KR200349011Y1 - 샤워용 냉수 및 온수공급시스템 - Google Patents

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KR200349011Y1
KR200349011Y1 KR20-2004-0002823U KR20040002823U KR200349011Y1 KR 200349011 Y1 KR200349011 Y1 KR 200349011Y1 KR 20040002823 U KR20040002823 U KR 20040002823U KR 200349011 Y1 KR200349011 Y1 KR 200349011Y1
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Abstract

본 고안은 냉수 또는 온수를 선택적으로 공급시키되 순환관에 다단여과장치를 설치하여 욕수를 다단으로 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 고정형샤워기와 유동형샤워기 및 월욕조에 선택적으로 공급할 수 있도록 하고, 월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 펌핑하여 별도로 순환시키되 다단여과장치에 의해 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 하며, 월풀욕조에는 에어펌프에 의해 공기(에어)방울을 발생시켜 줄 수 있도록 된 샤워용 냉수 및 온수공급시스템에 관한 것으로서, 샤워용 순환수 또는 욕조수를 염소제거 세라믹볼과 다공질 원적외선 세라믹볼 및 음이온 세라믹볼로 구성된 다단계 여과장치를 차례로 통과시켜 욕수를 정화시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 함유시켜 고정형샤워기와 유동형샤워기 및 월욕조에 선택적으로 공급하여 입욕자의 기분을 상쾌하게 하고 생체에너지를 활성화시켜 줄 있으며, 월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 별도의 순환장치에 의해 펌핑시켜 순환시키되 가열장치에 의해 재차 가열시켜 공급시켜 주며, 월풀욕조에는 에어펌프에 의해 공기(에어)방울을 발생시켜 피부를 자극하여 줌으로서 마사지효과를 얻을 수 있게 된다.

Description

샤워용 냉수 및 온수공급시스템{A Cold And Warm Water Supply System For Shower}
본 고안은 냉/온수를 공급하여 샤워를 실시할 수 있도록 하되, 냉/온수를 여과장치에 의해 여과시키면서 통상의 샤워기 또는 월풀욕조에 선택적으로 공급할 수 있고, 월풀욕조에 공급되는 샤워수를 가열 순환시킬 수 있으며, 월풀욕조에는 에어를 분사시켜 줄 수 있도록 된 냉수 및 온수공급시스템에 관한 것이다.
이를 더욱 상세하게 설명하면, 냉수 또는 온수를 선택적으로 공급하여 순환시키되 순환관에는 다단으로 된 여과장치를 설치하여 샤워용 순환수를 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 하고, 원적외선과 음이온이 함유된 순환수를 고정형샤워기와 유동형샤워기 및 월욕조에 선택적으로 공급할 수 있도록 하며, 월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 펌핑하여 별도로 순환시키되 다단여과장치에 의해 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 원적외선과 음이온의 함유된 냉/온수를 공급시킬 수 있도록 하며, 월풀욕조에는 에어펌프에 의해 공기(에어)방울을 발생시켜 마사지효과를 얻을 수 있도록 개선된 냉수 및 온수공급시스템을 제공하려는 것이다.
통상적으로 일반 가정 등에 설치되어 있는 종래의 샤워시스템은 욕실에 고정 설치되는 3웨이밸브에 유동형으로 된 샤워기를 연결시켜서 된 것으로서, 3웨이밸브를 조작하여 냉수 및 온수 또는 상기 냉온수를 혼합시켜 공급할 수 있도록 단순함이 있고, 공급되는 냉수 또는 온수를 여과시키지 않고 직접 공급시켜 주므로 각종이물질과 염분(염소)성분 등이 함유된 상태로 공급 분사되어 입욕자의 기분을 상하게 할 뿐만 아니라 인체를 유해하게 하는 문제가 있다.
또한 욕실에 설치되는 욕조에는 별도의 3웨이밸브를 통하여 냉수 또는 온수 및 이를 혼합시켜 공급시키도록 되어 있으므로, 입욕을 실시할 때에 사용하고 있는 욕수를 정화 순환시킬 수 없으므로 욕수가 쉽게 더러워지게 되는 문제가 있고, 뿐만 아니라 욕수에 함유되어 있는 불순물이나 염분성분 등이 입욕자의 신체에 부착되어 기분을 상하게 하고 인체를 유해하게 하는 문제가 있다.
상기와 같은 문제를 다소나마 해소할 수 있도록 하기 위하여 제안된 것으로는, 국내 특허출원 제1988-8328호(공고번호 제1992-9130호) "샤워 시스템"과, 국내 실용신안등록 제 305710호 "은 이온수 순간제조장치를 이용한 은 이온수 순간샤워장치"가 알려져 있다.
전자는 각각의 탱크에 충진되어 있는 냉수와 온수를 믹싱밸브와 펌프에 의해 믹싱 및 펌핑시키면서 욕수를 샤워헤드를 통하여 분사시키되 유통관에 센서를 부착하고 상기 센서와 펌프를 컨트롤러가 구비된 제어장치에 의해 유통량(압력)과 온도를 조절할 수 있도록 된 샤워 시스템에 관한 것이나, 이는 단순히 냉수 및 온수를 공급시키되 제어장치에 의해 분사되어지는 압력(유통량)과 온도를 조절할 수 있도록 하는 것에 불과한 것이다.
후자는 음극체가 내장된 전해관을 베이스판과 갑체형으로 된 외장체로 된 순간샤워장치의 내부에 설치하여 전해관의 입구(공급 측)와 출구(배출 측)에 공급관과 배출관을 각각 연결시켜 물을 전해관으로 통과시켜 은 이온이 함유된 욕수를 샤워기로 공급시킬 수 있도록 된 것으로, 이 역시 욕수로 사용되어지는 물을 음극체가 내장된 전해관으로 통과시켜 욕수에 은 이온을 함유시켜 줌으로서 살균 및 항균효과를 다소 얻을 수 있도록 된 것에 불과한 것이다.
본 고안은 상기와 같은 문제점을 해소할 수 있도록 하는 샤워용 냉수 및 온수공급시스템을 제공하려는 것이다.
본 고안은 냉수 또는 온수를 선택적으로 공급하여 순환시키되 순환관에는 다단으로 된 여과장치를 설치하여 샤워용 순환수를 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 하고, 원적외선과 음이온이 함유된 순환수를 고정형샤워기와 유동형샤워기 및 월풀욕조에 선택적으로 공급할 수 있도록 하며, 월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 펌핑하여 별도로 순환시키되 다단여과장치에 의해 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 음이온이 함유된 냉/온수를 공급시킬 수 있도록 하며, 월풀욕조에는 에어펌프에 의해 공기(에어)방울을 발생시켜 줄 수 있도록 된 냉수 및 온수공급시스템을 제공하려는데 그 목적이 있다.
본 고안의 다른 목적은 샤워용 순환수를 염소제거 세라믹볼과 다공질 원적외선 세라믹볼 및 음이온 세라믹볼로 구성된 다단계 여과장치를 차례로 통과시켜 줌으로서, 샤워수를 정화시키고 동시에 원적외선과 음이온을 함유시켜 고정형샤워기와 유동형샤워기 및 월욕조에 선택적으로 공급하여 줌으로서, 입욕자의 기분을 상쾌하게 하고 생체에너지를 활성화시켜 줄수 있도록 된 샤워용 냉수 및 온수공급시스템을 제공하는데 있다.
본 고안의 또 다른 목적은 월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 별도의 순환장치에 의해 펌핑시켜 순환시키되 가열장치에 의해 재차 가열시키고 염소제거 세라믹볼과 다공질 원적외선 세라믹볼 및 음이온 세라믹볼로 구성된 다단계 여과장치를 차례로 통과시켜 줌으로서, 더러워지고 냉각된 욕수를 지속적으로 정화시키고 가온시키며 원적외선과 음이온이 함유된 냉/온수를 공급하여 입욕자의 기분을 상쾌하게 하고 생체에너지를 활성화시켜 줄 있도록 하며, 욕수의 낭비를 방지할 수 있도록 된 샤워용 냉수 및 온수공급시스템을 제공하는데 있다.
본 고안의 또 다른 목적은 월풀욕조에는 에어펌프에 의해 공기(에어)방울을 발생시켜 피부를 자극하여 줌으로서 마사지효과를 얻을 수 있도록 된 샤워용 냉수 및 온수공급시스템을 제공하는데 있다.
본 고안의 상기 및 기타 목적은,
시스템본체(2)의 내부에는 온수공급구(11)와 냉수공급구(12)를 통하여 공급되는 온수와 냉수를 냉온수압조절밸브(13)에 의해 선택하여 냉온수순환관(14)으로 순환시키는 순환장치를 설치하고, 순환되는 욕수를 시스템본체(2)의 외부에 설치되는 유동형샤워기(4)에 공급시키도록 된 것에 있어서,
욕수가 공급되는 냉온수압조절밸브(13)에 냉온수공급구(10)를 설치하여 혼합된 냉온수를 공급시킬 수 있도록 한 것과,
온수와 냉수 및 냉온수가 유통되는 냉온수순환관(14)에는 염소제거기(16)와 원적외선발생여과기(17) 및 음이온발생여과기(18)로 구성된 다단여과장치(15)를 설치하여 샤워용 순환수를 여과시키고 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 한 것과,
냉온수순환관(14)의 단부에는 체크밸브(19)(26)가 장착된 제 1가지관(21)과 냉온수욕조공급구(25)를 설치하여 욕수를 유통형샤워기(4)와 월풀욕조에 공급시킬 수 있도록 한 것과,
월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 펌핑하여 공급하고 순환시켜 배출시킬 수 있도록 욕조수순환관(30)을 설치하되 욕조수순환관(30)의 중간에는 온수탱크(40)와 가열장치(50)로 구성된 욕수가열장치를 설치하여 순환되는 욕수를 가열시켜 공급시킬 수 있도록 한 것과,
욕조순환관(30)의 배출구 측에는 제 2가지관(22)을 통하여 선택밸브가 구비된 냉온수압조절밸브(20)와 연결하여 시스템본체(2)에 고정 설치된 고정형샤워기(3)에 공급시킬 수 있도록 하고, 욕조순환관(30)의 유입구 측에는 3웨이밸브(38-1)가 구비된 연통관(9)에 의해 냉온수순환관(14)의 배출측에 연결하여 욕조수를 유통형샤워기(4)에 공급할 수 있도록 한 것과,
온수탱크(40)가 설치되는 욕조수순환관(30)에는 염소제거기(35)와 원적외선발생여과기(36) 및 음이온발생여과기(37)로 구성된 다단여과장치(34)를 설치하여 욕조수를 여과시키고 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 한 것과,
에어펌프(60)에는 월풀욕조와 연결되는 음이온공기방울공급관(64)을 설치하고, 음이온공기방울공급관(64)에는 에어필터(62)와 음이온세라믹볼(63)로 구성된 음이온공급장치(61)를 설치하여, 월풀욕조에 음이온에어를 공급시켜 줄 수 있도록 한 것과,
욕조수순환관(30)에서 욕조순환수배출구(32)가 구비된 배출측에 제3가지관(23)을 연결하고, 제3가지관(23)을 선택밸브가 구비된 냉온수압조절밸브(20)와 연결시켜 순환되는 욕조수를 고정형샤워기(3)를 통하여 선택적으로 배출시킬 수 있도록 한 것이 포함되는 것을 특징으로 하는 샤워용 냉온수공급시스템(1)에 의해 달성된다.
도 1은 본 고안에 따른 샤워용 냉수 및 온수공급시스템을 보인 외관 사시도.
도 2는 본 고안에 따른 샤워용 냉수 및 온수공급시스템에 설치되는 냉온압력조절스위치를 발췌하여 보인 예시도.
도 3은 본 고안에 따른 샤워용 냉수 및 온수공급시스템의 구조를 보인 계통도.
도 4는 본 고안에 따른 샤워용 냉수 및 온수공급시스템의 계통도에서 가열장치를 발췌하여 보인 확대단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1: 샤워용 냉온수공급시스템 3: 고정형샤워기
4: 유동형샤워기 5: 냉온수압조절스위치 10: 냉온수공급구
11: 온수공급구 12: 냉수공급구 13.20: 냉온수압조절밸브
14: 냉온수순환관 15.34: 다단여과장치 16. 37: 염소제거여과기
17.36: 원적외선여과기 18. 35: 음이온여과기 25: 냉온수욕조공급구
30: 욕조수순환관 33: 월풀펌프 40: 온수탱크
50: 가열장치 55: 냉각장치 60: 에어펌프(산소발생기)
본 고안의 상기목적들과 특징은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명에 의하여 더욱 명확하게 이해할 수 있을 것이다.
첨부도면 도 1 내지 도 4는 본 고안에 따른 샤워용 냉온수공급시스템(1)의 구체적인 실현 예를 보인 것으로서, 도 1은 본 고안에 따른 샤워용 냉온수공급시스템(1)의 외관을 보인 사시도이고, 도 2는 본 고안에 설치되는 시스템본체(2)의 전면에 설치되는 냉온압력조절스위치(5)를 발췌하여 보인 예시도이며, 도 3은 본 고안에 따른 샤워용 냉온수공급시스템(1)의 구조를 보인 계통도이며, 도 4는 본 고안에 따른 샤워용 냉온수공급시스템(1)의 계통도에서 온수탱크(40)가 구비된 가열장치(50)를 발췌하여 보인 확대단면도이다.
본 고안에 따른 샤워용 냉온수공급시스템(1)은 첨부도면 도 1에 예시된 바와 같이, 직육면체의 형상으로 시스템본체(2)를 형성하고, 시스템본체(2)의 전면 또는 측면을 개폐문(구체적으로 도시하지 아니함)을 형성하거나 또는 배면을 탈착시킬 수 있도록 하여 내부에 설치되는 각종 장치를 용이하게 설치 및 보수 할 수 있도록 하였다.
시스템본체(2)의 전면 상측에는 차후에 구체적을 설명되는 고정형샤워기(3)를 설치하였고, 그 하측에 도 2에 구체적으로 예시된바와 같은 냉온수압조절스위치(5)를 설치하였으며, 일 측면에는 샤워기걸이대(2-1)를 설치하여 유동형샤워기(4)를 걸어줄 수 있도록 하였다.
상기 시스템본체(2)의 전면 중앙부에 설치되는 냉온수압조절스위치(5)는 차후에 구체적으로 설명되는 냉온수압밸브(20)를 작동시켜 주는 것으로서, 입욕(샤워)과 욕조에서 온욕을 실시할 때에 사용되어지는 욕수 및 욕조수의 냉온과 분사압력을 선택할 수 있도록 하는 것으로서, 냉수(5-1) 또는 온수(5-2)를 선택하고, 일반분사(6)와 고압분사(7)를 선택하되 고압분사(7)는 고압마사지(7-1)와 제트마사지(7-2)를 선택하여 실시할 수 있도록 하였다.
상기와 같이 구성되는 시스템본체(2)의 내부에는 온수와 냉수를 샤워기 및 욕조에 공급시켜 주는 각종장치를 설치하였다.
시스템본체(2)의 내부에서 중앙하단에 냉온수압조절밸브(13)를 설치하되, 냉온수압조절밸브(13)의 유입(공급)측에는 혼합된 냉온수를 공급하는 냉온수공급구(10)와 온수를 공급하는 온수공급구(11)와 냉수를 공급하는 냉수공급구(12)를 설치하였고, 배출측에는 시스템본체(2)의 내부를 순환하도록 설치되는 냉온수순환관(14)을 설치하였다.
냉온수순환관(14)은 시스템본체(2)의 하단 일측을 통하여 배출시키되, 냉온수순환관(14)의 배출단부에는 개폐밸브(26)가 구비된 냉온수욕조공급구(25)를 설치하여 욕수(온수, 냉수, 냉온혼합수)를 욕조에 공급할 수 있도록 하였고, 냉온수순환관(14)의 중간에는 염소제거기(16)와 원적외선발생여과기(17) 및 음이온발생여과기(18)로 구성된 다단여과장치(15)를 설치하여 샤워용 순환수를 여과시키고 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 하였다.
상기 다단여과장치(15)의 염소제거기(16)는 여과통의 내부에 염소제거 세라믹볼을 충진시켜 염소를 제거하면서 일차적으로 여과를 실시할 수 있도록 하였고, 원적외선발생여과기(17)는 여과통의 내부에 다공질원적외선 세라믹볼을 충진시켜 원적외선을 발생시키면서 이차여과를 실시하도록 하였으며, 음이온발생여과기(18)는 여과통의 내부에 음이온 세라믹볼을 충진시켜 음이온을 발생시키면서 삼차여과를 실시하도록 하였다.
상기 냉온수순환관(14)의 배출측에는 개폐밸브(19)가 구비된 제 1가지관(21)과 냉온수압조절밸브(20)와 연결되는 제 2가지관(22)을 설치하여, 제 1가지관(21)에는 통상의 호스를 이용하여 시스템본체(2)의 외측에 설치되는 유동형샤워기(4)와 연결시켰고, 제 2가지관(22)의 냉온수압조절밸브(20)에는 시스템본체(2)의 정면에 설치되는 고정형샤워기(3)를 연결시켰다.
상기 시스템본체(3)의 내부 중간에는 욕조에 공급되는 물을 순환시켜 여과시키고 가열시켜 재차 공급시켜 주는 욕조수 순환장치를 설치하였는데, 욕조순환수유입구(31)와 욕조순환수배출구(32)가 구비된 욕조순환관(30)을 시스템본체(3)의 내부 중간에 설치(배관)하되, 욕조순환관(30)에는 공급측에 월풀펌프(33)를 설치하여 욕조수를 펌핑시켜 줄 수 있도록 하였고, 배출측에는 가열장치(50)가 구비된 온수탱크(40)를 설치하여 월풀펌프(33)에 의해 펌핑되어지는 욕조수를 재차 가열하여월풀욕조(구체적으로 도시하지 아니함)에 배출(공급)시켜 줄 수 있도록 하였으며, 온수탱크(40)의 양측에 설치(연결)되는 욕조수순환관(30)에는 다단여과장치(34)를 설치하였는데 공급(유입)측에 염소제거기(35)와 원적외선발생여과기(36)를 설치하였고 배출측에는 음이온발생여과기(18)를 설치하였다.
상기 다단여과장치(34)의 염소제거기(35)는 여과통의 내부에 염소제거 세라믹볼을 충진시켜 염소를 제거하면서 일차적으로 여과를 실시할 수 있도록 하였고, 원적외선발생여과기(36)는 여과통의 내부에 다공질원적외선 세라믹볼을 충진시켜 원적외선을 발생시키면서 이차여과를 실시하도록 하였으며, 음이온발생여과기(37)는 여과통의 내부에 음이온 세라믹볼을 충진시켜 음이온을 발생시키면서 삼차여과를 실시하도록 하였다.
상기 원적외선발생여과기(36)의 유입측에서 욕조수순환관(30)은 3웨이밸브(38-1)를 개입시킨 연통관(9)을 이용하여 냉온수순환관(14)의 배출측에 연결하여 욕조수를 유동형샤워기(4)에 공급시킬 수 있도록 하였고, 배출측에서 욕조수순환관(30)은 3웨이밸브(38)를 개입시켜 냉온수압조절밸브(20)와 연결시켜 욕조수를 고정형샤워기(3)에 공급시킬 수 있도록 하였다.
특히, 욕조수순환관(30)의 중간에 설치되는 온수탱크(40)와 가열장치(50)로 구성되는 욕수가열장치는 도 4에 예시된바와 같이 구성하였다,
상기 욕수가열장치는, 온열틀(41)과 냉각하우징(56)을 상하로 접속시켜 설치하되, 온열틀(41)의 내부에는 온열틀(41)의 외측으로 노출되도록 공급구(40-1)와 배출구(40-2)가 반대방향에 형성된 온수탱크(40)를 내장시켜 온수탱크(40)의 저면에 열전도판(51)과 TRM열전소자(53)로 구성된 가열장치(50)를 설치하고 온수탱크(4)와 온열틀(41)과의 사이에 단열재(42)를 충진시켰으며, 유입구(55-1)와 유출수(55-2)를 반대방향에 형성된 냉각하우징(56)의 내부에 방열판(57)을 설치하고 냉각하우징(56)의 밑판에 방열휀(58)을 설치하였으며, 특히 온수탱크(40)의 저면에 설치되는 TEM열전소자(53)는 외면에 발포단열테이프(52)를 피복시켰다.
또한 시스템본체(2)의 내부에는 에어펌프(60)를 설치하되 에어펌프(60)의 출구에는 음이온공기방울공급관(64)을 연결시켜 에어를 욕조에 공급시킬 수 있도록 하고, 음이온공기방울공급관(64)의 중간에는 에어필터(62)와 음이온세라믹볼(63)이 여과통의 내부에 충진된 음이온공급장치(61)를 설치하여 욕조에 공급되는 에어에 음이온을 발생시켜 줄 수 있도록 하였다.
이하, 작동관계를 설명한다.
본 고안에 따른 샤워용 냉온수공급시스템(1)은 시스템본체(2)의 전면에 설치된 냉온수압조절스위치(5) 또는 컨트롤러(8-1)를 조작하여 컨트롤장치(8)를 작동시켜 냉수(5-1) 또는 온수(5-1)를 공급하되 일반적분사(6)시키거나 또는 고압분사(7)시키며, 고압분사(7)는 고압마사지(7-1) 또는 제트마사지(7-2)로 분사시켜 입욕(샤워)을 실시하거나 또는 월풀욕조(구체적으로 도시하지 아니함)를 이용하여 마사지욕 등을 실시한다.
냉온수압조절스위치(5)를 조작에 의해 냉온수압조정밸브(13)를 작동시켜 온수공급구(11)를 통하여 공급되는 온수 또는 냉수공급구(12)를 통하여 공급되는 냉수 또는 냉온수공급구(10)를 통하여 공급되는 냉온혼합수 중에서 어느 하나를 선택적으로 공급한다.
예컨대 냉온수공급구(10)를 통하여 온수와 냉수를 혼합시킨 냉온혼합수를 공급시키게 되면 냉온혼합수는 냉온수순환관(14)을 따라 이동하면서 다단여과장치(15)의 염소제거기(16)와 원적외선발생여과기(17) 및 음이온발생여과기(18)를 차례로 통과하게 되는데, 염소제거기(16)(35)를 통과할 때에 여과통의 내부에 충진된 염소제거 세라믹볼에 의해 염소가 제거되면서 일차적으로 여과가 실시되어지고, 원적외선발생여과기(17)를 통과할 때에 여과통의 내부에 충진되어 있는 다공질원적외선 세라믹볼에 의해 통과하는 욕수(냉온혼합수)에 원적외선이 발생되어지면서 이차여과가 실시되어지며, 음이온발생여과기(18)를 통과할 때에 여과통의 내부에 충진된 음이온 세라믹볼에 의해 음이온이 발생되어지면서 삼차여과가 실시되어진다.
상기와 같이 다단여과장치(15)의 염소제거기(16)와 원적외선발생여과기(17) 및 음이온발생여과기(18)를 차례로 통과하여 염소가 제거되고 삼차에 걸쳐 여과가 실시된 욕수(냉온혼합수)는, 냉온수압조절밸브(20)의 작동여부에 따라 시스템본체(2)의 전면에 설치되어 있는 고정샤워기(3)를 통하여 분사되어지거나, 개폐밸브(19)(26)의 개폐여부에 따라 제 1가지관(21) 또는 냉온수욕조공급구(25)를 통하여 유동형샤워기(4) 또는 월풀욕조(구체적으로 도시하지 아니함)에 공급되어지거나 또는 3웨이밸브(38-1)가 욕조수순환관(30)측으로 ON된 상태에서 욕조수순환관(30)을 통하여 월풀욕조(구체적으로 도시하지 아니함)에 공급되어진다.
상기에서 냉온수공급구(10)를 통하여 공급되는 냉온혼합수에 대해서만 설명하였지만, 온수공급구(11) 또는 냉수공급구(12)를 통하여 공급되는 온수 또는 냉수도 상기와 같은 동일한 방법으로 하여 고정형샤워기(3) 또는 유동형샤워기(4) 또는 월풀욕조(구체적으로 도시하지 아니함)에 공급되어진다.
월풀욕조(구체적으로 도시하지 아니함)에 욕수가 충진되거나 상기 설명한 바와 같이 냉온수욕조공급구(25)를 통하여 욕수가 공급되고 있는 상태에서, 욕조순환수유입구(31) 및 욕조순환수배출구(32)를 월풀욕조(구체적으로 도시하지 아니함)의 배출구(구체적으로 도시하지 아니함) 및 유입구(구체적으로 도시하지 아니함)에 연결시키고, 월풀펌프(33)를 가동시키게 되면 월풀욕조에 충진되어 있는 욕수는 월풀펌프(33)의 펌핑력에 의해 다단여과장치(34)의 염소제거기(16)와 원적외선발생여과기(17)를 통과하게 되는데, 염소제거기(16)를 통과할 때에 여과통의 내부에 충진된 염소제거 세라믹볼에 의해 염소가 제거되면서 일차적으로 여과가 실시되어지고, 원적외선발생여과기(17)를 통과할 때에 여과통의 내부에 충진되어 있는 다공질원적외선 세라믹볼에 의해 통과하는 욕수(냉온혼합수)에 원적외선이 발생되어지면서 이차여과가 실시되어지며, 원적외선발생여과기(17)를 통과한 욕수는 도 4에 예시된바와 같이 공급구(40-1)를 통하여 온수탱크(40)로 충진되어진다.
온수탱크(40)에 충진되어지는 욕수는 온수탱크(40)의 저면에 설치된 가열장치(50)에 의해 가열되어지는데, TEM열전소자(53)에서 발생되는 열기는 알루미늄재질로 성형으로 된 열전도판(51)을 통하여 온열통(41)의 내부에 설치되어 있는 온수탱크(40)로 전열되어지고, 온수탱크(40)로 전열된 열기에 의해 충진되어지는 욕수가 가열되어지며, 가열된 욕수는 배출구(40-2)를 통하여 다단여과장치(34)의 음이온발생여과기(18)로 공급되어 통과하게 되는데, TEM열전소자(53)에서 발생되는 열기와 온수탱크(40)로 전열된 열기는 충진된 단열재(42)에 의해 축열된 상태를 유지하고 있으므로 온수탱크(40)로 유입된 욕수는 더욱 신속하게 가열되어지며, TEM열전소자(53)의 과도한 가동을 줄일 수 있게 된다.
상기와 같이 가열장치(50)를 형성하는 TEM열전소자(53)의 저면에서 발생되는 열기는 냉각하우징(56)에 설치되어 있는 방열판(57)에 전열되어지고, 열기가 전열된 방열판(57)의 열기는 방열휀(58)의 가동에 의해 유입구(55-1)를 통하여 유입되는 외기에 의해 냉각되어지며, 방열판(57)과 열교환이 실시되는 외기는 유출구(55-2)를 통하여 외부로 배출되어진다.
가열된 욕수가 음이온발생여과기(37)를 통과할 때에 여과통의 내부에 충진된 음이온 세라믹볼에 의해 음이온이 발생되어지면서 삼차여과가 실시되어지고, 상기와 같이 음이온이 함유되고 삼차여과 된 욕수는 욕조수순환관(30)의 욕조순환수배출구(32)를 통하여 월풀욕조로 공급(배출)되어지며, 음이온발생여과기(37)의 배출측에서 욕조수순환관(30)에 설치되어 있는 3웨이밸브(38)를 작동시켜 제3가지관(23)측으로 개방시키게 되면 정화되고 가열된 욕수는 제 3가지관(23)과 냉온수압조절장치(20)를 거쳐 고정형샤워기(3)로 분사되어진다.
상기와 같이 월풀욕조에 충진되어지는 욕수를 월풀펌핑(33)에 의해 펌핑시키면서 온수탱크(40)에 장착된 가열장치(50)에 의해 가열시켜 재차 공급(순환)시켜 주는 과정을 실시할 때에 에어펌프(60)를 가동시켜 월풀욕조에 공기방울(에어)을발생시켜 주게 되는데, 에어펌프(60)를 가동시키게 되면 외가 에어펌프(60)에 의해 펌핑되어 음이온공기방울공급관(64)을 통하여 월풀욕조에 배출시킬 때에 음이온공기방울공급관(64)에 설치되어 있는 음이온공급장치(61)의 에어필터(62)와 음이온세라믹볼(63)을 차례로 통과하면서 여과되고 발생되는 음이온을 함유한 상태에서 월풀욕조에 공급되어지게 되는 것이며, 이와 같이 공급되는 음이온이 함유된 에어에 의해 월풀욕조에서는 공기방울이 발생되어 마사지 효과를 얻게 되는 것이다.
본 고안에서는 구체적인 실시 예에 대하여 설명했지만 본 고안의 기술사상범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함을 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
본 고안에 따른 샤워용 냉수 및 온수공급시스템은 냉수 또는 온수를 선택적으로 공급하여 순환시키되 순환관에는 다단으로 된 여과장치를 설치하여 샤워용 순환수를 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 원적외선과 음이온이 함유된 냉/온수를 공급시킬 수 있도록 하고, 원적외선과 음이온이 함유된 순환수를 고정형샤워기와 유동형샤워기 및 월풀욕조에 선택적으로 공급할 수 있도록 하며, 월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 펌핑하여 별도로 순환시키되 다단여과장치에 의해 여과시킴과 동시에 원적외선과 음이온을 발생시켜 원적외선과 음이온이 함유된 냉/온수를 공급시킬 수 있도록 하며, 월풀욕조에는 에어펌프에 의해 공기(에어)방울을 발생시켜 줄 수 있도록 된 것으로서, 샤워용 순환수 또는 욕조수를 염소제거 세라믹볼과 다공질 원적외선 세라믹볼 및 음이온 세라믹볼로 구성된 다단계 여과장치를 차례로 통과시켜 샤워수를 정화시키고, 동시에 원적외선과 음이온이 함유된 냉/온수를 고정형샤워기와 유동형샤워기 및 월풀욕조에 선택적으로 공급하여 입욕자의 기분을 상쾌하게 하고 생체에너지를 활성화시켜 줄 있도록 하며, 월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 별도의 순환장치에 의해 펌핑시켜 순환시키되 가열장치에 의해 재차 가열시켜 줄 있도록 하며, 욕수의 낭비를 방지할 수 있도록 하며, 월풀욕조에는 에어펌프에 의해 공기(에어)방울을 발생시켜 피부를 자극하여 줌으로서 마사지효과를 얻을 수 있게 되는 것이다.

Claims (6)

  1. 시스템본체(2)의 내부에는 온수공급구(11)와 냉수공급구(12)를 통하여 공급되는 온수와 냉수를 냉온수압조절밸브(13)에 의해 선택하여 냉온수순환관(14)으로 순환시키는 순환장치를 설치하고, 순환되는 욕수를 시스템본체(2)의 외부에 설치되는 유동형샤워기(4)에 공급시키도록 된 것에 있어서,
    욕수가 공급되는 냉온수압조절밸브(13)에 냉온수공급구(10)를 설치하여 혼합된 냉온수를 공급시킬 수 있도록 한 것과,
    온수와 냉수 및 냉온수가 유통되는 냉온수순환관(14)에는 염소제거기(16)와 원적외선발생여과기(17) 및 음이온발생여과기(18)로 구성된 다단여과장치(15)를 설치하여 샤워용 순환수를 여과시키고 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 한 것과,
    냉온수순환관(14)의 단부에는 체크밸브(19)(26)가 장착된 제 1가지관(21)과 냉온수욕조공급구(25)를 설치하여 욕수를 유통형샤워기(4)와 월풀욕조에 공급시킬 수 있도록 한 것과,
    월풀욕조에 공급되어지는 욕조수를 펌핑하여 공급하고 순환시켜 배출시킬 수 있도록 욕조수순환관(30)을 설치하되 욕조수순환관(30)의 중간에는 온수탱크(40)와 가열장치(50)로 구성된 욕수가열장치를 설치하여 순환되는 욕수를 가열시켜 공급시킬 수 있도록 한 것과,
    욕조순환관(30)의 배출구 측에는 제 2가지관(22)을 통하여 선택밸브가 구비된 냉온수압조절밸브(20)와 연결하여 시스템본체(2)에 고정 설치된 고정형샤워기(3)에 공급시킬 수 있도록 하고, 욕조순환관(30)의 유입구 측에는 3웨이밸브(38-1)가 구비된 연통관(9)에 의해 냉온수순환관(14)의 배출측에 연결하여 욕조수를 유통형샤워기(4)에 공급할 수 있도록 한 것과,
    온수탱크(40)가 설치되는 욕조수순환관(30)에는 염소제거기(35)와 원적외선발생여과기(36) 및 음이온발생여과기(37)로 구성된 다단여과장치(34)를 설치하여 욕조수를 여과시키고 원적외선과 음이온을 발생시켜 공급시킬 수 있도록 한 것과,
    에어펌프(60)에는 월풀욕조와 연결되는 음이온공기방울공급관(64)을 설치하고, 음이온공기방울공급관(64)에는 음이온공급장치(61)를 설치하여, 월풀욕조에 음이온에어를 공급시켜 줄 수 있도록 한 것과,
    욕조수순환관(30)에서 욕조순환수배출구(32)가 구비된 배출측에 제3가지관(23)을 연결하고, 제3가지관(23)을 선택밸브가 구비된 냉온수압조절밸브(20)와 연결시켜 순환되는 욕조수를 고정형샤워기(3)를 통하여 선택적으로 배출시킬 수 있도록 한 것이 포함되는 것을 특징으로 하는 샤워용 냉수 및 온수공급시스템.
  2. 청구항 1에 있어서, 욕조수순환관(30)의 중간에 설치되어 욕수를 가열시켜 주는 욕수가열장치는,
    온열틀(41)과 냉각하우징(56)을 상하로 접속시켜 설치한 것과,
    온열틀(41)의 내부에는 온열틀(41)의 외측으로 노출되도록 공급구(40-1)와배출구(40-2)가 반대방향에 형성된 온수탱크(40)를 내장시키고, 온수탱크(40)의 저면에 열전도판(51)과 TRM열전소자(53)로 구성된 가열장치(50)를 설치하며, 온수탱크(4)와 온열틀(41)과의 사이에 단열재(42)를 충진시킨 것과,
    유입구(55-1)와 유출수(55-2)를 반대방향에 형성된 냉각하우징(56)의 내부에는 방열판(57)을 설치하고 냉각하우징(56)의 밑판에 방열휀(58)을 설치한 것이 포함되는 것을 특징으로 하는 샤워용 냉수 및 온수공급시스템.
  3. 청구항 1에 있어서, 온수탱크(40)의 저면에 설치되는 TEM열전소자(53)는,
    TEM열전소자(53)의 외면에 발포단열테이프(52)를 피복시켜서 된 것을 특징으로 하는 샤워용 냉수 및 온수공급시스템.
  4. 청구항 1에 있어서, 냉온수순환관(14)과 욕조수순환관(30)에 설치되는 다단여과장치(15)(34)의 염소제거기(16)(35)와 원적외선발생여과기(17)(36) 및 음이온발생여과기(18)(37)에 있어서,
    염소제거기(16)(35)는 여과통의 내부에 염소제거 세라믹볼을 충진시켜 염소를 제거하면서 일차적으로 여과를 실시할 수 있도록 하고, 원적외선발생여과기(17)(36)는 여과통의 내부에 다공질원적외선 세라믹볼을 충진시켜 원적외선을 발생시키면서 이차여과를 실시하도록 하며, 음이온발생여과기(18)(37)는 여과통의 내부에 음이온 세라믹볼을 충진시켜 음이온을 발생시키면서 삼차여과를 실시하도록 한 것을 특징으로 하는 샤워용 냉수 및 온수공급시스템.
  5. 청구항 1에 있어서, 음이온공기방울공급관(64)의 중간에 설치되는 음이온공급장치(61)는,
    여과통의 내부에 에어필터(62)와 음이온세라믹볼(63)을 충진시켜서 된 것을 특징으로 하는 샤워용 냉수 및 온수공급시스템.
  6. 청구항 1에 있어서, 온수탱크(40)의 저면에 가열장치(50)의 열전도판(51)를 설치함에 있어서,
    상기 열전도판(51)은 알루미늄 열전도판인 것을 특징으로 하는 샤워용 냉수 및 온수공급시스템.
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