KR20040062204A - substrate for liquid crystal display including inkjet spacer and fabrication method the same - Google Patents

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KR20040062204A
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Abstract

PURPOSE: A substrate including ink-jet spacers for a liquid crystal display device, and a method for manufacturing the same are provided to easily form spacers in a desired height by controlling a spread width of ink, thereby obtaining the reliability of cell gap maintenance of a liquid crystal panel, and improving the quality characteristic of a liquid crystal display device. CONSTITUTION: Black matrices(136) are formed on a substrate(130), including protrusion parts protruded defining a predetermined entrance. A common electrode(138) is formed on the black matrices, including a planarization plane and an ink wall(190) formed in association with a shape of protrusion parts. A plurality of ink-jet spacers(160) are dropped into the ink wall and then solidified.

Description

잉크젯 스페이서를 포함하는 액정표시장치용 기판 및 이의 제조방법{substrate for liquid crystal display including inkjet spacer and fabrication method the same}Substrate for liquid crystal display including inkjet spacer and fabrication method the same}

본 발명은 액정표시장치(Liquid Crystal Display device : LCD)용 액정패널(liquid crystal display panel)에 관한 것으로, 좀더 자세하게는 액정층을 사이에 두고 대향하는 제 1 및 제 2 기판, 그리고 이들 사이의 셀 갭(cell gap)을 유지하기 위한 잉크젯 스페이서(inkjet spacer)를 포함하는 액정패널에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display panel for a liquid crystal display device (LCD), and more particularly, to first and second substrates facing each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a cell therebetween. The present invention relates to a liquid crystal panel including an inkjet spacer for maintaining a cell gap.

액정패널은 액정표시장치의 핵심적인 구성요소로서, 액정층을 사이에 두고 대향하는 제 1 및 제 2 기판을 포함한다.The liquid crystal panel is an essential component of the liquid crystal display, and includes first and second substrates facing each other with the liquid crystal layer interposed therebetween.

액정분자는 구조가 가늘고 길며, 광학적 이방성과 분극성질을 띤다. 이에 액정패널을 구성하는 양 기판의 마주보는 면에는 각각 전계생성전극이 형성되어 있고, 이들간의 전압차를 통해 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절할 수 있다.Liquid crystal molecules are thin and long in structure, and have optical anisotropy and polarization. Accordingly, field generating electrodes are formed on opposite surfaces of both substrates constituting the liquid crystal panel, and the arrangement direction of the liquid crystal molecules may be artificially adjusted through the voltage difference therebetween.

그리고 이때 변화되는 빛의 투과율을 통해 여러 가지 화상을 디스플레이(display) 한다.In this case, various images are displayed by changing the transmittance of light.

일반적인 액정패널에는 화상표현의 기본 단위로서 다수의 화소(pixel)가 형성되는데, 현재에는 스위칭 소자를 사용하여 이들 각 화소를 독립적으로 제어하는 능동행렬(Active-Matrix) 방식이 널리 사용된다. 이때 스위칭 소자로 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)를 사용한 것이 잘 알려진 박막트랜지스터형 액정표시장치(TFT-LCD)이다.In a typical liquid crystal panel, a plurality of pixels are formed as a basic unit of image expression. Currently, an active matrix method that independently controls each pixel using a switching element is widely used. At this time, a thin film transistor (TFT-LCD) is a well-known thin film transistor (TFT) as a switching element.

이하, 도면을 참조하여 일반적인 능동행렬 액정패널에 대해 설명한다. 도 1은 일반적인 액정패널 일부에 대한 분해사시도이고, 도 2는 도 1의 II-II 선을 따라 절단한 단면을 도시한 단면도이다.Hereinafter, a general active matrix liquid crystal panel will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view of a part of a general liquid crystal panel, and FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a cross section taken along a line II-II of FIG. 1.

일반적인 액정패널(5)은 액정층(50)을 사이에 두고 대향하는 제 1 기판(10)과 제 2 기판(30)을 포함한다.The general liquid crystal panel 5 includes a first substrate 10 and a second substrate 30 facing each other with the liquid crystal layer 50 interposed therebetween.

이중 제 1 기판(10)은 유리등의 투명한 제 1 절연기판(12), 그리고 이의 일면에 종횡으로 배열되어 매트릭스(matrix) 형태로 화소(P)를 정의하는 다수의 게이트라인 및 데이터라인(14, 16)과, 이들의 교차점에 형성되는 박막트랜지스터(T)와, 이들 각각의 박막트랜지스터(T)와 연결된 상태로 각 화소(P)에 대응되는 화소전극(18)을 포함한다.The first substrate 10 is a transparent first insulating substrate 12 such as glass, and a plurality of gate lines and data lines 14 arranged vertically and horizontally on one surface thereof to define the pixels P in a matrix form. 16, a thin film transistor T formed at an intersection thereof, and a pixel electrode 18 corresponding to each pixel P in a state of being connected to each of the thin film transistors T.

상기 박막트랜지스터(T)는 게이트라인(14)에서 분기한 게이트전극(14a)과, 데이터라인(16)에서 분기한 소스전극(16a)과, 화소전극(18)에 연결되는 드레인전극(20)과, 전하(electron) 또는 홀(hole) 등의 캐리어(carrier) 이동통로인 액티브채널층(22 : active channel layer)을 포함한다.The thin film transistor T includes a gate electrode 14a branched from the gate line 14, a source electrode 16a branched from the data line 16, and a drain electrode 20 connected to the pixel electrode 18. And an active channel layer 22, which is a carrier movement path such as an electron or a hole.

그리고 미설명 부호 23은 게이트라인(14)과 데이터라인(16)의 절연을 위해이들 사이의 기판 전면으로 형성되는 게이트절연막을, 그리고 26는 박막트랜지스터(T)를 보호하기 위해 상기 박막트랜지스터(T) 상부로 기판 전면에 형성되는 보호막을 표시하고 있다.In addition, reference numeral 23 denotes a gate insulating layer formed on the entire surface of the substrate therebetween for insulating the gate line 14 and the data line 16, and 26 denotes the thin film transistor T to protect the thin film transistor T. A protective film formed on the entire surface of the substrate is indicated above.

그리고 제 2 기판(30)은 제 2 절연기판(32)과, 이의 일면에 차례로 형성된 컬러필터층(34) 및 블랙매트릭스(36)와, 공통전극(38)을 포함한다.The second substrate 30 includes a second insulating substrate 32, a color filter layer 34 and a black matrix 36 sequentially formed on one surface thereof, and a common electrode 38.

상기 컬러필터층(34)은 어레이기판(10)의 각 화소(P)에 대응된 상태로 특정 파장대의 빛을 반사하도록 배열되는 적, 녹, 청 컬러필터(34a, 34b, 34c)의 반복으로 이루어진다.The color filter layer 34 is composed of repetition of red, green, and blue color filters 34a, 34b, and 34c arranged to reflect light of a specific wavelength band in a state corresponding to each pixel P of the array substrate 10. .

상기 블랙매트릭스(36)는 제 1 기판(10)의 게이트라인(14) 및 데이터라인(16)과 박막트랜지스터(T) 등의 비 화소영역을 가림으로써, 액정분자의 배열변화에 따라 실제 사용자에게 보여지는 화상이 표시되는 화소영역, 특히 화소전극(18)에 대응되는 부분을 노출시킨다.The black matrix 36 covers non-pixel regions such as the gate line 14, the data line 16, and the thin film transistor T of the first substrate 10, so that the black matrix 36 may be provided to the actual user according to the arrangement change of the liquid crystal molecules. The pixel region in which the image to be displayed is displayed, in particular, a portion corresponding to the pixel electrode 18 is exposed.

또 공통전극(38)은 인듐-틴-옥사이드(indium tin oxide) 또는 인듐-징크-옥사이드(indium zinc oxide) 등의 투명도전성 금속으로 이루어진다.The common electrode 38 is made of a transparent conductive metal such as indium tin oxide or indium zinc oxide.

이때 비록 별도의 도면으로 제시하지는 않았지만, 상기 블랙매트릭스(34)와 컬러필터층(36)은 그 위치가 바뀔 수도 있다. 그리고 양 기판(10, 30) 가장자리로는 씰패턴(seal pattern)이 형성되어 액정주입을 위한 셀 갭(cell gap) 유지 및 양 기판(10, 30)의 합착과 액정 누설을 방지하며, 양 기판(10, 30)과 액정층(50)의 경계에는 각각 액정의 초기 배열방향을 결정하는 제 1 및 제 2 배향막이 개재된다.In this case, although not shown in a separate drawing, the positions of the black matrix 34 and the color filter layer 36 may be changed. A seal pattern is formed at the edges of both substrates 10 and 30 to maintain a cell gap for liquid crystal injection and to prevent adhesion of the substrates 10 and 30 and leakage of liquid crystal. At the boundary between (10, 30) and the liquid crystal layer 50, first and second alignment films for determining the initial alignment direction of the liquid crystal are interposed.

한편, 신뢰성 있는 화상표현을 위해서는 제 1 및 제 2 기판(10, 30) 사이의간격, 다시 말해 액정층(50)의 두께로 정의되는 셀 갭이 일정하게 유지되어야 하는데, 이를 위해 양 기판 사이로 스페이서(spacer)가 형성된다.On the other hand, for reliable image representation, the gap between the first and second substrates 10 and 30, that is, the cell gap defined by the thickness of the liquid crystal layer 50, must be kept constant. a spacer is formed.

일반적인 스페이서로는 구(球) 형상의 수지물질을 양 기판 사이로 랜덤(random)하게 산포하는 볼 스페이서(ball spacer)가 사용되어 왔다.As a general spacer, a ball spacer that randomly distributes a spherical resin material between both substrates has been used.

이는 비교적 단순한 공정을 요하는데 반해 그 위치를 정확히 고정할 수 없어 주변 액정 분자와의 흡착력에 의한 빛 샘 현상이 나타날 수 있다.While this requires a relatively simple process, the position cannot be fixed accurately, and thus light leakage may occur due to adsorption force with surrounding liquid crystal molecules.

또 이동 가능성이 있어 배향막에 스크래치(scratch) 등의 손상을 줄 수 있고, 밀집분포가 일정하지 않아 대면적 액정패널에 적용될 경우 셀 갭 유지에 신뢰성이 떨어진다. 또 마찬가지 이유로 화면을 만질 경우 한동안 얼룩이 남는 리플(ripple)현상이 나타나기도 한다.In addition, there is a possibility of movement, which may cause scratches and the like on the alignment layer, and the density distribution is not constant, so when applied to a large area liquid crystal panel, reliability of the cell gap is low. For the same reason, if you touch the screen, you may see ripples that remain for a while.

이러한 단점 때문에 원하는 위치에 고정되도록 형성할 수 있는 패턴드스페이서(patterned spacer) 또는 도면에 도시된 바와 같은 잉크젯(inkjet) 방식의 스페이서(60 : 이하 간략하게 잉크젯 스페이서(60)라 한다.)가 개발된 바 있다.Because of this drawback, a patterned spacer or inkjet spacer 60 (hereinafter simply referred to as inkjet spacer 60), which can be formed to be fixed at a desired position, is developed. It has been.

이들 패턴드스페이서와 잉크젯스페이서(60)는 비표시영역으로 그 위치를 한정할 수 있어 주변 액정분자와의 흡착력이 발생하여도 빛 샘 현상을 방지할 수 있고, 또 밀집정도를 정확하게 제어할 수 있으므로 셀 갭 유지에 신뢰성을 기하며, 리플현상을 방지한다.Since the patterned spacers and the ink jet spacers 60 can be limited to their non-display areas, they can prevent light leakage even when adsorptive force with surrounding liquid crystal molecules occurs, and precisely control the density. Reliability is maintained in cell gap maintenance and ripple is prevented.

그러나 패턴드스페이서는 유기물질의 코팅, 노광, 현상, 식각공정을 포함하는 포토리소그라피(photo lithography) 공정을 요구하는 바, 소요 시간 및 비용 소모가 많고 상기한 물리/화학적 공정에 의해 다른 소자에 결함을 주기 쉬운 단점이있다.However, the patterned spacer requires a photolithography process including coating, exposure, development, and etching of organic materials, which requires a lot of time and cost, and defects in other devices due to the above-described physical and chemical processes. It is easy to give.

반면, 잉크젯 스페이서(60)는 액상의 유기물(이하, 잉크라 간략히 칭한다.)을 비화소영역에 적하(dropping)한 후, 열 또는 자외선으로 경화시키는 상대적으로 단순한 공정을 통해 완성할 수 있는 잇점이 있다.On the other hand, the inkjet spacer 60 may be completed by a relatively simple process of dropping a liquid organic material (hereinafter, simply referred to as ink) in a non-pixel region and curing with heat or ultraviolet rays. have.

그러나 이 잉크젯 스페이서(60) 또한 몇 가지 문제점을 가지고 있는데, 잉크는 적하를 위해 일정정도 이상의 점도를 가져야 하므로 적절한 용매에 용해한 액체에 가까운 졸(sol) 상태로 사용된다. 따라서 퍼짐폭(W)이 넓어 원하는 높이를 정확히 맞추기가 매우 까다롭다.However, this inkjet spacer 60 also has some problems. Since the ink must have a viscosity of about a certain amount for dropping, it is used in a sol state close to a liquid dissolved in a suitable solvent. Therefore, the wide spread width (W) is very difficult to exactly match the desired height.

더욱이 비화소영역으로 적하된 잉크가 화소영역까지 번져 침범하는 경우가 종종 관찰되고, 결국 액정표시장치의 화질을 해칠 수 있어, 잉크젯 스페이서의 활용도를 높이는 데 방해가 되고 있다.In addition, it is often observed that the ink dropped into the non-pixel region spreads to the pixel region, which in turn hinders the image quality of the liquid crystal display device, which hinders the utilization of the inkjet spacer.

본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 것으로, 잉크젯 스페이서를 형성함에 있어서, 잉크의 퍼짐을 방지하고, 목표하는 높이를 용이하게 구현 할 수 있는 액정패널 및 이의 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention is to achieve the above object, in forming an inkjet spacer, to provide a liquid crystal panel and a method of manufacturing the same that can prevent the spread of the ink, and can easily achieve the desired height have.

도 1은 일반적인 액정패널의 일부 분해사시도1 is an exploded perspective view of a part of a general liquid crystal panel

도 2는 도 1의 II-II 선의 절단면을 도시한 단면도FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a cut plane along the line II-II of FIG. 1. FIG.

도 3은 본 발명에 따른 액정패널의 일부 분해사시도3 is a partially exploded perspective view of a liquid crystal panel according to the present invention;

도 4는 도 3의 IV-IV 선의 절단면을 도시한 단면도4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG.

도 5a 내지 도 5e는 각각 공정순서에 따라 도 3의 V-V 선의 절단면을 도시한 공정단면도5A to 5E are cross-sectional views illustrating cut planes along the V-V line of FIG. 3 in the order of the processes, respectively.

도 6a 내지 도 6b는 각각 돌기부의 횡단면을 도시한 단면도6A to 6B are cross-sectional views showing cross sections of the protrusions, respectively.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

110 : 제 1 기판 112 : 제 1 절연기판110: first substrate 112: first insulating substrate

114a : 게이트전극 116 : 데이터라인114a: gate electrode 116: data line

116a : 소스전극 120 : 드레인전극116a: source electrode 120: drain electrode

122 : 액티브채널층 124 : 게이트절연막122: active channel layer 124: gate insulating film

126 : 보호막 130 : 제 2 기판126: protective film 130: second substrate

132 : 제 2 절연기판 134c : 청 컬러필터132: second insulating substrate 134c: blue color filter

136 : 블랙매트릭스 138 : 공통전극136: black matrix 138: common electrode

160 : 잉크 190 : 잉크 월160: Ink 190: Ink Wall

본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 기판과; 상기 기판 상에 형성되고, 소정의 인입구를 정의하며 돌출된 돌기부를 포함하는 블랙매트릭스와; 상기 블랙매트릭스 상에 형성되고, 평탄면과, 상기 돌기부의 형상을 따라 형성된 잉크월을 포함하는 공통전극과; 상기 잉크월 내로 적하되어 고형화된 잉크젯 스페이서를 포함하는 액정표시장치용 기판을 제공한다. 또한 상기 돌기부는 원통형상인 것을 특징으로 한다. 또한 상기 블랙매트릭스의 재질은 수지인 것을 특징으로 한다. 또한 상기 잉크젯 스페이서는 흑색 레진 계열인 것을 특징으로 한다. 또한 상기 잉크젯 스페이서의 높이는 상기 공통전극의 평탄면으로부터 2 내지 10 ㎛ 인 것을 특징으로 한다. 또한 상기 기판과 상기 블랙매트릭스 사이에 형성된 컬러필터층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention, in order to achieve the above object, a substrate; A black matrix formed on the substrate and defining a predetermined inlet and including a protruding protrusion; A common electrode formed on the black matrix and including a flat surface and an ink wall formed along a shape of the protrusion; Provided is a substrate for a liquid crystal display device including an ink jet spacer dipped into the ink wall and solidified. In addition, the protrusion is characterized in that the cylindrical shape. In addition, the material of the black matrix is characterized in that the resin. In addition, the inkjet spacer is characterized in that the black resin series. In addition, the height of the inkjet spacer is characterized in that 2 to 10 ㎛ from the flat surface of the common electrode. In addition, it characterized in that it further comprises a color filter layer formed between the substrate and the black matrix.

또한 본 발명은 투명한 절연기판 상에 소정의 인입구를 정의하며 돌출된 돌기부를 포함하는 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙매트릭스 상으로 평탄면과, 상기 돌기부의 형상을 따라 형성된 잉크월을 포함하는 공통전극을 형성하는 단계와; 상기 잉크월 내로 잉크를 적하하는 단계와; 상기 적하된 잉크를 경화하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 기판제조방법을 제공한다. 이때 상기 블랙매트릭스를 형성하는 단계는, 상기 기판 상에 블랙의 감광성 유기막을 도포하는 단계와; 상기 감광성 유기막 상부로 소정의 패턴이 형성된 마스크를 대향시킨 후, 상기 마스크 상부에서 빛을 조사하여 상기 감광성 유기막을 노광하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 마스크는, 빛을 차단하는 차단부와; 빛을 투과하는 투과부와; 상기 차단부보다 높은 농도의 빛을 통과시키고, 상기 투과부 보다 낮은 농도의 빛을 통과시키는 반 투과부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 기판에 상기 블랙매트릭스를 형성하는 단계 이전에, 상기 기판에 컬러필터 층을형성하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 잉크젯 스페이서의 높이는 상기 공통전극의 평탄면으로부터 2 내지 10 ㎛ 인 것을 특징으로 한다. 또한 상기 돌기부는 원통형상인 것을 특징으로 하는 바, 이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 올바른 실시예를 설명한다.In another aspect, the present invention comprises the steps of forming a black matrix on the transparent insulating substrate and defining a predetermined inlet and including a protruding protrusion; Forming a common electrode on the black matrix, the common electrode including a flat surface and an ink wall formed along the shape of the protrusion; Dropping ink into the ink wall; It provides a substrate manufacturing method for a liquid crystal display device comprising the step of curing the drop ink. In this case, the forming of the black matrix may include applying a black photosensitive organic layer on the substrate; The method may further include exposing the mask on which the predetermined pattern is formed on the photosensitive organic layer, and then exposing the photosensitive organic layer by irradiating light from the upper portion of the mask. In addition, the mask, the blocking portion for blocking the light; A transmission unit for transmitting light; It characterized in that it comprises a semi-transmissive portion that passes the light of higher concentration than the blocking portion, and passes the light of a lower concentration than the transmission portion. The method may further include forming a color filter layer on the substrate before forming the black matrix on the substrate. In addition, the height of the inkjet spacer is characterized in that 2 to 10 ㎛ from the flat surface of the common electrode. In addition, the protrusion is characterized in that the cylindrical shape, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention.

먼저 도 3는 본 발명에 따른 액정패널(105)의 일부를 분해하여 도시한 사시도이고, 도 4는 도 3의 IV-IV 선을 따라 절단한 단면을 도시한 도면이다.3 is an exploded perspective view of a part of the liquid crystal panel 105 according to the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG. 3.

본 발명에 따른 잉크젯 스페이서를 포함하는 액정패널(105)은 액정층(150)을 사이에 두고 대향하는 제 1 기판(110)과 제 2 기판(130)을 포함한다.The liquid crystal panel 105 including the inkjet spacer according to the present invention includes a first substrate 110 and a second substrate 130 facing each other with the liquid crystal layer 150 therebetween.

이중 제 1 기판(110)은 유리등의 투명한 제 1 절연기판(112), 그리고 매트릭스 형상으로 화소(P)를 정의하도록 제 1 절연기판(112) 일면에 종횡 배열되는 다수의 게이트라인(114) 및 데이터라인(116)과, 상기 각 화소(P)에 대응되는 화소전극(118)을 포함한다.The first substrate 110 includes a transparent first insulating substrate 112, such as glass, and a plurality of gate lines 114 arranged horizontally on one surface of the first insulating substrate 112 so as to define the pixel P in a matrix shape. And a data line 116 and a pixel electrode 118 corresponding to each pixel P.

또 게이트라인(114)에서 분기한 게이트전극(114a)과, 데이터라인(116)에서 분기한 소스전극(116a)과, 화소전극(118)과 연결된 드레인전극(120), 그리고 전하 또는 정공의 캐리어 이동통로인 반도체 재질의 액티브채널층(122)을 포함하며, 각각 게이트라인(114)과 데이터라인(116)의 교차점에 형성되는 다수의 박막트랜지스터(T)를 포함한다.The gate electrode 114a branched from the gate line 114, the source electrode 116a branched from the data line 116, the drain electrode 120 connected to the pixel electrode 118, and a carrier of charge or hole An active channel layer 122 of a semiconductor material, which is a movement path, includes a plurality of thin film transistors T formed at intersections of the gate line 114 and the data line 116, respectively.

이때 미설명 부호 124는 게이트라인(114)과 데이터라인(116)의 절연을 위해 이들 사이로 기판 전면에 형성되는 게이트절연막을, 그리고 126는 박막트랜지스터(T)를 보호하기 위해 상기 박막트랜지스터(T) 상부로 기판 전면에형성되는 보호막을 표시하고 있다.In this case, reference numeral 124 denotes a gate insulating film formed on the entire surface of the substrate between the gate line 114 and the data line 116, and 126 denotes the thin film transistor T to protect the thin film transistor T. A protective film formed on the entire surface of the substrate is shown above.

그리고 제 2 기판(130)은 제 2 절연기판(132), 그리고 이의 일면에 차례로 형성된 컬러필터층(134) 및 블랙매트릭스(136)와, 공통전극(138)을 포함한다.The second substrate 130 includes a second insulating substrate 132, a color filter layer 134 and a black matrix 136 sequentially formed on one surface thereof, and a common electrode 138.

이때 컬러필터층(134)은 제 1 기판(110)의 각 화소(P)에 대응되도록 반복 배열되는 적, 녹, 청 또는 이와 유사한 색상의 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터(134a, 134b, 134c)를 포함한다. 그리고 블랙매트릭스(136)는 게이트라인(114) 및 데이터라인(116)과 박막트랜지스터(T) 등의 비화소영역을 가려 화소전극(118) 주변부에 형성되는 반전도메인(reverse tilt domain)을 통과하는 빛을 차폐하고, 화소전극(118)에 대응되는 부분을 노출시킨다.In this case, the color filter layer 134 may be red, green, blue, or similar red (R), green (G), or blue (B) color that is repeatedly arranged to correspond to each pixel P of the first substrate 110. Filters 134a, 134b, 134c. The black matrix 136 covers non-pixel regions such as the gate line 114, the data line 116, and the thin film transistor T to pass through a reverse tilt domain formed around the pixel electrode 118. The light is shielded and a portion corresponding to the pixel electrode 118 is exposed.

그리고 공통전극(138)은 인듐-틴-옥사이드 또는 인듐-징크-옥사이드 등의 투명도전성 금속으로 이루어진다.The common electrode 138 is made of a transparent conductive metal such as indium tin oxide or indium zinc oxide.

비록 도시하지는 않았지만, 이들 양 기판(110, 130)의 가장자리로는 씰패턴이 형성되어 액정주입을 위한 셀 갭 유지 및 양 기판의 합착과 액정 누설을 방지하며, 양 기판(110, 130)과 액정층(150)의 경계에는 각각 액정의 초기 배열방향을 결정하는 제 1 및 제 2 배향막이 개재됨은 일반적인 액정패널과 유사하다 할 수 있다.Although not shown, a seal pattern is formed at the edges of the two substrates 110 and 130 to maintain cell gap for liquid crystal injection, and to prevent adhesion between the two substrates and liquid crystal leakage. The first and second alignment layers, which determine the initial alignment direction of the liquid crystals, are interposed at the boundary of the layer 150, which may be similar to a general liquid crystal panel.

이때 본 발명에 따른 액정패널(105)은 양 기판(110, 130) 사이로 형성되는 다수의 잉크젯 스페이서(160)를 통해 일정한 셀 갭을 유지하는데, 특히 이 잉크젯 스페이서는 제 2 기판의 공통전극(138) 상에 형성되는 것이 바람직하며, 잉크의 적하 시 퍼짐을 방지할 수 있는 주형(鑄型)역할의 잉크 월(190)을 포함하는 것을 특징으로 한다. 그리고 이 잉크 월(190)은 블랙매트릭스(136) 및 공통전극(138)으로 이루어진 것을 특징으로 한다.In this case, the liquid crystal panel 105 according to the present invention maintains a constant cell gap through a plurality of inkjet spacers 160 formed between both substrates 110 and 130. In particular, the inkjet spacers have a common electrode 138 of the second substrate. It is preferably formed on the), characterized in that it comprises an ink wall 190 of the mold (鑄型) that can prevent the spreading of the ink dropping. In addition, the ink wall 190 is characterized in that the black matrix 136 and the common electrode 138.

즉, 본 발명에 따른 액정패널(105)은 특히 컬러필터(134)를 포함하는 제 2 기판(130)에 잉크를 적하하여 잉크젯 스페이서(160)를 구성하며, 특히 잉크의 적하 지점에는 퍼짐을 방지하도록 블랙매트릭스(136) 및 공통전극(138)으로 이루어진 잉크 월(190)이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.That is, the liquid crystal panel 105 according to the present invention configures the inkjet spacer 160 by dropping ink on the second substrate 130 including the color filter 134. In particular, the liquid crystal panel 105 prevents spreading at the dropping point of the ink. An ink wall 190 formed of a black matrix 136 and a common electrode 138 is formed.

이 잉크 월(190)은 내부로 잉크를 수용할 수 있는 공간을 가지고 있어, 여기에 잉크가 고여 경화되는 바, 이하, 첨부된 도 5a 내지 도 5e는 도 3 의 잉크젯 스페이서(160) 형성위치, 즉 VI-VI 선을 따라 절단한 단면을 제조공정 순서에 따라 도시한 공정단면도이다.The ink wall 190 has a space for accommodating ink therein, and the ink is hardened by the ink. Herein, FIGS. 5A to 5E are attached to the inkjet spacer 160 forming position of FIG. That is, it is a process cross section which shows the cross section cut along the VI-VI line according to the manufacturing process sequence.

이들을 참조하여 본 발명에 따른 잉크젯 스페이서(160) 및 잉크 월(190)를 포함하는 제 2 기판(130) 제조공정을 보다 상세히 설명한다.Referring to these, the manufacturing process of the second substrate 130 including the inkjet spacer 160 and the ink wall 190 according to the present invention will be described in more detail.

먼저, 도 5a에 도시한 바와 같이 제 2 절연기판(132) 상에 컬러필터층(134)을 형성한다. 이를 위한 방법은 여러 가지가 될 수 있는데, 일례로 광중합 개시제와, 모노머(monomer)와, 바인더(binder) 등의 광중합형 감광조성물, 그리고 적, 녹, 청 또는 이와 유사한 색상의 유기안료를 포함하는 컬러수지를 이용하는 방법으로 설명한다.First, as shown in FIG. 5A, the color filter layer 134 is formed on the second insulating substrate 132. There may be a number of methods for this purpose, including, for example, a photopolymerization initiator, a monomer, a photopolymerizable photosensitive composition such as a binder, and an organic pigment of red, green, blue or similar color. It demonstrates by the method using a color resin.

먼저 제 2 절연기판(132) 전면에 임의의 순서로, 적색 또는 이와 유사한 색상의 컬러수지를 도포한 후 선택된 영역을 노광하고, 녹색 또는 이와 유사한 색상의 컬러수지를 도포한 후 선택적으로 노광하며, 청색 또는 이와 유사한 색상의 컬러필터 수지를 도포한 후 선택적으로 노광함으로서 각각 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터(134a, 134b, 134c)의 반복 배열로 이루어진 컬러필터층(134)을 형성할 수 있다.First, a color resin of red or similar color is applied to the entire surface of the second insulating substrate 132 in any order, and then the selected area is exposed, and then green or similar color resin is applied and then selectively exposed. Color filter layer 134 composed of a repeating arrangement of red (R), green (G), and blue (B) color filters 134a, 134b, and 134c by applying a color filter resin of blue or similar color and then selectively exposing them. ) Can be formed.

그리고 도 5b와 같이 컬러필터층(134)이 형성된 기판 상부로 블랙컬러의 감광성 유기물질을 도포하여 블랙유기막(136a)을 형성한다. 이 블랙유기막(136a)은 노광한 후 현상하면 빛을 받은 부분이 제거되는 포지티브(positive)형 또는 빛을 받지 않은 부분이 제거되는 네가티브(negative)형으로 구분될 수 있지만, 일례로 포지티브형의 경우를 설명한다.As illustrated in FIG. 5B, a black organic photosensitive material is coated on the substrate on which the color filter layer 134 is formed to form a black organic layer 136a. The black organic film 136a may be classified into a positive type in which light-received portions are removed or a negative type in which non-light-received portions are removed when developed after exposure. Explain the case.

그리고 이 블랙유기막(136a)이 형성된 기판 상부에 빛을 차단하는 투과부(A)와, 빛을 차단하는 차단부(C) 그리고 상기 투과부(A) 보다는 낮은 농도의 빛을 통과시키는 반면 차단부(C) 보다는 높은 농도의 빛을 투과시키는 반투과부(B)를 포함하는 마스크(170)를 대응시킨다.The black organic layer 136a has a transmission portion A blocking light on the substrate on which the light is formed, a blocking portion C blocking the light, and light having a lower density than the transmission portion A. A mask 170 including a transflective portion B that transmits light having a higher concentration than C) is matched.

그리고 마스크(170) 상부에서 빛을 조사하여 현상하면, 투과부(A)에 대응되는 블랙유기막(136a) 부분은 높은 농도의 빛에 노광되어 완전히 제거되고, 반 투과부(B)에 대응되는 블랙유기막(136a) 부분은 그보다 낮은 농도의 빛에 노광되어 일정 두께로 잔존하며, 차단부(C)에 대응되는 블랙유기막(136a) 부분은 노광되지 않으므로 거의 남아있게 된다.When the light is irradiated and developed from the upper portion of the mask 170, the portion of the black organic film 136a corresponding to the transmissive portion A is exposed to high concentration of light and completely removed, and the black organic portion corresponding to the semi-transmissive portion B is removed. The portion of the film 136a is exposed to light having a lower concentration and remains at a predetermined thickness, and the portion of the black organic film 136a corresponding to the blocking portion C is not exposed, and thus remains almost.

이로서 도 5c에 도시한 바와 같은 블랙매트릭스(136)이 형성되는데, 이 블랙매트릭스(136)는 일부 영역, 상기 마스크(170)의 차단부(C)에 대응되는 부분이 높게 돌출된 돌기부(136b)가 형성된다.As a result, a black matrix 136 is formed as shown in FIG. 5C, and the black matrix 136 has a protruding portion 136b in which a part corresponding to the blocking portion C of the mask 170 is protruded. Is formed.

이는 바람직하게는 1.5㎛ 정도의 높이를 가질 수 있고, 후술하는 잉크를 내부에 수용할 수 있는 홀(136c)이 마련되어 있다.It may preferably have a height of about 1.5 μm, and is provided with a hole 136c for accommodating the ink described later.

이때 돌기부(136b) 및 이의 내부에 형성된 홀(136c)의 형상은 얼마든지 자유로울 수 있다. 일례로 도 6a 내지 도 6b는 상기 돌기부(136b) 및 홀(136c)의 여러 가지 형상에 대한 횡단면을 도시한 도면으로서, 원통형상의 돌기부(136b) 내에 하나의 홀(136c)이 형성되거나(도 6a), 또는 원통형상의 돌기부(136b) 내에 하나의 홀(136c)이 형성되고, 그 내부로 필러 형상으로 분기한 돌출단(136d)이 형성될 수도 있다.(도 6b)At this time, the shape of the protrusion 136b and the hole 136c formed therein may be free. 6A to 6B are cross-sectional views of various shapes of the protrusion 136b and the hole 136c, and one hole 136c is formed in the cylindrical protrusion 136b (FIG. 6A). Alternatively, one hole 136c may be formed in the cylindrical protrusion 136b, and a protrusion end 136d branched into a pillar shape may be formed therein (FIG. 6B).

다시 도 5d로 돌아와서, 이러한 돌기부(136b) 및 홀(136c)을 포함하는 블랙매트릭스(136)가 형성된 기판 전면으로 인듐-틴-옥사이드와 같은 투명도전성 금속을 증착하여 공통전극(138)을 형성한다. 이때 전술한 블랙매트릭스(136)의 돌기부(도 5c의 136b) 및 홀(도 5c의 136c)에 대응되는 공통전극(138) 부분 역시 이의 형상을 따라 증착되는 바, 비로서 내부로 일정정도의 잉크 수용공간(194)을 형성하며 실질적으로 수직하게 직립되는 잉크 월(192)이 형성된다.5D, the common electrode 138 is formed by depositing a transparent conductive metal such as indium-tin-oxide on the entire surface of the substrate on which the black matrix 136 including the protrusion 136b and the hole 136c is formed. . At this time, a portion of the common electrode 138 corresponding to the above-described protrusion (136b of FIG. 5C) and the hole (136c of FIG. 5C) of the black matrix 136 is also deposited along the shape thereof, and thus a certain amount of ink is internally provided. An ink wall 192 is formed which defines the receiving space 194 and is substantially vertically upright.

이어 각각의 잉크 월(192)이 정의하는 잉크 수용공간으로 잉크를 적하 하는데, 이 잉크로는 바람직하게는 경화성 흑색 레진(resin : 160a)이 사용될 수 있고, 이 잉크의 적하를 위해 노즐(200)을 사용할 수 있다.Subsequently, ink is dropped into the ink receiving space defined by each ink wall 192. Preferably, a curable black resin (resin: 160a) may be used, and the nozzle 200 may be used for dropping the ink. Can be used.

그리고 이 경화성 흑색 레진(160a)을 경화하여 도 5e와 같이 고형화된 잉크젯 스페이서(160)를 형성하게 된다. 이때 이 잉크젯 스페이서(160)의 높이는 공통전극(138)의 평탄면으로부터 2 내지 10㎛ 가 바람직하다.The curable black resin 160a is cured to form a solidified inkjet spacer 160 as shown in FIG. 5E. In this case, the height of the inkjet spacer 160 is preferably 2 to 10 μm from the flat surface of the common electrode 138.

이때 잉크젯 스페이서(160)가 형성되는 위치는 당연히 블랙매트릭스에 대응되는 비화소영역이 될 것이다.At this time, the position where the inkjet spacer 160 is formed will naturally be a non-pixel area corresponding to the black matrix.

본 발명은 별도의 공정추가 없이 잉크젯 스페이서를 위한 잉크 월을 형성하는 바, 이를 통해 잉크의 퍼짐폭을 제어하여 원하는 높이의 스페이서를 쉽게 형성할 수 있다.The present invention forms an ink wall for the inkjet spacer without any additional process, through which the spreading width of the ink can be controlled to easily form a spacer having a desired height.

이를 통해 액정패널의 셀 갭 유지에 신뢰성을 기하며, 액정표시장치의 화질 특성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.As a result, the cell gap of the liquid crystal panel can be maintained in reliability, and the image quality characteristics of the liquid crystal display can be improved.

Claims (12)

기판과;A substrate; 상기 기판 상에 형성되고, 소정의 인입구를 정의하며 돌출된 돌기부를 포함하는 블랙매트릭스와;A black matrix formed on the substrate and defining a predetermined inlet and including a protruding protrusion; 상기 블랙매트릭스 상에 형성되고, 평탄면과, 상기 돌기부의 형상을 따라 형성된 잉크월을 포함하는 공통전극과;A common electrode formed on the black matrix and including a flat surface and an ink wall formed along a shape of the protrusion; 상기 잉크월 내로 적하되어 고형화된 잉크젯 스페이서Inkjet spacer dipped into the ink wall and solidified 를 포함하는 액정표시장치용 기판Liquid crystal display substrate comprising a 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 돌기부는 원통형상인 액정표시장치용 기판The projection portion is a substrate for a liquid crystal display device having a cylindrical shape 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 블랙매트릭스의 재질은 수지인 액정표시장치용 기판The material of the black matrix is a resin substrate 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 잉크젯 스페이서는 흑색 레진 계열인 액정표시장치용 기판The inkjet spacer is a black resin based liquid crystal display substrate 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 잉크젯 스페이서의 높이는 상기 공통전극의 평탄면으로부터 2 내지 10 ㎛ 인 액정표시장치용 기판The height of the inkjet spacer is 2 to 10 ㎛ substrate from the flat surface of the common electrode 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 기판과 상기 블랙매트릭스 사이에 형성된 컬러필터층A color filter layer formed between the substrate and the black matrix 을 더욱 포함하는 액정표시장치용 기판Liquid crystal display substrate further comprising 투명한 절연기판 상에 소정의 인입구를 정의하며 돌출된 돌기부를 포함하는 블랙매트릭스를 형성하는 단계와;Forming a black matrix on the transparent insulating substrate and defining a predetermined opening and including a protruding protrusion; 상기 블랙매트릭스 상으로 평탄면과, 상기 돌기부의 형상을 따라 형성된 잉크월을 포함하는 공통전극을 형성하는 단계와;Forming a common electrode on the black matrix, the common electrode including a flat surface and an ink wall formed along the shape of the protrusion; 상기 잉크월 내로 잉크를 적하하는 단계와;Dropping ink into the ink wall; 상기 적하된 잉크를 경화하는 단계Curing the loaded ink 를 포함하는 액정표시장치용 기판제조방법Substrate manufacturing method for a liquid crystal display device comprising a 청구항 7에 있어서,The method according to claim 7, 상기 블랙매트릭스를 형성하는 단계는,Forming the black matrix, 상기 기판 상에 블랙의 감광성 유기막을 도포하는 단계와;Coating a black photosensitive organic film on the substrate; 상기 감광성 유기막 상부로 소정의 패턴이 형성된 마스크를 대향시킨 후, 상기 마스크 상부에서 빛을 조사하여 상기 감광성 유기막을 노광하는 단계Opposing a mask having a predetermined pattern formed on the photosensitive organic layer, and then exposing the photosensitive organic layer by irradiating light from the upper part of the mask; 를 더욱 포함하는 액정표시장치용 기판제조방법Substrate manufacturing method for a liquid crystal display device further comprising 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8, 상기 마스크는,The mask is, 빛을 차단하는 차단부와;Blocking unit for blocking the light; 빛을 투과하는 투과부와;A transmission unit for transmitting light; 상기 차단부보다 높은 농도의 빛을 통과시키고, 상기 투과부 보다 낮은 농도의 빛을 통과시키는 반 투과부Semi-transmissive portion that passes light of higher concentration than the blocking portion and passes light of lower concentration than the transmissive portion 를 포함하는 액정표시장치용 기판제조방법Substrate manufacturing method for a liquid crystal display device comprising a 청구항 7에 있어서,The method according to claim 7, 상기 기판에 상기 블랙매트릭스를 형성하는 단계 이전에,Before forming the black matrix on the substrate, 상기 기판에 컬러필터 층을 형성하는 단계Forming a color filter layer on the substrate 를 더욱 포함하는 액정표시장치용 기판제조방법Substrate manufacturing method for a liquid crystal display device further comprising 청구항 7에 있어서,The method according to claim 7, 상기 잉크젯 스페이서의 높이는 상기 공통전극의 평탄면으로부터 2 내지 10 ㎛ 인 액정표시장치용 기판제조방법The height of the inkjet spacer is 2 to 10 ㎛ from the flat surface of the common electrode substrate manufacturing method for a liquid crystal display device 청구항7에 있어서,The method according to claim 7, 상기 돌기부는 원통형상인 액정표시장치용 기판제조방법Method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display device wherein the protrusion is cylindrical
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8368865B2 (en) 2010-03-05 2013-02-05 Samsung Display Co., Ltd. Display panel and method of manufacturing the same

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