KR20040060439A - System for supplying ultra pure water - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 불순물이 극도로 제거하여 고순도의 물을 제공할 수 있는 초순수(ultra pure water) 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultra pure water supply apparatus capable of providing extremely high purity water by removing impurities extremely.
반도체 생산라인에서 사용되는 반도체 공정용 제조장치들은, 웨이퍼 세척용으로 초순수를 이용한다. 이러한 반도체 제조 장치용 초순수는 유량이 항상 일정해야만 할 뿐만 아니라 공정의 특성 상 매우 순도 높은 물을 공급하여야 한다. 특히, 반도체 장치에 공급되는 초순수는 순환식으로 공급되어 소정시간이 지나면 박테리아와 같은 세군성 파티클이 발생하는 문제가 있다. 이러한 박테리아는 연속적으로증식하는 성질을 가지고 있어 순수가 공급되는 베관 내에 한번 발생하면 순수의 흐름을 방해할 정도로 성장 응집되어 배관 전체를 청소하거나 교환해야 하는 위험성이 있다. 그리하여, 이러한 박테리아를 주기적으로 제저하기 위해서 초순수 공급장치에는 일반적으로 박테리아 제거용 살균장치가 마련되어 있다.Manufacturing apparatus for semiconductor processes used in semiconductor production lines use ultrapure water for wafer cleaning. Such ultrapure water for semiconductor manufacturing apparatus must not only have a constant flow rate but also supply very high purity water due to the nature of the process. In particular, the ultrapure water supplied to the semiconductor device is supplied in a circulatory manner, so that after a predetermined time, three group particles such as bacteria are generated. These bacteria have the property of continuous multiplication, so once generated in the vessel supplied with pure water, there is a risk of growing and agglomerating enough to interrupt the flow of pure water, thereby cleaning or replacing the entire pipe. Thus, in order to periodically remove these bacteria, the ultrapure water supply device is generally provided with a bactericidal device for removing bacteria.
도 1은 종래의 살균 세정장치가 마련된 초순수 공급장치이다.1 is a ultrapure water supply device is provided with a conventional sterilization cleaning device.
이를 참조하면, 초순수 공급장치(110)는, 초순수가 공급되어 저장되는 초순수 저장고(111)와, 초순수 저장고(111)로부터 순차적으로 초순수 내의 불순물을 제거하는 일 과정으로서 램프의 자외선을 이용하여 살균하는 살균램프(113,115)와, 살균램프(113,115)를 거치면서 초순수 수중의 이온을 제거하는 폴리셔(117)와, 최종적으로 초순수 내의 불순물을 걸러내는 필터장치(119)를 포함하고 있다. 그리고, 초순수를 살균하기 위해서 별도로 마련되어 초순수 저장고(111)에 연결된 과수 공급장치(120)를 더 포함하며, 공장라인(1)을 통과하여 배출된 초순수를 다시 초순수저장고(111)로 회수하기 위해서 리턴밸브(140)와 리턴 배관(110a)가 마련되어 있다. 그리하여, 초순수 공급장치(110)를 이용하여 소정 시간 동안 공장라인(1) 내에 설치된 반도체 제조장치들(100)에 초순수를 공급한다. 초순수가 지나가는 배관 내를 박테리아 등에 의해서 오염될 수 있는 주기에, 과산화수소수(H2O2)를 섞은 초순수를 공급하여 배관 내의 박테리아를 제거한다. 즉, 과수저장고(123)에 과산화수소수를 공급펌프(121)를 이용하여 소정량을 초순수저장고(111)에 공급하여 혼합하면, 초순수 저장고(111) 내의 초순수는 일종의 박테리아 제거용 살균제가 되며, 이러한초순수를 배관을 통해서 공장라인(1) 내의 배관들을 통해서 리턴라인(110a)으로 순환시키면 배관 내에 발생한 박테리아들이 살균되어 배관 내부가 깨끗이 청소된다.Referring to this, the ultrapure water supply device 110 is a process of removing impurities in the ultrapure water sequentially from the ultrapure water reservoir 111 and ultrapure water reservoir 111 that are supplied and stored with ultrapure water to sterilize using ultraviolet rays of a lamp. A sterilizing lamp 113, 115, a polisher 117 for removing ions in ultrapure water through the sterilizing lamps 113, 115, and a filter device 119 for filtering out impurities in the ultrapure water. Further, the apparatus further includes a fruit water supply device 120 that is separately provided to sterilize ultrapure water and connected to the ultrapure water reservoir 111, and returns to recover the ultrapure water discharged through the factory line 1 to the ultrapure water reservoir 111 again. The valve 140 and the return pipe 110a are provided. Thus, the ultrapure water is supplied to the semiconductor manufacturing apparatuses 100 installed in the factory line 1 for a predetermined time using the ultrapure water supply device 110. In a cycle where ultrapure water may pass through the bacteria, the ultrapure water mixed with hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) is supplied to remove bacteria in the pipe. That is, when the hydrogen peroxide water is supplied to the ultra-pure water reservoir 111 by mixing the hydrogen peroxide solution into the super-water reservoir 123, the ultrapure water in the ultra-pure water reservoir 111 becomes a kind of bactericide for removing bacteria. When the ultrapure water is circulated through the pipes to the return line 110a through the pipes in the factory line 1, bacteria generated in the pipe are sterilized to clean the inside of the pipe.
그런데, 이러한 종래의 구성에 의한 박테리아 제거방법은, 먼저 초순수 블록의 전원을 차단한 상태에서 초순수가 저장되는 초순수 저장고(110)에 과수를 직접 혼합함으로써, 일단 초순수가 과산화 수소수에 오염되어 소정 횟수 순환이 끝난 후에는, 별도의 세정 공정을 거쳐서 초순수저장고를 포함하여 초순수 블록을 세정을 해야한다.By the way, in the conventional method for removing bacteria, first, by immediately mixing the fruit water in the ultrapure water reservoir 110 in which the ultrapure water is stored while the power of the ultrapure water block is cut off, the ultrapure water is contaminated with hydrogen peroxide water for a predetermined number of times. After circulation, the ultrapure water block, including the ultrapure water reservoir, must be cleaned by a separate cleaning process.
따라서, 종래의 기술은 초순수 블록 전체를 정지시킨 상태에서 살균공정을 진행하고 과산화 수소수를 초순수 블록 전체에 적용하기 때문에, 박테리아 제거를 위한 살균공정 후에, 다시 반도체 장치를 가동시킬 수 있을 때까지 상당히 많은 시간이 소요되어 박테리아 살균 공정에 따른 생산성이 크게 저하되는 단점이 있다.Therefore, since the conventional technique proceeds the sterilization process with the entire ultrapure water block stopped and applies hydrogen peroxide water to the entire ultrapure water block, after the sterilization process for removing bacteria, the semiconductor device can be operated again until it can be operated. It takes a lot of time, there is a disadvantage that the productivity greatly decreases according to the bacteria sterilization process.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 초순수 공급장치의 과수를 이용한 박테리아 살균에 있어서, 과수 살균 후에 배관 내의 과수를 신속히 제거하여 빠른 시간 내에 반도체 제조 장치들에 순수를 공급할 수 있도록 하여 생산성을 향상시킬 수 있는 초순수 공급장치를 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem to be achieved in the present invention is to sterilize bacteria using the fruit water of the ultrapure water supply device, to improve the productivity by quickly removing the fruit water in the pipe after the sterilization and supplying pure water to the semiconductor manufacturing apparatuses in a short time. It is to provide an ultrapure water supply device.
도 1은 종래의 기술에 의한 초순수 공급장치의 개략도이다.1 is a schematic diagram of an ultrapure water supply device according to the prior art.
도 2는 본 발명에 따른 초순수 공급장치를 나타낸 개략도이다.2 is a schematic view showing an ultrapure water supply device according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 초순수 공급장치의 살균시에 살균용액의 흐름을 나타낸 개략도이다.Figure 3 is a schematic diagram showing the flow of the sterilization solution at the time of sterilization of the ultrapure water supply apparatus according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 초순수 공급장치의 정상적인 공정 진행시에 순수의 흐름을 나타낸 개략도이다.Figure 4 is a schematic diagram showing the flow of pure water during the normal process of the ultrapure water supply apparatus according to the present invention.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 초순수 공급장치는, 순수한 물을 소정의 공장라인 내에 반도체 제조장치들에 순환식으로 공급하는 초순수 공급장치에 있어서, 공장라인에 설치되어 반도체 제조장치들에 초순수를 공급 및 회수할 수 있도록 구성된 초순수 저장고와, 이 초순수 저장고와 연접하여 초순수 저장고로부터 유입된 초순수 수중의 박테리아를 살균하는 살균램프조와, 이 살균램프조로부터 살균된 초순수 수중의 이온을 제거하는 폴리셔와, 이 폴리셔를 거쳐 통과된 순수 내의 미세한 먼지의 불순물을 걸러내어 공장라인 내의 반도체 장치에 공급하는 필터장치와, 폴리셔와 필터장치 사이에 개재되어 순수를 살균할 수 있도록 순수 내에 소정의 살균용액을 공급할 수 있는 살균용액 공급장치, 및 필터장치를 통과하여 공장라인을 통과하여 배출된 순수를 하나로 통합하는 배수관에 의해서 폐수처리하는 산폐수 탱크를 포함한다.In order to achieve the above technical problem, the ultrapure water supply apparatus of the present invention, in the ultrapure water supply device for circulating the pure water to the semiconductor manufacturing apparatus in a predetermined factory line, is installed in the factory line to the semiconductor manufacturing apparatus An ultrapure water reservoir configured to supply and recover ultrapure water, a sterilization lamp tank connected to the ultrapure water reservoir to sterilize bacteria in the ultrapure water from the ultrapure water reservoir, and a poly to remove ions in the ultrapure water sterilized from the sterilization lamp tank. And a filter device for filtering fine dust impurities in the pure water passed through the polisher and supplying it to a semiconductor device in the factory line, and a predetermined amount of water in the pure water so as to be sterilized between the polisher and the filter device. Factory line through the sterilization solution supply device and the filter device to supply the sterilization solution Passing the waste acid and a waste water treatment tank by integrating the discharged pure water in one pipe.
여기서, 살균용액 공급장치는, 살균용액을 저장하는 살균용액 저장고와, 살균용액 저장고 내의 살균용액을 폴리셔와 필터장치 사이를 연결하는 배관에 공급하는 공급펌프를 포함한다. 그리하여, 강제로 소정 용량의 살균용액을 배관 내로 공급하여 초순수를 살균한다. 여기서, 살균용액은 과산화수소수(H2O2)를 사용하는 것이 살균 효과와 분해속도가 우수하여 바람직하다.Here, the sterilizing solution supply apparatus includes a sterilizing solution reservoir for storing the sterilizing solution and a supply pump for supplying the sterilizing solution in the sterilizing solution reservoir to a pipe connecting the polisher and the filter device. Thus, the sterilizing solution of a predetermined capacity is forcibly supplied into the pipe to sterilize the ultrapure water. In this case, the sterilizing solution is preferably hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) because of the excellent sterilization effect and decomposition rate.
그리고, 산폐수 탱크의 유입단에는 공장라인을 통과한 초순수를 초순수 저장고로 회수하는 리턴밸브와, 산폐수 탱크 중 어느 하나로 개방되도록 선택적으로 개폐할 수 있는 로터리식 밸브가 마련되어 있는 것이, 살균공정을 진행할 때와 일반공정을 진행하기 위해서 반도체 장치에 초순수를 공급할 배관이 분리되어 있어 바람직하다.In addition, the inlet of the wastewater tank is provided with a return valve for recovering ultrapure water that has passed through the factory line to the ultrapure water reservoir, and a rotary valve that can be selectively opened and closed to open to any one of the wastewater tanks. It is preferable to separate the piping for supplying ultrapure water to the semiconductor device in order to proceed and to proceed with the general process.
이렇게 본 발명의 초순수 공급장치는, 살균용액 공급장치가 초순수 공급장치내의 폴리셔와 필터장치 사이에 개재되어 있고 공장라인을 통과한 초순수가 하나의 배수관으로 연결되어 산폐수 탱크로 배수되도록 형성되어 있다. 그리하여, 초순수 공급장치를 전원 오프(off)시키지 않은 상태에서도 살균공정이 가능하다. 살균 공정시에는 과수가 혼합된 초순수는 공장라인을 거쳐서 바로 산폐수 탱크 쪽으로 배수되기 때문에, 초순수저장고의 초순수가 과수에 오염되지 않고, 살균 공정 후에는 소정 횟수 초순수를 공장라인 내의 배관에 통과시켜 배관의 과산화 수소수를 세정하면 되므로, 재가동 주기를 현저히 감소시킬 수 있다.Thus, the ultrapure water supply device of the present invention is formed so that the sterilizing solution supply device is interposed between the polisher and the filter device in the ultrapure water supply device, and the ultrapure water passing through the factory line is connected to one drain pipe and drained to the wastewater tank. . Thus, the sterilization process is possible even when the ultrapure water supply device is not turned off. In the sterilization process, the ultrapure water mixed with the fruit water is drained directly to the acid wastewater tank through the factory line. Therefore, the ultrapure water of the ultrapure water reservoir is not contaminated with the fruit water. Since the hydrogen peroxide solution may be washed, the restart cycle can be significantly reduced.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 다음에 예시하는 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 상술하는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되어지는 것이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention; However, embodiments of the present invention illustrated below may be modified in many different forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.
도 2는 본 발명의 초순수 공급장치의 개략도이고, 도 3은 본 발명의 초순수 장치의 살균 공정시에 과수가 섞인 초순수가 통과하는 흐름도이다.Figure 2 is a schematic diagram of the ultrapure water supply device of the present invention, Figure 3 is a flow chart of the ultrapure water mixed with the fruit water during the sterilization process of the ultrapure water device of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명의 초순수 장치(10)는, 최초 공급된 초순수가 저장되는 초순수 저장고(11)와, 초순수 저장고(11)와 연접하여 초순수 저장고(11)에서 공급되는 초순수를 살균하는 살균램프조(13,15)와, 살균램프조(13,15)를 통과한 초순수 수중의 이온을 제거하는 폴리셔(17)와, 폴리셔(17)를 거쳐서 분해된 박테리아를 걸러내기 위한 필터장치(19)와, 폴리셔(17)와 필터장치(19) 사이에 개재되어 초순수 내로 살균용액을 공급하는 살균용액 공급장치(20), 및 필터 장치(19)를 통과한 초순수가 공장라인(1) 내로 유입되어 각 반도체 제조장치들(100)을 통과하여 유출된 초순수를 배출하는 배출관(55)을 통해서 폐수처리하는 산폐수 탱크(30)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the ultrapure water device 10 according to the present invention sterilizes ultrapure water supplied from the ultrapure water reservoir 11 by being connected to the ultrapure water reservoir 11 and the ultrapure water reservoir 11 where the ultrapure water initially supplied is stored. Filter for filtering bacteria decomposed through the sterilization lamp tank (13, 15), the polisher (17) for removing ions in ultrapure water passing through the sterilization lamp tank (13, 15), and the polisher (17) The plant 19, the sterilizing solution supply device 20 interposed between the polisher 17 and the filter device 19 for supplying the sterilizing solution into the ultrapure water, and the ultrapure water having passed through the filter device 19 in the factory line ( 1) includes a acid wastewater tank 30 for treating wastewater through a discharge pipe 55 that is introduced into the container and discharges ultrapure water that has passed through each of the semiconductor manufacturing apparatuses 100.
여기서, 초순수 저장고(11)는 반도체 제조장치들(100)에 초순수를 공급할 경우에는 반도체 제조장치들(100)을 통과하여 초순수 저장고(11)로 순수가 회수되도록 리턴밸브(40)와 리턴 배관(10a)을 포함한다.Here, when the ultrapure water reservoir 11 supplies ultrapure water to the semiconductor manufacturing apparatuses 100, the return valve 40 and the return pipes may be passed through the semiconductor manufacturing apparatuses 100 to recover pure water to the ultrapure water reservoir 11. 10a).
살균램프조(13,15)는 공장라인(1) 내의 반도체 제조 장치들(100)에 설치된 배관들을 순환하고 초순수 저장고(11)로 회수된 초순수를 소정의 절차를 거쳐서 살균을 하는 기능을 한다. 이때, 살균램프조(13,15)는 자외선을 이용하여 초순수 내의 박테리아를 살균하는 열교환기(13)와, 광을 이용하여 순수 내의 박테리아를 살균하는 살균램프(15)를 포함한다. 그리하여, 자외선을 이용하여 박테리아를 살균한다.The sterilization lamp tanks 13 and 15 circulate pipes installed in the semiconductor manufacturing apparatuses 100 in the factory line 1 and sterilize the ultrapure water recovered into the ultrapure water reservoir 11 through a predetermined procedure. At this time, the sterilization lamp tank (13, 15) includes a heat exchanger (13) for sterilizing bacteria in ultrapure water by using ultraviolet rays, and a sterilization lamp (15) for sterilizing bacteria in pure water using light. Thus, ultraviolet light is used to sterilize the bacteria.
폴리셔(17)는, 살균램프조(13,15)를 거쳐서 살균된 박테리아 및 파티클(particle)들을 소정의 폴리싱(Polishing)를 거쳐서 이들을 제거하는 작용을 한다. 즉, 먼저 소정의 전극을 걸어주어 초순수 중의 이온들을 제거하는 양극 폴리셔(171)와, MB(Mixed Bed) 폴리셔(173)의 두 개의 폴리셔로 구성되어 있다.The polisher 17 functions to remove bacteria and particles sterilized through the germicidal lamp tanks 13 and 15 through predetermined polishing. That is, it consists of two polishers, an anode polisher 171 that first removes ions in ultrapure water by applying a predetermined electrode, and a mixed bed polisher 173.
필터장치(19)는, 폴리셔(17)를 거쳐서 불순물이 제거된 초순수 내에 마지막까지 제거되지 않고 잔류하는 불순물 파티클을 걸러내는 초미세 필터(미도시)가 장착되어 있다. 그리하여, 물리적으로 남은 불순물을 걸러내어 고순도의 초순수를 만들어내고 이를 공장라인(1) 내의 각 반도체 제조장치들(100)에 공급하게 된다.The filter device 19 is equipped with an ultrafine filter (not shown) for filtering out impurities particles remaining in the ultrapure water from which impurities are removed through the polisher 17 to the last without being removed to the last. Thus, the remaining impurities are filtered to produce ultrapure water of high purity, which is then supplied to the semiconductor manufacturing apparatuses 100 in the factory line 1.
반도체 제조장치들(100)에 연결된 배관들은 반도체 제조장치(100) 내로 연결 공급되는 주배관(미도시)과, 반도체 제조장치(100)의 내부로 유입되지 않고 바로 배수관(55)으로 빠져나가는 바이 패스관(101)을 포함하고, 바이 패스관(101) 및 주배관의 양 단부에는 스톱밸브가 장착되어 있다. 그리하여, 필요에 따라서, 초순수 공급장치(10)로부터 유입된 초순수를 반도체 제조장치(100) 내로 통과시킬 수도 있고, 바이 패스관(101)을 바로 배수관(55)으로 배출할 수도 있다.Pipings connected to the semiconductor manufacturing apparatuses 100 are connected to the main piping (not shown) supplied and supplied into the semiconductor manufacturing apparatus 100, and bypasses immediately exiting to the drain pipe 55 without being introduced into the semiconductor manufacturing apparatus 100. The pipe 101 is provided, and a stop valve is attached to both ends of the bypass pipe 101 and the main pipe. Thus, if necessary, the ultrapure water introduced from the ultrapure water supply device 10 may be passed into the semiconductor manufacturing apparatus 100, and the bypass pipe 101 may be discharged directly to the drain pipe 55.
살균용액 공급장치(20)는, 소정량의 살균용액을 저장하는 살균용액 저장고(23)와, 살균용액을 초순수 내로 공급하는 공급펌프(21)를 포함한다. 그리하여, 폴리셔(17)와 필터장치(19) 사이에 개재된 배관과 연결되어 초순수 내로 살균용액을 강제로 소정량을 투입할 수 있다. 이때, 살균 용액은 과산화 수소수를 사용하는 것이 박테리아 제거를 위한 살균효과가 우수하고, 초순수 내에서 자발적으로 물과 산소 원자로 분해되기 때문에 별도의 세정공정 없이 사용할 수 있는 살균용액이다.The sterilizing solution supply device 20 includes a sterilizing solution reservoir 23 for storing a predetermined amount of the sterilizing solution and a supply pump 21 for supplying the sterilizing solution into ultrapure water. Thus, it is connected to the pipe interposed between the polisher 17 and the filter device 19, it is possible to force a predetermined amount of sterilization solution into the ultrapure water. At this time, the sterilizing solution is a sterilizing solution that can be used without using a separate cleaning process because the use of hydrogen peroxide is excellent sterilization effect for removing bacteria, spontaneously decomposed into water and oxygen atoms in ultrapure water.
그리고, 공장라인(1)을 통과한 초순수는 외부로 배출되기 전에 하나로 통합된 배수관(55)을 통해서 하나로 모여지고 이 배수관(55)은 단부에 로터리식 밸브(50)가 장착되어 있어, 하나는 초순수 저장고(11)로 연결된 리턴밸브(40)로 연결되고, 다른 하나는 직접 산폐수 탱크(30)로 연결되도록 산폐수용 스톱 밸브(31) 쪽으로 연결되어 있다. 그리하여, 필요에 따라서 공정라인(1)을 통과한 초순수를 초순수 저장고(11)로 회수할 수도 있고, 바로 산폐수 탱크(30)로 배출할 수도 있다.Then, the ultrapure water passing through the factory line (1) is gathered as one through the drain pipe 55 integrated into one before being discharged to the outside, the drain pipe 55 is equipped with a rotary valve 50 at the end, It is connected to the return valve 40 connected to the ultrapure water reservoir 11, and the other is connected to the stop valve 31 for the wastewater to be directly connected to the wastewater tank 30. Thus, if necessary, ultrapure water having passed through the process line 1 may be recovered to the ultrapure water reservoir 11, or may be immediately discharged to the acid wastewater tank 30.
도 3은 본 발명의 초순수 공급장치(10)가 배관 살균 공정을 진행할 때, 초순수가 흐르는 개략도를 나타낸 것이다. 살균용액 공급장치(20)를 거쳐서 과산화수소수가 섞인 순수가 생성되어 공장라인(1) 내로 유입되고, 공장라인(1)을 통과하여 배출된 순수는 바로 산폐수 탱크(30)로 배츨된다.3 is a schematic view of the ultrapure water flowing when the ultrapure water supply device 10 of the present invention proceeds to the pipe sterilization process. Pure water mixed with hydrogen peroxide water is generated through the sterilizing solution supply device 20 and introduced into the factory line 1, and the pure water discharged through the factory line 1 is directly discharged into the acid wastewater tank 30.
도 4는 본 발명의 초순수 공급장치(10)에서의 정상적인 공정이 진행될 때 초순수 흐름을 나타낸 개략도이다. 초순수 공급장치(10)로부터 공급되는 초순수는 공장라인(1)을 거쳐서 다시 초순수 공급장치(10)로 회수되어 연속적으로 순환을 반복한다.Figure 4 is a schematic diagram showing the flow of ultrapure water when the normal process in the ultrapure water supply device 10 of the present invention. The ultrapure water supplied from the ultrapure water supply device 10 is recovered to the ultrapure water supply device 10 again through the factory line 1, and the circulation is continuously repeated.
이상과 같은 구성을 가진 본 발명의 초순수 공급장치(10)는, 배관 살균 공정을 진행할 때, 초순수 공급장치의 전원을 차단하지 않은 상태에서 장치를 다운(down)시키지 않고서, 살균용액 공급장치(20)를 통해서 초순수 내에 과산화수소수를 공급한다. 그러면, 초순수와 과산화수소수가 혼합된 살균액은 필터장치(19)를 통해서 공정라인(1) 내로 유입되고 반도체 제조 장치(100)의 바이 패스관(101)을 통해서 배수관(55)으로 배출된다. 이때, 로터리식 밸브(50)는 산폐수 탱크(30) 쪽으로 개방되어 배출된 살균액은 로터리식 밸브(50)를 거쳐서 산폐수 탱크(30)로 배출된다. 이러한 과정을 초순수 내의 박테리아가 모두 제거될 때까지 소정시간 진행한 후, 살균용액 공급장치(20)의 공급펌프(21)를 오프(off)시켜 과산화수소수의 공급을 차단하고, 초순수 저장고(11)로부터 순수를 공급하여 역시, 살균액이 통과한 배관을 소정 시간 세정하면서 이 초순수를 산폐수 탱크(30)로 배출시킨다. 그런 다음, 로터리식 밸브(50)를 산폐수 탱크(30) 쪽에서 초순수 저장고(11) 쪽으로 전환하여 리턴밸브(40)를 거쳐서 초순수 저장고(11)로 회수되도록 한다. 그리고, 반도체 제조장치(100)의 주배관 밸브(미도시)를 열고 반도체 제조장치(100) 내로 초순수를 공급할 수 있도록 하여 정상적인 반도체 공정을 진행하면 된다.The ultrapure water supply device 10 according to the present invention having the above configuration has a sterilizing solution supply device 20 when the pipe sterilization process is carried out, without the device being down while the power supply of the ultrapure water supply device is not shut down. ) To supply hydrogen peroxide in ultrapure water. Then, the sterilizing liquid mixed with the ultrapure water and the hydrogen peroxide water flows into the process line 1 through the filter device 19 and is discharged into the drain pipe 55 through the bypass pipe 101 of the semiconductor manufacturing apparatus 100. At this time, the rotary valve 50 is opened toward the wastewater tank 30 and the disinfecting sterilized liquid is discharged to the wastewater tank 30 via the rotary valve 50. This process is performed for a predetermined time until all bacteria in the ultrapure water are removed, and then the supply pump 21 of the sterilizing solution supply device 20 is turned off to block the supply of hydrogen peroxide water and the ultrapure water reservoir 11 Pure water is supplied from the water, and the ultrapure water is discharged to the acid wastewater tank 30 while cleaning the pipe through which the sterilizing liquid has passed. Then, the rotary valve 50 is switched from the acid wastewater tank 30 to the ultrapure water reservoir 11 so as to be recovered to the ultrapure water reservoir 11 via the return valve 40. In addition, the main pipe valve (not shown) of the semiconductor manufacturing apparatus 100 may be opened to supply ultrapure water into the semiconductor manufacturing apparatus 100.
이와 같이, 본 발명의 초순수 공급장치(10)는, 장치의 전원을 차단하지 않고서 가동이 가능한 상태에서 살균공정을 진행할 수 있다. 이러한 살균공정 후 소정의 초순수 세척을 거쳐서 단시간 내에 바로 반도체 제조장치들(100)에 초순수를 공급할 수 있다.As described above, the ultrapure water supply device 10 of the present invention can perform a sterilization process in a state in which the operation is possible without shutting off the power supply of the device. After this sterilization process, the ultrapure water may be supplied to the semiconductor manufacturing apparatuses 100 within a short time through a predetermined ultrapure water washing.
상술한 바와 같이 본 발명의 초순수 공급장치는, 살균 공정 이후에 반도체 제조장치들의 재가동까지의 주기를 현저히 감소시킬 수 있다.As described above, the ultrapure water supply device of the present invention can significantly reduce the period until the semiconductor manufacturing apparatus is restarted after the sterilization process.
그리고, 배관 살균 공정 이 후에 장치 재가동시에 초순수 내의 잔류 과수를 염려할 필요가 없다.In addition, there is no need to worry about residual water in the ultrapure water when the apparatus is restarted after the pipe sterilization process.
Claims (4)
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| KR1020020087236A KR20040060439A (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | System for supplying ultra pure water |
Applications Claiming Priority (1)
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| KR1020020087236A KR20040060439A (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | System for supplying ultra pure water |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100860567B1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-26 | 오형인 | Apparatus prividing air to super-pure storage tank |
| KR102222675B1 (en) | 2020-10-21 | 2021-03-03 | 남상연 | Scrubber water treatment circulation pump device |
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2002
- 2002-12-30 KR KR1020020087236A patent/KR20040060439A/en not_active Application Discontinuation
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