KR20040070877A - Epoxy Resin Composition Containing Bisphenol A Epoxy Resin and Printed Circuit Board Using the Same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An epoxy resin composition containing a bisphenol A-type epoxy resin and a circuit board prepared by using the composition are provided, to compensate the deterioration of mechanical properties such as adhesive strength without the deterioration of other properties if an inorganic filler is used, thereby allowing the content of an inorganic filler to be increased. CONSTITUTION: The composition comprises 100 parts by weight of a bisphenol A-type epoxy resin having an average epoxy equivalence of 400-1,000; 5-80 parts by weight of a polymer-type bisphenol A-type epoxy resin having an average epoxy equivalence of 2,000-10,000; 1-100 parts by weight of a multifunctional epoxy resin; 1-4 parts by weight of an amine-based curing agent; 0.01-1 parts by weight of an imidazole-based curing accelerator; and optionally an inorganic filler and a dispersant. Preferably the amine-based curing agent is selected from the group consisting of 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl methane, dicyandiamide and their mixtures; and the imidazole-based curing accelerator is selected from the group consisting of 2-ethyl-methylimidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-alkylimidazole, 2-phenylimidazole and their mixtures.

Description

비스페놀 에이형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 회로기판{Epoxy Resin Composition Containing Bisphenol A Epoxy Resin and Printed Circuit Board Using the Same}Epoxy resin composition containing bisphenol A type epoxy resin and a circuit board using the same {Epoxy Resin Composition Containing Bisphenol A Epoxy Resin and Printed Circuit Board Using the Same}

본 발명은 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 회로기판에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 평균 에폭시 당량이 400 내지 1000인 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 평균 에폭시 당량이 2,000 내지 10,000인 고분자형 비스페놀 A형 에폭시 수지를 포함하고 다관능성 에폭시 수지, 아민계 경화제, 이미다졸계 경화촉진제, 무기충전재 및 분산제를 더 포함하여 이루어짐으로써 기존 회로기판 소재의 요구 물성을 만족시키고, 회로 기판 소재 내에 높은 무기충전재 함유량을 갖는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 회로기판에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition containing a bisphenol A epoxy resin and a circuit board using the same. More specifically, the bisphenol A epoxy resin having an average epoxy equivalent of 400 to 1000 and the polymer bisphenol A epoxy resin having an average epoxy equivalent of 2,000 to 10,000, and include a polyfunctional epoxy resin, an amine curing agent, and an imidazole curing accelerator. Including an inorganic filler and a dispersing agent to satisfy the required physical properties of the existing circuit board material, the epoxy resin composition containing a bisphenol A-type epoxy resin having a high inorganic filler content in the circuit board material and a circuit board using the same will be.

최근 전자 제품의 다기능화 및 경박 단소화에 따라 기존의 인쇄 회로 기판으로 사용되어지는 소재보다 열적, 기계적으로 안정하고, 회로 기판 소재 자체에 표면 실장형 수동소자의 기능을 포함시켜 이를 회로 기판 내층으로 내장 시키는 기술등이 대두 되고 있다.Recently, due to the multifunctional and light and simple reduction of electronic products, it is more thermally and mechanically stable than the material used for the conventional printed circuit board, and the circuit board material itself includes the function of the surface-mount passive device, which is used as the inner layer of the circuit board. Techniques to embed are emerging.

따라서 근래 기존 회로 기판 소재로 사용되어지는 고분자 재료의 물성 한계를 극복하고 원하는 기능을 부여하기 위하여 무기충전재가 사용되고 있다. 그러나, 회로 기판 소재 내의 무기충전재 다량 함유 시, 소재의 취성이 증가하고, 수지와 동박간의 부착력이 떨어지는 등의 문제가 발생하게 된다. 따라서, 회로 기판 소재 내의 무기물의 함유량이 제한을 받는 문제점이 있었다.Therefore, in order to overcome the limitations of the physical properties of the polymer materials used as conventional circuit board materials and to give a desired function, inorganic fillers are used. However, when a large amount of the inorganic filler is included in the circuit board material, brittleness of the material increases, and problems such as poor adhesion between the resin and the copper foil occur. Therefore, there exists a problem that content of the inorganic substance in a circuit board material is restrict | limited.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 무기충전재에 의해 원하는 물성을 살리기 위하여, 기존 회로기판 소재의 요구 물성을 만족시키며 상기 회로 기판 소재 내에 높은 무기충전재 함유량을 갖는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, the present invention, in order to utilize the desired physical properties by the inorganic filler, satisfying the required physical properties of the existing circuit board material and containing a bisphenol A type epoxy resin having a high inorganic filler content in the circuit board material It is an object to provide an epoxy resin composition.

본 발명의 상기 목적 및 기타 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,The present invention to achieve the above object,

평균 에폭시 당량이 400 내지 1,000인 비스페놀 A형 에폭시 수지 100 중량부에 대하여 평균 에폭시 당량이 2,000 내지 10,000인 고분자 형 비스페놀 A형 에폭시 수지 5 내지 80 중량부; 다관능성 에폭시 수지 1 내지 100 중량부; 아민계 경화제 1 내지 4 중량부; 이미다졸계 경화촉진제 0.01 내지 1 중량부를 포함하여 이루어지는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물을 제공한다.5 to 80 parts by weight of a polymer bisphenol A type epoxy resin having an average epoxy equivalent of 2,000 to 10,000 with respect to 100 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin having an average epoxy equivalent of 400 to 1,000; 1 to 100 parts by weight of the multifunctional epoxy resin; 1 to 4 parts by weight of an amine curing agent; Provided is an epoxy resin composition containing a bisphenol A epoxy resin comprising 0.01 to 1 part by weight of an imidazole series curing accelerator.

상기 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물은 무기 충전제 및 분산제가 더 포함될 수 있다.The epoxy resin composition containing the bisphenol A epoxy resin may further include an inorganic filler and a dispersant.

상기 무기충전제는 바륨 티타튬 옥사이드(barium tiatanum oxide), 바륨스트론티움 티탄에이트(barium strontium titanate), 티타튬 옥사이드(titanium oxide), 리드 지로코니움 티타네이트(lead ziroconium titanate), 리드 렌타움 지르코네이트 티타네이트(lead lanthanum zirconate titanate), 림 마그네슘 니보에이트-리드 티타네이트(leam magnesium niobate-lead tiatanate), 은, 니켈, 니켈-코팅 폴리머 스페어(nickel-coated polymer sphere), 금-코팅 폴리머 스페어(gold-coated polymer sphere), 틴 소울더(tin solder), 그래피트(graphite), 탄탈륨 니티데(tantalum nitides), 메탈 실리콘 니트라이드(metal silcon nitride), 카본 블랙(carbon black), 실리카(silica), 클레이(clay) 및 알루미늄 보레이트(aluminum borate)로 이루어지는 군으로부터 선택될 수 있다.The inorganic fillers include barium tiatanum oxide, barium strontium titanate, titanium titanate, lead ziroconium titanate, lead lentaum zir Lead lanthanum zirconate titanate, rim magnesium niobate-lead titanate, silver, nickel, nickel-coated polymer spheres, gold-coated polymer spares (gold-coated polymer spheres), tin solder, graft, tantalum nitides, metal silcon nitride, carbon black, silica It may be selected from the group consisting of, clay and aluminum borate.

상기 분산제는 카르복실레이트, 설포네이트 및 포스페이트로 이루어지는 군으로부터 선택될 수 있다.The dispersant may be selected from the group consisting of carboxylates, sulfonates and phosphates.

상기 아민계 경화제는 4,4'-디아미노 디페닐 술폰(DDS), 4,4'-디아미노 디페닐 메탄, 디시안 디아마이드(Dicy) 및 이들의 혼합물로 이루지는 군으로부터 선택될 수 있다.The amine-based curing agent may be selected from the group consisting of 4,4'-diamino diphenyl sulfone (DDS), 4,4'-diamino diphenyl methane, dicyan diamide (Dicy) and mixtures thereof. .

상기 이미다졸계 경화촉진제는 2-에틸-메틸 이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-알킬 이미다졸, 2-페닐 이미다졸 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택될 수 있다.The imidazole series curing accelerator may be selected from the group consisting of 2-ethyl-methyl imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-alkyl imidazole, 2-phenyl imidazole, and mixtures thereof.

또한, 본 발명은 상기 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물을 이용하여 제조된 회로기판을 제공한다.In addition, the present invention provides a circuit board manufactured using the epoxy resin composition containing the bisphenol A epoxy resin.

이하, 본 발명에 대항 상세히 설명하면 다음과 같다Hereinafter, described in detail with respect to the present invention is as follows.

본 발명에서 사용된 평균 에폭시 당량이 400 내지 1,000인 비스페놀 A형 에폭시 수지(a)는 메틸 에틸 케톤(MEK), 디 메틸 포름 아마이드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS) 등의 혼합 용매에 용해시켜 사용할 수 있으며, 브롬이 무게비로 15 내지 55% 함유된 것으로 이는 수지를 성형하여 제조된 회로기판에 난연성을 부여하기 위함이다.Bisphenol A epoxy resin (a) having an average epoxy equivalent of 400 to 1,000 used in the present invention is dissolved in a mixed solvent such as methyl ethyl ketone (MEK), dimethyl formamide (DMF), methyl cellosolve (MCS), and the like. It can be used, bromine is contained in 15 to 55% by weight, which is to impart flame retardancy to the circuit board manufactured by molding the resin.

평균 에폭시 당량이 2,000 내지 10,000인 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지(b)는 메틸 에틸 케톤(MEK), 디 메틸 포름 아마이드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS) 등의 혼합 용매에 용해시켜 사용할 수 있으며, 상기 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지(b)는 비스페놀 A형 에폭시 수지(a) 100 중량부에 대하여 5 내지 70 중량부의 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10 내지 60 중량부의 범위가 바람직하다.Polymer bisphenol A epoxy resin (b) having an average epoxy equivalent of 2,000 to 10,000 can be dissolved in mixed solvents such as methyl ethyl ketone (MEK), dimethyl formamide (DMF) and methyl cellosolve (MCS). The polymer bisphenol A epoxy resin (b) is preferably in the range of 5 to 70 parts by weight, more preferably in the range of 10 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the bisphenol A epoxy resin (a).

상기 고분자 비스페놀 A형 에폭시(b)의 사용 시 수지 조성물의 동박 접착력과 인성이 증가하지만, 비스페놀 A형 에폭시(a) 대비 70 중량부 이상의 경우, 수지 조성물의 유리 전이 온도(Tg)가 떨어질 우려가 있다.When the polymer bisphenol A epoxy (b) is used, the copper foil adhesion and toughness of the resin composition are increased, but when 70 parts by weight or more compared to the bisphenol A epoxy (a), the glass transition temperature (Tg) of the resin composition may be reduced. have.

다관능성 에폭시 수지(c)는 분자당 에폭시 관능기 수가 3개 이상인 것으로 일반적으로 3관능성, 4관능성 및 노볼락 수지가 있으며, 메틸 에틸 케톤(MEK), 디 메틸 포름 아마이드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS) 등의 혼합 용매에 용해시켜 사용할 수 있다.The polyfunctional epoxy resin (c) has three or more epoxy functional groups per molecule, and generally has trifunctional, tetrafunctional and novolak resins, methyl ethyl ketone (MEK), dimethyl formamide (DMF) and methyl cell. It can be used by melt | dissolving in mixed solvents, such as Rosolve (MCS).

상기 다관능성 에폭시는 당량이 200 내지 400 범위이고 중량 평균 분자량이 200 내지 1,500 범위에 있는 것이 적당하며, 다관능성 에폭시 수지는 비스페놀 A형 에폭시 수지(a) 100 중량부에 대하여 1 내지 100 중량부의 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 3 내지 50 중량부의 범위가 바람직하다. 다관능성 에폭시가 100 중량부 이상 일 경우 수지의 가교 밀도가 증가하여 내열성이 향상 되지만, 에폭시 조성물의 취성이 증가하여 무기충전재 사용에 있어서 양적 제한을 가져올 우려가 있다.The polyfunctional epoxy is suitably in the range of 200 to 400 equivalent weight and the weight average molecular weight in the range of 200 to 1,500, the polyfunctional epoxy resin is in the range of 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of bisphenol A epoxy resin (a) Is preferred, and more preferably in the range of 3 to 50 parts by weight. If the polyfunctional epoxy is 100 parts by weight or more, the crosslinking density of the resin is increased to improve heat resistance, but the brittleness of the epoxy composition is increased, which may cause a quantitative limitation in the use of the inorganic filler.

아민계 경화제(d)는 지방족 아민계 경화제, 지환족 아민계 경화제, 방향족 아민계 경화제 등이 예시된다. 특히, 4,4'-디아미노 디페닐 술폰(이하, 'DOS'이라함), 4,4'-디아미노 디페닐 메탄, 디시안 디아마이드(DICY) 등이 바람직하다. 이들은 단독 또는 2종 이상 병용하여 사용하는 것이 가능하고, 비스페놀 A형 에폭시 수지(a) 100 중량부에 대하여 1 내지 50 중량부의 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 2 내지 10의 범위가 바람직하다. 아민계 경화제가 1 중량부 이하일 경우 충분한 경화가 이루어지지 않으며, 50 중량부 이상인 경우 속경화가 일어나고 접착성 및 보존 안정성이 저하된다.Examples of the amine curing agent (d) include aliphatic amine curing agents, alicyclic amine curing agents, aromatic amine curing agents, and the like. In particular, 4,4'- diamino diphenyl sulfone (henceforth "DOS"), 4,4'- diamino diphenyl methane, dicyan diamide (DICY), etc. are preferable. These can be used individually or in combination of 2 or more types, The 1-50 weight part is preferable with respect to 100 weight part of bisphenol-A epoxy resins (a), More preferably, the range of 2-10 is preferable. When the amine curing agent is 1 part by weight or less, sufficient curing is not achieved. When the amine curing agent is 50 parts by weight or more, rapid curing occurs and adhesiveness and storage stability are lowered.

이미다졸계 경화촉진제(e)는 2-에틸-4메틸 이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-알킬 이미다졸, 2-페닐 이미다졸 등의 이미다졸 화합물을 만들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 병용하여 사용하는 것이 가능하고, 비스페놀 A형 에폭시 수지(a) 100 중량부에 대하여 0.01 내지 1 중량부의 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 0.3의 범위가 바람직하다. 이미다졸계 경화촉진제가 0.01 중량부 이하일 경우 경화 속도가 현저히 떨어지며, 미경화가 발생되며, 1 중량부 이상일 경우 속경화가 일어나고 접착성 및 보존 안정성이 저하된다.The imidazole series curing accelerator (e) can make imidazole compounds such as 2-ethyl-4methyl imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-alkyl imidazole, and 2-phenyl imidazole. These can be used individually or in combination of 2 or more types, The range of 0.01-1 weight part is preferable with respect to 100 weight part of bisphenol-A epoxy resins (a), More preferably, the range of 0.05-0.3 is preferable. If the imidazole-based curing accelerator is 0.01 parts by weight or less, the curing rate is significantly lowered, uncured, and if more than 1 part by weight, rapid curing occurs and the adhesion and storage stability is lowered.

본 발명에서 사용될 수 있는 무기충전재(f)에 특별한 제한은 없고, 원하는 물성에 따라 바륨 티타튬 옥사이드(barium tiatanum oxide), 바륨스트론티움 티탄에이트(barium strontium titanate), 티타튬 옥사이드(titanium oxide), 리드 지로코니움 티타네이트(lead ziroconium titanate), 리드 렌타움 지르코네이트 티타네이트(lead lanthanum zirconate titanate), 림 마그네슘 니보에이트-리드 티타네이트(leam magnesium niobate-lead tiatanate), 은, 니켈, 니켈-코팅 폴리머 스페어(nickel-coated polymer sphere), 금-코팅 폴리머 스페어(gold-coated polymer sphere), 틴 소울더(tin solder), 그래피트(graphite), 탄탈륨 니티데(tantalum nitides), 메탈 실리콘 니트라이드(metal silcon nitride), 카본 블랙(carbon black), 실리카(silica), 클레이(clay) 및 알루미늄 보레이트(aluminum borate)를 사용할 수 있으며, 전자 현미경으로 관찰하여 0.1 내지 10㎛의 평균 입자 크기를 갖는 분말을 사용하는 것이 바람직하다.There is no particular limitation on the inorganic filler (f) that can be used in the present invention, depending on the desired physical properties barium titanium oxide (barium tiatanum oxide), barium strontium titanate, titanium oxide (titanium oxide) Lead ziroconium titanate, lead lanthanum zirconate titanate, lead magnesium niobate-lead titanate, silver, nickel, nickel Nickel-coated polymer spheres, gold-coated polymer spheres, tin solder, graft, tantalum nitides, metal silicon knits Metal silcon nitride, carbon black, silica, clay and aluminum borate may be used, and 0.1 to 10 μm as observed under an electron microscope Preference is given to using powders having an average particle size of.

본 발명에서 사용될 수 있는 분산제(g)에 특별한 제한은 없고, 상기의 무기충전재(f)에 따라 카르복실레이트(carboxylate), 설포네이트(sulfonate) 및, 포스페이트(phosphate)와 같은 다양한 종류가 사용될 수 있다. 상기 분산제(g)는 무기충전재(f) 1 중량부에 대하여 0.005 내지 0.05 중량부의 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 0.03 중량부의 범위가 바람직하다.There is no particular limitation on the dispersing agent (g) which can be used in the present invention, and various kinds such as carboxylate, sulfonate, and phosphate may be used depending on the inorganic filler (f). have. The dispersant (g) is preferably in the range of 0.005 to 0.05 parts by weight, more preferably in the range of 0.01 to 0.03 parts by weight based on 1 part by weight of the inorganic filler (f).

이하 하기의 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명의 범위가 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the scope of the present invention is not limited to the examples.

[실시예 1 ∼ 7 및 비교예 1 ∼ 4] : 에폭시 수지 조성물 및 동판적층판을 하기 표 1의 조성대로 첨가하여 다음과 같이 실시예 및 비교예들을 제조하였다.[Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4]: An epoxy resin composition and a copper clad laminate were added according to the composition of Table 1 below to prepare Examples and Comparative Examples as follows.

[실시예 1]Example 1

평균 에폭시 당량이 400 내지 1,000인 비스페놀 A형 에폭시 수지 100g(베크라이트사, LER1222), 다관능성 에폭시수지(베크라이트사, LER451) 5g, 평균 에폭시 당량이 2,000 내지 10,000인 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지(국도화학, YD019) 20g, 아민계 경화제 디시안 디아마이드(Dicyandiamide) 2.7g, 이미다졸계 경화촉진제 2PI(2-Phenylimidazole) 0.15g을 메틸 에틸 케톤 : 디 메틸 포름 아마이드의 비가 1:1인 혼합용액에 고형분이 45%가 되게 녹여 바니쉬를 제작하였다.100 g of bisphenol A type epoxy resin (Beklite, LER1222) having an average epoxy equivalent of 400 to 1,000, 5 g of a polyfunctional epoxy resin (Berlite, LER451), a polymer bisphenol A type epoxy resin having an average epoxy equivalent of 2,000 to 10,000 ( Kukdo Chemical, YD019) 20g, amine-based curing agent dicyandiamide (2.7g), imidazole-based curing accelerator 2PI (2-Phenylimidazole) 0.15g of methyl ethyl ketone: dimethyl formamide in a ratio of 1: 1 The varnish was prepared by melting 45% of the solids.

상기에서 제조된 바니쉬를 유리섬유(일본, 니토보사, 7628)에 함친 시킨 후 열풍 건조시켜 프리프레그(prepreg)를 제조하였다. 제조된 프리프레그 5매를 적층한 후 양면으로 두께 35㎛인 동박을 놓아 적층한 후 프레스를 이용하여 185℃, 90분간 가열, 가압하여 두께 1mm의 회로기판을 제조하였다.The varnish prepared above was impregnated with glass fibers (Nitobo, Japan, 7628), followed by hot air drying to prepare a prepreg. After the five prepregs were laminated, the copper foil having a thickness of 35 µm was placed on both sides, and the laminated sheets were laminated.

[실시예 2]Example 2

실시예 1에서 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지의 함량을 40g으로 증량 시킨 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 바니쉬를 제조한 후, 1mm의 회로기판을 제조하였다.A varnish was prepared in the same manner as in Example 1, except that the content of the polymer bisphenol A epoxy resin was increased to 40 g in Example 1, and then a circuit board of 1 mm was prepared.

[실시예 3]Example 3

실시예 1에서 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지의 함량을 70g으로 증량 시킨 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 바니쉬를 제조한 후, 1mm의 회로기판을 제조하였다.A varnish was prepared in the same manner as in Example 1, except that the content of the polymer bisphenol A epoxy resin was increased to 70 g in Example 1, and then a circuit board of 1 mm was prepared.

[비교예 1]Comparative Example 1

평균 에폭시 당량이 400 내지 1,000인 비스페놀 A형 에폭시 수지 100g(베크라이트사, LER1222), 다관능성 에폭시수지(베크라이트사, LER451) 5g, 아민계 경화제 디시안 디아마이드(Dicyandiamide) 2.7g, 이미다졸계 경화촉진제 2PI(2-Phenylimidazole) 0.3g을 메틸 에틸 케톤: 디 메틸 포름 아마이드의 비가 1:1인 혼합용액에 고형분이 45%가 되게 녹여 바니쉬를 제작하였다. 이때 실시예 1의 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지는 첨가하지 않았다.100 g of bisphenol A type epoxy resin (Becklite, Inc., LER1222) having an average epoxy equivalent of 400 to 1,000, 5 g of a polyfunctional epoxy resin (Berlite, Inc., LER451), 2.7 g of an amine curing agent Dicyandiamide, imida A varnish was prepared by dissolving 0.3 g of a sol-based curing accelerator 2PI (2-Phenylimidazole) in a mixed solution having a ratio of methyl ethyl ketone: dimethyl formamide at a ratio of 1: 1 to 45% solids. At this time, the polymer bisphenol A epoxy resin of Example 1 was not added.

상기에서 제조된 바니쉬를 유리섬유(일본, 니토보사, 7628)에 함친 시킨 후 열풍 건조시켜 프리프레그(prepreg)를 제조하였다. 제조된 프리프레그 5매를 적층한 후 양면으로 두께 35㎛인 동박을 놓아 적층한 후 프레스를 이용하여 185℃, 90분간 가열, 가압하여 두께 1mm의 회로기판을 제조하였다.The varnish prepared above was impregnated with glass fibers (Nitobo, Japan, 7628), followed by hot air drying to prepare a prepreg. After the five prepregs were laminated, the copper foil having a thickness of 35 µm was placed on both sides, and the laminated sheets were laminated.

[비교예 2]Comparative Example 2

평균 에폭시 당량이 400 내지 1,000인 비스페놀 A형 에폭시 수지 100g(베크라이트사, LER1222), 다관능성 에폭시수지(베크라이트사, LER451) 5g, 아민계 경화제 디시안 디아마이드(Dicyandiamide) 2.7g, 이미다졸계 경화촉진제 2PI(2-Phenylimidazole) 0.15g, 중량 평균 분자량이 200,000 내지 300,000 범위인 부타디엔 아크릴로 니트릴 공중합 고무(Nippon Zeon사, NBR1031) 5g, 중량 평균 분자량이100,000 내지 300,000 범위인 반응형 폴리비닐 아세탈 수지(Sekisui사 KS-23Z) 10g을 메틸 에틸 케톤: 디 메틸 포름 아마이드의 비가 1:1인 혼합용액에 고형분이 45%가 되게 녹여 바니쉬를 제조하였다.100 g of bisphenol A type epoxy resin (Becklite, Inc., LER1222) having an average epoxy equivalent of 400 to 1,000, 5 g of a polyfunctional epoxy resin (Berlite, Inc., LER451), 2.7 g of an amine curing agent Dicyandiamide, imida 0.15 g of 2-sol (Phenylimidazole) sol accelerator, 5 g of butadiene acrylonitrile copolymer rubber (Nippon Zeon, NBR1031) having a weight average molecular weight in the range of 200,000 to 300,000, and a reactive polyvinyl acetal having a weight average molecular weight in the range of 100,000 to 300,000. A varnish was prepared by dissolving 10 g of a resin (KS-23Z, Sekisui Co., Ltd.) in a mixed solution having a ratio of methyl ethyl ketone: dimethyl formamide so that the solid content was 45%.

상기에서 제조된 바니쉬를 유리섬유(일본, 니토보사, 7628)에 함친 시킨 후 열풍 건조시켜 프리프레그(prepreg)를 제조하였다. 제조된 프리프레그 5매를 적층한 후 양면으로 두께 35㎛인 동박을 놓아 적층한 후 프레스를 이용하여 185℃, 90분간 가열, 가압하여 두께 1mm의 회로기판을 제조하였다.The varnish prepared above was impregnated with glass fibers (Nitobo, Japan, 7628), followed by hot air drying to prepare a prepreg. After the five prepregs were laminated, the copper foil having a thickness of 35 µm was placed on both sides, and the laminated sheets were laminated.

[실시예 4]Example 4

평균 에폭시 당량이 400 내지 1,000인 비스페놀 A형 에폭시 수지 100g(베크라이트사, LER1222), 다관능성 에폭시수지(베크라이트사, LER451) 5g, 평균 에폭시 당량이 2,000 내지 10,000인 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지(국도화학, YD019) 40g, 아민계 경화제 디시안 디아마이드(Dicyandiamide) 2.7g, 이미다졸계 경화촉진제 2PI(2-Phenylimidazole) 0.15g을 메틸 에틸 케톤 : 디 메틸 포름 아마이드의 비가 1:1인 혼합용액에 고형분이 45%가 되게 녹여 바니쉬를 제조하였다.100 g of bisphenol A type epoxy resin (Beklite, LER1222) having an average epoxy equivalent of 400 to 1,000, 5 g of a polyfunctional epoxy resin (Berlite, LER451), a polymer bisphenol A type epoxy resin having an average epoxy equivalent of 2,000 to 10,000 ( Kukdo Chemical, YD019) 40g, amine-based curing agent dicyandiamide (2.7g), imidazole-based curing accelerator 2PI (2-Phenylimidazole) 0.15g of methyl ethyl ketone: dimethyl formamide in a ratio of 1: 1 The varnish was prepared by melting 45% of the solids.

무기충전재로서 강유전 세라믹인 BaTiO3 분말(일본 사카이사, BT05) 300g, MEK:DMF 의 비가 1:1인 혼합용액 60g, 분산제(BYK-chemie사, BYK-W9010) 5g을 볼밀용기에 넣고 2시간 동안 볼밀을 하여 무기충전재를 분산시킨 후, 이를 상기 실시예 2에서 제조한 바니쉬와 함께 믹싱하여 슬러리를 제조했다. 상기에서 제조된 슬러리를 유리섬유(일본, 니토보사, 7628)에 함친 시킨 후 열풍 건조시켜 프리프레그(prepreg)를 제조하였다. 제조된 프리프레그 5매를 적층한 후 양면으로두께 35㎛인 동박을 놓아 적층한 후 프레스를 이용하여 180℃, 90분간 가열, 가압하여 두께 1mm의 회로기판을 제조하였다.As an inorganic filler, put 300g of ferroelectric ceramic BaTiO3 powder (BK05, Sakai, Japan), 60g mixed solution with a MEK: DMF ratio of 1: 1, and 5g of a dispersant (BYK-chemie, BYK-W9010) in a ball mill container for 2 hours. After the ball mill was used to disperse the inorganic filler, it was mixed with the varnish prepared in Example 2 to prepare a slurry. The slurry prepared above was impregnated with glass fiber (Nitobo, Japan, 7628), followed by hot air drying to prepare a prepreg. After the five prepregs were laminated, copper foil having a thickness of 35 μm was laminated on both sides, and then laminated, and then heated and pressed at 180 ° C. for 90 minutes using a press to prepare a circuit board having a thickness of 1 mm.

[실시예 5]Example 5

상기 실시예 4에서 무기충전제를 750g으로 증량하고, 분산제를 10g으로 증량하는 것을 제외하고, 실시예 4와 동일한 방법으로 슬러리를 제조한 후, 두께 1mm인 회로기판을 제조하였다.In Example 4, except that the inorganic filler was increased to 750 g and the dispersant was increased to 10 g, a slurry was prepared in the same manner as in Example 4, and a circuit board having a thickness of 1 mm was prepared.

[실시예 6]Example 6

상기 실시예 4에서 이미다졸계 경화촉진제 2PI(2-Phenylimidazole)를 0.3g으로 증량하고, 무기충전제를 750g으로 증량하고, 분산제를 10g으로 증량하는 것을 제외하고, 실시예 4와 동일한 방법으로 슬러리를 제조한 후, 두께 1mm인 회로기판을 제조하였다.In Example 4, the slurry was added in the same manner as in Example 4, except that the imidazole-based curing accelerator 2PI (2-Phenylimidazole) was increased to 0.3 g, the inorganic filler was increased to 750 g, and the dispersant was increased to 10 g. After manufacturing, a circuit board having a thickness of 1 mm was prepared.

[실시예 7]Example 7

상기 실시예 4에서 이미다졸계 경화촉진제 2PI(2-Phenylimidazole)를 0.3g으로 증량하고 무기충전제를 750g으로 증량하는 것을 제외하고, 실시예 4와 동일한 방법으로 슬러리를 제조한 후, 두께 1mm인 회로기판을 제조하였다.Except for increasing the imidazole-based curing accelerator 2PI (2-Phenylimidazole) to 0.3g in Example 4, and to increase the inorganic filler to 750g, after the slurry was prepared in the same manner as in Example 4, a circuit having a thickness of 1mm The substrate was prepared.

[비교예 3]Comparative Example 3

무기충전재(BT05) 750g, MEK:DMF 의 비가 1:1인 혼합용액 100g, 분산제(BYK-chemie사, BYK-W9010) 10g을 볼밀용기에 넣고 2시간동안 볼밀을 하여 무기충전재를 분산시킨 후 이를 상기 비교예 1에서 제조한 바니쉬와 함께 믹싱하여 슬러리를 제조하였다. 상기에서 제조된 슬러리를 유리섬유(일본, 니토보사, 7628)에 함친 시킨 후 열풍 건조시켜 프리프레그(prepreg)를 제조하였다.750 g of inorganic filler (BT05), 100 g of a mixed solution having a ratio of MEK: DMF 1: 1, and 10 g of a dispersant (BYK-chemie, BYK-W9010) were placed in a ball mill and ball milled for 2 hours to disperse the inorganic filler. A slurry was prepared by mixing with the varnish prepared in Comparative Example 1. The slurry prepared above was impregnated with glass fiber (Nitobo, Japan, 7628), followed by hot air drying to prepare a prepreg.

제조된 프리프레그 5매를 적층한 후 양면으로 두께 35㎛인 동박을 놓아 적층한 후 프레스를 이용하여 185℃, 90분간 가열, 가압하여 두께 1mm의 회로기판을 제조하였다.After the five prepregs were laminated, the copper foil having a thickness of 35 µm was placed on both sides, and the laminated sheets were laminated.

[비교예 4][Comparative Example 4]

무기충전재(BT05) 750g, 메틸 에틸 케톤 : 디 메틸 포름 아마이드의 비가 1:1인 혼합용액 100g, 분산제(BYK-chemie사, BYK-W9010) 10g을 볼밀용기에 넣고 2시간 동안 볼밀을 하여 무기충전재를 분산시킨 후, 이를 상기 비교예 2에서 제조한 바니쉬와 함께 믹싱하여 슬러리를 제조하였다. 상기에서 제조된 슬러리를 유리섬유(일본, 니토보사, 7628)에 함친 시킨 후 열풍 건조시켜 프리프레그(prepreg)를 제조하였다. 제조된 프리프레그 5매를 적층한 후 양면으로 두께 35㎛인 동박을 놓아 적층한 후 프레스를 이용하여 180℃, 90분간 가열, 가압하여 두께 1mm의 회로기판을 제조하였다.750 g of inorganic filler (BT05), 100 g of a mixed solution having a 1: 1 ratio of dimethyl formamide, and 10 g of a dispersant (BYK-chemie, BYK-W9010) were put into a ball mill and ball milled for 2 hours. After dispersing, it was mixed with the varnish prepared in Comparative Example 2 to prepare a slurry. The slurry prepared above was impregnated with glass fiber (Nitobo, Japan, 7628), followed by hot air drying to prepare a prepreg. After the five prepregs were laminated, the copper foil having a thickness of 35 μm was placed on both sides, and the laminate was laminated. Then, a circuit board having a thickness of 1 mm was manufactured by heating and pressing at 180 ° C. for 90 minutes using a press.

실시예(g)Example (g) 비교예(g)Comparative Example (g) 1One 22 33 44 55 66 77 1One 22 33 44 비스페놀A형 에폭시수지(표준 당량 400 내지 1,000)Bisphenol A epoxy resin (standard equivalent 400 to 1,000) 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 다관능성 에폭시 수지Multifunctional Epoxy Resin 55 55 55 55 55 55 55 55 55 55 55 고분자비스페놀A형 에폭시수지(표준 당량 2,000 내지 10,000)Polymer bisphenol A epoxy resin (standard equivalent 2,000 to 10,000) 2020 4040 7070 4040 4040 4040 4040 -- -- -- -- 부타디엔 아크릴로니트릴 공중합 고무Butadiene Acrylonitrile Copolymer Rubber -- -- -- -- -- -- -- -- 55 -- 55 반응형 폴리비닐 아세탈수지Responsive Polyvinyl Acetal Resin -- -- -- -- -- -- -- -- 1010 -- 1010 아민계경화제 디시안 디아마이드Amine Curing Agents Dicyandiamide 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 2.72.7 이미다졸계 경화촉진제Imidazole series curing accelerator 0.150.15 0.150.15 0.150.15 0.150.15 0.150.15 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.150.15 0.30.3 0.150.15 무기충전제Inorganic filler -- -- -- 300300 750750 750750 750750 -- -- 750750 750750 분산제Dispersant -- -- -- 55 1010 1010 55 -- -- 1010 1010

상기 실시예 및 비교예에서 제조한 시편으로, 수지 조성물의 유리전이온도(Tg), 동박 접착력, 30 내지 260℃ 범위의 열팽창률 및 유전율을 측정하였다. 유리전이온도는 TA instruments사의 디에스시(DSC, Q100)을 이용하여 측정하였다. 시편의 동박접착력은 상온에서 쯔이크(ZWICK)사의 인장 강도계를 이용하여 50mm/분의 속도로 90˚ 접착력을 측정하였으며, 폭 1cm로 동박을 박리하면서 측정하였다. 30 내지 260℃의 열팽창률은 티엠에이(TMA)를 이용하였고, 30 내지 260℃의 범위에서 10℃/분의 속도로 승온시켜 시편의 두께방향 열팽창률을 측정하였다. 또한 시편의 유전율은 휴렛페커드(HP)사의 임페던스 분석기(impedance analyzer, 4194A)를 이용하여 제이아이에스(JIS)법으로 측정하였고 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.With the specimens prepared in Examples and Comparative Examples, the glass transition temperature (Tg), the copper foil adhesion, the thermal expansion coefficient and the dielectric constant in the range of 30 to 260 ℃ of the resin composition were measured. Glass transition temperature was measured using DSSI (DSC, Q100). Copper foil adhesion of the specimen was measured at room temperature using a tensile strength meter of ZWICK (ZWICK) at a rate of 50mm / min, was measured while peeling the copper foil 1cm in width. The thermal expansion rate of 30 to 260 ° C was used as a TMA (TMA), and the thermal expansion coefficient of the specimen was measured by increasing the temperature at a rate of 10 ° C / min in the range of 30 to 260 ° C. In addition, the dielectric constant of the specimen was measured by the Heispec Pec (HP) Impedance analyzer (impedance analyzer, 4194A) by the JIS method and the results are shown in Table 2 below.

실시예(g)Example (g) 비교예(g)Comparative Example (g) 1One 22 33 44 55 66 77 1One 22 33 44 유리전이온도 (℃)Glass transition temperature (℃) 131131 128128 112112 115115 9494 9696 117117 132132 130130 116116 8585 동박접착강도(35㎛,kgf/cm)Copper foil adhesive strength (35㎛, kgf / cm) 2.22.2 2.52.5 2.42.4 1.81.8 1.51.5 1.41.4 1.51.5 2.02.0 1.31.3 1.01.0 0.60.6 Z축 팽창률(%)(30~260℃)Z-axis expansion rate (%) (30 ~ 260 ℃) 3.53.5 3.63.6 3.63.6 3.13.1 2.42.4 2.42.4 2.42.4 3.53.5 3.73.7 2.42.4 2.62.6 유전율permittivity 4.74.7 4.74.7 4.84.8 1414 2020 2121 2020 4.64.6 4.24.2 2020 1616

상기 실시예와 비교예는 무기충전재를 이용하여 내장형 축전지용 회로기판 소재를 제조하기 위한 것으로서, 상기 표 2의 결과로부터 살펴보면 실시예 4 내지 7 및 비교예 3과 4에서 무기충전재의 양에 따라 목표 물성인 유전율이 커짐을 알 수 있다. 그러나 고유전율의 제품을 얻기 위하여 무기충전재의 양을 늘리는 경우, 무기충전재의 바인더 역할을 하는 에폭시 수지의 양이 상대적으로 감소하여 제품의 기계적 물성이 떨어지고, 실시예 4 내지 7 및 비교예 3과 4의 결과에서 알 수 있듯이 무기충전재에 따른 분산제의 사용에 따라 유리전이 온도가 떨어지는 현상이 발생한다.The Examples and Comparative Examples are for manufacturing a circuit board material for a built-in storage battery using an inorganic filler, and from the results of Table 2, the target according to the amount of the inorganic filler in Examples 4 to 7 and Comparative Examples 3 and 4 It can be seen that the dielectric constant of the material becomes larger. However, when the amount of the inorganic filler is increased in order to obtain a product having a high dielectric constant, the amount of the epoxy resin serving as a binder of the inorganic filler is relatively decreased, resulting in a decrease in mechanical properties of the product, Examples 4 to 7 and Comparative Examples 3 and 4 As can be seen from the results of the use of the dispersant according to the inorganic filler phenomenon that the glass transition temperature drops.

따라서 무기충전재 함유에 따른 기계적 물성의 보상을 위하여 실시예 1 내지 7에서는 고분자 비스페놀 A형 에폭시수지를 첨가하였고, 비교예 2 및 4에서는 다른 고분자 물질인 부타디엔 아크릴로 니트릴 공중합 고무(Nippon Zeon사, NBR1031) 또는 반응형 폴리비닐 아세탈 수지(Sekisui사 KS-23Z)를 첨가하였다.Therefore, in order to compensate the mechanical properties according to the inorganic filler containing polymer bisphenol A epoxy resin was added in Examples 1 to 7, butadiene acrylonitrile copolymer rubber (Nippon Zeon, NBR1031) of the other polymer material in Comparative Examples 2 and 4 ) Or reactive polyvinyl acetal resin (KS-23Z from Sekisui) was added.

상기의 결과로부터 알 수 있듯이 적당한 양의 고분자 비스페놀 A형 에폭시 수지를 첨가한 경우, 유리전이 온도가 크게 떨어지지 않는 범위 내에서 무기물을 제외한 에폭시 수지 조성물 자체의 동박 접착력이 향상됨을 확인 할 수 있었으며, 무기충전제가 첨가되면 유전율이 증가되지만, 동박접착강도는 떨어짐을 확인할 수 있었다.As can be seen from the above results, when an appropriate amount of the polymer bisphenol A epoxy resin was added, it was confirmed that the copper foil adhesion of the epoxy resin composition itself except the inorganic material was improved within the range that the glass transition temperature did not drop significantly. When the filler is added, the dielectric constant is increased, but it was confirmed that the copper foil adhesive strength drops.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에서는 고분자 비스페놀 A형 에폭시를 사용하여 무기충전재를 함유하지 않은 에폭시 수지 조성물 자체만으로도 우수한 물성을 갖은 회로기판 소재를 제조할 수 있으며, 무기충전재 사용 시 원하는 물성을 만족 시키는 동시에 기타 다른 물성 저하 없이 무기충전재 사용에 따른 동박 접착력 등의 기계적인 물성 저하를 보상할 수 있어 에폭시 수지 조성물 내의 무기충전재 함량을 높일 수 있는 효과가 있는 유용한 발명인 것이다.As described above, the present invention can produce a circuit board material having excellent physical properties using only the epoxy resin composition itself containing no inorganic filler by using the polymer bisphenol A type epoxy, while satisfying the desired physical properties when using the inorganic filler. It is a useful invention that the effect of increasing the inorganic filler content in the epoxy resin composition can be compensated for the mechanical properties such as copper foil adhesion strength using the inorganic filler without deteriorating other physical properties.

상기에서 본 발명은 기재된 구체예를 중심으로 상세히 설명되었지만, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.While the invention has been described in detail above with reference to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the scope and spirit of the invention, and such modifications and modifications fall within the scope of the appended claims. It is also natural.

Claims (7)

평균 에폭시 당량이 400 내지 1,000인 비스페놀 A형 에폭시 수지 100 중량부에 대하여,To 100 parts by weight of bisphenol A epoxy resin having an average epoxy equivalent of 400 to 1,000, 평균 에폭시 당량이 2,000 내지 10,000인 고분자 형 비스페놀 A형 에폭시 수지 5 내지 80 중량부;5 to 80 parts by weight of a polymer type bisphenol A epoxy resin having an average epoxy equivalent of 2,000 to 10,000; 다관능성 에폭시 수지 1 내지 100 중량부;1 to 100 parts by weight of the multifunctional epoxy resin; 아민계 경화제 1 내지 4 중량부; 및1 to 4 parts by weight of an amine curing agent; And 이미다졸계 경화촉진제 0.01 내지 1 중량부;0.01 to 1 part by weight of imidazole series curing accelerator; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.Epoxy resin composition containing a bisphenol A epoxy resin comprising a. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 에폭시 수지 조성물은 무기 충전제 및 분산제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition containing a bisphenol A epoxy resin, characterized in that it further comprises an inorganic filler and a dispersant. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 무기충전제는 바륨 티타튬 옥사이드(barium tiatanum oxide), 바륨스트론티움 티탄에이트(barium strontium titanate), 티타튬 옥사이드(titanium oxide), 리드 지로코니움 티타네이트(lead ziroconium titanate), 리드 렌타움 지르코네이트 티타네이트(lead lanthanum zirconate titanate), 림 마그네슘 니보에이트-리드 티타네이트(leam magnesium niobate-lead tiatanate), 은, 니켈, 니켈-코팅 폴리머 스페어(nickel-coated polymer sphere), 금-코팅 폴리머 스페어(gold-coated polymer sphere), 틴 소울더(tin solder), 그래피트(graphite), 탄탈륨 니티데(tantalum nitides), 메탈 실리콘 니트라이드(metal silcon nitride), 카본 블랙(carbon black), 실리카(silica), 클레이(clay) 및 알루미늄 보레이트(aluminum borate)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.The inorganic fillers include barium tiatanum oxide, barium strontium titanate, titanium titanate, lead ziroconium titanate, lead lentaum zir Lead lanthanum zirconate titanate, rim magnesium niobate-lead titanate, silver, nickel, nickel-coated polymer spheres, gold-coated polymer spares (gold-coated polymer spheres), tin solder, graft, tantalum nitides, metal silcon nitride, carbon black, silica Epoxy resin composition containing bisphenol A type epoxy resin, characterized in that it is selected from the group which consists of the following), a clay, and aluminum borate. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 분산제는 카르복실레이트, 설포네이트 및 포스페이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징을 하는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.The dispersant is an epoxy resin composition containing a bisphenol A epoxy resin, characterized in that selected from the group consisting of carboxylate, sulfonate and phosphate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 아민계 경화제는 4,4'-디아미노 디페닐 술폰(DDS), 4,4'-디아미노 디페닐 메탄, 디시안 디아마이드(Dicy) 및 이들의 혼합물로 이루지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.The amine-based curing agent is selected from the group consisting of 4,4'-diamino diphenyl sulfone (DDS), 4,4'-diamino diphenyl methane, dicyane diamide (Dicy) and mixtures thereof An epoxy resin composition containing a bisphenol A type epoxy resin. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이미다졸계 경화촉진제는 2-에틸-메틸 이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-알킬 이미다졸, 2-페닐 이미다졸 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.The imidazole series curing accelerator is selected from the group consisting of 2-ethyl-methyl imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-alkyl imidazole, 2-phenyl imidazole and mixtures thereof. An epoxy resin composition containing a bisphenol A epoxy resin. 제 1항의 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물을 이용하여 제조된 회로기판.A circuit board manufactured using the epoxy resin composition containing the bisphenol A epoxy resin of claim 1.
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