KR20040002520A - Heat-treating furnace - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 금속 스트립을 연속 가열 처리하는 데에 사용하는 열처리로에 관계되며, 이 금속 스트립을 예비 가열하는 예비 가열 영역에 있어서 금속 스트립의 표면이 산화되는 것을 억제하고, 이 금속 스트립이 가열 영역에 있어서 적절하게 환원되어서 가열 처리되도록 하는 동시에, 가열 영역 내에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 외부로 유출되는 것을 억제하도록 한 점에 특징을 갖는 것이다.The present invention relates to a heat treatment furnace used for continuous heat treatment of a metal strip, wherein the surface of the metal strip is suppressed from being oxidized in a preheating region for preheating the metal strip, and the metal strip is heated region. The present invention is characterized in that it is appropriately reduced in heat treatment to be heat-treated, and at the same time, a reduction gas containing hydrogen gas in the heating region is prevented from flowing out.
종래부터, 금속 스트립을 연속 가열 처리하는 데에 다양한 열처리로가 사용되고 있다.Background Art Various heat treatment furnaces have conventionally been used to continuously heat treat metal strips.
그리고, 이러한 열처리로(熱處理爐)로서는, 도입구로부터 금속 스트립이 도입되는 예비 가열 영역에 공기 등을 보내 주어, 이 예비 가열 영역에 도입된 금속 스트립을 직화(直火)로써 예비 가열한 후, 이 예비 가열 영역과 연속되는 가열 영역에 있어서, 이 금속 스트립을 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 소둔(燒鈍)시키도록 한 제1의 열처리로와, 도입구로부터 예비 가열 영역에 도입된 금속 스트립을 가열 영역과 마찬가지의 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 예비 가열한 후, 이 예비 가열 영역과 연속되는 가열 영역에 있어서, 이 금속 스트립을 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 소둔시키도록 한 제2의 열처리로 등이 이용되고 있다.As such a heat treatment furnace, air or the like is sent to the preheating zone into which the metal strip is introduced from the inlet, and the metal strip introduced into the preheating zone is preheated by direct fire. In a heating region continuous with the preheating region, the first heat treatment furnace for indirectly heating and annealing the metal strip in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas, and from the inlet to the preheating region. The introduced metal strip is indirectly heated in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas similar to the heating zone and preheated, and then in the heating zone continuous with the preheating zone, the metal strip is reduced gas containing hydrogen gas. A second heat treatment furnace or the like that is indirectly heated and annealed in an atmosphere is used.
여기서, 상기한 바와 같이 도입구로부터 예비 가열 영역으로 도입된 금속 스트립을 직화로써 예비 가열시키는 제1의 열처리로에 있어서는, 가열 영역에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 이 예비 가열 영역에 도입되어도, 환원 가스중에 있어서의 수소 가스가 연소해서 소비되고, 금속 스트립을 도입시키는 도입구로부터 수소 가스가 외부로 누출되는 것은 방지된다.Here, in the 1st heat processing furnace which preheats the metal strip introduce | transduced into the preheating area | region from the inlet as above-mentioned by direct combustion, the reducing gas containing hydrogen gas in a heating area | region is introduce | transduced into this preheating area | region. Even if it is, the hydrogen gas in the reducing gas is burned and consumed, and the leakage of the hydrogen gas to the outside from the introduction port through which the metal strip is introduced is prevented.
그러나, 제1의 열처리로에 있어서는, 직화에 의해 금속 스트립을 예비 가열시키기 때문에, 금속 스트립의 표면이 산화될 염려가 있으며, 특히, 조작 조건 등을 변경시켰을 경우에, 금속 스트립의 표면이 산화되는 일이 있었다.However, in the first heat treatment furnace, since the metal strip is preheated by direct fire, the surface of the metal strip may be oxidized. In particular, when the operating conditions or the like are changed, the surface of the metal strip is oxidized. There was a thing.
그리고, 이렇게 금속 스트립의 표면이 산화되면, 그 후, 가열 영역에 있어서 이 금속 스트립을 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 소둔시켰을 경우에 있어서도, 이 금속 스트립이 충분히 환원되지 않아, 적절한 가열 처리가 실행될 수 없게 되고, 또한 이렇게 가열 처리된 금속 스트립을 도금조에 도입해서 도금하였을 경우에, 적절하게 도금되지 않게 된다고 하는 문제가 있었다.When the surface of the metal strip is oxidized in this way, the metal strip is not sufficiently reduced even after the metal strip is indirectly heated and annealed in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas in the heating region. There was a problem that the heat treatment could not be carried out, and when the metal strips thus treated were introduced into the plating bath and plated, the plating was not performed properly.
한편, 도입구로부터 예비 가열 영역에 도입된 금속 스트립을 가열 영역과 마찬가지의 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 예비 가열시키도록 한 제2의 열처리로에 있어서는, 금속 스트립을 직화로써 예비 가열시키는 제1의 열처리로와 같이 금속 스트립의 표면이 산화되는 것은 억제된다.On the other hand, in the second heat treatment furnace in which the metal strip introduced from the inlet to the preheating zone is indirectly heated in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas similar to the heating zone to be preheated, the metal strip is preliminarily fired. Oxidation of the surface of the metal strip as in the first heat treatment furnace to be heated is suppressed.
그러나, 제2의 열처리로의 경우, 예비 가열 영역에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 도입구를 통해서 외부로 누출된다고 하는 문제가 있었다. 특히, 스텐레스의 스트립이나 고장력(高張力) 강철의 스트립을 가열 처리할 경우에는, 상기의 환원 가스 중에 있어서의 수소 가스의 농도를 높게 할 필요가 있고, 이렇게 수소 가스의 농도가 높은 환원 가스가 외부로 누출되면 대단히 위험한 동시에, 고가(高價)인 수소 가스가 많이 쓸데 없이 소비되어서, 운전 비용이 높게 된다고 하는 문제가 있었다.However, in the case of the second heat treatment furnace, there has been a problem that a reducing gas containing hydrogen gas in the preheating zone leaks out through the introduction port. In particular, in the case of heating a stainless strip or a high tensile steel strip, it is necessary to increase the concentration of hydrogen gas in the reducing gas. When leaking, the gas is extremely dangerous and expensive hydrogen gas is consumed a lot, and the running cost is high.
본 발명은, 금속 스트립을 연속 가열 처리하는 데에 사용하는 열처리로에 있어서의 상기와 같은 여러가지 문제를 해결하는 것을 과제로 하는 것이다.An object of the present invention is to solve various problems as described above in a heat treatment furnace used for continuous heat treatment of a metal strip.
본 발명에 있어서는, 도입구로부터 예비 가열 영역에 도입된 금속 스트립을 직화로써 예비 가열하는 제1의 열처리로와 같이 금속 스트립의 표면이 산화되는 것을 방지하기 위해서, 도입구로부터 예비 가열 영역에 도입된 금속 스트립을 가열 영역과 마찬가지의 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 예비 가열시키는 제2의 열처리로를 채용하였다.In the present invention, in order to prevent the surface of the metal strip from being oxidized, such as a first heat treatment furnace that preheats the metal strip introduced into the preheating zone from the inlet by direct firing, it is introduced from the inlet into the preheating zone. A second heat treatment furnace was employed in which the metal strip was indirectly heated in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas similar to the heating zone and preheated.
그리고, 본 발명에 있어서는, 상기와 같은 제2의 열처리로에 있어서, 금속 스트립을 도입시키는 도입구로부터 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 외부로 누출되는 것을 방지하고, 환원 가스 중에 있어서의 수소 가스의 농도를 높게 했을 경우에 있어서도 안전하게 사용할 수 있는 동시에, 운전 비용을 저감시키는 것을 과제로 하고 있다.In the present invention, in the second heat treatment furnace as described above, the reducing gas containing hydrogen gas is prevented from leaking to the outside from the inlet through which the metal strip is introduced, and the hydrogen gas in the reducing gas is prevented. Even when the concentration is increased, it is possible to use safely and to reduce the running cost.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 관한 열처리로의 개략 설명도.1 is a schematic illustration of a heat treatment furnace according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 제2실시예에 관한 열처리로의 개략 설명도.2 is a schematic illustration of a heat treatment furnace according to a second embodiment of the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1: 금속 스트립 10: 도입구1: metal strip 10: inlet
11: 예비 가열 영역 12: 불활성 가스 공급 장치11: preheating zone 12: inert gas supply device
13: 간접 가열 장치 14: 가열 영역13: indirect heating device 14: heating zone
15: 제1연결부 16: 환원 가스 공급 장치15: first connection portion 16: reducing gas supply device
17: 간접 가열 장치 18: 억제 수단17: indirect heating device 18: suppression means
19: 제1냉각 영역 20: 제2연결부19: first cooling zone 20: second connection portion
21: 제2냉각 영역 22: 제3연결부21: second cooling zone 22: third connection portion
23: 도출부(導出部) 24: 도금조(鍍金槽)23: lead-out part 24: plating bath
25: 도출구(導出口) 26: 불활성 가스 공급 장치25: outlet port 26: inert gas supply device
27: 제2억제 수단27: second restraint
본 발명에 있어서는, 상기와 같은 과제를 해결하기 위해서, 금속 스트립을 연속 가열 처리하는 열처리로에 있어서, 도입구로부터 도입된 금속 스트립을 불활성 가스 분위기 중에서 간접 가열하는 예비 가열 영역과, 이 예비 가열 영역에서 예비 가열된 금속 스트립을 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열하는 가열 영역을 연속해서 설치하고, 상기의 예비 가열 영역의 내부 압력 보다도 가열 영역의 내부 압력을 높게 하는 동시에, 예비 가열 영역과 가열 영역과의 사이에 가열 영역 내의 환원 가스가 예비 가열 영역 내로 유출되는 것을 억제하는 억제 수단을 설치하였다.In the present invention, in order to solve the above problems, in the heat treatment furnace for continuously heating the metal strip, a preheating region for indirectly heating the metal strip introduced from the inlet in an inert gas atmosphere, and the preheating region The heating zone for indirectly heating the preheated metal strip in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas is continuously provided, and the internal pressure of the heating zone is higher than the internal pressure of the preheating zone, and the preheating zone and Inhibition means for suppressing the outflow of the reducing gas in the heating zone into the preheating zone was provided between the heating zones.
그리고, 본 발명에 있어서의 열처리로와 같이, 예비 가열 영역에 있어서 도입구로부터 도입된 금속 스트립을 불활성 가스 분위기 중에서 간접 가열시키면, 금속 스트립을 직화로써 예비 가열할 경우와 같이 금속 스트립의 표면이 산화되는 것이 방지된다. 이 결과, 가열 영역에 있어서 이 금속 스트립을 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 소둔시켰을 경우에, 이 금속 스트립이 충분히 환원되어서 적절한 가열 처리가 실행되고, 이 금속 스트립을 도금조에 도입해서 도금하는 경우에 적절히 도금되게 된다. 또한, 상기의 불활성 가스로서는, 각종의 불활성 가스를 사용할 수 있지만, 비용의 면에서는 질소 가스를 사용하는 것이 바람직하다.And, as in the heat treatment furnace of the present invention, if the metal strip introduced from the inlet in the preheating zone is indirectly heated in an inert gas atmosphere, the surface of the metal strip is oxidized as in the case of preheating the metal strip by direct fire. Is prevented. As a result, when the metal strip is indirectly heated and annealed in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas in the heating zone, the metal strip is sufficiently reduced and an appropriate heat treatment is performed to introduce the metal strip into the plating bath. In the case of plating, plating is appropriately performed. Moreover, although various inert gas can be used as said inert gas, it is preferable to use nitrogen gas from a cost point of view.
또한, 본 발명에 있어서의 열처리로와 같이, 예비 가열 영역의 내부 압력 보다도 가열 영역의 내부 압력을 높게 하면, 예비 가열 영역 내에 있어서의 불활성 가스가 가열 영역 내로 유입되는 것이 억제된다. 또한, 예비 가열 영역과 가열 영역과의 사이에 가열 영역 내의 환원 가스가 예비 가열 영역 내로 유출되는 것을 억제하는 억제 수단을 설치하면, 가열 영역 내에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 예비 가열 영역으로 많이 유입되어서 도입구로부터 외부로 누출된다고 하는 것도 억제된다. 이 때문에, 스텐레스의 스트립이나 고장력 강철의 스트립을 가열 처리할 경우 등과 같이, 가열 영역에 있어서의 환원 가스 중의 수소 가스의농도를 높게 해도, 수소 가스의 농도가 높은 환원 가스가 외부로 누출된다고 하는 위험성이 없어지는 동시에, 고가인 수소 가스가 많이 쓸데 없이 소비되어서, 운전 비용이 높게 된다고 하는 일도 없다.In addition, as in the heat treatment furnace of the present invention, when the internal pressure of the heating region is made higher than the internal pressure of the preheating region, the inert gas in the preheating region is suppressed from flowing into the heating region. Further, if a suppression means for suppressing the outflow of the reducing gas in the heating region into the preheating region is provided between the preheating region and the heating region, the reducing gas containing hydrogen gas in the heating region is transferred to the preheating region. It is also suppressed that a large amount flows in and leaks out from an introduction port. For this reason, even if the concentration of hydrogen gas in the reducing gas in the heating zone is increased, such as in the case of heating the stainless strip or the high tensile steel strip, there is a risk that the reducing gas having a high hydrogen gas concentration leaks to the outside. At the same time, a lot of expensive hydrogen gas is consumed unnecessarily and operating cost is not high.
또한, 본 발명에 있어서의 열처리로에 있어서, 상기한 바와 같이 가열 처리된 금속 스트립을 도출(導出)시키는 출구 측에, 이 금속 스트립을 도금시키는 도금조를 연속해서 설치하면, 가열 처리된 금속 스트립이 적절하게 도금되게 되는 동시에, 가열 영역 내에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 이 열처리로의 출구 측에서 누출되는 것도 방지된다.In the heat treatment furnace of the present invention, when the plating bath for plating the metal strip is continuously provided on the outlet side for extracting the heat-treated metal strip as described above, the heat-treated metal strip While being appropriately plated, the reducing gas containing hydrogen gas in the heating area is prevented from leaking out on the outlet side of this heat treatment furnace.
또한, 본 발명에 있어서의 열처리로에 있어서, 상기한 바와 같이 가열 처리된 금속 스트립을 도출시키는 출구 측에, 불활성 가스를 충전시킨 냉각 영역을 설치하고, 이 냉각 영역의 내부 압력을 상기의 가열 영역의 내부 압력 보다도 낮게 하는 동시에, 가열 영역 내의 환원 가스가 이 냉각 영역 내로 유출되는 것을 억제하는 제2억제 수단을 설치하면, 냉각 영역 내에 있어서의 불활성 가스가 가열 영역 내로 유입되는 것이 억제되는 동시에, 가열 영역 내에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 이 냉각 영역 내에 많이 유입되어서 출구 측에서 외부로 누출된다고 하는 것도 억제된다.Further, in the heat treatment furnace of the present invention, a cooling zone filled with an inert gas is provided on the outlet side from which the heat-treated metal strip is led as described above, and the internal pressure of the cooling zone is set to the heating zone. By providing a second suppression means for lowering the internal pressure of the reactor and suppressing the outflow of the reducing gas in the heating zone into the cooling zone, the inert gas in the cooling zone is suppressed from flowing into the heating zone and the heating is performed. It is also suppressed that a large amount of reducing gas containing hydrogen gas in the region flows into the cooling region and leaks outward from the outlet side.
(실시예)(Example)
이하에서, 본 발명의 실시예에 관한 열처리로를 첨부 도면에 근거해서 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the heat processing furnace which concerns on the Example of this invention is demonstrated concretely based on an accompanying drawing.
(제1실시예)(First embodiment)
제1실시예의 열처리로에 있어서는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 금속 스트립 (1)을 도입구(10)로부터 불활성 가스가 충전된 예비 가열 영역(11) 내에 도입하고, 이 예비 가열 영역(11) 내에 있어서 상기의 금속 스트립(1)을 불활성 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 예비 가열하도록 하고 있다.In the heat treatment furnace of the first embodiment, as shown in FIG. 1, the metal strip 1 is introduced into the preheating region 11 filled with an inert gas from the inlet 10, and the preheating region 11 is provided. In the inside, the said metal strip 1 is indirectly heated in inert gas atmosphere, and is preheated.
여기서, 이 제1실시예에 있어서는, 상기의 예비 가열 영역(11) 내에 불활성 가스 공급 장치(12)로부터 불활성 가스로서 질소 가스를 공급하도록 하고 있다. 그리고, 이렇게 불활성 가스가 공급된 예비 가열 영역(11) 내에 있어서 도입구(10)로부터 도입된 금속 스트립(1)을 간접 가열 장치(13)에 의해 간접 가열시키면, 금속 스트립(1)을 직화로써 예비 가열하는 경우와 같이 금속 스트립(1)의 표면이 산화되는 것이 방지된다.In this first embodiment, nitrogen gas is supplied as the inert gas from the inert gas supply device 12 into the preliminary heating region 11. When the metal strip 1 introduced from the inlet 10 is indirectly heated by the indirect heating device 13 in the preheating region 11 supplied with the inert gas, the metal strip 1 is directly fired. The surface of the metal strip 1 is prevented from oxidizing as in the case of preheating.
그리고, 상기한 바와 같이 예비 가열된 금속 스트립(1)을 예비 가열 영역 (11)과 가열 영역(14)을 연결하는 제1연결부(15)를 통해서 가열 영역(14) 내에 도입하고, 이 가열 영역(14) 내에 있어서, 상기의 금속 스트립(1)을 수소 가스를 포함하는 환원 가스 중에서 간접 가열하여, 금속 스트립(1)을 환원시키면서 소둔시킨다.As described above, the preheated metal strip 1 is introduced into the heating zone 14 through the first connection portion 15 connecting the preheating zone 11 and the heating zone 14, and this heating zone is provided. In 14, the said metal strip 1 is indirectly heated in the reducing gas containing hydrogen gas, and the metal strip 1 is annealed while reducing.
여기서, 이 제1실시예에 있어서는, 상기의 가열 영역(14) 내에 환원 가스 공급 장치(16)로부터 수소 가스를 포함하는 환원 가스를 공급하고, 이렇게 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 공급된 가열 영역(14) 내에 있어서, 금속 스트립(1)을 간접 가열 장치(17)로써 간접 가열시킨다.In this first embodiment, the reducing gas containing hydrogen gas is supplied from the reducing gas supply device 16 into the heating region 14, and the heating region to which the reducing gas containing hydrogen gas is thus supplied. In 14, the metal strip 1 is indirectly heated with an indirect heating device 17.
또한, 상기한 바와 같이 가열 영역(14) 내에 환원 가스 공급 장치(16)로부터수소 가스를 포함하는 환원 가스를 공급하는 것에 맞추어, 이 가열 영역(14)에 있어서의 내부 압력이 상기의 예비 가열 영역(11)에 있어서의 내부 압력 보다도 조금 높게 되도록 제어장치(도시하지 않음)에 의해서 제어하고, 예비 가열 영역(11) 내에 있어서의 불활성 가스가 이 가열 영역(14) 내로 유입되는 것을 방지하고 있다.In addition, in accordance with supplying the reducing gas containing hydrogen gas from the reducing gas supply apparatus 16 in the heating area 14 as mentioned above, the internal pressure in this heating area 14 is the said preheating area | region. Controlled by a controller (not shown) so as to be slightly higher than the internal pressure in (11), the inert gas in the preheating region 11 is prevented from flowing into the heating region 14.
또한, 예비 가열 영역(11)과 가열 영역(14)을 연결하는 상기의 제1연결부 (15) 내에 있어서, 가열 영역(14) 내의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 예비 가열 영역(11) 내로 유출되는 것을 억제하는 억제 수단(18)으로서, 이송 롤러(18a)와 근접하도록 해서 억지 부재(18b)를 설치하고 있다. 이 결과, 가열 영역(14) 내에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 이 제1연결부(15)를 통해서 예비 가열 영역(11) 내로 유입되는 것이 억제되어, 예비 가열 영역(11)으로부터 상기의 도입구(10)를 통해서 불활성 가스와 함께 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 외부로 누출되는 것이 억제된다.In addition, in the first connection portion 15 connecting the preheating region 11 and the heating region 14, a reducing gas containing hydrogen gas in the heating region 14 flows into the preheating region 11. As the suppressing means 18 which suppresses a thing, the inhibiting member 18b is provided in proximity to the feed roller 18a. As a result, the reduction gas containing the hydrogen gas in the heating area 14 is suppressed from flowing into the preheating area 11 through this 1st connection part 15, and the above-mentioned from the preheating area 11 is suppressed. It is suppressed that the reducing gas containing hydrogen gas leaks outside with the inert gas through the inlet 10.
그리고, 상기한 바와 같이 가열 영역(14) 내에 있어서 금속 스트립(1)을 간접 가열시킨 후는, 이 금속 스트립(1)을 가열 영역(14)과 냉각 영역(19)과를 연결하는 제2연결부(20)를 통해서 가열 영역(14)과 마찬가지로 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 공급된 제1냉각 영역(19) 내에 도입하고, 이 제1냉각 영역(19) 내에서 상기의 금속 스트립(1)을 냉각시킨다.As described above, after the metal strip 1 is indirectly heated in the heating region 14, the second connection portion connecting the metal strip 1 to the heating region 14 and the cooling region 19. The metal strip 1 is introduced into the first cooling region 19 to which the reducing gas containing hydrogen gas is supplied, as in the heating region 14, through the 20. Cool down.
이어서, 이 금속 스트립(1)을 제1냉각 영역(19)과 제2냉각 영역(21)과를 연결하는 제3연결부(22)를 통해서 제2냉각 영역(21) 내에 도입하고, 이 제2냉각 영역 (21) 내에서 상기의 금속 스트립(1)의 온도를 균일화시킨다. 그 후, 이 금속 스트립(1)을 도출부(23)를 통해서 도금액(鍍金液)(24a)이 수용된 도금조(24)에 도입하여, 금속 스트립(1)을 도금시킨다.Subsequently, the metal strip 1 is introduced into the second cooling region 21 through the third connecting portion 22 connecting the first cooling region 19 and the second cooling region 21 to the second cooling region 21. The temperature of the metal strip 1 is equalized in the cooling zone 21. Thereafter, the metal strip 1 is introduced into the plating bath 24 in which the plating liquid 24a is accommodated through the lead-out portion 23 to plate the metal strip 1.
여기서, 이 제1실시예의 열처리로에 있어서는, 상기한 바와 같이 예비 가열 영역(11)에 있어서 금속 스트립(1)의 표면이 산화되지 않고, 이 금속 스트립(1)이 가열 영역(14)에 있어서 적절히 환원되어서 소둔되기 때문에, 상기한 바와 같이 금속 스트립(1)을 도금하도록 하는 경우, 이 금속 스트립(1)이 적절히 도금되게 된다.In the heat treatment furnace of the first embodiment, the surface of the metal strip 1 is not oxidized in the preliminary heating region 11 as described above, and the metal strip 1 is formed in the heating region 14. Since it is appropriately reduced and annealed, when the metal strip 1 is to be plated as described above, the metal strip 1 is appropriately plated.
(제2실시예)Second Embodiment
제2실시예의 열처리로에 있어서는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 상기의 제1실시예의 열처리로의 경우와 마찬가지로, 금속 스트립(1)을 도입구(10)로부터 불활성 가스가 충전된 예비 가열 영역(11) 내로 도입하고, 이 예비 가열 영역(11) 내에 있어서 금속 스트립(1)을 불활성 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 예비 가열시킨다.In the heat treatment furnace of the second embodiment, as shown in FIG. 2, as in the heat treatment furnace of the first embodiment, the metal strip 1 is provided with a preheating region filled with an inert gas from the inlet 10 ( 11) and the metal strip 1 is indirectly heated in an inert gas atmosphere in this preheating region 11 to be preheated.
그리고, 이렇게 예비 가열된 금속 스트립(1)을 상기의 억제 수단(18)이 설치된 제1연결부(15)를 통해서 가열 영역(14) 내에 도입하고, 이 가열 영역(14) 내에 있어서, 수소 가스를 포함하는 환원 가스 중에서 상기의 금속 스트립(1)을 간접 가열하여, 금속 스트립(1)을 환원시키면서 소둔시킨다.Then, the preheated metal strip 1 is introduced into the heating region 14 through the first connecting portion 15 provided with the above suppression means 18, and in this heating region 14, hydrogen gas is introduced. The metal strip 1 is indirectly heated in the reducing gas included, and the metal strip 1 is annealed while being reduced.
그 후, 이 금속 스트립(1)을 제2연결부(20)를 통해서 가열 영역(14)과 마찬가지로 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 공급된 제1냉각 영역(19) 내로 도입하고, 이 제1냉각 영역(19) 내에서 금속 스트립(1)을 냉각시킨다.Thereafter, the metal strip 1 is introduced into the first cooling region 19 to which the reducing gas containing hydrogen gas is supplied, similarly to the heating region 14, through the second connecting portion 20, and this first cooling is performed. The metal strip 1 is cooled in the region 19.
그리고, 이 제2실시예의 열처리로에 있어서는, 상기한 바와 같이 제1냉각 영역(19) 내에서 냉각된 금속 스트립(1)을, 이 제1냉각 영역(19)과 제2냉각 영역(21)을 연결하는 제3연결부(22)를 통해서 불활성 가스가 충전된 제2냉각 영역(21) 내로 도입하도록 한다. 그리고, 이 제2냉각 영역(21) 내에 있어서 상기의 금속 스트립 (1)의 온도를 균일화시킨 후, 이 금속 스트립(1)을, 도출구(25)를 통해서 외부에 송출하도록 하고 있다.In the heat treatment furnace of the second embodiment, the metal strip 1 cooled in the first cooling region 19 as described above is subjected to the first cooling region 19 and the second cooling region 21. Through the third connecting portion 22 to connect the to the second cooling region (21) filled with the inert gas to be introduced. After the temperature of the metal strip 1 is equalized in the second cooling region 21, the metal strip 1 is sent out to the outside through the outlet 25.
여기서, 이 제2실시예의 열처리로에 있어서는, 상기의 제2냉각 영역(21) 내에 불활성 가스 공급 장치(26)로부터 불활성 가스로서 질소 가스를 공급하도록 하고, 이 제2냉각 영역(21)에 있어서의 내부 압력이 상기의 제1냉각 영역(19)에 있어서의 내부 압력 보다도 조금 낮게 되도록 제어장치(도시하지 않음)에 의해서 제어한다. 이렇게 하면, 이 제2냉각 영역(21) 내에 있어서의 불활성 가스가 제3연결부 (22)를 통해서 제1냉각 영역(19) 내로 유입되는 것이 억제되고, 또한 상기의 제2연결부(20)를 통해서 가열 영역(14) 내로 유입되는 것이 억제된다.In the heat treatment furnace of the second embodiment, nitrogen gas is supplied as the inert gas from the inert gas supply device 26 into the second cooling region 21, and in the second cooling region 21, The internal pressure is controlled by a controller (not shown) so that the internal pressure is slightly lower than the internal pressure in the first cooling region 19. In this way, the inert gas in this 2nd cooling area | region 21 is suppressed from flowing into the 1st cooling area | region 19 through the 3rd connection part 22, and is also through the said 2nd connection part 20 above. It is suppressed to flow into the heating area 14.
또한, 제1냉각 영역(19)과 제2냉각 영역(21)을 연결하는 상기의 제3연결부 (22) 내에, 제1냉각 영역(19) 내에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 제2냉각 영역(21) 내로 유출되는 것을 억제하는 제2억제 수단(27)으로서, 이송 롤러(27a)와 근접하도록 해서 억지 부재(27b)를 설치하고 있다. 이 결과, 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 제2냉각 영역(21) 내에 있어서의 불활성 가스와 함께 상기의 도출구(25)를 통해서 외부로 누출되는 것이 억제된다.Further, in the third connecting portion 22 connecting the first cooling region 19 and the second cooling region 21, a reducing gas containing hydrogen gas in the first cooling region 19 is second. As the second suppressing means 27 which suppresses the outflow into the cooling region 21, the inhibiting member 27b is provided in proximity to the feed roller 27a. As a result, the leakage of the reducing gas containing hydrogen gas to the outside through the above-mentioned outlet 25 together with the inert gas in the 2nd cooling area 21 is suppressed.
또한, 상기의 제1실시예, 제2실시예에 있어서는, 2개의 냉각 영역(19, 21)을설치하도록 했지만, 반드시 냉각 영역을 2개 설치할 필요는 없고, 냉각 영역을 1개 설치하도록 하고, 혹은 더욱 많은 냉각 영역을 설치하도록 하는 등의 변경은 자유롭게 실행할 수 있다.In the first and second embodiments described above, two cooling zones 19 and 21 are provided, but two cooling zones are not necessarily provided, and one cooling zone is provided. Alternatively, a change such as providing more cooling zones can be freely performed.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명에 있어서의 열처리로에 있어서는, 도입구로부터 도입된 금속 스트립을 예비 가열 영역에 있어서 불활성 가스 분위기 중에서 간접 가열시키도록 하였기 때문에, 금속 스트립을 직화로써 예비 가열하는 경우와 같이 금속 스트립의 표면이 산화된다고 하는 위험성이 없으며, 가열 영역에 있어서 이 금속 스트립을 수소 가스를 포함하는 환원 가스 분위기 중에서 간접 가열시켜서 소둔시킨 경우에, 이 금속 스트립이 충분히 환원되어서 적절한 가열 처리가 실행되고, 이 금속 스트립을 도금조에 도입해서 도금하였을 경우에, 금속 스트립이 적절하게 도금되게 된다.As described above, in the heat treatment furnace of the present invention, since the metal strip introduced from the inlet is heated indirectly in an inert gas atmosphere in the preheating zone, the case of preheating the metal strip by direct fire and Likewise, there is no risk that the surface of the metal strip is oxidized, and when the metal strip is indirectly heated and annealed in a reducing gas atmosphere containing hydrogen gas in the heating zone, the metal strip is sufficiently reduced to perform an appropriate heat treatment. When the metal strip is introduced into the plating bath and plated, the metal strip is appropriately plated.
또한, 본 발명에 있어서의 열처리로에 있어서는, 예비 가열 영역의 내부 압력 보다도 가열 영역의 내부 압력을 높게 하였기 때문에, 예비 가열 영역에 있어서의 불활성 가스가 가열 영역 내로 유입되는 것이 억제된다. 또한, 예비 가열 영역과 가열 영역과의 사이에 가열 영역 내의 환원 가스가 예비 가열 영역으로 유출되는 것을 억제하는 억제 수단을 설치하였기 때문에, 가열 영역 내에 있어서의 수소 가스를 포함하는 환원 가스가 예비 가열 영역에 많이 유입되어서 도입구로부터 외부로 누출되는 것도 억제된다.In the heat treatment furnace of the present invention, since the internal pressure of the heating zone is higher than the internal pressure of the preheat zone, the inert gas in the preheat zone is suppressed from flowing into the heating zone. Moreover, since the suppression means which suppresses outflow of the reducing gas in a heating area to a preheating area | region was provided between the preheating area | region and a heating area | region, the reducing gas containing hydrogen gas in a heating area | region is preheating area | region. It is also suppressed that a lot of water flows in and leaks out from the inlet.
이 결과, 스텐레스의 스트립을 가열 처리해서 도금을 실행하는 경우 등과 같이, 가열 영역에 있어서의 환원 가스 중의 수소 가스의 농도를 높게 해도, 수소 가스의 농도가 높은 환원 가스가 외부로 누출된다고 하는 위험성이 없어지는 동시에, 고가인 수소 가스가 많이 쓸데 없이 소비되어서, 운전 비용이 높게 된다고 하는 것도 없어진다.As a result, even if the concentration of hydrogen gas in the reducing gas in the heating region is increased, such as when plating the stainless strip by heat treatment, there is a risk that the reducing gas having a high hydrogen gas concentration leaks to the outside. At the same time, much expensive hydrogen gas is consumed unnecessarily, and the cost of running becomes high.
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