KR20040013481A - 치질 치료 장치 및 그에 이용되는 치료 용액 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 소금과 쑥을 이용한 치료 용액을 기본으로 하여 치질의 치료 효과를 더욱 높이기 위하여 환부에 약 40 내지 46℃의 치료 용액을 지속적으로 공급할 수 있는 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 치질 치료 장치는 치료 용액이 담겨지는 하부 부재 및 하부 부재 상에 위치하는 상부 부재(시트)로 구분되되, 하부 부재는 수평 격벽을 기준으로 용액이 담겨지는 상부 공간 및 하부 공간으로 구분되는 용기; 수평 격벽에 장착되어 환부로 치료 용액을 분사하는 노즐 조립체; 상기 상부 공간에 설치되어 치료 용액을 가열하는 가열 수단; 및 용기의 하부 공간에 위치하며 제 1 단을 통하여 상부 공간의 치료 용액을 배출하는 3지관(three-way tube), 3지관의 제 2 단에 연결되어 배출되는 치료 용액을 노즐 조립체에 공급하는 펌프 및 3지관의 제 3 단에 연결되어 치료 용액을 외부로 배출시키는 밸브를 포함한다. 본 발명에서는 쑥탕물을 40 내지 46℃ 정도로 가열한 후, 소금을 포화점까지 용해한 용액을 치료 용액으로서 이용한다.
Description
본 발명은 치질 치료 장치 및 그에 이용되는 치료 용액에 관한 것으로서, 특히 쑥과 소금을 함유한 치료 용액을 가열한 후 환부에 분사하고 그후 강제 순환시켜 다시 환부에 분사함으로서 치료 효과를 높이고 치료 용액의 효율성을 향상시킬 수 있는 치질 치료 장치 및 그에 이용되는 치료 용액에 관한 것이다.
치질은 직장(直腸) 하단, 항문 주위 조직에 생기는 질환으로서, 섬유성 식품을 다량으로 섭취하는, 한국인을 비롯한 동남아시아인들에게 흔히 발생하는 질환이다. 그러나, 일반인들은 치질을 항문을 청결히 하지 못해서 생기는 질환으로 인식하고 있으며, 따라서 치질을 앓고 있다는 것에 대하여 수치심을 갖고 있다. 또한, 신체의 은밀한 부위를 남에게 내보인다는 부끄러움 때문에 병원에서 치료받는 것을기피하고 있어 불편함과 통증을 참거나, 환자들 스스로 좌욕과 같은 자가 치료를 행하는 경우가 많다.
일반적으로 환자들은 좌욕용 용액이 담겨진 용기에 치질 환부를 담근 상태로 앉아 있어야 하며, 따라서 환자들이 불편한 자세를 가질 수 밖에 없다. 또한, 시간이 지남에 따라 좌욕용 용액의 온도가 낮아지고 또한 용액에 환부를 단지 담근 상태를 유지하기 때문에 좌욕 효과를 충분히 기대하기는 어렵다.
본 발명은 병원 치료를 기피하는 치질 환자들이 가정에서 손쉽게 치질을 치료할 수 있는 치질 치료 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 치료 용액을 적정 온도를 유지시킬 수 있으며, 환부에 치료 용액을 분사시킴으로서 좌욕 효과를 최대화할 수 있는 치질 치료 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 치질의 치료 또는 증상 완화를 위하여 소금과 쑥을 이용한 좌욕용 용액을 제공하는데 그 목적이 있다.
치질의 치료 또는 증상 완화를 위한 동양의 전통적인 방법중의 하나는 뜨거운 물 또는 소금이 용해된 물을 이용하여 좌욕을 하는 것이다. 최근에, 치질 전문의들은 환자들에게 수술에 앞서 뜨거운 물 또는 소금이 용해된 물(소금물)로 좌욕할 것을 권하고 있으며, 이는 뜨거운 물 또는 소금물이 치질의 치료 및 증상 완화에 상당한 효과가 있기 때문이다. 40 내지 46℃의 물로 암, 혹 또는 악성 세포를 치료할 수 있다는 미국의 연구 발표가 이를 뒷받침하고 있다.
또한, 동양의 전통 의학에서는 쑥은 악성 세포의 치료와 혈액 순환에 효과적인 재료로 간주하고 있다. 본 발명자는 소금과 쑥을 이용한 치료 용액과 종래의 좌욕 방법을 이용하여 15일만에 치질을 완치하였으나, 일반적인 좌욕은 환자의 자세가 불편하며, 시간이 경과함에 따라 소금과 쑥의 용액의 온도가 낮아져 좌욕의 효과가 만족스럽지 못하였다.
소금과 쑥을 이용한 치료 용액을 기본으로 하여 치료 효과를 더욱 높이기 위해서는 환부에 적정한 온도(약 45℃)의 치료 용액을 지속적으로 공급할 수 있는 장치가 요구되며, 따라서 본 발명자는 소금과 쑥을 이용한 치료 용액을 이용한 치질 치료 장치를 연구, 개발하였다.
본 발명에 따른 치질 치료 장치는 치료 용액이 담겨지는 하부 부재 및 하부 부재 상에 위치하는 상부 부재(시트)로 구분되되, 하부 부재는 수평 격벽을 기준으로 용액이 담겨지는 상부 공간 및 하부 공간으로 구분되는 용기; 용기의 상부 공간에 설치되어 치료 용액을 가열하는 가열 수단; 용기의 하부 부재의 수평 격벽에 장착되어 환부로 치료 용액을 분사하는 노즐 조립체; 용기 하부 부재의 상부 공간에서 배출된 치료 용액을 노즐 조립체로 공급하는 펌프를 포함한다.
본 발명에 따른 치질 치료 장치는, 용기의 하부 부재의 상부 공간에 연결된 제 1 단과, 상기 펌프에 연결된 제 2 단 및 밸브와 연결된 제 3 단으로 이루어진 3지관(three-way tube)을 더 포함하여 밸브가 잠겨진 상태에서 용기에서 배출된 치료 용액을 제 2 단을 통하여 펌프로 공급함으로서 치료 용액을 순환시켜 치료 용액을 계속적으로 환부에 분사할 수 있다.
가열 수단은 격벽의 내부에 위치할 수도 있으며, 온도 조절기에 연결되어 치료 용액의 온도에 맞추어 그 작동이 제어된다. 본 발명에서 이용된 치료 용액은 쑥탕물을 약 40 내지 46℃ 정도로 가열한 후, 소금을 용해한 용액이다.
이하, 본 발명에 따른 치질 치료 장치를 첨부한 도면을 참고하여 보다 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 치질 치료 장치를 구성하는 부재들의 관계를 도시하기 위한 치질 치료 장치의 부분 횡단면도.
도 2는 도 1에 도시된 부재들간의 전기적인 연결 관계를 도시한 도면.
도 1은 본 발명에 따른 치질 치료 장치의 부분 횡단면도로서, 치질 치료 장치를 구성하는 부재들을 도시하고 있다. 본 발명에 따른 치질 치료 장치는 크게 소금과 쑥을 이용한 치료 용액(이하, "치료 용액"이라 칭함)이 저장되는 용기(10) 및 용기(10) 내에 설치되어 치료 용액을 환부에 분사하는 노즐 조립체(20) 및 치료 용액의 조건을 조절하는 주변 부재로 이루어진다.
용기(10)는 치료 용액이 담겨지는 하부 부재(12) 및 하부 부재(12)의 상부에 힌지 운동 가능하게 설치된, 환자가 앉을 수 있는 링(ring)형의 상부 부재(11; 시트)로 구분된다. 하부 부재(12) 내에는 일정한 량의 치료 용액이 담겨지며, 또한 치료 용액의 분사를 위한 노즐 조립체(20)가 설치된다.
용기(10)의 하부 부재(12)는 노즐 조립체(20)가 고정, 설치된 중앙부의 수평 격벽(12-1)을 기준으로 용액이 담겨지는 상부 공간(S1)과 펌프 등과 같은 주변 부재가 설치된 하부 공간(S2)으로 구분된다. 하부 공간(S2)에는 제 1 단(31)을 통하여 상부 공간(S2)에 수용된 치료 용액을 배출하는 3지관(30; three-way tube), 3지관(30)의 제 2 단(32)에 연결되어 배출되는 치료 용액을 노즐 조립체(20)에 강제공급하는 펌프(40)가 위치하며, 3지관(30)의 제 3 단(33)에는 치료 용액을 외부로 배출시키는 밸브(50)가 연결되어 있다.
격벽(12-1)의 상부면에는 상부 공간(S1)에 담겨진 치료 용액을 가열하기 위한 가열 수단(60), 예를 들어 히터가 위치하며, 이 가열 수단(60)은 도시되지 않은 전원에 연결되어 있다. 한편, 이 가열 수단(60)은 격벽(12-1)의 내부에 설치될 수도 있음은 물론이다.
이상과 같이 구성된 치질 치료 장치의 작동을 도 1 및 도 2를 통하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 부재들간의 전기적인 연결 관계를 도시한 도면으로서, 전원선에는 브레이커(SW1), 램프(L), 가열 수단(60) 및 펌프(40)가 병렬로 연결되어 있으며, 가열 수단(60)에는 온도 조절기(61)가 직렬로 연결되어 있다.
한편, 브레이커(SW1)의 동작을 제어하는 브레이커 코일(SW1-1)은 타이머 스위치(TS)를 통하여 제 1 전원선에, 메인 스위치(SW2)를 통하여 제 2 전원선에 연결되어 있으며, 타이머 스위치(TS)와 제 2 전원선 사이에는 부저(B)가 연결되어 있다.
치료에 앞서, 사용자는 밸브(50)의 잠금 상태를 확인한 후, 치료 용액을 용기(10) 하부 부재(12)의 상부 공간(S1)에 투입한다. 또한, 타이머 스위치(TS)를 적절한 시간, 예를 들어 25분에 설정하고, 온도 조절기(61)를 46℃에 설정한다.
이후, 사용자는 용기(10)의 상부 부재(11)에 앉은 상태에서 환부를 노즐 조립체(도 1의 20)에 맞추고 이 상태에서 메인 스위치(SW2)를 온(on)하면, 브레이커 코일(SW1-1)에 전원이 공급된다. 브레이커 코일(SW1-1)의 작동에 따라 브레이커(SW1)가 온(on)되며, 따라서 장치의 가동을 알리는 램프(L), 치료 용액을 가열하는 가열 수단(60) 및 치료 용액을 순환시키는 펌프(40)가 작동한다. 치료 용액은 설정된 온도로 점차적으로 가열되며, 또한 펌프(40)의 작동에 따라 노즐 조립체(20)는 환부로 치료 용액을 분사한다.
한편, 환부로 분사된 치료 용액은 환부와 접촉한 후, 용기(10) 하부 부재 (12)의 상부 공간(S1)으로 떨어지며, 삼지관(30)을 통하여 펌프(40)로 유입된다. 펌프(40)에 의하여 다시 노즐 조립체(20)로 공급된 치료 용액은 환부로 다시 분사되며, 이러한 순환 과정은 설정된 시간동안 계속 이루어진다. 노즐 조립체(20)의 치료 용액 분사 과정에서 브레이커(SW1)에 병렬로 연결된 램프(L), 가열 수단(60) 및 펌프(40)는 계속적으로 작동됨은 물론이다. 한편, 치료 용액이 설정된 온도까지 가열되면, 온도 조절기(61)에 의하여 가열 수단(60)으로 인가되는 전원이 차단되어 치료 용액이 과도하게 가열되는 것이 방지한다.
이러한 작동은 타이머 스위치(TS)의 설정 시간동안 계속 이루어지며, 치료 용액이 설정된 온도보다 예를 들어 2℃ 이하로 떨어질 경우, 온도 조절기(61)가 작동하여 가열 수단(60)을 작동시킴으로서 치료 용액은 항상 설정된 온도 범위를 유지할 수 있다.
설정된 시간이 경과하면, 타이머 스위치(TS)가 브레이커 코일(SW1-1)로 공급되는 전원을 차단함으로서 브레이커(SW1)가 off되어 램프(L), 가열 수단(60) 및 펌프(40)의 동작이 정지된다. 또한, 타이머 스위치(TS)가 부저(B)로 전원을 공급함으로서 사용자는 치료가 종료되었음을 인식하고 메인 스위치(SW2)를 off 상태로 전환시킨다. 사용자는 시트(11)에서 내려와 삼지관 (30)에 연결된 밸브(50)를 개방하여 사용된 치료 용액을 외부로 배출시키며, 이후, 다음의 사용을 위하여 용기를 세정한다.
한편, 이상에서의 전기적인 연결 관계 및 그 관련 설명은 하나의 예에 불과하며, 사용자의 편의에 따라 각 부재들을 다양한 형태로 연결할 수 있음은 물론이다.
본 발명에서 이용한 치료 용액은 소금과 쑥을 이용한 것으로서, 쑥탕물을 약 40 내지 46℃ 정도로 가열한 후, 소금을 포화점까지 용해시킨 용액이다. 이러한 치료 용액은 환부로 분사되는 동안에 상기 온도를 유지해야만 하며, 이를 위해 본 발명에서는 치료 용액을 가열하는 가열 수단을 이용한 것이다.
이상과 같은 본 발명은 치질의 치료 및 증상 완화에 효과적이면서도 손쉽게 얻을 수 있는 소금과 쑥을 재료로 하는 치료 용액을 이용하고, 그 온도를 항상 적절하게 유지시킬 수 있다. 또한, 치료 용액을 순환시킴으로서 설정된 치료 시간동안에 새로운 치료 용액을 공급하기 위하여 장치의 가동을 중단시킬 필요가 없어 치료의 효율성을 높일 수 있으며, 사용자가 편안한 자세에서 치료를 받을 수 있는 효과가 있다.
Claims (6)
- 치질 치료 장치에 있어서,치료 용액이 담겨지는 하부 부재 및 하부 부재 상에 위치하는 상부 부재(시트)로 구분되되, 하부 부재는 수평 격벽을 기준으로 치료 용액이 담겨지는 상부 공간 및 하부 공간으로 구분되는 용기;상기 용기 하부 부재의 상부 공간에 설치되어 치료 용액을 가열하는 가열 수단;상기 수평 격벽에 장착되어 환부로 치료 용액을 분사하는 노즐 조립체;용기의 하부 부재의 상부 공간에서 배출된 치료 용액을 노즐 조립체로 공급하는 펌프를 포함하는 치질 치료 장치.
- 제 1 항에 있어서, 제 1 단은 상기 용기의 상부 공간에 연결된 제 1 단과, 상기 펌프에 연결된 제 2 단 및 밸브와 연결된 제 3 단으로 이루어진 3지관(three-way tube)을 더 포함하여 상기 밸브가 잠겨진 상태에서 상기 용기에서 배출된 치료 용액을 제 2 단을 통하여 상기 펌프로 공급함으로서 환부에 치료 용액을 계속적으로 분사시킬 수 있는 치질 치료 장치.
- 제 1 항에 있어서, 가열 수단은 격벽의 내부에 위치하는 치질 치료 장치.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 가열 수단은 온도 조절기에 연결되어 치료 용액의 온도에 따라 그 작동이 제어되는 치질 치료 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 치료 용액은 쑥탕물을 약 40 내지 46℃ 정도로 가열한 후, 소금을 용해한 용액인 치질 치료 장치.
- 치질 치료 용액에 있어서,쑥탕물을 약 40 내지 46℃ 정도로 가열한 후, 소금을 용해한 것을 특징으로 하는 치질 치료 용액.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102579245A (zh) * | 2012-03-29 | 2012-07-18 | 黄荣 | 清洗治疗仪 |
Citations (2)
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KR0173393B1 (ko) * | 1996-01-08 | 1999-02-01 | 박철진 | 변비 및 치질치료제의 조성물 |
KR200292075Y1 (ko) * | 2002-07-12 | 2002-10-18 | 주식회사 울쏘하이텍 | 초음파진동자를 이용한 좌욕장치 |
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2002
- 2002-08-07 KR KR1020020046426A patent/KR20040013481A/ko not_active Application Discontinuation
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