KR20040030251A

KR20040030251A - Coloured photosensitive resin composition

Info

Publication number: KR20040030251A
Application number: KR1020030053989A
Authority: KR
Inventors: 이치카와고지; 아마타쓰요시마사
Original assignee: 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date: 2002-08-09
Filing date: 2003-08-05
Publication date: 2004-04-09
Also published as: TWI313396B; TW200407665A; KR100940751B1

Abstract

PURPOSE: A colored photosensitive resin composition is provided to improve coatability even when using a fluid-saving coating device such as a spinless coater. The resin composition can be advantageously used in a color filter. CONSTITUTION: The colored photosensitive resin composition comprises: (A) a coloring agent; (B) a binding polymer; (C) a photopolymerizable compound; (D) a photopolymerization initiator; (E) a solvent; and (F) a compound represented by a formula 1, wherein m and n are a positive integer, respectively, and m+n is 2 to 6. The compound of (F) is selected from 2-butyl-2-ethyl-1,3-β-hydroxyethoxyethoxy-propane and 2-butyl-2-ethyl-1,3-β-hydroxyethoxy-propane.

Description

Colored photosensitive resin composition

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition.

착색 감광성 수지 조성물은 착색제를 함유하는 감광성 수지 조성물이고 컬러 필터를 구성하는 착색 패턴을 형성하기 위한 재료로서 유용하다. 여기서, 컬러 필터란 액정 표시장치의 표시 화상을 컬러화하기 위해 사용하거나 고체 촬영소자에 의해 촬영된 화상을 컬러화하기 위해 사용하는 광학소자이다. 착색 패턴이란, 예를 들면, 적, 녹, 청 등의 색 화소, 블랙 매트릭스 등이고, 선형이거나 모자이크형이다.A colored photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition containing a coloring agent, and is useful as a material for forming the coloring pattern which comprises a color filter. Here, the color filter is an optical element used to colorize the display image of the liquid crystal display device or to colorize the image photographed by the solid-state imaging element. A coloring pattern is color pixels, such as red, green, blue, a black matrix, etc., and is linear or mosaic shape, for example.

종래부터 웨이퍼 등의 피도포 기판 위에 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 막을 형성하는 데는 피도포 기판의 중앙부 부근에 노즐로부터 착색 감광성 수지 조성물을 적가하거나 슬릿상의 노즐로부터 피도포 기판 위에 착색 감광성 수지 조성물을 적가한 다음, 기판을 수백 내지 수천 rpm의 속도로 회전시켜 용제 및 과잉으로 기판 위에 적가된 착색 감광성 수지 조성물을 튀겨 날리는 스핀 피복기를 사용하여 평탄한 도포막을 수득한다. 그러나, 스핀 피복기를 사용하는 것으로 과잉으로 기판 위에 적가된 착색 감광성 수지 조성물이 튀어 날려서 착색 감광성 수지 조성물을 형성하지 않고 폐기되어 쓸데 없이 되므로 이것을 방지하기 위해 종래의 스핀 피복기에서는 1m 사방 등의 넓은 면적의 유리 등의 기판 위에 도포하는 것이 어려워지므로 스핀을 하지 않는 스핀레스 피복기 등의 액 절약 피복기가 개발되고 있다. 액 절약 피복기 중에서 스핀레스 피복기는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 제2001-62370호에 기재되어 있다.Conventionally, to form a film using a colored photosensitive resin composition on a substrate to be coated, such as a wafer, a colored photosensitive resin composition is added dropwise from a nozzle to a central portion of the substrate to be coated, or a colored photosensitive resin composition is added dropwise onto a substrate to be coated from a slit nozzle. Then, the substrate is rotated at a speed of several hundreds to thousands of rpm to obtain a flat coating film by using a spin coater to splatter the solvent and excess colored photosensitive resin composition dropwise added onto the substrate. However, the use of a spin coater causes the colored photosensitive resin composition, which is excessively added dropwise, to the substrate to be blown off to form a colored photosensitive resin composition without being discarded and useless. Since it becomes difficult to apply on substrates, such as glass, the liquid saving coating machine, such as the spinless coating machine which does not spin, is developed. Among the liquid saving coating machines, the spinless coating machine is described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-62370.

한편, 종래의 스핀 피복기용에 최적화된 착색 감광성 수지 조성물을 액 절약 피복기의 1종류인 스핀레스 피복기에 적용해도 평탄성이 수득되기 어려운 경향이 있다. 이것은, 스핀 피복기에서는 도포된 상태에서의 평탄성은 별로 중요하지는 않고 스핀에 의해 어느 정도 평탄성이 수득되며, 또한 대부분의 용제가 스핀에 의해 제거되는 점으로부터 가열 등에 의해 용제를 제거하는 과정에서 형성되는 층의 내부로부터 용제의 제거량이 적으므로 평탄성이 크게는 손상되지 않기 때문이다. 한편, 스핀레스 피복기에서는 스핀에 의해 용제를 제거하는 경우가 없으므로 도포 상태에서 평탄성의 대부분이 결정되고, 또한 가열 등에 의한 용제 제거량이 스핀 피복기와 비교하여 현저하게 많은 점으로부터 형성된 층 내부로부터도 용제가 제거되며 결과적으로 평탄성이 나빠지는 경향이 있다.On the other hand, even if the colored photosensitive resin composition optimized for the conventional spin coater is applied to the spinless coater which is one kind of liquid saving coater, flatness tends to be hard to be obtained. In the spin coater, the flatness in the applied state is not very important, and the flatness is obtained to some extent by the spin, and is formed in the process of removing the solvent by heating or the like from the point that most of the solvent is removed by the spin. This is because the amount of removal of the solvent from the inside of the layer is small and the flatness is not largely impaired. On the other hand, in the spinless coating machine, since the solvent is not removed by the spin, most of the flatness is determined in the coated state, and the solvent is removed from the inside of the layer formed from the point where the amount of solvent removal by heating or the like is significantly higher than that of the spin coating machine. Is removed and consequently the flatness tends to be poor.

그리고, 종래에는 착색 감광성 수지 조성물의 도포성을 개량하기 위해 균전제 등의 고분자 첨가제를 첨가하는 방법이 사용되고 있다. 또한, 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 적게 하여 저점도화하는 방법이 사용되고 있다.And in order to improve the applicability | paintability of a coloring photosensitive resin composition, the method of adding polymer additives, such as a leveling agent, is used conventionally. Moreover, the method of reducing the viscosity by reducing solid content in colored photosensitive resin composition is used.

그러나, 균전제 등의 고분자 첨가제를 첨가하는 경우, 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 미건조 도포막은 도포 종료 직후에 기판 주변부를 따라 형성된 액자 부분(미건조 도포막의 후막 부분)이 기판 중앙으로 이동하여 면내 균일성을 손상하는 문제점이 있다. 또한, 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 적게 하여 저점도화하는 경우, 필요한 막 두께를 수득하기 위해 도포량을 많게 하는 것이 필요하고 액 절약 피복기의 의미를 달성하지 못한다는 문제가 있다. 또한, 일반적으로 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 결합제 중합체는 고분자이고 카복실산 등의 극성기를 보유하므로 착색 감광성 수지 조성물의 점도가 높아지는 경향이 있다. 점도가 너무 높으면 기판 위에서 착색 감광성 수지 조성물의 확대가 나쁘며, 또한 도포할 때에 불균일이 나온다는 문제가 있다.However, in the case of adding a polymer additive such as a leveling agent, the undried coating film coated with the colored photosensitive resin composition has a frame portion (thick film portion of the undried coating film) formed along the periphery of the substrate immediately after the end of the coating so that the in-plane uniformity is achieved. There is a problem that impairs sex. In addition, when reducing the viscosity by reducing the solid content in the colored photosensitive resin composition, it is necessary to increase the coating amount in order to obtain the required film thickness, and there is a problem that the meaning of the liquid saving coating machine cannot be achieved. Moreover, since the binder polymer generally used for a coloring photosensitive resin composition is a polymer and has polar groups, such as carboxylic acid, there exists a tendency for the viscosity of a coloring photosensitive resin composition to become high. If the viscosity is too high, the enlargement of the colored photosensitive resin composition is bad on the substrate, and there is a problem that a nonuniformity occurs when applied.

본 발명의 목적은, 스핀레스 피복기 등의 액 절약 피복기를 사용하는 경우, 도포성이 양호한 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition having good coatability when using a liquid saving coating machine such as a spinless coating machine.

그래서, 본 발명자는 상기 과제를 해결하려고 예의 검토한 결과, 화학식 1의 화합물을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 상기한 과제를 해결할 수 있는 것을 밝혀내고 본 발명에 이르렀다.Then, as a result of earnestly examining the said subject, this inventor discovered that the coloring photosensitive resin composition containing the compound of General formula (1) can solve the said subject, and came to this invention.

즉, 본 발명은 착색제(A), 결합제 중합체(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 용제(E) 및 화학식 1의 화합물(F)을 포함하여 이루어진 착색 감광성 수지 조성물, 당해 착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고 도포된 착색 감광성 수지 조성물 층으로부터 휘발 성분을 제거하며 포토마스크를 통해 상기한 층을 노출하여 현상하는 패턴의 형성방법, 상기한 방법으로 형성된 패턴을 포함하는 컬러 필터 및 상기한 컬러 필터를 장착한 액정 표시장치를 제공한다.That is, the present invention provides a coloring photosensitive resin composition comprising a colorant (A), a binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), a solvent (E), and a compound of formula (F), A method of forming a pattern by applying the colored photosensitive resin composition on a substrate, removing a volatile component from the applied colored photosensitive resin composition layer, and exposing the above-described layer through a photomask, and the color formed by the above-described method. A liquid crystal display device equipped with a filter and the above-described color filter is provided.

화학식 1Formula 1

위의 화학식 1에서,In Formula 1 above,

m 및 n은 각각 양의 정수이며, m+n은 2 내지 6이다.m and n are each a positive integer and m + n is 2-6.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 착색제(A)는 유기물인 유기안료일 수 있으며 무기물인 무기안료일 수 있다. 이중에서도 내열성과 발색성이 우수한 점으로부터 유기안료가 바람직하게 사용된다.The colorant (A) used in the colored photosensitive resin composition of the present invention may be an organic pigment which is an organic substance or an inorganic pigment which is an inorganic substance. Among these, organic pigments are preferably used from the viewpoint of excellent heat resistance and color development.

유기안료 및 무기안료로서 구체적으로는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, C.I. 피그먼트 옐로 1, C.I. 피그먼트 옐로 3, C.I. 피그먼트 옐로 12, C.I. 피그먼트 옐로 13, C.I. 피그먼트 옐로 14, C.I. 피그먼트 옐로 15, C.I. 피그먼트 옐로 16, C.I. 피그먼트 옐로 17, C.I. 피그먼트 옐로 20, C.I. 피그먼트 옐로 24, C.I. 피그먼트 옐로 31, C.I. 피그먼트 옐로 53, C.I. 피그먼트 옐로 83, C.I. 피그먼트 옐로 86, C.I 피그먼트 옐로 93, C.I. 피그먼트 옐로 94, C.I. 피그먼트 옐로 109, C.I. 피그먼트 옐로 110, C.I. 피그먼트 옐로 117, C.I. 피그먼트 옐로 125, C.I. 피그먼트 옐로 128, C.I. 피그먼트 옐로 137, C.I. 피그먼트 옐로 138, C.I. 피그먼트 옐로 139, C.I 피그먼트 옐로 147, C.I. 피그먼트 옐로 148, C.I. 피그먼트 옐로 150, C.I. 피그먼트 옐로 153, C.I 피그먼트 옐로 154, C.I 피그먼트 옐로 166, C.I. 피그먼트 옐로 173, C.I. 피그먼트 옐로 194, C.I. 피그먼트 옐로 214 등의 황색 안료 ;Specific examples of organic and inorganic pigments include compounds classified as pigments in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colourists). Specifically, for example, C.I. Pigment Yellow 1, C.I. Pigment Yellow 3, C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow 13, C.I. Pigment Yellow 14, C.I. Pigment Yellow 15, C.I. Pigment Yellow 16, C.I. Pigment Yellow 17, C.I. Pigment Yellow 20, C.I. Pigment Yellow 24, C.I. Pigment Yellow 31, C.I. Pigment Yellow 53, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 86, C.I Pigment Yellow 93, C.I. Pigment Yellow 94, C.I. Pigment Yellow 109, C.I. Pigment Yellow 110, C.I. Pigment Yellow 117, C.I. Pigment Yellow 125, C.I. Pigment Yellow 128, C.I. Pigment Yellow 137, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C. I. Pigment Yellow 147, C.I. Pigment Yellow 148, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 153, C.I Pigment Yellow 154, C.I Pigment Yellow 166, C.I. Pigment Yellow 173, C.I. Pigment Yellow 194, C.I. Yellow pigments such as pigment yellow 214;

C.I. 피그먼트 오렌지 13, C.I. 피그먼트 오렌지 31, C.I 피그먼트 오렌지 36, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 오렌지 40, C.I. 피그먼트 오렌지 42, C.I. 피그먼트 오렌지 43, C.I. 피그먼트 오렌지 51, C.I. 피그먼트 오렌지 55, C.I. 피그먼트 오렌지 59, C.I. 피그먼트 오렌지 61, C.I. 피그먼트 오렌지 64, C.I. 피그먼트 오렌지 65, C.I. 피그먼트 오렌지 71, C.I. 피그먼트 오렌지 73 등의 오렌지색 안료;C.I. Pigment Orange 13, C.I. Pigment Orange 31, C.I Pigment Orange 36, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Orange 40, C.I. Pigment Orange 42, C.I. Pigment Orange 43, C.I. Pigment Orange 51, C.I. Pigment Orange 55, C.I. Pigment Orange 59, C.I. Pigment Orange 61, C.I. Pigment Orange 64, C.I. Pigment Orange 65, C.I. Pigment Orange 71, C.I. Orange pigments such as pigment orange 73;

C.I. 피그먼트 레드 9, C.I. 피그먼트 레드 97, C.I. 피그먼트 레드 105, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 176, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 192, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 215, C.I. 피그먼트 레드 216, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 265 등의 적색 안료;C.I. Pigment Red 9, C.I. Pigment Red 97, C.I. Pigment Red 105, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment Red 144, C.I. Pigment Red 149, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 168, C.I. Pigment Red 176, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 180, C.I. Pigment Red 192, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 215, C.I. Pigment Red 216, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 264, C.I. Red pigments such as pigment red 265;

C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 60 등의 청색 안료;C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Blue pigments such as pigment blue 60;

C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛 32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38 등의 바이올렛색 안료;C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Violet 29, C.I. Pigment violet 32, C.I. Pigment Violet 36, C.I. Violet pigments such as pigment violet 38;

C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36 등의 녹색 안료;C.I. Pigment Green 7, C.I. Green pigments such as pigment green 36;

C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25 등의 브라운색 안료;C.I. Pigment Brown 23, C.I. Brown pigments such as pigment brown 25;

C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있으며, C.I. 피그먼트 옐로 138, C.I. 피그먼트 옐로 139, C.I. 피그먼트 옐로 150, C.I 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:6 및 C.I. 피그먼트 그린 36으로부터 선택되는 하나 이상의 안료를 함유하는 것이 바람직하다.C.I. Pigment Black 1, C.I. Black pigments, such as pigment black 7, etc. are mentioned, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red Violet 23, C.I. Pigment Blue 15: 6 and C.I. Preference is given to containing at least one pigment selected from pigment green 36.

이들 유기안료 및 무기안료는 각각 단독으로 사용할 수 있고 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 예를 들면, 적색 화소를 형성하는 데는 C.I 피그먼트 레드 209 및 C.I. 피그먼트 옐로 139를 함유하는 것, 녹색 화소를 형성하는 데는 C.I. 피그먼트 그린 36 및 C.I. 피그먼트 옐로 150 및 C.I. 피그먼트 옐로 138로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상을 함유하는 것, 청색 화소를 형성하는 데는 C.I. 피그먼트 블루 15:6을 함유하는 것이 각각 바람직하다.These organic pigments and inorganic pigments may be used alone or in combination of two or more kinds thereof. For example, C.I Pigment Red 209 and C.I. Pigment yellow 139 containing C.I. Pigment Green 36 and C.I. Pigment Yellow 150 and C.I. Pigment yellow 138 containing one or more selected from the group consisting of C.I. It is preferable to contain Pigment Blue 15: 6, respectively.

상기 안료중의 유기안료는 필요에 따라 로진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체 등을 사용한 표면처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에 대한 그래프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리 또는 불순물을 제거하기 위한 유기용제나 물 등에 의한 세정처리, 이온성 불순물의 이온교환법 등에 따른 제거처리 등을 실시할 수 있다.Organic pigments in the pigment may be treated with rosin treatment, surface treatment using a pigment derivative having an acidic or basic group introduced therein, graft treatment on the surface of the pigment with a high molecular compound, or an atomization treatment by sulfuric acid atomization or the like. For example, cleaning treatment with an organic solvent, water, and the like, removal treatment with an ion exchange method of ionic impurities, and the like can be performed.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 착색제(A)의 사용량은, 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 질량 분률로, 통상적으로 8질량% 내지 60질량%이고, 바람직하게는 15질량부 내지 55질량부이며, 보다 바람직하게는 25질량부 내지 50질량부이다. 착색제(A)의 함유량이 8질량부 내지 60질량부이면, 컬러 필터로 할 때의 색 농도가 충분하고 또한 조성물 중에 결합제 중합체를 필요량 함유시킬 수 있으므로 기계적 강도가 충분한 패턴을 형성할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 본 발명에서 착색 감광성 조성물 중의 고형분이란 용제를 제거한 성분의 합계를 의미한다.The usage-amount of the coloring agent (A) used for the coloring photosensitive resin composition of this invention is 8 mass%-60 mass% normally with respect to solid content in a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 15 mass parts-55 mass parts Part, and it is 25 mass parts-50 mass parts more preferably. When content of a coloring agent (A) is 8 mass parts-60 mass parts, since the color density at the time of making a color filter can be sufficient, and a binder polymer can be contained in a composition in a required amount, since a pattern with sufficient mechanical strength can be formed, it is preferable. Do. In addition, in this invention, solid content in a coloring photosensitive composition means the sum total of the component remove | excluding the solvent.

본 발명에서 수득되는 착색 감광성 수지 조성물은 착색제(A)로서 사용되는 안료의 입자직경이 균일한 것이 바람직하다. 균일한 입자직경의 안료를 수득하기 위해서는 계면활성제를 안료 분산제로서 함유시켜 분산 처리를 실시하면 양호하다. 이에 따라 안료가 용액 속에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 수득할 수 있다.It is preferable that the coloring photosensitive resin composition obtained by this invention is uniform in particle diameter of the pigment used as a coloring agent (A). In order to obtain a pigment having a uniform particle diameter, it is preferable to contain a surfactant as a pigment dispersant and to perform dispersion treatment. Thereby, a pigment dispersion liquid in which the pigment is uniformly dispersed in the solution can be obtained.

안료 분산제로서는, 예를 들면, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성 등의 계면활성제 등을 들 수 있으며, 각각 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용한다.Examples of the pigment dispersant include surfactants such as cationic, anionic, nonionic, amphoteric and the like, each of which may be used alone or in combination of two or more thereof.

안료 분산제의 사용량은 착색제 1질량부당 통상적으로 0.01질량부 내지 1질량부, 바람직하게는 0.05질량부 내지 0.5질량부이다.The usage-amount of a pigment dispersant is 0.01 mass part-1 mass part normally per 1 mass part of coloring agents, Preferably it is 0.05 mass part-0.5 mass part.

본 발명의 착색 감광성 조성물에 사용되는 결합제 중합체(B)로서는 아크릴계공중합체를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 카복실기 함유 단량체 및 이와 공중합할 수 있는 다른 단량체와의 공중합체 등을 들 수 있다.As a binder polymer (B) used for the coloring photosensitive composition of this invention, an acryl-type copolymer can be used, For example, the copolymer of a carboxyl group-containing monomer and another monomer copolymerizable with this can be mentioned.

카복실기 함유 단량체로서는, 예를 들면, 불포화 모노카복실산이나 불포화 디카복실산, 불포화 트리카복실산 등의 불포화 다가 카복실산 등의 분자중에 하나 이상의 카복실기를 갖는 불포화 카복실산을 들 수 있다. 여기서, 불포화 모노카복실산으로서는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로르아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다. 불포화 디카복실산으로서는, 예를 들면, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카복실산은 이의 산 무수물, 구체적으로는 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 시트라콘산 등일 수 있다. 또한, 불포화 다가 카복실산은 이의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수 있으며, 예를 들면, 석신산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 석신산모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등일 수 있다. 불포화 다가 카복실산은 이의 양쪽 말단 디카복시 중합체의 모노(메트)아크릴레이트일 수 있으며, 예를 들면, ω-카복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등일 수 있다. 이들 카복실기 함유 단량체는 각각 단독 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As a carboxyl group-containing monomer, the unsaturated carboxylic acid which has one or more carboxyl groups in molecules, such as unsaturated polycarboxylic acid, such as unsaturated monocarboxylic acid, unsaturated dicarboxylic acid, and unsaturated tricarboxylic acid, is mentioned, for example. Here, as unsaturated monocarboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, (alpha)-chloroacrylic acid, cinnamic acid etc. are mentioned, for example. As unsaturated dicarboxylic acid, a maleic acid, a fumaric acid, itaconic acid, a citraconic acid, a mesaconic acid, etc. are mentioned, for example. The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be an acid anhydride thereof, specifically maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, or the like. In addition, the unsaturated polyvalent carboxylic acid may be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, for example, mono succinate (2-acryloyloxyethyl), mono succinate (2-methacryloyl) Oxyethyl), mono phthalate (2-acryloyloxyethyl), mono phthalate (2-methacryloyloxyethyl) and the like. The unsaturated polyvalent carboxylic acid may be a mono (meth) acrylate of both terminal dicarboxy polymers thereof, for example, ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, and the like. These carboxyl group-containing monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

카복실기 함유 단량체와 공중합할 수 있는 다른 단량체로서는, 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로르스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐 화합물;As another monomer which can be copolymerized with a carboxyl group containing monomer, For example, styrene, (alpha) -methylstyrene, o-vinyl toluene, m-vinyl toluene, p-vinyl toluene, p- chlor styrene, o-methoxy styrene, m-methoxy styrene, p-methoxy styrene, o-vinyl benzyl methyl ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether aromatic vinyl compounds such as p-vinylbenzyl glycidyl ether and indene;

메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 3-하이드록시프로필아크릴레이트, 3-하이드록시프로필메타크릴레이트, 2-하이드록시부틸아크릴레이트, 2-하이드록시부틸메타크릴레이트, 3-하이드록시부틸아크릴레이트, 3-하이드록시부틸메타크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 사이클로헥실아크릴레이트, 사이클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디사이클로펜타디에닐아크릴레이트, 디사이클로펜타디에닐메타크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산 에스테르류;Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxy moiety Tyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate , 2-methoxyethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, Methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxy propylene glycol acrylate, methoxy propylene glycol methacrylate, methoxy dipropylene glycol acrylate, methoxy dipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate Latex, dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadiene Methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate unsaturated carboxylic acid esters and the like;

2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산 아미노알킬 에스테르류;2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Unsaturated carboxylic acid amino such as aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate, and 3-dimethylaminopropyl methacrylate Alkyl esters;

글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산 글리시딜 에스테르류;Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate;

아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 벤조산비닐 등의 카복실산비닐 에스테르류;Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;

비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류;Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;

아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물;Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide;

아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류;Unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethylacrylamide and N-2-hydroxyethyl methacrylamide;

말레이미드, N-페닐말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류;Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide;

1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 마크로모노머류 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; Polystyrene, polymethylacrylate, polymethylmethacrylate, poly-n-butylacrylate, poly-n-butylmethacrylate, having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of the polymer molecular chain of polysiloxane Macromonomers; and the like. These monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기 공중합체에서 카복실기 함유 단량체 단위의 함유량은, 질량 분율로 통상적으로 10 내지 50질량%, 바람직하게는 15 내지 40질량%, 특히 바람직하게는 25 내지 40질량%이다. 상기한 카복실기 함유 단량체 단위의 함유량이 10 내지 50질량%이면, 현상액에 대한 용해성이 양호하며 현상시에 패턴이 정확하게 형성되는 경향이 있으며 바람직하다.The content of the carboxyl group-containing monomer unit in the copolymer is usually 10 to 50% by mass, preferably 15 to 40% by mass, particularly preferably 25 to 40% by mass. When content of the said carboxyl group-containing monomeric unit is 10-50 mass%, solubility with respect to a developing solution is favorable and it exists in the tendency for the pattern to form correctly at the time of image development, and it is preferable.

본 발명에서 사용되는 결합제 중합체(B)의 산가는 통상적으로 50 내지 150이며, 바람직하게는 60 내지 140, 특히 바람직하게는 80 내지 135이다. 산가가 50 내지 150이면, 현상액에 대한 용해성이 향상되어 미노출부가 용해되기 쉬워지며, 또한 고감도화하여 현상할 때에 노출부의 패턴이 잔류하여 잔막율이 향상되는 경향이 있으며 바람직하다. 여기서, 산가는 아크릴계 중합체 1g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이고, 통상적으로는 결합제 중합체(B)를 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.The acid value of the binder polymer (B) used in this invention is 50-150 normally, Preferably it is 60-140, Especially preferably, it is 80-135. When the acid value is from 50 to 150, the solubility in the developer is improved, so that the unexposed portion is easily dissolved, and the pattern of the exposed portion remains when developing with high sensitivity, and the residual film ratio tends to be improved. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and can usually be obtained by titrating the binder polymer (B) with an aqueous potassium hydroxide solution.

아크릴계 공중합체로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,(메트)아크릴산/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체, (메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 마크로모노머 공중합체, (메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리메틸(메트)아크릴레이트 마크로모노머 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 마크로모노머 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸(메트)아크릴레이트 마크로모노머 공중합체, (메트)아크릴산/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 마크로모노머 공중합체, (메트)아크릴산/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸(메트)아크릴레이트 마크로모노머 공중합체, (메트)아크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (메트)아크릴산/석신산모노(2-아크릴로일옥시에틸)/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (메트)아크릴산/석신산모노(2-아크릴로일옥시에틸)/스티렌/알릴(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드/스티렌/글리세롤모노(메트)아크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴레이트란 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트인 것을 나타낸다.As an acryl-type copolymer, For example, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) Acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macro Monomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) Acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / mono succinate (2-acrylo) Iloxyethyl) / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / mono succinate (2-acryloyloxyethyl) / styrene / allyl (meth) acrylate / N -Phenyl maleimide copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / N-phenyl maleimide / styrene / glycerol mono (meth) acrylate copolymer, etc. are mentioned. In addition, (meth) acrylate shows that it is an acrylate or a methacrylate.

이중에서도 (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/스티렌 공중합체, (메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트 공중합체, (메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/스티렌 공중합체 등이 바람직하다.(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / Methyl (meth) acrylate / styrene copolymer is preferable.

본 발명에 사용되는 결합제 중합체(B)에서, 이의 폴리스티렌 환산 중량 평균분자량(폴리스티렌을 표준품으로서 겔 침투 크로마토그래피에 의해 구한 값)은 통상적으로 5,000 내지 50,000이고, 바람직하게는 8,000 내지 40,000의 범위이며, 특히 바람직하게는 10,000 내지 35,000이다. 분자량이 5,000 내지 50,000이면, 도포막 경도가 향상되고 잔막율도 높으며 미노출부의 현상액에 대한 용해성이 양호하고 해상도가 향상되는 경향에 있으며 바람직하다.In the binder polymer (B) used in the present invention, its polystyrene equivalent weight average molecular weight (polystyrene obtained by gel permeation chromatography as a standard) is usually 5,000 to 50,000, preferably in the range of 8,000 to 40,000, Especially preferably, it is 10,000-35,000. When the molecular weight is 5,000 to 50,000, the coating film hardness is improved, the residual film ratio is also high, the solubility in the developer of the unexposed part is good and the resolution tends to be improved, which is preferable.

결합제 중합체(B)는, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해 질량 분율로, 통상적으로 5질량% 내지 40질량%, 바람직하게는 10질량% 내지 35질량%, 특히 바람직하게는 15질량% 내지 26질량%의 범위로 사용된다. 상기한 결합제 중합체의 함유량이 5질량% 내지 40질량%이면, 패턴을 형성할 수 있고, 또한 해상도 및 잔막율이 향상되는 경향이 있으며 바람직하다.Binder polymer (B) is 5 mass%-40 mass% normally with respect to solid content of colored photosensitive resin composition, Preferably it is 10 mass%-35 mass%, Especially preferably, it is 15 mass%-26 mass Used in the range of%. When content of the said binder polymer is 5 mass%-40 mass%, a pattern can be formed and there exists a tendency for the resolution and a residual film rate to improve, and it is preferable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 광중합성 화합물(C)은 빛을 조사함으로써 광중합 개시제로부터 발생하는 활성 라디칼, 산 등에 의해 중합할 수 있는 화합물이며, 예를 들면, 중합성의 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다.The photopolymerizable compound (C) used for the coloring photosensitive resin composition of this invention is a compound which can superpose | polymerize by active radical, an acid, etc. which generate | occur | produce by photoirradiation, for example, a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond The compound which has a etc. are mentioned.

상기한 광중합성 화합물은 3관능 이상의 다관능의 광중합성 화합물인 것이 바람직하다. 3관능 이상의 다관능의 광중합성 화합물로서는, 예를 들면, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 광중합성화합물은 각각 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용하고, 이의 함유량은, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해 질량 분률로, 통상 5질량% 내지 45질량%, 바람직하게는 10질량% 내지 35질량%, 특히 바람직하게는 15질량% 내지 26질량%의 범위로 사용된다. 상기한 광중합성 화합물의 함유량이 5질량% 내지 45질량%이면, 경화가 충분하게 일어나서 잔막율이 향상되며 바람직하다.It is preferable that said photopolymerizable compound is a trifunctional or more than polyfunctional photopolymerizable compound. As a trifunctional or more than trifunctional photopolymerizable compound, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol penta Acrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, etc. are mentioned. The said photopolymerizable compound is used individually or in combination of 2 or more types, respectively, and its content is 5 mass%-45 mass% normally with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 10 mass%-35 Mass%, Especially preferably, it is used in the range of 15 mass%-26 mass%. When content of the said photopolymerizable compound is 5 mass%-45 mass%, hardening arises enough and a residual film ratio improves and it is preferable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 사용되는 광중합 개시제(D)로서는 빛을 조사함으로써 활성 라디칼을 발생하는 활성 라디칼 발생제, 산 발생제, 증감제 등을 들 수 있다.As a photoinitiator (D) used in the coloring photosensitive resin composition of this invention, the active radical generator, an acid generator, a sensitizer, etc. which generate | occur | produce active radicals by irradiating light are mentioned.

활성 라디칼 발생제로서는, 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등을 들 수 있다. 이중에서도 아세토페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 이미다졸계 화합물로부터 선택되는 하나 이상을 함유하는 것이 바람직하다.Examples of the active radical generator include acetophenone compounds, triazine compounds, imidazole compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, and the like. Among these, it is preferable to contain at least one selected from an acetophenone compound, a triazine compound, and an imidazole compound.

아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다.As an acetophenone type compound, for example, diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, and 2-hydroxy-2-methyl-1 -Phenylpropane-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone And oligomers of 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, and the like, and preferably 2-methyl-2-morpholino-1 -(4-methylthiophenyl) propan-1-one etc. are mentioned.

트리아진계 화합물로서는, 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.As a triazine type compound, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1, 3, 5- triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl)-, for example 6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2 -Methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5 -Triazine and the like.

비이미다졸 화합물로서는 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(p-카보에톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(p-브로모페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(o,p-디클로로페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o,p-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(m-메톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o,o'-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-니트로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등을 들 수 있다.As a biimidazole compound, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-carboethoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (p-bromophenyl Biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o- Bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimi Dazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichloro Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2, 2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenylbiimidazole etc. are mentioned.

벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.As a benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.

벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.As a benzophenone type compound, for example, benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'- tetra (t -Butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4, 6-trimethyl benzophenone, etc. are mentioned.

티옥산톤계 화합물로서는, 예를 들면, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.As a thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro-4 Propoxy city oxanthone etc. are mentioned.

활성 라디칼 발생제로서, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 사용할 수 있다.As the active radical generator, for example, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- 1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound, etc. Can be used.

산발생제로서는, 예를 들면, 4-하이드록시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-하이드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐·메틸·벤질설포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄 p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.As the acid generator, for example, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfo Nate, 4-acetoxyphenylmethyl benzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl iodonium p-toluenesulfo Onium salts such as nate and diphenyl iodonium hexafluoro antimonate, nitrobenzyl tosylates, benzointosylates and the like.

또한, 활성 라디칼 발생제로서 상기한 화합물 중에는 활성 라디칼과 동시에 산을 발생하는 화합물도 있고, 예를 들면, 트리아진계 광중합 개시제는 산발생제로서도 사용된다.In addition, among the compounds described above as the active radical generator, there are also compounds which generate an acid simultaneously with the active radical. For example, a triazine-based photopolymerization initiator is also used as the acid generator.

이들 광중합 개시제 등은 단독으로 사용할 수 있고, 복수를 조합하여 사용할 수 있다.These photoinitiators etc. can be used independently and can be used in combination of multiple.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 광중합 개시제(D)의 함유량은, 결합제 중합체(B) 및 광중합성 화합물(C)의 합계량 100질량부에 대하여, 통상적으로 0.1질량부 내지 25질량부, 바람직하게는 1질량부 내지 15질량부이다. 광중합 개시제의 함유량이 0.1질량부 내지 25질량부이면, 고감도화하여 노출시간이 단축되어 생산성이 향상되고, 또한 높은 해상도를 유지할 수 있는 경향이 있으며 바람직하다.Content of the photoinitiator (D) used for the colored photosensitive resin composition of this invention is 0.1 mass part-25 mass parts normally with respect to 100 mass parts of total amounts of a binder polymer (B) and a photopolymerizable compound (C). Preferably it is 1 mass part-15 mass parts. When content of a photoinitiator is 0.1 mass part-25 mass parts, it becomes high sensitivity, shortens an exposure time, improves productivity, and tends to be able to maintain high resolution, and it is preferable.

본 발명에서는 광중합 개시 조제를 사용할 수 있다. 광중합 개시 조제는 광중합 개시제와 조합하여 사용하는 경우가 있으며, 광중합 개시제에 의해 중합이 개시된 광중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위해 사용되는 화합물이다. 광중합 개시 조제로서는 아민계 화합물, 알콕시안트라센계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등을 들 수 있다.In the present invention, a photopolymerization initiation aid can be used. A photoinitiator adjuvant may be used in combination with a photoinitiator, and is a compound used in order to accelerate superposition | polymerization of the photopolymerizable compound in which superposition | polymerization was started with a photoinitiator. As photopolymerization start adjuvant, an amine compound, an alkoxy anthracene type compound, a thioxanthone type compound, etc. are mentioned.

아민계 화합물로서는, 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭, 미힐러즈케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있으며, 이중에서도 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다.Examples of the amine compound include triethanolamine, methyl diethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylaminoethyl benzoate. , 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, N, N-dimethyl paratoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name, Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino ) Benzophenone, 4,4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone, etc. are mentioned, Among these, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is preferable.

알콕시안트라센계 화합물로서는, 예를 들면, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.As an alkoxy anthracene type compound, 9, 10- dimethoxy anthracene, 2-ethyl-9, 10- dimethoxy anthracene, 9, 10- diethoxy anthracene, 2-ethyl-9, 10- diethoxy anthracene etc. Can be mentioned.

광중합 개시제는 단독 또는 복수를 조합하여 사용해도 지장이 없다. 또한, 광중합 개시 조제로서 시판하는 것을 사용할 수 있고, 시판하는 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 상품명 「EAB-F」[호도가야가가쿠고교(주)제] 등을 들 수 있다.The photopolymerization initiator can be used alone or in combination of two or more. In addition, a commercially available thing can be used as a photoinitiation start adjuvant, As a commercial photoinitiation start adjuvant, brand name "EAB-F" [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.] etc. are mentioned, for example.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 광중합 개시제 및 광중합 개시 조제의 조합으로서는 디에톡시아세토페논/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 벤질디메틸케탈/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논의 조합 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논의 조합을 들 수 있다.As a combination of a photoinitiator and a photoinitiator in the coloring photosensitive resin composition of this invention, diethoxy acetophenone / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-methyl- 2-morpholino-1- (4 -Methylthiophenyl) propan-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one / 4,4'-bis ( Diethylamino) benzophenone, benzyldimethylketal / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propane -1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl Oligomer / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- of 1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one Morpholinophenyl) butan-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, etc. are mentioned, Preferably 2-methyl- And combinations of 2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

이들 광중합 개시 조제를 사용하는 경우, 이의 사용량은 광중합 개시제 1몰당 통상적으로 10몰 이하, 바람직하게는 0.01몰 내지 5몰이다.In the case of using these photopolymerization initiation aids, the amount thereof is usually 10 mol or less, preferably 0.01 to 5 mol, per mol of the photopolymerization initiator.

본 발명에서 사용되는 용제(E)로서는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 및 3-에톡시프로피온산에틸로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상을 함유하는 용제를 들 수 있으며, 당해 용제에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 및 3-에톡시프로피온산에틸로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 함유 비율은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 기판에 도포할 때에 평탄성이 양호해지는 점에서 50 내지 100질량%로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 60 내지 100질량%이다.Examples of the solvent (E) used in the present invention include a solvent containing at least one selected from the group consisting of propylene glycol monomethyl ether acetate and ethyl 3-ethoxypropionate, and propylene glycol monomethyl ether acetate and The content of at least one selected from the group consisting of ethyl 3-ethoxypropionate is preferably 50 to 100% by mass, more preferably from the viewpoint of flatness when the colored photosensitive resin composition of the present invention is applied to a substrate. Is 60-100 mass%.

사용할 수 있는 기타 용제로서는, 예를 들면, 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류, 아미드류 등을 들 수 있다.As other solvents which can be used, ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters, amides, etc. are mentioned, for example.

에테르류로서는, 예를 들면, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 에틸카비톨아세테이트, 부틸카비톨아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 아니솔, 페네톨, 메틸아니솔 등을 들 수 있다.As ethers, for example, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol Monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether Acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate, methoxybutyl acetate, meth Oxypentyl Acete Yit, anisole, phentol, methyl anisole, etc. are mentioned.

방향족 탄화수소류로서는, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등을 들 수 있다.As aromatic hydrocarbons, benzene, toluene, xylene, mesitylene, etc. are mentioned, for example.

케톤류로서는, 예를 들면, 아세톤, 2-부탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, 4-헵탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온 등을 들 수 있다.As ketones, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone, cyclohexanone, etc. are mentioned, for example. .

알콜류로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 사이클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등을 들 수 있다.As alcohols, methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, etc. are mentioned, for example.

에스테르류로서는, 예를 들면, 아세트산에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산아밀, 아세트산이소아밀, 아세트산이소부틸, 프로피온산부틸, 부티르산이소프로필, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 알킬에스테르류, 락트산메틸, 락트산에틸, 옥시아세트산메틸, 옥시아세트산에틸, 옥시아세트산부틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산메틸, 2-옥소부탄산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.Examples of the esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoam acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, Methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl acetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, 3 Ethyl oxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate , Methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, 2-ethoxyprop Ethyl Pionate, Methyl 2-oxy-2-methylpropionate, Ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, Methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, Ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, methyl pyruvate, pyruvic acid Ethyl, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutyrate, ethyl 2-oxobutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, γ-butyrolactone Etc. can be mentioned.

아미드류로서는, 예를 들면, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등을 들 수 있다.Examples of the amides include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like.

기타, 예를 들면, N-메틸피롤리돈, 디메틸설폭사이드 등을 들 수 있다.Others include, for example, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide and the like.

상기한 기타 용제 중에서도, 3-에톡시프로피온산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트가 바람직하게 사용된다.Among the other solvents described above, ethyl 3-ethoxypropionate and propylene glycol monomethyl ether acetate are preferably used.

상기한 기타 용제는 각각 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Said other solvent can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

용제(E)의 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물을 도포할 때에 평탄성 및 컬러 필터 형성시의 표시 특성의 점에서 질량 분률로 통상적으로 70질량% 내지 95질량%, 바람직하게는 75질량% 내지 90질량%로 되는 정도이다.Content of the solvent (E) in the coloring photosensitive resin composition of this invention is 70 mass%-95 mass% normally in a mass fraction from the point of the flatness and the display characteristic at the time of color filter formation, when apply | coating a coloring photosensitive resin composition, Preferably Preferably it is about 75 mass%-90 mass%.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 하기 화학식 1의 화합물(F)이 사용된다.In the coloring photosensitive resin composition of this invention, the compound (F) of following General formula (1) is used.

화학식 1Formula 1

위의 화학식 1에서,In Formula 1 above,

이중에서도 2-부틸-2-에틸-1,3-β-하이드록시에톡시에톡시프로판 및 2-부틸-2-에틸-1,3-β-하이드록시에톡시프로판으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물이 보다 바람직하다.Among these, one selected from the group consisting of 2-butyl-2-ethyl-1,3-β-hydroxyethoxyethoxypropane and 2-butyl-2-ethyl-1,3-β-hydroxyethoxypropane The above compound is more preferable.

상기한 화학식 1의 화합물(F)의 사용량은, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해 질량 분률로, 0.1 내지 5질량%, 바람직하게는 0.5 내지 4.5질량%, 보다바람직하게는 1 내지 4질량%이다. 상기 사용량이 0.1% 내지 5%이면, 수득된 착색 감광성 수지 조성물이 저감도화되지 않고 패턴을 형성할 수 있으므로 바람직하다.The usage-amount of the compound (F) of the said Formula (1) is 0.1-5 mass%, Preferably it is 0.5-4.5 mass%, More preferably, it is 1-4 mass% with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition. . When the usage-amount is 0.1%-5%, since the obtained colored photosensitive resin composition can form a pattern, without being reduced, it is preferable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 계면활성제, 충전제 및 결합제 중합체 이외의 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 유기산, 유기 아미노 화합물, 경화제 등의 첨가제를 함유할 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention can contain additives, such as high molecular compounds other than surfactant, a filler, and a binder polymer, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, an aggregation agent, an organic acid, an organic amino compound, a hardening | curing agent.

계면활성제로서는 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 및 불소원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상을 사용할 수 있다.As the surfactant, one or more selected from the group consisting of silicone-based surfactants, fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants having fluorine atoms can be used.

실리콘계 계면활성제로서는 실록산 결합을 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 상품명으로 트레실리콘 DC3PA, 동 SH7PA, 동 DC11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 29SHPA, 동 SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 SH8400[상품명: 트레실리콘(주)제], KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신에쓰실리콘제), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460[지이도시바실리콘(주)제] 등을 들 수 있다.As silicone type surfactant, surfactant which has a siloxane bond is mentioned. Specifically, in the brand name, tresilicon DC3PA, copper SH7PA, copper DC11PA, copper SH21PA, copper SH28PA, copper 29SHPA, copper SH30PA, polyether-modified silicone oil SH8400 (trade name: manufactured by Tresilicon Co., Ltd.), KP321, KP322, KP323 And KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by Jido Toshiba Silicone Co., Ltd.), and the like.

불소계 계면활성제로서는 플루오로카본쇄를 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 상품명으로 플로리네이트 FC430, 동 FC431[스미토모스리엠(주)제], 메가팍 F142D, 동 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F177, 동 F183, 동 R30[다이니혼잉크가가쿠고교(주)제], 에프톱 EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352[신아키다(주)제], 사프론 S381, 동 S382, 동 SC101, 동 SC105[아사히가라스(주)제], E5844[(주)다이킨파인케미컬겐큐쇼제], BM-1000, BM-1100(모두 상품명: BM Chemie사제) 등을들 수 있다.As a fluorine-type surfactant, surfactant which has a fluorocarbon chain | strand is mentioned. Specifically, it is a brand name Florinate FC430, copper FC431 (manufactured by Sumitomo Industries Co., Ltd.), Megapak F142D, copper F171, copper F172, copper F173, copper F177, copper F183, copper R30 [Dinihon Ink Chemical Industries, Ltd. Co., Ltd.], F-top EF301, East EF303, East EF351, East EF352 [Shin-Akida Co., Ltd.], Saffron S381, East S382, East SC101, East SC105 [Asahi Glass Co., Ltd.], E5844 Daikin Fine Chemical Co., Ltd. product, BM-1000, BM-1100 (all are brand-name: BM Chemie make), etc. are mentioned.

불소원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로서는 실록산 결합 및 플루오로카본쇄를 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팍 R08, 동 BL20, 동 F475, 동 F477, 동 F443[다이니혼잉크가가쿠고교(주)제] 등을 들 수 있다.As a silicone type surfactant which has a fluorine atom, surfactant which has a siloxane bond and a fluorocarbon chain | strand is mentioned. Specifically, Megapak R08, East BL20, East F475, East F477, East F443 (manufactured by Dainiphon Ink Chemical Industries, Ltd.), and the like can be given.

이들 계면활성제는 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.

이들 계면활성제를 함유하는 경우, 이의 함유량은, 계면활성제를 제외한 착색 감광성 수지 조성물 100질량부에 대해, 통상적으로 0.0005질량부 내지 0.6질량부, 바람직하게는 0.001질량부 내지 0.5질량부 범위로 사용된다. 계면활성제의 함유량이 0.0005질량부 내지 0.6질량부이면, 평탄성이 양호해지는 경향이 있으며 바람직하다.When it contains these surfactant, its content is normally used in 0.0005 mass part-0.6 mass part, Preferably it is 0.001 mass part-0.5 mass part with respect to 100 mass parts of coloring photosensitive resin compositions except surfactant. . If content of surfactant is 0.0005 mass part-0.6 mass part, there exists a tendency for flatness to become favorable and it is preferable.

충전제로서는, 예를 들면, 유리, 알루미나 등의 미립자를 들 수 있다.As a filler, microparticles | fine-particles, such as glass and alumina, are mentioned, for example.

결합제 중합체 이외의 고분자 화합물로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a high molecular compound other than a binder polymer, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethyleneglycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, etc. are mentioned, for example.

밀착 촉진제로서는, 예를 들면, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the adhesion promoter include vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxymethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltri Methoxysilane, etc. are mentioned.

산화방지제로서는, 예를 들면, 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다.As antioxidant, 4,4'- thiobis (6-t- butyl- 3-methyl phenol), 2, 6- di- t- butyl- 4-methyl phenol, etc. are mentioned, for example.

자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2-(2-하이드록시-3-t-부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸 등의 벤조트리아졸계, 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논 등의 벤조페논계, 2,4-디-t-부틸페닐-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤조에이트 등의 벤조에이트계, 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-헥실옥시페놀 등의 트리아진계 등을 들 수 있다.As a ultraviolet absorber, benzotriazole type, 2-hydroxy-4-octyloxy benzophenone, such as 2- (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, for example. Benzoate type, such as benzophenone series and 2, 4- di-t- butylphenyl-3, 5-di-t-butyl-4-hydroxy benzoate, 2- (4, 6- diphenyl-1) And triazine-based compounds such as 3,5-triazin-2-yl) -5-hexyloxyphenol.

응집 방지제로서는, 예를 들면, 폴리아크릴산나트륨 등을 들 수 있다.As an aggregation inhibitor, sodium polyacrylate etc. are mentioned, for example.

유기산으로서는, 예를 들면, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 지방족 모노카복실산류;Examples of the organic acid include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid and caprylic acid;

옥살산, 말론산, 석신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 브라스산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸석신산, 테트라메틸석신산, 사이클로헥산디카복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산 등의 지방족 디카복실산류;Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brass acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methyl succinic acid, tetramethyl Aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid;

트리카발릴산, 아코니트산, 캄포론산 등의 지방족 트리카복실산류;Aliphatic tricarboxylic acids such as tricavalrylic acid, aconitic acid and camphoronic acid;

벤조산, 톨루일산, 쿰산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카복실산류;Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelic acid and mesitylene acid;

프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카복실산류;Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid;

트리멜리트산, 트리메스산, 멜로판산, 피로멜리트산 등의 방향족 폴리카복실산류 등을 들 수 있다.Aromatic polycarboxylic acids, such as trimellitic acid, trimesic acid, a melanoic acid, a pyromellitic acid, etc. are mentioned.

유기 아미노 화합물로서는, 예를 들면, n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민 등의 모노알킬아민류;As an organic amino compound, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n, for example Monoalkylamines such as -heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine and n-dodecylamine;

사이클로헥실아민, 2-메틸사이클로헥실아민, 3-메틸사이클로헥실아민, 4-메틸사이클로헥실아민 등의 모노사이클로알킬아민류;Monocycloalkylamines such as cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, and 4-methylcyclohexylamine;

메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸 n-프로필아민, 에틸 n-프로필아민, 디 n-프로필아민, 디 i-프로필아민, 디 n-부틸아민, 디 i-부틸아민, 디 sec-부틸아민, 디 t-부틸아민, 디 n-펜틸아민, 디 n-헥실아민 등의 디알킬아민류;Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di n-propylamine, di i-propylamine, di n-butylamine, di i-butylamine, di sec-butylamine, Dialkyl amines such as di t-butylamine, di n-pentylamine and di n-hexylamine;

메틸사이클로헥실아민, 에틸사이클로헥실아민 등의 모노알킬모노사이클로알킬아민류;Monoalkyl monocycloalkylamines such as methylcyclohexylamine and ethylcyclohexylamine;

디사이클로헥실아민 등의 디사이클로알킬아민류;Dicycloalkylamines such as dicyclohexylamine;

디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸 n-프로필아민, 디에틸 n-프로필아민, 메틸디 n-프로필아민, 에틸디 n-프로필아민, 트리 n-프로필아민, 트리 i-프로필아민, 트리 n-부틸아민, 트리 i-부틸아민, 트리 sec-부틸아민, 트리 t-부틸아민, 트리 n-펜틸아민, 트리 n-헥실아민 등의 트리알킬아민류;Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyldi n-propylamine, ethyldi n-propylamine, tri n-propylamine, tri i-propyl Trialkylamines such as amine, tri n-butylamine, tri i-butylamine, tri sec-butylamine, tri t-butylamine, tri n-pentylamine and tri n-hexylamine;

디메틸사이클로헥실아민, 디에틸사이클로헥실아민 등의 디알킬모노사이클로알킬아민류;Dialkyl monocycloalkylamines such as dimethylcyclohexylamine and diethylcyclohexylamine;

메틸디사이클로헥실아민, 에틸디사이클로헥실아민, 트리사이클로헥실아민 등의 모노알킬디사이클로알킬아민류;Monoalkyldicycloalkylamines such as methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine and tricyclohexylamine;

2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올 등의 모노알칸올아민류;Monoalkanes such as 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol Olamines;

4-아미노-1-사이클로헥산올 등의 모노사이클로알칸올아민류;Monocycloalkanolamines such as 4-amino-1-cyclohexanol;

디에탄올아민, 디 n-프로판올아민, 디 i-프로판올아민, 디 n-부탄올아민, 디 i-부탄올아민, 디 n-펜탄올아민, 디 n-헥산올아민 등의 디알칸올아민류;Dialkanolamines such as diethanolamine, di n-propanolamine, di i-propanolamine, di n-butanolamine, di i-butanolamine, di n-pentanolamine, and di n-hexanolamine;

디(4-사이클로헥산올)아민 등의 디사이클로알칸올아민류;Dicycloalkanolamines such as di (4-cyclohexanol) amine;

트리에탄올아민, 트리 n-프로판올아민, 트리 i-프로판올아민, 트리 n-부탄올아민, 트리 i-부탄올아민, 트리 n-펜탄올아민, 트리 n-헥산올아민 등의 트리알칸올아민류;Trialkanolamines such as triethanolamine, tri n-propanolamine, tri i-propanolamine, tri n-butanolamine, tri i-butanolamine, tri n-pentanolamine, and tri n-hexanolamine;

트리(4-사이클로헥산올)아민 등의 트리사이클로알칸올아민류;Tricycloalkanolamines such as tri (4-cyclohexanol) amine;

3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등의 아미노알칸디올류;3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 3-dimethylamino-1,2 Aminoalkanediols such as propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol and 2-diethylamino-1,3-propanediol;

4-아미노-1,2-사이클로헥산디올, 4-아미노-1,3-사이클로헥산디올 등의 아미노사이클로알칸디올류;Aminocycloalkanediols such as 4-amino-1,2-cyclohexanediol and 4-amino-1,3-cyclohexanediol;

1-아미노사이클로펜탄온메탄올, 4-아미노사이클로펜탄온메탄올 등의 아미노기 함유 사이클로알칸온메탄올류;Amino group-containing cycloalkanonemethanols such as 1-aminocyclopentanon methanol and 4-aminocyclopentanon methanol;

1-아미노사이클로헥산온메탄올, 4-아미노사이클로헥산온메탄올, 4-디메틸아미노사이클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노사이클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노사이클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노사이클로헥산메탄올 등의 아미노기 함유 사이클로알칸메탄올류;1-aminocyclohexanonemethanol, 4-aminocyclohexanonemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanmethanol, 4-diethylaminocyclopentanmethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, 4-diethylaminocyclohexanemethanol Amino group-containing cycloalkanethanols;

β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소아세트산, 3-아미노이소아세트산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프로산, 1-아미노사이클로프로판카복실산, 1-아미노사이클로헥산카복실산, 4-아미노사이클로헥산카복실산 등의 아미노카복실산류;β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisoacetic acid, 3-aminoisoacetic acid, 2-aminovaleric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1 Aminocarboxylic acids such as aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid;

아닐린, o-메틸아닐린, m-메틸아닐린, p-메틸아닐린, p-에틸아닐린, p-n-프로필아닐린, p-i-프로필아닐린, p-n-부틸아닐린, p-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, p-메틸-N,N-디메틸아닐린 등의 방향족 아민류;Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propylaniline, pi-propylaniline, pn-butylaniline, pt-butylaniline, 1-naphthylamine, 2- Aromatic amines such as naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline and p-methyl-N, N-dimethylaniline;

o-아미노벤질알콜, m-아미노벤질알콜, p-아미노벤질알콜, p-디메틸아미노벤질알콜, p-디에틸아미노벤질알콜 등의 아미노벤질알콜류;aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol and p-diethylaminobenzyl alcohol;

o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀, p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등의 아미노페놀류;aminophenols such as o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol and p-diethylaminophenol;

m-아미노벤조산, p-아미노벤조산, p-디메틸아미노벤조산, p-디에틸아미노벤조산 등의 아미노벤조산류 등을 들 수 있다.and aminobenzoic acids such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid and p-diethylaminobenzoic acid.

경화제로서는, 예를 들면, 가열함으로써 결합제 중합체 중의 카복실기와 반응하여 결합제 중합체를 가교할 수 있는 화합물을 들 수 있다. 또한, 이것을 단독으로 중합하여 착색 패턴를 경화시킬 수 있는 화합물도 들 수 있다. 상기 화합물로서는, 예를 들면, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.As a hardening | curing agent, the compound which can crosslink a binder polymer by reacting with the carboxyl group in a binder polymer by heating, for example is mentioned. Moreover, the compound which can superpose | polymerize this independently and harden a coloring pattern is mentioned. As said compound, an epoxy compound, an oxetane compound, etc. are mentioned, for example.

에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 에폭시화유 등의 에폭시 수지나 이들 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 이의 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족의 에폭시 화합물, 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화물, 이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화물, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아누레이트를 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, novolac type epoxy resins, other aromatic epoxy resins, and alicyclic epoxy resins. Epoxy resins such as heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, epoxidized oils, and brominated derivatives of these epoxy resins, epoxy resins and aliphatic, alicyclic or aromatic epoxys other than brominated derivatives thereof. The compound, the epoxide of the (co) polymer of butadiene, the epoxide of the (co) polymer of isoprene, the (co) polymer of glycidyl (meth) acrylate, and triglycidyl isocyanurate are mentioned.

옥세탄 화합물로서는, 예를 들면, 카보네이트비스옥세탄, 크실릴렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 사이클로헥산디카복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.As an oxetane compound, carbonate bis oxetane, xylylene bis oxetane, adipate bis oxetane, a terephthalate bis oxetane, a cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane, etc. are mentioned, for example.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 경화제로서 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 함유하는 경우에는 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합시킬 수 있는 화합물을 함유할 수 있다. 상기 화합물로서는, 예를 들면, 다가 카복실산류, 다가 카복실산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다.When the coloring photosensitive composition of this invention contains an epoxy compound, an oxetane compound, etc. as a hardening | curing agent, the coloring photosensitive composition can contain the compound which can ring-open-polymerize the epoxy group of an epoxy compound, the oxetane skeleton of an oxetane compound. As said compound, polyhydric carboxylic acid, polyhydric carboxylic anhydride, an acid generator, etc. are mentioned, for example.

다가 카복실산류로서는, 예를 들면, 프탈산, 3,4-디메틸프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 등의 방향족 다가 카복실산류;Examples of the polyvalent carboxylic acids include phthalic acid, 3,4-dimethylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, 3,3 ', 4, Aromatic polyhydric carboxylic acids such as 4'-benzophenone tetracarboxylic acid;

석신산, 글루타르산, 아디프산, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 지방족 다가 카복실산류;Aliphatic polyvalent carboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid;

헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로이소프탈산, 헥사하이드로테레프탈산, 1,2,4-사이클로펜탄트리카복실산, 1,2,4-사이클로헥산트리카복실산, 사이클로펜탄테트라카복실산, 1,2,4,5-사이클로헥산테트라카복실산 등의 지환족 다가 카복실산류 등을 들 수 있다.Hexahydrophthalic acid, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, 1 Alicyclic polyhydric carboxylic acids, such as a 2,4, 5- cyclohexane tetracarboxylic acid, etc. are mentioned.

다가 카복실산 무수물류로서는, 예를 들면, 무수 프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 트리멜리트산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 2무수물 등의 방향족 다가 카복실산 무수물류;As polyhydric carboxylic anhydride, For example, Aromatic polyhydric carboxylic anhydrides, such as phthalic anhydride, a pyromellitic dianhydride, a trimellitic anhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride;

무수 이타콘산, 무수 석신산, 무수 시트라콘산, 무수 도데세닐석신산, 무수 트리카발릴산, 무수 말레산, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산 2무수물 등의 지방족 다가 카복실산 무수물류;Aliphatic polyhydric carboxylic anhydrides such as itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, tricavallylic acid, maleic anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;

무수 헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2,4-사이클로펜탄트리카복실산 무수물, 1,2,4-사이클로헥산트리카복실산 무수물, 사이클로펜탄테트라카복실산 2무수물, 1,2,4,5-사이클로헥산테트라카복실산 2무수물, 무수 하임산, 무수 나즈산 등의 지환족 다가 카복실산 무수물류;Hexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic anhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2, Alicyclic polyhydric carboxylic acid anhydrides such as 4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, hyimic anhydride and nazic anhydride;

에틸렌글리콜비스트리멜리테이트산, 글리세린트리스트리멜리테이트 무수물 등의 에스테르기 함유 카복실산 무수물류 등을 들 수 있다.Ester group containing carboxylic anhydrides, such as ethylene glycol bistrimellitate acid and glycerin tristrimellitate anhydride, etc. are mentioned.

카복실산 무수물류로서, 에폭시 수지 경화제로서 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다. 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명 「아데카하드너EH-700」[아사히덴카고교(주)제], 상품명 「리카시드 HH」[신니혼이카(주)제], 상품명 「MH-700」[신니혼이카(주)제] 등을 들 수 있다.As carboxylic anhydrides, what is marketed as an epoxy resin hardener can be used. As an epoxy resin hardening | curing agent, for example, a brand name "adekahardner EH-700" [made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.], a brand name "Lica seed HH" [made by Shin-Nihon Ika Co., Ltd.], a brand name "MH-700" [Shin-Nihon Ika Co., Ltd. product] etc. are mentioned.

상기한 경화제는 각각 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Said hardening | curing agent can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면, 하기와 같이 하여 제조할 수 있다. 즉, 착색제(A)를 미리 용제(E)와 혼합하고 착색제의 평균 입자직경이 0.2μm 이하 정도로 될 때까지 비드 밀 등을 사용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 결합제 중합체(B)의 일부 또는 전부가 배합되는 경우도 있다. 수득된 분산액(밀 베이스)에 결합제 중합체(B)의 잔량, 광중합성 화합물(C) 및 광중합 개시제(D), 성분(F), 필요에 따라 사용되는 기타 성분, 또한 필요에 따라 추가의 용제를 소정 농도로 되도록 추가하며 목적하는 착색 감광성 수지 조성물을 수득한다.The coloring photosensitive resin composition of this invention can be manufactured as follows, for example. That is, the coloring agent (A) is previously mixed with the solvent (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the coloring agent is about 0.2 µm or less. Under the present circumstances, a pigment dispersant is used as needed and one part or all part of binder polymer (B) may be mix | blended. In the obtained dispersion (mill base), the remaining amount of the binder polymer (B), the photopolymerizable compound (C) and the photopolymerization initiator (D), the component (F), other components used as necessary, and further solvents as necessary It is added so that it may become a predetermined | prescribed density, and the desired coloring photosensitive resin composition is obtained.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 패턴을 형성하는 방법으로서는 구체적으로는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고, 도포된 착색 감광성 수지 조성물 층으로부터 용제 등의 휘발 성분을 제거하며, 포토마스크를 통해 휘발 성분이 제거된 층을 노출한 다음, 현상하는 방법을 들 수 있다.Specifically as a method of forming a pattern using the coloring photosensitive resin composition of this invention, the coloring photosensitive resin composition of this invention is apply | coated on a board | substrate, and volatile components, such as a solvent, are removed from the applied coloring photosensitive resin composition layer, A method of exposing the layer from which the volatile components have been removed through a mask and then developing may be mentioned.

기판으로서는, 예를 들면, 유리 기판, 실리콘 기판, 폴리카보네이트 기판, 폴리에스테르 기판, 방향족 폴리아미드 기판, 폴리아미드이미드 기판, 폴리이미드 기판, Al 기판, GaAs 기판 등의 표면이 평탄한 기판을 들 수 있다. 이들 기판은 실란 커플링제 등의 약품에 의한 약품처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅 처리, 스퍼터링 처리, 기상 반응처리, 진공 증착처리 등의 전처리를 실시할 수 있다. 기판으로서 실리콘 기판 등을 사용하는 경우, 실리콘 기판 등의 표면에는 전하 결합소자(CCD), 박막 트랜지스터(TFT) 등이 형성될 수 있다.As a board | substrate, the board | substrate with flat surfaces, such as a glass substrate, a silicon substrate, a polycarbonate board | substrate, a polyester board | substrate, an aromatic polyamide board | substrate, a polyamideimide board | substrate, a polyimide board | substrate, Al substrate, GaAs board | substrate, is mentioned, for example. . These substrates can be subjected to pretreatment such as chemical treatment with chemicals such as silane coupling agents, plasma treatment, ion plating treatment, sputtering treatment, vapor phase reaction treatment and vacuum deposition treatment. When a silicon substrate or the like is used as the substrate, a charge coupled device (CCD), a thin film transistor (TFT), or the like may be formed on a surface of the silicon substrate or the like.

당해 기판 위에 착색 감광성 수지 조성물을 도포하는 데는, 예를 들면, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 회전 도포법(스핀 피복법), 유연 도포법, 롤 도포법, 슬리트 앤드 스핀 피복법, 슬리트 피복법 등의 통상적인 도포방법으로 기판 등의 위에 도포한 다음, 용제 등의 휘발 성분을 가열에 의해 휘발시키면 양호하다. 이와 같이 기판 등의 위에 착색 감광성 수지 조성물의 고형분으로 이루어진 층이 형성된다.In order to apply colored photosensitive resin composition on the said board | substrate, for example, the colored photosensitive resin composition of this invention is spin-coating method (spin coating method), casting | flow_spread coating method, roll coating method, the slitting and spin coating method, and the slitting It is good to apply | coat on a board | substrate etc. by usual coating methods, such as a coating method, and to volatilize volatile components, such as a solvent, by heating. Thus, the layer which consists of solid content of a coloring photosensitive resin composition is formed on substrates etc.

이어서, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분으로 이루어진 층(이하, 이것을 착색 감광성 수지 조성물 고형분층이라고 하는 경우가 있다)을 노출한다. 노출하는 데는, 예를 들면, 포토마스크를 통해 광선을 조사하면 양호하다. 광선으로서는 통상적으로 g선(파장 436nm), i선(파장 365nm)이라고 호칭되는 자외선 등이 사용된다. 광선은 포토마스크를 통해 조사되지만, 여기서 포토마스크는, 예를 들면, 유리판의 표면에 광선을 차폐하는 차광층이 설치된 것이다. 유리판 중의 차광층이 설치되어 있지 않은 부분은 광선이 투과하는 투광부이고, 이러한 투광부의 패턴에 따른 패턴에서 착색 감광성 수지 조성물 층이 노출되어 광선이 조사되지 않은 미조사 영역과 광선이 조사된 조사영역이 생긴다. 조사영역에서 광선의 조사량은 결합제 중합체의 중량 평균 분자량, 단량체비, 함유량, 광중합성 화합물의 종류나 함유량, 광중합 개시제의 종류나 함유량, 광중합 개시 조제의 종류나 함유량 등에 따라 적절하게 선택된다.Next, the layer (henceforth this may be called colored photosensitive resin composition solid content layer) which consists of solid content of a colored photosensitive resin composition is exposed. For exposing, it is good to irradiate a light ray through a photomask, for example. As a light ray, ultraviolet rays etc. called g line | wire (wavelength 436 nm) and i line | wire (wavelength 365 nm) are used normally. The light rays are irradiated through the photomask, but the photomask is provided with a light shielding layer that shields the light rays, for example, on the surface of the glass plate. The part in which the light shielding layer is not provided in the glass plate is a light transmitting part through which light rays are transmitted, and an unirradiated area in which light is not irradiated and an irradiated area in which light is irradiated by exposing the colored photosensitive resin composition layer in a pattern according to the pattern of the light transmitting part. This occurs. The irradiation amount of light in the irradiation region is appropriately selected depending on the weight average molecular weight, monomer ratio, content of the binder polymer, the kind and content of the photopolymerizable compound, the kind and content of the photopolymerization initiator, the kind and content of the photopolymerization initiator, and the like.

노출후, 현상한다. 현상하는 데는, 예를 들면, 노출후의 착색 감광성 수지 조성물 층을 현상액과 접촉시키면 양호하고, 구체적으로는 이의 표면 위에 착색 감광성 수지 조성물 층이 형성된 상태의 기판을 현상액에 침지하면 양호하다. 현상액으로서는, 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 등의 알칼리성 화합물의 수용액 등을 들 수 있다. 현상에 의해 착색 감광성 수지 조성물 층 중의 광선이 조사되지 않은 미조사 영역은 제거된다. 한편, 광선 조사영역은 그대로 잔류하여 패턴을 구성한다.After exposure, develop. For development, for example, the colored photosensitive resin composition layer after exposure may be brought into contact with a developer, and specifically, a substrate in a state where a colored photosensitive resin composition layer is formed on its surface may be immersed in a developer. As a developing solution, aqueous solution of alkaline compounds, such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, etc. are mentioned, for example. By the image development, the unirradiated area | region to which the light ray in the colored photosensitive resin composition layer was not irradiated is removed. On the other hand, the light irradiation region remains as it is to form a pattern.

현상후, 통상적으로는 수세하여 건조함으로써 목적하는 패턴을 수득할 수 있다. 건조후, 가열할 수 있다. 패턴을 가열함으로써 경화하여 이의 기계적 강도가 향상되는 경향이 있으며, 착색 감광성 수지 조성물로서 경화제를 함유하는 것을 사용하는 경우에는 기계적 강도를 보다 향상시킬 수 있다. 가열온도는 통상적으로 180℃ 이상, 바람직하게는 200℃ 이상이며, 통상적으로 250℃ 이하이다.After development, a desired pattern can usually be obtained by washing with water and drying. After drying, it can be heated. It exists in the tendency for it to harden by heating a pattern and to improve its mechanical strength, and when using what contains a hardening | curing agent as a coloring photosensitive resin composition, mechanical strength can be improved more. The heating temperature is usually at least 180 ° C, preferably at least 200 ° C, and usually at most 250 ° C.

이와 같이 착색 패턴이 형성된 기판 위에 보다 상이한 색깔의 착색제를 함유하여 상이한 색깔로 착색된 착색 감광성 수지 조성물로 이루어진 층을 형성하고, 당해 층을 노출한 후, 현상함으로써 다시 착색 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 상이한 색깔로 착색된 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 상기한 조작을 반복하여 실시함으로써 순차적으로 착색 패턴을 형성할 수 있으며, 목적하는 컬러 필터를 제조할 수 있다. 즉, 컬러 필터는 통상적으로 블랙 매트릭스 및 적, 녹 및 청의 삼원색 착색 패턴을 기판 위에 배치한 것이지만, 어떤 색에 상당하는 착색제를 함유하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 상기한 조작을 실시함으로써이러한 색깔의 블랙 매트릭스 또는 착색 패턴을 수득하고, 다른 색에 대해서도 원하는 색깔에 상당하는 착색제를 함유하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 동일한 조작을 실시하며, 블랙 매트릭스 및 삼원색 착색 패턴을 기판 위에 배치할 수 있다. 또한, 기판 위에 일단 어떤 색깔의 착색 패턴 또는 블랙 매트릭스를 배치한 후, 다른 색깔의 착색 감광성 수지 조성물을 처리하는 경우에는, 당해 어떤 색깔의 착색 패턴 또는 블랙 매트릭스가 배치된 기판 위에 별도의 색깔의 착색 감광성 수지 조성물을 도포하여 건조한 다음, 통상적으로는 당해 어떤 색깔의 착색 패턴 또는 블랙 매트릭스가 배치되어 있지 않은 위치에 패터닝 노출이 이루어지며, 노출된 위치에 당해 다른 색깔의 착색 패턴 또는 블랙 매트릭스가 배치되는 것으로 된다. 물론, 블랙 매트릭스 및 삼원색 중의 1종류, 2종류 또는 3종류에만 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 적용할 수 있다. 또한 차광층인 블랙 매트릭스는, 예를 들면, 크롬층 등으로 형성되는 경우도 있으므로, 이 경우에는 물론 블랙 매트릭스의 형성에 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용할 필요는 없다.Thus, a coloring pattern can be formed again by forming the layer which consists of a coloring photosensitive resin composition colored with a different color by containing a coloring agent of a different color on the board | substrate with a coloring pattern, exposing the said layer, and developing. In addition, by repeating the above operation using the colored photosensitive resin composition colored with different colors, the colored pattern can be formed sequentially, and a desired color filter can be produced. That is, although the color filter normally arrange | positions the black matrix and the three primary color coloring patterns of red, green, and blue on a board | substrate, by performing the above operation using the coloring photosensitive resin composition of this invention containing the coloring agent corresponding to a certain color. A black matrix or colored pattern of such a color is obtained, and the same operation is carried out using the colored photosensitive resin composition of the present invention containing a colorant corresponding to a desired color for other colors, and the black matrix and the trichromatic colored pattern are placed on the substrate. Can be placed. In addition, when disposing a colored pattern or black matrix of a certain color on the substrate once and then treating the colored photosensitive resin composition of another color, coloring of a separate color on the substrate on which the colored pattern or black matrix of the certain color is disposed After applying and drying the photosensitive resin composition, patterning exposure is usually performed at a position where no colored pattern or black matrix of any color is disposed, and the colored pattern or black matrix of the other color is disposed at the exposed position. It becomes. Of course, the coloring photosensitive resin composition of this invention can be applied only to 1 type, 2 types, or 3 types of a black matrix and three primary colors. In addition, since the black matrix which is a light shielding layer may be formed with a chromium layer etc., in this case, of course, it is not necessary to use the coloring photosensitive resin composition of this invention for formation of a black matrix.

이와 같이 수득되는 컬러 필터는 패턴을 포함하는 것이며, 상기한 컬러 필터를 액정 표시장치에 편입함으로써 적절한 액정 표시장치가 수득된다.The color filter obtained in this way contains a pattern, and an appropriate liquid crystal display device is obtained by incorporating said color filter in a liquid crystal display device.

상기에서 본 발명의 실시 형태에 관해 설명을 했지만, 상기에 개시된 본 발명의 실시 형태는 어디까지나 예시이며, 본 발명의 범위는 이들 실시 형태로 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구의 범위에 따라 기재되며, 또한 특허청구의 범위의 기재와 균등한 의미 및 범위내에서의 모든 변경을 포함하는 것이다. 이하, 실시예에 따라 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Although embodiment of this invention was described above, embodiment of this invention disclosed above is an illustration to the last, and the scope of the present invention is not limited to these embodiment. The scope of the invention is described according to the scope of the claims, and is intended to include all modifications within the meaning and range equivalent to the description of the claims. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by these Examples.

본 실시예에서 사용하는 성분은 하기와 같으며, 이하 생략하여 표시하는 경우가 있다The component used by a present Example is as follows, and may abbreviate | omit it and display it below.

(A-1) 착색제: C.I. 피그먼트 레드 254(A-1) Colorant: C.I. Pigment Red 254

(A-2) 착색제: C.I.피그먼트 옐로 139(A-2) Colorant: C.I. Pigment Yellow 139

(B) 결합제 중합체: 메타크릴산과 벤질메타크릴레이트의 공중합체[메타크릴산 단위와 벤질메타크릴레이트 단위의 비는 물질량비(몰비)로 25:75, 산가는 83, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량은 18,000(B) Binder polymer: copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate [the ratio of the methacrylic acid unit and the benzyl methacrylate unit is 25:75, the acid value of 83, polystyrene conversion weight average molecular weight 18,000

결합제 중합체의 중량 평균 분자량의 측정에 관해서는 GPC법을 사용하여 하기의 조건으로 실시한다.About the measurement of the weight average molecular weight of a binder polymer, it carries out on condition of the following using GPC method.

장치; HLC-8120 GPC[도소(주)제]Device; HLC-8120 GPC [manufactured by Tosoh Corporation]

컬럼; TSK-GELG 2000HXLcolumn; TSK-GELG 2000HXL

컬럼 온도; 40℃Column temperature; 40 ℃

용매; THFmenstruum; THF

폴리스티렌 표준품: 폴리스티렌(도소가부시키가이샤 제품, Mw: 9100)Polystyrene Standard: Polystyrene (manufactured by Tosoh Corp., Mw: 9100)

유속; 1.Oml/minFlow rate; 1.Oml / min

주입량; 50μlInjection amount; 50 μl

검출기; RIDetectors; RI

(C) 광중합성 화합물: 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(C) photopolymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate

(D-1) 광중합 개시제: 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(D-1) Photoinitiator: 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one

(D-2) 광중합 개시제: 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진(D-2) Photoinitiator: 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine

(G-1) 광중합 개시 조제: 2,4-디에틸티옥산톤(G-1) Photopolymerization start adjuvant: 2,4-diethyl thioxanthone

(E-1) 용제: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate

(E-2) 용제: 3-에톡시프로피온산에틸(E-2) Solvent: Ethyl 3-ethoxypropionate

(F) 2-부틸-2-에틸-1,3-β-하이드록시에톡시에톡시-프로판[니혼유카제(주)제](F) 2-butyl-2-ethyl-1,3-β-hydroxyethoxyethoxy-propane [manufactured by Nippon Yu-Kase Co., Ltd.]

(G) 메가팍(상품명) F475[다이니혼잉크가가쿠고교(주)제](G) Mega pack (brand name) F475 [product made in Dainihon Ink Chemical Co., Ltd.]

실시예 1Example 1

착색 감광성 수지 조성물의 제조Preparation of colored photosensitive resin composition

(A-1) 26.80질량부(A-1) 26.80 parts by mass

(A-2) 6.70질량부(A-2) 6.70 parts by mass

분산제 10.27질량부10.27 parts by mass of dispersant

(B) 20.71질량부(B) 20.71 parts by mass

(C) 25.31질량부(C) 25.31 parts by mass

(D-1) 2.76질량부(D-1) 2.76 parts by mass

(D-2) 2.76질량부(D-2) 2.76 parts by mass

(G-1) 2.76질량부(G-1) 2.76 parts by mass

(E-1) 410.00질량부(E-1) 410.00 parts by mass

(E-2) 45.56질량부(E-2) 45.56 parts by mass

(F) 1.84질량부(F) 1.84 parts by mass

(G) 0.08질량부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물 1(고형분: 18%)을 수득한다.(G) 0.08 mass part is mixed, and the coloring photosensitive resin composition 1 (solid content: 18%) is obtained.

점도의 측정Measurement of viscosity

착색 감광성 수지 조성물 1을 액온 23℃에서 E형 점도계 콘플레이트를 사용하여 50rpm에서 측정한 점도는 3.89cP이다.The viscosity of the colored photosensitive resin composition 1 measured at 50 rpm using an E-type viscometer corn plate at a liquid temperature of 23 ° C. is 3.89 cP.

스핀 피복기에서의 평가Evaluation in spin coater

착색 감광성 수지 조성물 1을 스핀 피복기를 사용하여 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득된다.When the colored photosensitive resin composition 1 was formed using the spin coater, the coating film with favorable flatness and no nonuniformity is obtained.

스핀레스 피복기에서의 평가Evaluation on Spinless Coating Machine

착색 감광성 수지 조성물 1을 스핀레스 피복기를 사용하여 도포막을 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득된다.As a result of forming a coating film using the coloring photosensitive resin composition 1 using a spinless coating machine, a coating film having good flatness and no unevenness is obtained.

실시예 2Example 2

(A-1) 26.80질량부(A-1) 26.80 parts by mass

(A-2) 6.70질량부(A-2) 6.70 parts by mass

분산제 10.27질량부10.27 parts by mass of dispersant

(B) 20.05질량부(B) 20.05 parts by mass

(C) 24.51질량부(C) 24.51 parts by mass

(D-1) 2.67질량부(D-1) 2.67 parts by mass

(D-2) 2.67질량부(D-2) 2.67 parts by mass

(G-1) 2.67질량부(G-1) 2.67 parts by mass

(E-1) 410.00질량부(E-1) 410.00 parts by mass

(E-2) 45.56질량부(E-2) 45.56 parts by mass

(F) 3.57질량부(F) 3.57 parts by mass

(G) 0.08질량부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물 2(고형분: 18%)을 수득한다.(G) 0.08 mass part is mixed, and the coloring photosensitive resin composition 2 (solid content: 18%) is obtained.

점도의 측정Measurement of viscosity

착색 감광성 수지 조성물 2를 액온 23℃에서 E형 점도계 콘플레이트를 사용하여 50rpm에서 측정한 점도는 3.87cP이다.The viscosity of the colored photosensitive resin composition 2 measured at 50 rpm using an E-type viscometer corn plate at a liquid temperature of 23 ° C. is 3.87 cP.

스핀 피복기에서의 평가Evaluation in spin coater

착색 감광성 수지 조성물 2를 스핀 피복기를 사용하여 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득된다.When the colored photosensitive resin composition 2 was formed using the spin coater, the coating film with favorable flatness and no nonuniformity is obtained.

스핀레스 피복기에서의 평가Evaluation on Spinless Coating Machine

착색 감광성 수지 조성물을 스핀레스 피복기를 사용하여 도포막을 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득된다.As a result of forming the coating film using the spinless coating machine for the colored photosensitive resin composition, a coating film having good flatness and no unevenness is obtained.

비교예 1Comparative Example 1

(A-1) 26.80질량부(A-1) 26.80 parts by mass

(A-2) 6.70질량부(A-2) 6.70 parts by mass

분산제 10.27질량부10.27 parts by mass of dispersant

(B) 21.41질량부(B) 21.41 parts by mass

(C) 26.17질량부(C) 26.17 parts by mass

(D-1) 2.86질량부(D-1) 2.86 parts by mass

(D-2) 2.86질량부(D-2) 2.86 parts by mass

(G-1) 2.86질량부(G-1) 2.86 parts by mass

(E-1) 410.00질량부(E-1) 410.00 parts by mass

(E-2) 45.56질량부(E-2) 45.56 parts by mass

(G) 0.08질량부를 혼합하여 비교 착색 감광성 수지 조성물 1(고형분: 18%)을 수득한다.(G) 0.08 mass part is mixed and the comparative coloring photosensitive resin composition 1 (solid content: 18%) is obtained.

점도의 측정Measurement of viscosity

비교 착색 감광성 수지 조성물 1을 액온 23℃에서 E형 점도계 콘플레이트를 사용하여 50rpm에서 측정한 결과는 4.03cP이다.The result of having measured comparative coloring photosensitive resin composition 1 at 50 rpm using the E-type viscosity meter cone plate at liquid temperature of 23 degreeC is 4.03 cP.

스핀 피복기에서의 평가Evaluation in spin coater

비교 착색 감광성 수지 조성물 1을 스핀 피복기를 사용하여 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득된다.When the comparative coloring photosensitive resin composition 1 was formed using the spin coater, the coating film with favorable flatness and no nonuniformity is obtained.

스핀레스 피복기에서의 평가Evaluation on Spinless Coating Machine

비교 착색 감광성 수지 조성물 1을 스핀레스 피복기를 사용하여 도포막을 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득된다.As a result of forming a coating film using the comparative coloring photosensitive resin composition 1 using a spinless coating machine, a coating film having good flatness and no unevenness is obtained.

비교예 2Comparative Example 2

(A-1) 26.80질량부(A-1) 26.80 parts by mass

(A-2) 6.70질량부(A-2) 6.70 parts by mass

분산제 10.27질량부10.27 parts by mass of dispersant

(B) 21.41질량부(B) 21.41 parts by mass

(C) 26.17질량부(C) 26.17 parts by mass

(D-1) 2.86질량부(D-1) 2.86 parts by mass

(D-2) 2.86질량부(D-2) 2.86 parts by mass

(G-1) 2.86질량부(G-1) 2.86 parts by mass

(E-1) 510.00질량부(E-1) 510.00 parts by mass

(E-2) 56.67질량부(E-2) 56.67 parts by mass

(G) 0.08질량부를 혼합하여 비교 착색 감광성 수지 조성물 2(고형분: 15%)을 수득한다.(G) 0.08 mass part is mixed and the comparative coloring photosensitive resin composition 2 (solid content: 15%) is obtained.

점도의 측정Measurement of viscosity

비교 착색 감광성 수지 조성물 2를 액온 23℃에서 E형 점도계 콘플레이트를 사용하여 50rpm에서 측정한 점도는 3.44cP이다.The viscosity of the comparative coloring photosensitive resin composition 2 measured at 50 rpm using an E-type viscometer corn plate at a liquid temperature of 23 ° C. is 3.44 cP.

스핀 피복기에서의 평가Evaluation in spin coater

비교 착색 감광성 수지 조성물 2를 스핀 피복기를 사용하여 도포막을 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득된다.As a result of forming a coating film using the comparative coloring photosensitive resin composition 2 using a spin coater, a coating film having good flatness and no unevenness is obtained.

스핀레스 피복기에서의 평가Evaluation on Spinless Coating Machine

비교 착색 감광성 수지 조성물 2를 스핀레스 피복기를 사용하여 도포막을 형성한 결과, 평탄성이 양호하고 불균일이 없는 도포막이 수득되지만, 착색 감광성 수지 조성물의 사용량이 많아지고, 액 절약 피복기로서의 스핀레스 피복기의 우위성이 없어진다.As a result of forming the coating film using the comparative colored photosensitive resin composition 2 using a spinless coater, a coated film having good flatness and no nonuniformity is obtained, but the amount of the colored photosensitive resin composition is increased, resulting in a spinless coater as a liquid saving coating machine. Will lose its superiority.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하면, 스핀레스 피복기 등의 액 절약 피복기를 사용하여 도포할 때의 도포성이 양호하여 불균일이 없는 컬러 필터를 형성할 수 있고, 특히 슬리트 피복기를 사용할 때에는 착색 감광성 수지 조성물의 사용량을 삭감할 수 있다. 또한, 스핀 피복기를 사용해도 양호한 도포성을 수득할 수 있다.When the coloring photosensitive resin composition of this invention is used, the applicability | paintability at the time of apply | coating using liquid saving coating machines, such as a spinless coating machine, is good and can form a color filter without nonuniformity, Especially when using a slit coater The usage-amount of colored photosensitive resin composition can be reduced. Moreover, even if a spin coater is used, favorable applicability | paintability can be obtained.

Claims

A coloring photosensitive resin composition containing a coloring agent (A), a binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), a photoinitiator (D), a solvent (E), and the compound of Formula (F).

Formula 1

In Formula 1 above,

m and n are each a positive integer and m + n is 2-6.

The compound of formula (I) according to claim 1, wherein the compound of formula (F) is 2-butyl-2-ethyl-1,3-β-hydroxyethoxyethoxy-propane and 2-butyl-2-ethyl-1,3-β Colored photosensitive resin composition which is 1 or more types chosen from the group which consists of -hydroxyethoxy propane.

The colored photosensitive resin composition of Claim 1 or 2 whose content of the compound (F) of General formula (1) is 0.1 mass%-5 mass% in mass fraction with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition.

A method of forming a layer of a colored photosensitive resin composition on a substrate using a spin coater from the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 3.

The pattern of the pattern which apply | coats the coloring photosensitive resin composition of any one of Claims 1-3 on a board | substrate, removes a volatile component from the applied coloring photosensitive resin composition layer, and then exposes the said layer through a photomask. Formation method.

A color filter comprising a pattern formed by the method according to claim 5.

A liquid crystal display device comprising the color filter according to claim 6.