KR20040058899A - array circuit board of Liquid Crystal Display Device and test method of thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An array substrate for an LCD(Liquid Crystal Display) and a checking method thereof are provided to possess dummy pixels formed by a plurality of TFTs(Thin Film Transistors) at an outline of the array substrate and irradiate light to the TFTs, thereby generating photo current and checking disconnection of a gate line and a data line of the array unit. CONSTITUTION: The dummy pixel(40) is comprised of the first and second TFTs(41,42). A gate line or a data line formed on an array substrate is connected to a gate electrode(G1) of the first TFT(41). The drain electrode(D1) of the first TFT(41) is connected to the drain electrode of the second TFT(42). The source electrode(S1) of the first TFT(41) is used as an output stage(43). A high voltage is applied to the gate electrode(G1) of the first TFT(41), so that the first TFT(41) is always turned on. A low voltage is applied to the gate electrode(G2) of the second TFT(42), so that the second TFT(42) is always turned off.

Description

액정표시장치의 어레이 기판 및 그 검사방법{array circuit board of Liquid Crystal Display Device and test method of thereof}Array circuit board of liquid crystal display device and test method of

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 어레이 기판의 외곽부에 다수의 박막트랜지스터로 형성된 다수의 더미 픽셀이 구비되는 액정표시장치의 어레이 기판 및 그 검사방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to an array substrate of a liquid crystal display device having a plurality of dummy pixels formed of a plurality of thin film transistors on an outer side of the array substrate, and an inspection method thereof.

일반적으로 액정표시장치의 구동원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용한다. 상기 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다.In general, the driving principle of the liquid crystal display device uses the optical anisotropy and polarization of the liquid crystal. Since the liquid crystal is thin and long in structure, the liquid crystal has directivity in the arrangement of molecules, and the direction of the molecular arrangement can be controlled by artificially applying an electric field to the liquid crystal.

이에 따라, 상기 액정의 분자배열 방향을 임의로 조절하면, 액정의 분자배열이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의하여 편광된 빛이 임의로 변조되어 화상정보를 표현할 수 있는 것이다. 이러한 상기 액정은 전기적인 특성 분류에 따라 유전율 이방성이 양(+)인 포지티브 액정과 음(-)인 네거티브 액정으로 구분될 수 있으며, 유전율 이방성이 양인 액정분자는 전기장이 인가되는 방향으로 액정분자의 장축이 평행하게 배열하고, 유전율 이방성이 음인 액정분자는 전기장이 인가되는 방향과 액정분자의 장축이 수직하게 배열한다.Accordingly, if the molecular arrangement direction of the liquid crystal is arbitrarily adjusted, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, and light polarized by optical anisotropy may be arbitrarily modulated to express image information. The liquid crystal may be classified into a positive liquid crystal having a positive dielectric anisotropy and a negative liquid crystal having a negative dielectric anisotropy according to an electrical property classification, and the liquid crystal molecules having a positive dielectric anisotropy may be formed of liquid crystal molecules in a direction in which an electric field is applied. The long axes are arranged in parallel, and the liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy are arranged in the direction in which the electric field is applied and the long axes of the liquid crystal molecules are vertical.

현재에는 박막트랜지스터와 상기 박막트랜지스터에 연결된 화소전극이 행렬방식으로 배열된 액티브 매트릭스형 액정표시장치(Active Matrix LCD)가 해상도 및 동영상 구현능력이 우수하여 일반적으로 사용되고 있다.Currently, an active matrix LCD in which a thin film transistor and pixel electrodes connected to the thin film transistor are arranged in a matrix manner is generally used because of its excellent resolution and video performance.

도 1은 종래의 액정표시장치의 어레이 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a view schematically showing an array substrate of a conventional liquid crystal display device.

도 1을 참조하면, 종래의 액정표시장치의 어레이 기판(22)은 각각의 서브픽셀(10)이 매트릭스 형태로 이루어져 화상을 표현하는 영역 즉, 어레이부인 표시영역(20)과, 상기 서브픽셀(10)이 형성되지 않은 상기 어레이 기판(22)의 외곽부인 비표시영역(21)으로 나뉘어진다.Referring to FIG. 1, an array substrate 22 of a conventional liquid crystal display device includes an area in which each subpixel 10 is formed in a matrix to represent an image, that is, a display area 20 that is an array portion, and the subpixel ( 10 is divided into a non-display area 21, which is an outer portion of the array substrate 22, on which no substrate 10 is formed.

이 때, 상기 표시영역(20)에는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스 형태로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터(T)를 교차하여 지나가는 게이트 라인(13)과 데이터 라인(15)이 형성된다.In this case, a thin film transistor T, which is a switching element, is positioned in a matrix form, and a gate line 13 and a data line 15 passing through the plurality of thin film transistors T are formed in the display area 20. .

또한, 상기 서브픽셀(10)은 상기 게이트 라인(13)과 데이터 라인(15)이 교차되는 영역에 정의되어 박막트랜지스터(T) 및 화소전극(미도시), 스토리지 캐패시터(11)로 구성되며, 상기 서브픽셀(10) 상에 형성되는 화소전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 전도성 금속을 사용한다.In addition, the subpixel 10 is defined in a region where the gate line 13 and the data line 15 cross each other and includes a thin film transistor T, a pixel electrode (not shown), and a storage capacitor 11. The pixel electrode formed on the subpixel 10 uses a transparent conductive metal having a relatively high transmittance of light, such as indium tin oxide (ITO).

도 2는 도 1에 도시된 박막트랜지스터의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of the thin film transistor illustrated in FIG. 1.

도 2를 참조하면, 상기 박막트랜지스터는 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo) 등의 금속으로 된 게이트전극(30)과 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo) 등의 금속으로 된 소스전극(32)과 드레인전극(33) 및 반도체층(34)과 불순물 반도체층(36)으로 구성되어 있다. 도 2의 설명되지 않은 도면 부호 31은 게이트절연막, 35는 보호막, 37은 화소전극을 나타낸다.Referring to FIG. 2, the thin film transistor includes a gate electrode 30 made of metal such as aluminum (Al), chromium (Cr), molybdenum (Mo), and a source made of metal such as chromium (Cr) or molybdenum (Mo). The electrode 32, the drain electrode 33, the semiconductor layer 34, and the impurity semiconductor layer 36 are formed. Unexplained reference numeral 31 in FIG. 2 denotes a gate insulating film, 35 denotes a protective film, and 37 denotes a pixel electrode.

또한, 상기 게이트전극(30)은 도 1의 게이트 라인(13)에 연결되어 있고, 상기소스전극(32)은 도 1의 데이터 라인(15)에 연결되어 있으며, 상기 드레인전극(33)은 게이트 라인(13)과 데이터 라인(15)으로 둘러싸인 영역에 형성되는 화소전극과 접촉되어 있다.In addition, the gate electrode 30 is connected to the gate line 13 of FIG. 1, the source electrode 32 is connected to the data line 15 of FIG. 1, and the drain electrode 33 is a gate. The pixel electrode is in contact with the pixel electrode formed in the area surrounded by the line 13 and the data line 15.

이와 같은 구조를 가지는 박막트랜지스터는 게이트 라인(13)을 통해 게이트 전압이 게이트전극(30)에 인가되면, 상기 데이터 라인(15)에 흐르는 신호전압이 소스전극(32)에서 드레인전극(33)으로 오믹접촉층(36) 및 반도체층(34)을 통해 인가되도록 동작한다.In the thin film transistor having such a structure, when a gate voltage is applied to the gate electrode 30 through the gate line 13, a signal voltage flowing through the data line 15 is transferred from the source electrode 32 to the drain electrode 33. It operates to be applied through the ohmic contact layer 36 and the semiconductor layer 34.

상기 소스전극(32)에 신호전압이 인가되면, 드레인전극(32)과 연결된 화소전극에 전압이 인가됨으로써, 상기 화소전극과 공통전극 사이에 전압차가 발생한다. 이러한 상기 화소전극과 공통전극의 전압 차이로 인해 그 사에에 개재되어 있는 액정의 분자배열이 변화되는데, 그 액정의 분자배열이 변화되므로 인하여 화소의 광투과량이 변하게 되어 신호전압이 인가된 화소와 인가되지 않은 화소의 색상 차이가 발생하며, 이러한 색상차이를 이용하여 표시장치의 화면을 컨트롤하게 된다.When a signal voltage is applied to the source electrode 32, a voltage is applied to the pixel electrode connected to the drain electrode 32, thereby generating a voltage difference between the pixel electrode and the common electrode. Due to the voltage difference between the pixel electrode and the common electrode, the molecular arrangement of the liquid crystal interposed therebetween is changed. As the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, the light transmittance of the pixel is changed so that the pixel with the signal voltage is applied. Color difference of unapplied pixels occurs, and the screen of the display device is controlled by using the color difference.

또한, 상기 표시영역에 배치된 각각의 게이트 라인(13) 및 데이터 라인(15)과 각각 연결되어 접속된 게이트 패드(14)들 및 데이터 패드(16)들은 상기 비표시영역(21)에 배치되어 있으며, 이는 앞서 설명한 상기 게이트 라인(13) 및 데이터 라인(15)에 게이트전압 및 신호전압을 공급하는 역할을 한다.In addition, the gate pads 14 and the data pads 16 connected to each of the gate lines 13 and the data lines 15 disposed in the display area may be disposed in the non-display area 21. This serves to supply a gate voltage and a signal voltage to the gate line 13 and the data line 15 described above.

상기와 같은 어레이 기판(22)이 형성되면, 컬러필터 기판과의 합착, 액정 주입 등의 공정을 거쳐 액정표시장치를 완성하게 되는데, 상기 공정에 앞서 상기 어레이 기판(22) 상에 형성된 게이트 라인(13) 및 데이터 라인(15)의 불량 여부를 확인하는 검사가 선행된다.When the array substrate 22 is formed as described above, the liquid crystal display device is completed through a process such as bonding with the color filter substrate and injecting the liquid crystal. The gate line formed on the array substrate 22 prior to the process may be used. 13) and a check for confirming whether or not the data line 15 is defective is preceded.

종래의 경우 상기 라인 불량을 검사하기 위해 상기 각각의 게이트 패드(14) 및 데이터 패드(15)에 어레이 테스트 장비의 게이트 핀 및 데이터 핀을 각각 연결하고, 상기 어레이 테스트 장비는 각 게이트 핀 및 데이터 핀에 각각 AC 전압을 인가하여 각 라인에 연결된 각 화소의 전하의 양에 따라 라인 단선(open) 결함을 판단하였다.In the conventional case, the gate pin and the data pin of the array test equipment are respectively connected to the respective gate pad 14 and the data pad 15 to check the line failure, and the array test equipment is connected to each gate pin and the data pin. An AC voltage was applied to each line to determine line open defects according to the amount of charge of each pixel connected to each line.

그러나, 이러한 종래의 라인 오픈 검사 방식은 상기 각 화소의 전하의 양이 상대적으로 아주 작기 때문에 검사를 위한 측정 시간이 길어지고, 또한 노이즈(noise)에 대해 취약하다는 단점이 있다.However, this conventional line open inspection method has a disadvantage in that the measurement time for inspection is long because the amount of charge of each pixel is relatively small, and is also vulnerable to noise.

본 발명은 어레이 기판의 외곽부에 다수의 박막트랜지스터로 형성된 더미 픽셀들을 구비하고, 상기 박막트랜지스터에 광을 조사하여 광전류(photo current)를 발생시킴으로써 어레이부의 게이트 라인 및 데이터 라인의 단선 여부를 검사하는 액정표시장치의 어레이 기판 및 그 검사방법을 제공함에 그 목적이 있다.According to an embodiment of the present invention, dummy pixels formed of a plurality of thin film transistors are formed at an outer portion of an array substrate, and the gate lines and data lines of the array unit are inspected for disconnection by irradiating light to the thin film transistors to generate a photo current. It is an object of the present invention to provide an array substrate of a liquid crystal display and an inspection method thereof.

도 1은 종래의 액정표시장치의 어레이 기판을 개략적으로 나타내는 도면.1 is a view schematically showing an array substrate of a conventional liquid crystal display device.

도 2는 도 1에 도시된 박막트랜지스터의 단면도.2 is a cross-sectional view of the thin film transistor shown in FIG.

도 3은 본 발명에 의한 액정표시장치의 어레이 기판을 개략적으로 나타내는 도면.3 is a schematic view of an array substrate of a liquid crystal display device according to the present invention;

도 4는 도 3에 도시된 본 발명의 일 실시예에 의한 더미픽셀의 구조를 나타내는 도면.4 is a diagram illustrating a structure of a dummy pixel according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 3.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 더미픽셀의 구조를 나타내는 도면.5 is a diagram illustrating a structure of a dummy pixel according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 더미픽셀의 구조를 나타내는 도면.6 is a diagram illustrating a structure of a dummy pixel according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10 : 서브픽셀 13 : 게이트 라인10: subpixel 13: gate line

14 : 게이트 패드 15 : 데이터 라인14 gate pad 15 data line

16 : 데이터 패드 20 : 표시영역16: data pad 20: display area

21 : 비표시영역 22, 22' : 어레이 기판21: non-display area 22, 22 ': array substrate

30, 40, 50, 60 : 더미픽셀 41, 51, 61 : 제 1박막트랜지스터30, 40, 50, 60: dummy pixels 41, 51, 61: first thin film transistor

42, 52, 62 : 제 2박막트랜지스터 43, 54, 65 : 출력단42, 52, 62: second thin film transistor 43, 54, 65: output terminal

53, 63 : 제 3박막트랜지스터 64 : 캐패시터53, 63: 3rd thin film transistor 64: capacitor

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 액정표시장치의 어레이 기판은, 다수의 서브픽셀이 매트릭스 형태로 구성되며 상기 서브픽셀을 통해 빛이 선택적으로 투과되는 표시영역과, 상기 표시영역의 외곽부에 형성되어 빛이 불투과되는 비표시영역으로 나뉘어지는 액정표시장치의 어레이 기판에 있어서, 상기 비표시영역에 다수의 박막트랜지스터로 구성된 더미픽셀이 다수 형성됨을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an array substrate of a liquid crystal display according to the present invention includes a display area in which a plurality of subpixels are configured in a matrix form and light is selectively transmitted through the subpixels, and an outer portion of the display area. The array substrate of the liquid crystal display device, which is formed and divided into a non-display area through which light is transmitted, is characterized in that a plurality of dummy pixels including a plurality of thin film transistors are formed in the non-display area.

여기서, 상기 서브픽셀들은 상기 어레이 기판 상에 형성된 다수의 게이트 라인 및 데이터 라인에 의해 둘러싸여 정의되며, 상기 더미픽셀들은 상기 비표시영역 중 게이트 라인 및/ 또는 데이터 라인에 신호를 공급하는 패드부가 형성된 영역의 반대 영역에 형성되고, 상기 더미픽셀들은 상기 표시영역 내의 서브픽셀들과 동일한 게이트 라인에 의해 연결되거나, 또는 동일한 데이터 라인에 의해 연결된다.Here, the subpixels are defined by being surrounded by a plurality of gate lines and data lines formed on the array substrate, and the dummy pixels are areas in which a pad portion for supplying a signal to a gate line and / or a data line of the non-display area is formed. And the dummy pixels are connected by the same gate line as the subpixels in the display area or by the same data line.

또한, 상기 더미픽셀은 제 1 및 제 2박막트랜지스터로 구성되며, 상기 어레이 기판 상에 형성된 게이트 라인 또는 데이터 라인이 상기 제 1박막트랜지스터의 게이트전극으로 연결되고, 상기 제 1박막트랜지스터의 드레인전극이 상기 제 2박막트랜지스터의 드레인전극으로 연결되며, 상기 제 1박막트랜지스터의 소스전극을 출력단으로 함을 특징으로 한다.The dummy pixel includes first and second thin film transistors, a gate line or a data line formed on the array substrate is connected to a gate electrode of the first thin film transistor, and a drain electrode of the first thin film transistor is connected to the dummy pixel. It is connected to the drain electrode of the second thin film transistor, characterized in that the source electrode of the first thin film transistor as an output terminal.

또한, 상기 제 1박막트랜지스터와 제 2박막트랜지스터 사이에 제 3박막트랜지스터가 더 구비되며, 이 때 상기 제 1박막트랜지스터의 드레인전극과 제 3박막트랜지스터의 드레인전극이 연결되고, 상기 제 2박막트랜지스터의 드레인전극과 제 3박막트랜지스터의 게이트전극이 연결되고, 상기 제 3박막트랜지스터의 소스전극이 제 2 박막트랜지스터의 소스전극과 연결됨을 특징으로 한다.In addition, a third thin film transistor is further provided between the first thin film transistor and the second thin film transistor, wherein the drain electrode of the first thin film transistor and the drain electrode of the third thin film transistor are connected, and the second thin film transistor is connected. The drain electrode and the gate electrode of the third thin film transistor are connected, and the source electrode of the third thin film transistor is connected to the source electrode of the second thin film transistor.

또한, 상기 제 2박막트랜지스터의 드레인전극과 제 3박막트랜지스터의 게이트전극 사이에 캐패시터가 삽입됨을 특징으로 한다.In addition, a capacitor is inserted between the drain electrode of the second thin film transistor and the gate electrode of the third thin film transistor.

또한, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 액정표시장치의 어레이 기판 검사방법은, 상기 설명한 본 발명에 의한 액정표시장치용 어레이 기판에 있어 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 2박막트랜지스터에 빛을 비추는 단계와, 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 1박막트랜지스터의 소스전극으로 출력되는 신호를 측정하는 단계가 포함되는 것을 특징으로 한다.In addition, the array substrate inspection method of the liquid crystal display device according to the present invention in order to achieve the above object, in the array substrate for a liquid crystal display device according to the present invention described above to light the second thin film transistor provided in the dummy pixel. And measuring a signal output to the source electrode of the first thin film transistor provided in the dummy pixel.

여기서, 상기 단계를 상기 어레이 기판에 형성된 모든 더미픽셀에 대해 순차적으로 실시하며, 상기 제 1박막트랜지스터의 소스전극으로 출력되는 신호는 상기 제 2박막트랜지스터에 빛을 비추어 발생되는 광전류 또는 소정의 양의 직류 전압에 의한 신호임을 특징으로 한다.Herein, the step is sequentially performed on all dummy pixels formed on the array substrate, and the signal output to the source electrode of the first thin film transistor is a photocurrent generated by shining light on the second thin film transistor or a predetermined amount. Characterized in that the signal by the DC voltage.

또한, 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 1박막트랜지스터의 게이트전극에는 상기 제 1박막트랜지스터가 항상 온 되도록 고전압을 인가하고, 상기 제 2박막트랜지스터의 게이트 전극에는 상기 제 2박막트랜지스터가 항상 오프되도록 저전압을 인가하는 것을 특징으로 한다.In addition, a high voltage is applied to the gate electrode of the first thin film transistor provided in the dummy pixel so that the first thin film transistor is always on, and a low voltage is applied to the gate electrode of the second thin film transistor so that the second thin film transistor is always turned off. It is characterized by applying.

이와 같은 본 발명에 의하면, 광을 이용해 라인의 단선 유무를 검사하여 기판과 직접 접촉하지 않으므로 불량 발생의 우려를 감소시키며, 라인의 단선 유무를 쉽고 효율적으로 검사할 수 있는 장점이 있다.According to the present invention, since there is no direct contact with the substrate by inspecting the disconnection of the line using light, there is an advantage of reducing the risk of defects, and can easily and efficiently inspect the disconnection of the line.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 실시예를 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 의한 액정표시장치의 어레이 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.3 is a view schematically showing an array substrate of a liquid crystal display according to the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명에 의한 액정표시장치의 어레이 기판(22')은 다수의 서브픽셀(10)이 매트릭스 형태로 구성되고 상기 서브픽셀(10)을 통해 빛이 선택적으로 투과되는 표시영역(20)과, 상기 표시영역(20)의 외곽부에 형성되어 빛이 불투과되는 비표시영역(21)으로 나뉘어지며, 특히 상기 비표시영역(21)에 다수의 박막트랜지스터로 구성된 더미픽셀(30)이 다수 형성됨을 특징으로 한다.Referring to FIG. 3, the array substrate 22 ′ of the liquid crystal display according to the present invention has a display area in which a plurality of sub pixels 10 are configured in a matrix and light is selectively transmitted through the sub pixels 10. 20 and a non-display area 21 formed at an outer portion of the display area 20 to which light is impermeable, and particularly, a dummy pixel composed of a plurality of thin film transistors in the non-display area 21. 30) is characterized in that a large number is formed.

이 때, 상기 표시영역(20)에는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스 형태로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터를 교차하여 지나가는 게이트 라인(13)과 데이터 라인(15)이 형성된다.In this case, the thin film transistor T, which is a switching element, is positioned in a matrix form, and the gate line 13 and the data line 15 passing through the plurality of thin film transistors are formed in the display area 20.

또한, 상기 서브픽셀(10)은 상기 게이트 라인(13)과 데이터 라인(15)이 교차되는 영역에 정의되어 박막트랜지스터(T) 및 화소전극(미도시), 스토리지 캐패시터(11)로 구성되며, 상기 서브픽셀(10) 상에 형성되는 화소전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 전도성 금속을 사용한다.In addition, the subpixel 10 is defined in a region where the gate line 13 and the data line 15 cross each other and includes a thin film transistor T, a pixel electrode (not shown), and a storage capacitor 11. The pixel electrode formed on the subpixel 10 uses a transparent conductive metal having a relatively high transmittance of light, such as indium tin oxide (ITO).

또한, 상기 표시영역(20)에 배치된 게이트 라인(13)들 및 데이터 라인(15)들과 각각 연결되는 게이트 패드(14)들 및 데이터 패드(16)들은 상기 비표시영역(21) 중 일부에 배치되어 있으며, 이는 상기 게이트 라인(13) 및 데이터 라인(15)에 게이트전압 및 신호전압을 공급하는 역할을 한다.In addition, the gate pads 14 and the data pads 16 connected to the gate lines 13 and the data lines 15 disposed in the display area 20 may be partially disposed in the non-display area 21. And a gate voltage and a signal voltage to the gate line 13 and the data line 15.

또한, 상기 더미픽셀(30)들은 상기 비표시영역(21) 중 상기 게이트 라인(13) 및/ 또는 데이터 라인(15)에 신호를 공급하는 패드(14, 16)가 형성된 영역의 반대 영역에 형성되고, 상기 더미픽셀(30)들은 상기 표시영역(20) 내의 서브픽셀(10)들과 동일한 게이트 라인(13)에 의해 연결되거나, 또는 동일한 데이터 라인(15)에 의해 연결된다.In addition, the dummy pixels 30 may be formed in the non-display area 21 opposite to areas in which pads 14 and 16 are formed to supply signals to the gate line 13 and / or the data line 15. The dummy pixels 30 are connected by the same gate line 13 to the subpixels 10 in the display area 20 or by the same data line 15.

상기와 같이 본 발명에 의한 어레이 기판(22')에 있어서 다수의 더미픽셀(30)을 형성하는 것은 이를 통해 상기 어레이 기판(22')의 게이트/ 데이터라인(13, 15)의 단선여부를 쉽고 효율적으로 검사할 수 있기 때문이며, 이하 상기 더미픽셀(30)의 구조 및 동작에 대한 설명을 통해 이를 설명하도록 한다.As described above, forming a plurality of dummy pixels 30 in the array substrate 22 'according to the present invention makes it easy to disconnect the gate / data lines 13 and 15 of the array substrate 22'. This is because the inspection can be performed efficiently. Hereinafter, the structure and operation of the dummy pixel 30 will be described.

도 4는 도 3에 도시된 본 발명의 일 실시예에 의한 더미픽셀의 구조를 나타내는 도면이다.4 is a diagram illustrating a structure of a dummy pixel according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 3.

도 4를 참조하여 상기 더미픽셀의 구조 및 동작에 대해 설명하면, 상기 더미픽셀(40)은 제 1 및 제 2박막트랜지스터(41, 42)로 구성되며, 도 3에서의 상기 어레이 기판(22') 상에 형성된 게이트 라인(13) 또는 데이터 라인(15)이 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 게이트전극(G1)으로 연결되고, 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 드레인전극(D1)이 상기 제 2박막트랜지스터(42)의 드레인전극(D2)으로 연결되며, 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 소스전극(S1)을 출력단(43)으로 함을 특징으로 한다.Referring to FIG. 4, the structure and operation of the dummy pixel will be described. The dummy pixel 40 includes first and second thin film transistors 41 and 42, and the array substrate 22 ′ in FIG. ), The gate line 13 or the data line 15 is connected to the gate electrode G1 of the first thin film transistor 41, and the drain electrode D1 of the first thin film transistor 41 is connected to the gate line G1. It is connected to the drain electrode D2 of the second thin film transistor 42, and the source electrode S1 of the first thin film transistor 41 is characterized in that the output terminal 43.

여기서, 상기 더미픽셀(40) 내에 구비된 제 1박막트랜지스터(41)의 게이트전극(G1)에는 상기 제 1박막트랜지스터(41)가 항상 온(on) 되도록 고전압을 인가하고, 상기 제 2박막트랜지스터(42)의 게이트전극(G2)에는 상기 제 2박막트랜지스터(42)가 항상 오프(off) 되도록 저전압을 인가한다.Here, a high voltage is applied to the gate electrode G1 of the first thin film transistor 41 provided in the dummy pixel 40 so that the first thin film transistor 41 is always on, and the second thin film transistor is used. A low voltage is applied to the gate electrode G2 of 42 so that the second thin film transistor 42 is always turned off.

즉, 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 게이트 전극(G1)과 연결된 상기 게이트 라인(도 3의 13) 또는 데이터 라인(도 3의 15)에 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 게이트전극(G1)의 게이트 하이전압(Vgh) 이상에 해당하는 양(+)의 DC 전압을 인가하고, 상기 제 2박막트랜지스터(42)의 게이트 전극(G2)에는 상기 게이트전극(42)의 게이트 로우전압(Vgl) 이하에 해당하는 음(-)의 DC 전압을 인가한다. 또한, 상기제 2박막트랜지스터(42)의 소스전극(S2)에는 소정의 양(+)의 DC 전압(Vds)을 인가한다.That is, the gate electrode G1 of the first thin film transistor 41 is connected to the gate line G13 connected to the gate electrode G1 of the first thin film transistor 41 or the data line 15 of FIG. 3. A positive DC voltage equal to or greater than the gate high voltage Vgh is applied, and a gate low voltage Vgl of the gate electrode 42 is applied to the gate electrode G2 of the second thin film transistor 42. Apply a negative DC voltage equal to or less than In addition, a predetermined positive DC voltage Vds is applied to the source electrode S2 of the second thin film transistor 42.

이와 같이 전압을 인가한 경우 상기 제 1박막트랜지스터(41)는 상기 게이트 라인(13) 또는 데이터 라인(15)의 단선되어 전압이 끊기지 않는 한 항상 온(on)인 상태를 유지하게 되고, 상기 제 2박막트랜지스터(42)는 항상 오프(off) 상태를 유지하게 된다.When the voltage is applied in this way, the first thin film transistor 41 is always kept on unless the gate line 13 or the data line 15 is disconnected and the voltage is cut off. The two thin film transistors 42 are always in an off state.

이 때 상기 제 2박막트랜지스터(42) 영역에 빛을 비추게 되면 상기 제 2박막트랜지스터(42) 내의 반도체층 예컨데 비결정 실리콘 물질에서 빛 흡수(light absorption)현상이 나타나고 결국 이로 인한 광전류(photo current)가 발생된다.In this case, when light is emitted to the second thin film transistor 42, light absorption occurs in a semiconductor layer, for example, an amorphous silicon material, in the second thin film transistor 42, resulting in a photo current. Is generated.

이에 따라 상기 제 2박막트랜지스터(42)는 비록 오프(off)상태에 있음에도 불구하고 제 2박막트랜지스터(42)의 드레인 전극(D2)으로 상기 광전류가 흐르게 되고 이는 결국 제 1박막트랜지스터(41)의 출력단(43)인 소스전극(S1)으로 출력되는 것이다.Accordingly, although the second thin film transistor 42 is in an off state, the photocurrent flows to the drain electrode D2 of the second thin film transistor 42, which eventually causes the first thin film transistor 41 to flow. The output terminal 43 is output to the source electrode S1.

즉, 상기 제 2박막트랜지스터(42)의 드레인 전극(D2)은 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 드레인 전극(D1)과 연결되어 있어 상기 광전류는 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 드레인전극(D1)으로 유입되며, 또한, 상기 제 1박막트랜지스터(41)는 항상 온(on) 상태에 있으므로 결국 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 드레인 전극(D1)으로 유입된 광전류는 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 소스전극(S1)으로 출력된다.That is, the drain electrode D2 of the second thin film transistor 42 is connected to the drain electrode D1 of the first thin film transistor 41, so that the photocurrent is a drain electrode of the first thin film transistor 41. D1), and since the first thin film transistor 41 is always in an on state, the photocurrent flowing into the drain electrode D1 of the first thin film transistor 41 eventually reaches the first thin film transistor. It is output to the source electrode S1 of 41.

따라서, 상기 게이트 라인(13) 또는 데이터 라인(15)이 단선되지 않은 경우에는 상기 제 2박막트랜지스터(42)에 빛을 비추면 반드시 광전류가 상기 제 1박막트랜지스터(41)의 소스전극(S1)으로부터 검출되어야 한다.Therefore, when the gate line 13 or the data line 15 is not disconnected, light is emitted to the second thin film transistor 42 so that a photo current is necessarily a source electrode S1 of the first thin film transistor 41. Should be detected from

이에 따라 상기 더미픽셀(40)을 통해 각 게이트 라인(13) 또는 데이터 라인(15)의 단선여부를 쉽고, 효율적으로 검사할 수 있는 것이다.Accordingly, whether the gate line 13 or the data line 15 is disconnected through the dummy pixel 40 can be easily and efficiently inspected.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 더미픽셀의 구조를 나타내는 도면이다.5 is a diagram illustrating a structure of a dummy pixel according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 이는 도 4에 도시된 더미픽셀(40)의 구조 즉, 제 1박막트랜지스터 및 제 2트랜지스터에 대해서, 상기 제 1박막트랜지스터와 제 2박막트랜지스터 사이에 제 3박막트랜지스터가 더 구비됨을 그 특징으로 한다.Referring to FIG. 5, the third thin film transistor is further disposed between the first thin film transistor and the second thin film transistor with respect to the structure of the dummy pixel 40 illustrated in FIG. 4, that is, the first thin film transistor and the second transistor. It is characterized by the provision.

이 때 상기 제 1박막트랜지스터(51)의 드레인전극(D1)과 제 3박막트랜지스터(53)의 드레인전극(D3)이 연결되고, 상기 제 2박막트랜지스터(52)의 드레인전극(D2)과 제 3박막트랜지스터(53)의 게이트전극(G3)이 연결되고, 상기 제 3박막트랜지스터(53)의 소스전극(S3)이 제 2 박막트랜지스터(52)의 소스전극(S2)과 연결된다.At this time, the drain electrode D1 of the first thin film transistor 51 and the drain electrode D3 of the third thin film transistor 53 are connected, and the drain electrode D2 of the second thin film transistor 52 and the The gate electrode G3 of the three thin film transistor 53 is connected, and the source electrode S3 of the third thin film transistor 53 is connected to the source electrode S2 of the second thin film transistor 52.

이와 같이 제 3박막트랜지스터(53)를 추가적으로 구비하는 것은 상기 광전류의 세기가 미약하여 이를 출력신호로 할 경우 측정시 검출능력이 저하되는 것을 극복하기 위함이다.The third thin film transistor 53 is additionally provided in order to overcome the deterioration in the detection capability when measuring the light current because the intensity of the photocurrent is weak.

즉, 이와 같은 구조의 경우 상기 제 2박막트랜지스터(52)에 빛을 비추면 이에 의한 광전류가 발생되어 제 2박막트랜지스터(52)의 드레인 전극(D2)으로 유입되며, 상기 드레인 전극(D2)은 상기 제 3박막트랜지스터(53)의 게이트전극(G3)과 연결되어 있으므로 상기 제 3박막트랜지스터(53)는 상기 광전류에 의해 온(on)이 된다.That is, in such a structure, when light is emitted to the second thin film transistor 52, a photocurrent is generated and flows into the drain electrode D2 of the second thin film transistor 52, and the drain electrode D2 is Since the third thin film transistor 53 is connected to the gate electrode G3 of the third thin film transistor 53, the third thin film transistor 53 is turned on by the photocurrent.

따라서, 상기 제 2박막트랜지스터(52)의 소스전극(S2) 및 제 3박막트랜지스터(53)의 소스전극(S3)에 동일하게 입력되는 소정의 양(+)의 DC 전압(Vds)이 상기 제 3박막트랜지스터(53)의 온(on)에 의해 상기 제 3박막트랜지스터(53)의 드레인 전극(D3)으로 유입되고, 이는 상기 제 1박막트랜지스터(51)의 드레인 전극(D1)으로 유입되어 결국 출력단(54)인 제 1박막트랜지스터(51)의 소스전극(S1)으로 출력된다.Accordingly, a predetermined positive DC voltage Vds input to the source electrode S2 of the second thin film transistor 52 and the source electrode S3 of the third thin film transistor 53 is equal to the first electrode. The ON of the 3 thin film transistor 53 flows into the drain electrode D3 of the third thin film transistor 53, which flows into the drain electrode D1 of the first thin film transistor 51 and eventually enters the drain electrode D1. The output terminal 54 is output to the source electrode S1 of the first thin film transistor 51.

즉, 상기 제 3박막트랜지스터(53)의 드레인 전극(D3)은 상기 제 1박막트랜지스터(51)의 드레인 전극(D1)과 연결되어 있어 상기 소정의 양(+)의 DC 전압(Vds)는 상기 제 1박막트랜지스터(51)의 드레인전극(D1)으로 유입되며, 또한, 상기 제 1박막트랜지스터(51)는 항상 온(on) 상태에 있으므로 결국 상기 제 1박막트랜지스터(51)의 드레인 전극(D1)으로 유입된 소정의 양(+)의 전압(Vds)는 상기 제 1박막트랜지스터(51)의 소스전극(S1)으로 출력된다.That is, the drain electrode D3 of the third thin film transistor 53 is connected to the drain electrode D1 of the first thin film transistor 51 so that the predetermined positive DC voltage Vds is The first thin film transistor 51 flows into the drain electrode D1 of the first thin film transistor 51, and the first thin film transistor 51 is always in an on state, thereby eventually draining the drain electrode D1 of the first thin film transistor 51. The voltage Vds of the positive amount introduced into the () is output to the source electrode S1 of the first thin film transistor 51.

따라서, 상기 게이트 라인(13) 또는 데이터 라인(15)이 단선되지 않은 경우에는 상기 제 2박막트랜지스터(52)에 빛을 비추면 반드시 Vds가 상기 제 1박막트랜지스터(51)의 소스전극(S1)으로부터 검출되어야 한다.Therefore, when the gate line 13 or the data line 15 is not disconnected, when the light is emitted to the second thin film transistor 52, the Vds must be the source electrode S1 of the first thin film transistor 51. Should be detected from

이에 따라 상기 더미픽셀(50)을 통해 각 게이트 라인(13) 또는 데이터 라인(15)의 단선여부를 쉽고, 효율적으로 검사할 수 있는 것이다.Accordingly, disconnection of each gate line 13 or data line 15 can be easily and efficiently checked through the dummy pixel 50.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 더미픽셀의 구조를 나타내는 도면이다.6 is a diagram illustrating a structure of a dummy pixel according to another embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 이는 도 5에 도시된 더미픽셀의 구조 즉, 제 1박막트랜지스터(61), 제 2트랜지스터(62) 및 제 3박막트랜지스터(63)가 구비된 구조에서 상기 제 2박막트랜지스터(62)의 드레인전극(D2)과 제 3박막트랜지스터(63)의 게이트전극(G3) 사이에 캐패시터(64)가 삽입됨을 특징으로 한다.Referring to FIG. 6, this is the second thin film transistor in the structure of the dummy pixel illustrated in FIG. 5, that is, the first thin film transistor 61, the second transistor 62, and the third thin film transistor 63 are provided. A capacitor 64 is inserted between the drain electrode D2 of 62 and the gate electrode G3 of the third thin film transistor 63.

이는 상기 제 3박막트랜지스터(63)의 게이트(G3)가 온(on) 상태가 될 때까지 전압축적(voltage accumulation)을 할 수 있도록 하며, 이를 통해 더욱 안정적으로 작동할 수 있게 된다.This enables voltage accumulation until the gate G3 of the third thin film transistor 63 is turned on, thereby enabling a more stable operation.

도 6에 도시된 더미픽셀(60)의 동작은 도 5에 도시된 더미픽셀(50)의 동작과 동일하므로 그 설명은 생략하기로 한다.Since the operation of the dummy pixel 60 illustrated in FIG. 6 is the same as that of the dummy pixel 50 illustrated in FIG. 5, a description thereof will be omitted.

도 3 내지 도 6을 참조하면, 본 발명에 의한 액정표시장치의 어레이기판(22 )은 상기 더미픽셀(30, 40, 50, 60)에 빛을 비춤으로써 상기 더미픽셀(30, 40, 50, 60)에 연결된 게이트 라인(13) 또는 데이터 라인(15)의 단선 여부를 검사할 수 있다.3 to 6, the array substrate 22 of the liquid crystal display according to the present invention illuminates the dummy pixels 30, 40, 50, and 60, thereby illuminating the dummy pixels 30, 40, 50, and the like. The disconnection of the gate line 13 or the data line 15 connected to 60 may be checked.

즉, 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 2박막트랜지스터에 빛을 비추고, 그 다음 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 1박막트랜지스터의 소스전극으로 출력되는 신호를 측정하는 것을 상기 어레이 기판에 형성된 모든 더미픽셀에 대해 순차적으로 실시함으로써 상기 어레이 기판의 게이트 라인 및 데이터 라인의 단선 여부를 효율적으로 검사할 수 있는 것이다.That is, for all dummy pixels formed on the array substrate, light is emitted to the second thin film transistor provided in the dummy pixel, and then the signal output to the source electrode of the first thin film transistor provided in the dummy pixel is measured. By sequentially performing, the gate line and the data line of the array substrate can be inspected efficiently.

이상의 설명에서와 같이 본 발명에 의한 액정표시장치의 어레이 기판 및 그 검사방법에 의하면, 광을 이용해 라인의 단선 유무를 검사하여 기판과 직접 접촉하지 않으므로 불량 발생의 우려를 감소시키며, 라인의 단선 유무를 쉽고 효율적으로 검사할 수 있는 장점이 있다.As described above, according to the array substrate and the inspection method of the liquid crystal display device according to the present invention, since there is no direct contact with the substrate by inspecting the disconnection of lines using light, the possibility of defects is reduced, and the presence of disconnection of the lines is reduced. There is an advantage that can be inspected easily and efficiently.

Claims (10)

다수의 서브픽셀이 매트릭스 형태로 구성되며 상기 서브픽셀을 통해 빛이 선택적으로 투과되는 표시영역과, 상기 표시영역의 외곽부에 형성되어 빛이 불투과되는 비표시영역으로 나뉘어지는 액정표시장치의 어레이 기판에 있어서,An array of liquid crystal display devices comprising a plurality of subpixels formed in a matrix and divided into a display area in which light is selectively transmitted through the subpixels, and a non-display area formed in an outer portion of the display area to transmit light. In the substrate, 상기 비표시영역에 다수의 박막트랜지스터로 구성된 더미픽셀이 다수 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 어레이 기판.And a plurality of dummy pixels including a plurality of thin film transistors are formed in the non-display area. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 서브픽셀들은 상기 어레이 기판 상에 형성된 다수의 게이트 라인 및 데이터 라인에 의해 둘러싸여 정의되며, 상기 더미픽셀들은 상기 비표시영역 중 게이트 라인 및/ 또는 데이터 라인에 신호를 공급하는 패드부가 형성된 영역의 반대 영역에 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치의 어레이 기판.The subpixels are defined by a plurality of gate lines and data lines formed on the array substrate, and the dummy pixels are opposite to a region where a pad portion for supplying a signal to a gate line and / or a data line of the non-display area is formed. An array substrate of a liquid crystal display device, characterized in that formed in the region. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 더미픽셀들은 상기 표시영역 내의 서브픽셀들과 동일한 게이트 라인에 의해 연결되거나, 또는 동일한 데이터 라인에 의해 연결됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이 기판.And the dummy pixels are connected by the same gate line as the subpixels in the display area or by the same data line. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 더미픽셀은 제 1 및 제 2박막트랜지스터로 구성되며, 상기 어레이 기판 상에 형성된 게이트 라인 또는 데이터 라인이 상기 제 1박막트랜지스터의 게이트전극으로 연결되고, 상기 제 1박막트랜지스터의 드레인전극이 상기 제 2박막트랜지스터의 드레인전극으로 연결되며, 상기 제 1박막트랜지스터의 소스전극을 출력단으로 함을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이 기판.The dummy pixel includes first and second thin film transistors, a gate line or a data line formed on the array substrate is connected to a gate electrode of the first thin film transistor, and the drain electrode of the first thin film transistor is connected to the first thin film transistor. And a source electrode of the first thin film transistor, the output electrode being connected to the drain electrode of the two thin film transistor. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제 1박막트랜지스터와 제 2박막트랜지스터 사이에 제 3박막트랜지스터가 더 구비되며, 이 때 상기 제 1박막트랜지스터의 드레인전극과 제 3박막트랜지스터의 드레인전극이 연결되고, 상기 제 2박막트랜지스터의 드레인전극과 제 3박막트랜지스터의 게이트전극이 연결되고, 상기 제 3박막트랜지스터의 소스전극이 제 2 박막트랜지스터의 소스전극과 연결됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이 기판.A third thin film transistor is further provided between the first thin film transistor and the second thin film transistor, wherein the drain electrode of the first thin film transistor and the drain electrode of the third thin film transistor are connected, and the drain of the second thin film transistor is connected. And an electrode and a gate electrode of the third thin film transistor are connected, and a source electrode of the third thin film transistor is connected to a source electrode of the second thin film transistor. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제 2박막트랜지스터의 드레인전극과 제 3박막트랜지스터의 게이트전극 사이에 캐패시터가 삽입됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이 기판.And a capacitor is inserted between the drain electrode of the second thin film transistor and the gate electrode of the third thin film transistor. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 해당하는 액정표시장치의 어레이 기판에 있어 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 2박막트랜지스터에 빛을 비추는 단계와,A method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 6, the method comprising: illuminating a second thin film transistor provided in the dummy pixel; 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 1박막트랜지스터의 소스전극으로 출력되는 신호를 측정하는 단계가 포함되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 어레이 기판 검사방법.And measuring a signal output to a source electrode of a first thin film transistor provided in the dummy pixel. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 검사방법을 상기 어레이 기판에 형성된 모든 더미픽셀에 대해 순차적으로 실시하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 어레이 기판 검사방법.And the inspection method is sequentially performed for all dummy pixels formed on the array substrate. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 1박막트랜지스터의 소스전극으로 출력되는 신호는 상기 제 2박막트랜지스터에 빛을 비추어 발생되는 광전류 또는 소정의 양의 직류 전압에 의한 신호임을 특징으로 하는 액정표시장치의 어레이 기판 검사방법.And the signal output to the source electrode of the first thin film transistor is a signal caused by a photocurrent generated by shining light on the second thin film transistor or a predetermined positive DC voltage. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 더미픽셀 내에 구비된 제 1박막트랜지스터의 게이트전극에는 상기 제 1박막트랜지스터가 항상 온 되도록 고전압을 인가하고, 상기 제 2박막트랜지스터의 게이트 전극에는 상기 제 2박막트랜지스터가 항상 오프되도록 저전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 어레이 기판 검사방법.A high voltage is applied to the gate electrode of the first thin film transistor provided in the dummy pixel so that the first thin film transistor is always on, and a low voltage is applied to the gate electrode of the second thin film transistor so that the second thin film transistor is always turned off. An array substrate inspection method of a liquid crystal display device.
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