얹혀진 지지테이블(120) 및 ; 진공압 분배홈(111)에 연통되는 흡착구멍(131)이 형성되어 지지테이블(120)에 삽입 고정되는 흡착테이블(130)으로 이루어진다. 상기 지지테이블(120)에는 흡착테이블(130)이 안착되는 안착홈(121)과, 진공압 분배홈(111)과 흡착구멍(131)을 상호 연통시키는 진공압 전달구멍(122)이 형성된다. 상기 테이블베이스(110)의 진공압 공급구멍(112)은 외부 진공라인(도시안됨)과 연통되게 연결된다.According to this, the conventional chuck table includes: a table base 110 having a vacuum pressure distribution groove 111 having an upper surface opened therein and a vacuum pressure supply hole 112 communicating therewith; A support table 120 mounted on the table base 110; Adsorption holes 131 are formed in communication with the vacuum pressure distribution groove 111 is formed of the suction table 130 is inserted into the support table 120 and fixed. The support table 120 is provided with a seating groove 121 on which the suction table 130 is seated, and a vacuum pressure transmission hole 122 for communicating the vacuum pressure distribution groove 111 and the suction hole 131 with each other. The vacuum pressure supply hole 112 of the table base 110 is connected in communication with an external vacuum line (not shown).
이의 작동상태를 설명해 보면, 우선 테이블베이스(110)와 지지테이블(120) 및 흡착테이블(130)이 상호 조립된 상태에서, 별도의 이송기구(도시안됨)를 매개로 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 얹혀지면, 외부 진공라인으로부터의 진공압이 진공압 공급구멍(112) →진공압 분배홈(111) →진공압 전달구멍(122) →흡착구멍(131)으로 전달되어, 외부공기가 흡착구멍(131)을 통해서 척테이블(100) 내부로 강제 흡입되고, 이로 인해 흡착테이블(130)에 안착되어진 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 소정압력으로 부착되어진 상태를 유지하게 된다.Referring to the operation state, first, the workpiece 200 is adsorbed through a separate transfer mechanism (not shown) in the state in which the table base 110, the support table 120 and the suction table 130 are assembled together. When placed on the table 130, the vacuum pressure from the external vacuum line is transferred to the vacuum pressure supply hole 112 → vacuum distribution groove 111 → vacuum pressure transmission hole 122 → suction hole 131, Air is forcibly sucked into the chuck table 100 through the suction hole 131, thereby maintaining the state in which the workpiece 200 seated on the suction table 130 is attached to the suction table 130 at a predetermined pressure. Done.
이후, 상기 척테이블(100)이 볼스크류와 서보모터의 조합에 의해서 좌우방향(X축방향)과 수평방향(θ방향)으로 회전되면서, 절단톱날(300)이 볼스크류와 서보모터의 조합에 의해서 전후방향(Y축방향)과 수직방향(Z축방향)으로 직선이동되어, 피가공물(200)이 절단톱날(300)에 의해 절단된다.Thereafter, the chuck table 100 is rotated in the left-right direction (X-axis direction) and the horizontal direction (θ direction) by the combination of the ball screw and the servo motor, so that the saw blade 300 is combined with the ball screw and the servo motor. Thereby, the workpiece 200 is cut by the cutting saw blade 300 by linear movement in the front-rear direction (Y-axis direction) and vertical direction (Z-axis direction).
상기 피가공물(200)의 절단작업이 완료되면, 척테이블(100)로의 진공압 공급이 차단되어, 피가공물(200)이 단지 흡착테이블(130)에 얹혀진 상태로 되고, 이러한 상태에서 별도의 이송기구(도시안됨)를 통해 절단되어진 피가공물(200)이 척테이블(100)로부터 배출된다.When the cutting operation of the workpiece 200 is completed, the vacuum pressure supply to the chuck table 100 is cut off, and the workpiece 200 is merely placed on the suction table 130, and in this state, separate transfer is performed. The workpiece 200 cut through the instrument (not shown) is discharged from the chuck table 100.
이후 상기 작동을 반복적으로 수행한다.The operation is then repeated.
여기서, 상기 척테이블(100)의 흡착테이블(130)은, 절단작업시 피가공물(200)이 위치변동되지 않도록 이를 충분히 안정적으로 지지할 수 있으면서, 안착되어진 피가공물(200)의 손상이 방지되도록 어느정도의 무른 성질과, 피가공물(200)이 잘 미끄러지지 않도록 어느정도의 점착성을 띄는 물성이 요구되는데, 통상 고분자 합성고무재질의 것을 이용하고 있다.Here, the suction table 130 of the chuck table 100, while being able to stably support the workpiece 200 so as not to change the position during the cutting operation, so as to prevent damage to the workpiece 200 seated Some soft properties and physical properties with a certain degree of adhesion is required so that the workpiece 200 does not slip well, and a polymer synthetic rubber material is usually used.
그러나, 종래 기술에 따르면, 흡착테이블(130)이 지지테이블(120)의 안착홈(121)에 삽입되어서 이에 직접적으로 얹혀져서 고정되는 구조를 이루고 있어서, 흡착테이블(130)에 얹혀져서 맞대어지는 피가공물(200)이 도 2에 도시된 바와 같이 비틀리거나 휘어져서 변형되는 경우에는, 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 일부만 접하게 되므로, 피가공물(200)과 일부 흡착구멍(131)들 사이에 틈새가 유지되어, 이 틈새를 통해서 외부 공기가 연속적으로 흡착구멍(131)으로 유입된다. 따라서, 상기 척테이블(100) 내부에 적절한 진공압이 형성되지 못하게 되어, 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 소정압력으로 부착되지 않게 되므로, 절단톱날(300)에 의한 피가공물(200)의 절단시 피가공물(200)이 절단톱날(300)에 의해 위치이동되면서 피가공물이 손상되게 된다.However, according to the prior art, the adsorption table 130 is inserted into the seating groove 121 of the support table 120 to be directly mounted on the fixed structure, so as to be mounted on the adsorption table 130 to be opposed to When the workpiece 200 is twisted or bent as shown in FIG. 2, the workpiece 200 comes into contact with the adsorption table 130 only partially, and thus, the workpiece 200 and some adsorption holes 131. A gap is maintained between them, and outside air continuously flows into the suction hole 131 through this gap. Therefore, since the proper vacuum pressure is not formed in the chuck table 100, the workpiece 200 is not attached to the suction table 130 at a predetermined pressure, and thus the workpiece 200 is cut by the cutting saw blade 300. ) When the workpiece 200 is moved by the cutting saw blade 300, the workpiece is damaged.
종래와 같은 구조하에서 상기와 같은 문제를 해소하기 위해서는, 흡착테이블(130)을 피가공물(200)의 형태에 따라서 쉽게 변형될 수 있는 재질로 해야 하지만, 이렇게 되면 흡착테이블(130)의 강성이 약화되므로, 절단톱날(300)에 의한 피가공물(200)의 절단시에 가해지는 외력에 의해 흡착테이블(130)이 변형되면서 피가공물(200)의 위치가 변동되어, 스트립의 절단불량이 더욱 심각한 문제가 초래된다.In order to solve the above problems under the conventional structure, the adsorption table 130 should be made of a material which can be easily deformed according to the shape of the workpiece 200. However, the rigidity of the adsorption table 130 is weakened. Therefore, as the suction table 130 is deformed by the external force applied when the workpiece 200 is cut by the saw blade 300, the position of the workpiece 200 is changed, so that the cutting defect of the strip is more serious. Is brought about.
이에 본 발명은 상기와 같은 문제를 해소하기 위해 안출된 것으로, 피가공물의 변형을 수용하면서 이를 적절하게 고정할 수 있도록 된 반도체 쏘잉장치의 척테이블을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a chuck table of a semiconductor sawing device that can be appropriately fixed while accommodating deformation of a workpiece.
도 1은 척 테이블을 도시한 사시도,1 is a perspective view showing a chuck table;
도 2는 종래 척 테이블로서 도 1의 A-A선 단면도,2 is a cross-sectional view taken along line A-A of FIG. 1 as a conventional chuck table;
도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 척테이블의 제1실시예를 도시한 도면,3a and 3b show a first embodiment of a chuck table according to the invention,
도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 척테이블의 제2실시예를 도시한 도면,4a and 4b show a second embodiment of the chuck table according to the invention,
도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 척테이블의 제3실시예를 도시한 도면,5A and 5B show a third embodiment of the chuck table according to the present invention;
도 6a 및 도 6b는 본 발명에 따른 척테이블의 제4실시예를 도시한 도면,6a and 6b show a fourth embodiment of the chuck table according to the invention,
도 7a 및 도 7b는 본 발명에 따른 척테이블의 제5실시예를 도시한 도면,7a and 7b show a fifth embodiment of the chuck table according to the invention,
도 8a 및 도 8b는 본 발명에 따른 척테이블의 제6실시예를 도시한 도면,8A and 8B show a sixth embodiment of the chuck table according to the present invention;
도 9a 및 도 9b는 본 발명에 따른 척테이블의 제7실시예를 도시한 도면,9a and 9b show a seventh embodiment of a chuck table according to the invention,
도 10a 및 도 10b는 도 9a 및 도 9b에 도시된 척테이블의 변형예를 도시한 도면,10A and 10B show a modification of the chuck table shown in FIGS. 9A and 9B;
도 11a 및 도 11b는 본 발명에 따른 척테이블의 제8실시예를 도시한 도면이다.11A and 11B show an eighth embodiment of a chuck table according to the present invention.
- 첨부도면의 주요부분에 대한 용어설명 --Explanation of terms for main parts of attached drawings-
10,20 ; 고정부재, 100 ; 척테이블,10,20; Fixing member, 100; Chuck Table,
110 ; 테이블베이스, 111 ; 진공압 분배홈,110; Table base, 111; Vacuum distribution groove,
112 ; 진공압 공급구멍, 120 ; 지지테이블,112; Vacuum supply hole 120; Support Table,
121 ; 안착홈, 122 ; 진공압 전달구멍,121; Seating groove, 122; Vacuum transfer hole,
123 ; 관통홀, 130 ; 흡착테이블,123; Through hole, 130; Adsorption table,
131 ; 흡착구멍, 132 ; 변형유도구멍,131; Adsorption holes, 132; Deformation Induction Hole,
140 ; 지지판, 150 ; 보강판,140; Support plate, 150; Reinforcement Plate,
151 ; 진공압 전달구멍, 160 ; 스폰지,151; Vacuum transfer hole, 160; Sponge,
161 ; 진공압 전달구멍, 170 ; 판스프링,161; Vacuum transfer hole, 170; Leaf Spring,
181 ; 이동판, 182 ; 오링,181; Moving plate, 182; O-Ring,
183 ; 코일스프링, 184 ; 공압실린더,183; Coil spring, 184; Pneumatic cylinder,
200 ; 피가공물, 300 ; 절단톱날,200; Workpiece, 300; Cutting Saw Blade,
G1,G2 ; 틈새.G1, G2; gap.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 상면이 개구되어진 진공압 분배홈과, 이에 연통되어진 진공압 공급구멍이 형성되어진 테이블베이스와 ; 이 테이블베이스에 얹혀진 지지테이블 및 ; 진공압 분배홈에 연통되는 흡착구멍이 형성되어 지지테이블에 삽입 고정되는 흡착테이블로 이루어진 반도체 쏘잉장치의 척테이블에 있어서, 상기 흡착테이블이 피가공물의 형태에 따라 적절하게 변형되도록 하는 변형수용수단이 구비되어, 피가공물의 형태에 상응하게 흡착테이블이 변형되면서 피가공물이 흡착테이블에 긴밀하게 밀착 고정되는 것을 특징으로 하는 구조로 되어 있다.The present invention for achieving the above object, the table base is formed with a vacuum pressure distribution groove, the upper surface is opened, and a vacuum pressure supply hole communicated therewith; A support table mounted on this table base; A chuck table of a semiconductor sawing device, comprising a suction table formed with suction holes communicating with a vacuum distribution groove and inserted into and fixed to a support table, wherein the deformation receiving means for causing the suction table to be properly deformed according to the shape of the workpiece is provided. It is provided, the structure is characterized in that the workpiece is closely fixed to the suction table while the suction table is deformed to correspond to the shape of the workpiece.
이하 본 발명을 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3a 및 도 3b에 의하면, 상면이 개구되어진 진공압 분배홈(111)과, 이에 연통되어진 진공압 공급구멍(112)이 형성되어진 테이블베이스(110)와 ; 이 테이블베이스(110)에 얹혀진 지지테이블(120) 및 ; 진공압 분배홈(111)에 연통되는 흡착구멍(131)이 형성되어 지지테이블(120)에 삽입 고정되는 흡착테이블(130)로 이루어지되, 상기 지지테이블(120)에 흡착테이블(130)이 안착되는 안착홈(121)과, 진공압분배홈(111)과 흡착구멍(131)을 상호 연통시키는 진공압 전달구멍(122)이 형성되고, 흡착테이블(130)의 저면과 안착홈(121) 사이에 변형수용수단인 틈새(G1)가 형성되어진 구조를 이룬다.3A and 3B, a table base 110 having a vacuum pressure distribution groove 111 having an upper surface opened therein and a vacuum pressure supply hole 112 communicating therewith; A support table 120 mounted on the table base 110; Adsorption hole 131 is formed in communication with the vacuum pressure distribution groove 111 is formed of the suction table 130 is fixed to the support table 120, the suction table 130 is seated on the support table 120 The mounting groove 121 is formed, and the vacuum pressure transmission hole 122 for communicating the vacuum pressure distribution groove 111 and the suction hole 131 with each other is formed between the bottom surface of the suction table 130 and the mounting groove 121. A gap G1 is formed in the deformation receiving means.
이의 작동상태를 설명해 보면, 우선 흡착테이블(130)에 얹혀진 피가공물(200)이 정상인 경우에는, 도 3a에 도시된 바와 같이, 흡착테이블(130)이 원형상을 유지하며 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 흡착된다.Referring to the operation state of the first, when the workpiece 200 placed on the suction table 130 is normal, as shown in Figure 3a, the suction table 130 is maintained in a circular shape and the workpiece 200 is Adsorbed to the adsorption table 130.
그러나, 흡착테이블(130)에 얹혀진 피가공물(200)이 비정상인 경우에는, 흡착시의 압력에 의해서, 도 3b에 도시된 바와 같이, 흡착테이블(130)이 피가공물(200)에 상응하게 변형되어, 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 긴밀하게 밀착 고정된다.However, when the workpiece 200 placed on the suction table 130 is abnormal, the suction table 130 is deformed to correspond to the workpiece 200 by the pressure at the suction, as shown in FIG. 3B. Thus, the workpiece 200 is tightly fixed to the suction table 130.
또한, 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 상기 지지테이블(120)에 관통홀(123)이 형성되고, 흡착테이블(130)이 관통홀(123)의 상부에 끼워져 부착되며, 지지판(140)이 지지테이블(120)의 저면에 고정되어 진공압 분배홈(111)에 내설되고, 공기압 전달구멍(151)이 형성되어진 보강판(150)이 관통홀(123)의 저면으로 끼워져서 지지판(140)에 얹혀져 고정되되, 흡착테이블(130)의 저면과 지지판(140) 사이에 변형수용수단인 틈새(G2)가 형성되도록 할 수도 있다.4A and 4B, a through hole 123 is formed in the support table 120, and an adsorption table 130 is fitted to the upper part of the through hole 123 and is attached to the support plate 140. ) Is fixed to the bottom of the support table 120 and is installed in the vacuum pressure distribution groove 111, and the reinforcing plate 150 having the pneumatic pressure transmission hole 151 is inserted into the bottom of the through hole 123, thereby supporting the support plate ( It is mounted on the fixed 140, it may be such that the gap (G2) is a deformation receiving means between the bottom of the suction table 130 and the support plate 140.
본 제2실시예의 경우에는 지지판(140)이나 보강판(150) 등이 필요하게 되므로 부재수가 증가되는 단점이 있지만, 틈새(G2)를 적절하게 조절할 수 있고, 틈새(G2)의 정밀성을 높일 수 있는 장점이 있다.In the case of the second embodiment, since the support plate 140 or the reinforcement plate 150 is required, there is a disadvantage in that the number of members is increased, but the gap G2 can be appropriately adjusted and the precision of the gap G2 can be improved. There is an advantage.
상기 제1실시예와 제2실시예의 틈새(G2)는, 흡착테이블(130)이 피가공물(200)을 충분히 지지할 수 있고, 피가공물(200)의 형태에 따라서 유연하게 변형될 수 있도록, 적절하게 조절한다.The gap G2 of the first and second embodiments is such that the suction table 130 can sufficiently support the workpiece 200 and can be flexibly deformed according to the shape of the workpiece 200. Adjust accordingly.
한편, 도 5a 및 도 5b에 도시된 제3실시예와 같이, 상기 틈새(G1)에 흡착테이블(130)의 변형을 수용할 수 있는 스폰지(160)를 삽입할 수도 있는데, 이러한 경우에는 스폰지(160)의 재질을 변경하여 흡착테이블(130)의 지지력과 변형정도 및 원상회복력을 손쉽게 조절할 수 있게 된다.On the other hand, as in the third embodiment shown in Figures 5a and 5b, it is also possible to insert a sponge 160 that can accommodate the deformation of the suction table 130 in the gap (G1), in this case a sponge ( By changing the material of 160, it is possible to easily adjust the holding force and deformation degree and the original recovery force of the adsorption table 130.
본 발명에 따른 제4실시예는, 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 지지테이블(120)에 관통홀(123)이 형성되고, 지지테이블(120)의 저면에 변형수용수단인 판스프링(170)이 지지테이블(120)의 저면에 고정되어 진공압 분배홈(111)에 내설되며, 흡착테이블(130)의 저면이 판스프링(170)에 접하도록, 흡착테이블(130)이 지지테이블(120)의 관통홀(123)에 삽입 고정되어진 구조를 이룬다.In the fourth embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 6A and 6B, a through hole 123 is formed in the support table 120, and a plate that is a deformation receiving means on the bottom of the support table 120. The spring 170 is fixed to the bottom of the support table 120 to be installed in the vacuum pressure distribution groove 111, and the suction table 130 is supported so that the bottom of the suction table 130 contacts the leaf spring 170. A structure is inserted and fixed in the through hole 123 of the table 120.
본 제4실시예에 따르면, 흡착테이블(130)의 지지력과 변형정도가 판스프링(170)에 의해 조절된다. 상기 판스프링(170)은 진공압 분배홈(111)과 흡착구멍(131)이 서로 연통되도록, 흡착구멍(131)들 사이에 배치되며, 이의 갯수는 적절하게 조절가능하다.According to the fourth embodiment, the bearing force and the degree of deformation of the suction table 130 are adjusted by the leaf spring 170. The leaf spring 170 is disposed between the suction holes 131 such that the vacuum pressure distribution groove 111 and the suction holes 131 communicate with each other, and the number thereof is appropriately adjustable.
한편, 도 7a 내지 도 10b에 도시된 바와 같이, 상기 지지테이블(120)에 관통홀(123)을 형성하고, 테이블베이스(110)의 진공압 분배홈(111)에 상하방향으로 이동가능하게 내설되는 이동판(181)과, 이동판(181)을 상방향으로 탄발지지하는 탄성체로 이루어진 것을 변형수용수단으로 이용하여, 흡착테이블(130)의 저면이 이동판(181)에 접하도록, 흡착테이블(130)이 지지테이블(120)의 관통홀(123)에 삽입 고정되도록 할 수도 있다.7A to 10B, through holes 123 are formed in the support table 120, and are installed in the vacuum pressure distribution groove 111 of the table base 110 so as to be movable upward and downward. Adsorption table using a moving plate 181 and an elastic body that supports the moving plate 181 upwardly and elastically as a deformation receiving means so that the bottom surface of the suction table 130 is in contact with the moving plate 181. The 130 may be inserted into and fixed to the through hole 123 of the support table 120.
본 실시예의 경우 상기 탄성체로는, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같은 합성고무 또는 합성수지 재질의 오링(182)이나, 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같은 코일스프링(183), 또는 도 9a 내지 도 10b에 도시된 바와 같은 공압실린더(184)를 이용하고 있지만, 본 발명은 이에 국한되지 않고 이동판(181)을 일방향으로 탄발 지지할 수 있는 공지의 모든 것들을 탄성체로 이용할 수 있음은 물론이다.In the present embodiment, the elastic body may be an O-ring 182 made of synthetic rubber or synthetic resin as shown in FIGS. 7A and 7B, or a coil spring 183 as shown in FIGS. 8A and 8B, or FIG. 9A. Although the pneumatic cylinder 184 as shown in FIG. 10B is used, the present invention is not limited thereto. Of course, all the known ones that can support the moving plate 181 in one direction can be used as an elastic body. .
여기서, 상기 공압실린더(184)는, 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이 지지테이블(120)에 설치되거나, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이 테이블베이스(110)에 설치되어, 진공압 분배홈(111)에 내설될 수 있다.Here, the pneumatic cylinder 184 is installed in the support table 120, as shown in Figure 9a and 9b, or is installed in the table base 110 as shown in Figure 10a and 10b, vacuum pressure It may be installed in the distribution groove 111.
본 실시예의 작동상태를 설명해 보면, 우선 흡착테이블(130)에 얹혀진 피가공물(200)이 정상인 경우에는, 도 7a와 도 8a, 도 9a와 도 10a에 도시된 바와 같이, 흡착테이블(130)이 원형상을 유지하며 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 흡착된다.Referring to the operating state of this embodiment, first, when the workpiece 200 placed on the suction table 130 is normal, as shown in Figs. 7a and 8a, 9a and 10a, the suction table 130 is The workpiece 200 is adsorbed to the adsorption table 130 while maintaining a circular shape.
그러나, 흡착테이블(130)에 얹혀진 피가공물(200)이 비정상인 경우에는, 흡착시의 압력에 의해서, 도 7b와 도 8b, 도 9a와 도 10b에 도시된 바와 같이, 흡착테이블(130)이 피가공물(200)에 상응하게 변형되고, 이에 따라 탄성체(182 ; 182 ; 184)가 압축 혹은 인장되면서 이동판(181)이 흡착테이블(130)의 변형에 상응하게 하방향으로 이동하게 되어, 피가공물(200)이 흡착테이블(130)에 긴밀하게 밀착 고정된다.However, when the workpiece 200 placed on the suction table 130 is abnormal, as shown in FIGS. 7B and 8B, 9A and 10B, the suction table 130 is prevented by the pressure at the time of suction. The workpiece 200 is deformed to correspond to the work piece 200, and thus, the elastic body 182; 182; 184 is compressed or tensioned, and the movable plate 181 moves downward corresponding to the deformation of the suction table 130. The workpiece 200 is tightly fixed to the suction table 130.
한편, 본 실시예의 경우에는, 내부 압력이 일정하게 유지되도록 완전 밀봉되어 일방향으로 탄발지지되는 공압실린더(184)를 이용하였지만, 필요에 따라서는 일방향 또는 양방향으로 작동제어되는 공압실린더(184)를 이용할 수도 있다. 이와같이 양방향으로 작동제어되는 공압실린더(184)를 이용하는 경우에는 척테이블(100)의 흡착테이블(130)에 얹혀진 피가공물(200)이 정상인지 혹은 비정상인지를 감지할 수 있는 별도의 센서(도시안됨)를 함께 이용할 수 있다.On the other hand, in the present embodiment, although the pneumatic cylinder 184 is completely sealed and supported in one direction so as to maintain a constant internal pressure, if necessary, a pneumatic cylinder 184 can be used to control operation in one or two directions. It may be. When using the pneumatic cylinder 184 is operated in both directions as described above, a separate sensor that can detect whether the workpiece 200 placed on the suction table 130 of the chuck table 100 is normal or abnormal (not shown) ) Can be used together.
또한, 도 11a 및 도 11b에 도시된 바와 같이, 상기 흡착테이블(130)의 흡착구멍(131) 하부를 직경확대해서 변형유도구멍(132)을 형성하면, 흡착테이블(130)의 변형이 보다 원활하게 이루어지는 장점이 있다.11A and 11B, when the lower portion of the suction hole 131 of the suction table 130 is enlarged in diameter to form the deformation guide hole 132, the deformation of the suction table 130 is more smoothly performed. There is an advantage that is made.
본 제8실시예의 경우에는, 상기 변형유도구멍(132)이 제4실시예에 따른 척테이블(100)에 적용되어진 상태를 도시하고 있지만, 이러한 변형유도구멍(132)은 이에 국한되지 않고 다른 실시예들에 모두 적용될 수 있음은 물론이다.In the eighth embodiment, the deformation guide hole 132 is applied to the chuck table 100 according to the fourth embodiment. However, the deformation guide hole 132 is not limited thereto. Of course, all of the examples can be applied.
이상 상기와 같은 본 발명에 따르면, 피가공물의 형태에 따라 흡착테이블이적절하게 변형되도록 하는 변형수용수단이 척테이블에 구비되어, 피가공물의 형태에 상응하게 흡착테이블이 자연스럽게 변형되면서 피가공물이 흡착테이블에 긴밀하게 밀착 고정되므로, 보다 안정적이면서 정밀한 절단작업을 수행할 수 있게 되는 효과가 있다.According to the present invention as described above, the chuck table is provided with a deformation receiving means for appropriately deforming the adsorption table according to the shape of the workpiece, the workpiece is adsorbed while the adsorption table is naturally deformed to correspond to the shape of the workpiece. Since it is tightly fixed to the table, there is an effect that can be performed more stable and precise cutting work.
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030018957A KR20040084128A (en) | 2003-03-26 | 2003-03-26 | Chuck table of Sawing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030018957A KR20040084128A (en) | 2003-03-26 | 2003-03-26 | Chuck table of Sawing equipment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040084128A true KR20040084128A (en) | 2004-10-06 |
Family
ID=37367742
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
KR1020030018957A KR20040084128A (en) | 2003-03-26 | 2003-03-26 | Chuck table of Sawing equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20040084128A (en) |
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