KR200321238Y1 - 모발 시술용 롯드 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 퍼머넌트 시술시 모발이 감겨진 롯드로 부터 은이온(Ag+)을 발생시켜 두피와 모발에 손상 치료, 냄새 제거 및 살균작용을 하면서 시술할 수 있도록 한 모발 시술용 롯드에 관한 것으로,
본 고안은 소정의 직경과 길이를 갖는 원형 형상의 소경부와; 상기 소경부의 양단부를 일체로 확관한 대경부로 형성되는 롯드에 은(Ag)을 함침 또는 코팅 형성하여 퍼머넌트를 시술하도록 함으로써, 시술시 은(Ag)에서 방사되는 은이온(Ag+)으로 모발과 두피에 묻어있는 파머액의 유해성분또는 기타 다른 원인에 의한 손상 부위의 오염으로 번식된 모발과 두피의 각종 세균등을 살균 소독은 물론 치료하면서 시술하게 되므로 상기 손상된 모발과 두피 치유는 물론 건강한 모발과 두피를 유지하면서 퍼머넌트 시술을 할 수 있게 되는 것이다.
Description
본 고안은 모발시술용 롯드에 관한 것으로, 보다 상세하게는 퍼머넌트 시술시 모발이 감겨진 롯드로 부터 은이온(Ag+)을 발생시켜 두피와 모발에 손상 치료, 냄새 제거 및 살균작용을 하면서 시술할 수 있도록 한 모발 시술용 롯드에 관한 것이다.
일반적으로 모발 시술용 롯드(10)는 도 1 에 도시한 바와 같이, 소정의 직경과 길이를 갖는 원형 형상의 소경부(11)와; 상기 소경부(11)의 양단부를 일체로 확관한 대경부(12)로 형성되는 통상의 합성수지물로 형성되거나, 테프론 재질로 형성되어 퍼머넌트나 웨이브 시술시 상기 소경부(11)의 외주면에 모발을 말고, 이 말린 모발에 퍼머액을 발라 주면서 시술하고, 이어서 상기 모발이 감지된 롯드에 가열장치로 가열하거나, 상기 롯드를 직접 가열하면서 퍼머넌트나 웨이브을 시술하게 된다.
이와 같이 모발이 감겨진 롯드를 가열하면서 퍼머넌트나 웨이브를 시술할 때, 상기 퍼머넌트나 웨이브의 시술 상태는 모발 상태, 가열되는 열에 따라 큰 차이가 발생하게 된다.
즉 모발상태가 심하게 손상되어 있거나 혹은 잘 건조되지 않은 상태, 오염정도에 따라 크게 차이가 발생될 뿐만 아니라, 상기 퍼머넌트 시술의 경우에는 감겨진 모발에 퍼머액을 촉촉히 발라 주면서 가열하게 되므로, 상기 모발이 심하게 손상되어 있거나 혹은 잘 건조되지 않은 상태, 오염정도가 심한 상태의 경우 정상적인 시술을 할 수 없는 문제점을 가지게 되었다.
특히 상기 모발에 퍼머액을 촉촉히 발라 준 상태에서 롯드에 말아 가열 시술시 퍼머액의 유해성분에 의하여 손상된 모발의 경우 모발 표피질의 영양분(게라딘 단백질)과 지방분을 용해시켜 모발을 더욱 더 손상에 주게 되며, 심한 경우에는 두피에 손상을 주게 되어 심한 경우 병원을 찾게 되는 문제점을 가지게 되었다.
최근에는 상기 롯드의 표면에 원적외선 방사 물질을 함침 또는 코팅하여 모발 시술시 원적외선을 발생하여 퍼머액에서 발생되는 독소를 해독하고 모발의 단백질을 분해하여 모발 및 두피의 손상을 방지하도록 한 것이 있다.
그러나 상기 원적외선 방사 물질은 독소 해독 및 단백질을 제거하여 모발이나 두피의 손상을 방지할 수 있으나, 상기 이미 손상된 모발이나 혹은 두피에서 생생성된 세균, 오염물질에 대하여는 효과적인 살균 소독 및 치료를 할 수 없어 원하는 정도의 효과를 얻을 수 없을 뿐만 아니라, 이미 손상된 모발이나 두피를 원상 회복시킬 수 없는 문제점을 여전히 가지고 있었다.
따라서 본 고안의 목적은 모발의 퍼머넌트 시술시 사용되는 롯드에 은(Ag)을 함침 또는 표면에 코팅하여 상기 은에서 발생되는 은이온(Ag+)으로 손상된 두피 및 모발에 생성되어 있는 각종 세균 과 오염물질을 살균소독 및 손상된 부위를 치유하하면서 시술되도록 함으로써, 손상된 모발과 두피를 원상 회복시킬 수 있도록 하고자 하는데 있다.
상기 본 고안의 다른 목적은 모발의 퍼머넌트 시술시 롯드에서 방사되는 은이온(Ag+)으로 파머액의 유해성분 및 냄새를 제거하여 상기 퍼머액으로 인한 모발이나 두피에 손상을 주지 않고 시술하도록 함으로써, 건강한 모발과 두피를 유지할 수 있도록 하고자 하는데 있다.
상기의 목적을 실현하기 위하여 본 고안은 소정의 직경과 길이를 갖는 원형 형상의 소경부와; 상기 소경부의 양단부를 일체로 확관한 대경부로 형성되는 롯드에 은(Ag)을 함침 또는 코팅 형성하여서 된 것을 특징으로 한다.
상기 롯드는 합성수지, 테프론, 세라믹, 금속재질 중 어느 하나로 구성하되, 상기 합성수지(ABS)재질의 롯드에는 은(Ag)을 함침하여 사출 성형하고, 상기 테프론, 세라믹, 금속재질에는 은(Ag)을 표면에 코팅형성하여서 된 것을 특징으로 한다.
상기 본 고안의 주성분인 은(Ag)은 원자번호47, 비중이 10.49이며, 융점은 961.3도 이다. 은의 열전도는 모든 금속 중에서 최고 이며. 은보다 33% 이상이나 높고 전기저항도는 금속중 최저로 금 보다도 8.4% 나 우수한 특성을 가지고 있다.
상기 은(Ag)은 은이온(Ag+)을 방출하여 강력한 살균력, 인체 내 호르몬 계통의 균형유지, 전자파 차단, 수맥파 차단, 원적외선 방출, 음이온 방출, 항균 항곰팡이 작용을 할 뿐만 아니라, 상기 은이온(Ag+)은 빠른 흡수성을 가지고 있어 인체의 혈관에 흡수되면 빠르게 인체 세포에 도달은 물론 두피와 모근 구멍까지 놀라울 정도로 흡수가 이루어게 되어, 인체의 병균 및 세균의 생식기능을 제거하는 살균 소독 기능을 하게 되며, 질병에 대한 예방 및 치료 효과가 있는 것으로 알려져 있다, 이 밖에도 면역체계에 중요한 역할 뿐만 아니라, 인체의 성장발육과 세포 재생 효과, 상처 치료 효과 기능을 가지고 있다.
그러므로 본 고안에 의하면, 인체에 유용한 은이온(Ag+)을 방사하는 은(Ag)을 함침 또는 코팅한 롯드를 사용하여 퍼머넌트를 시술하도록 함으로써, 시술시 은(Ag)에서 방사되는 은이온(Ag+)으로 모발과 두피에 묻어있는 파머액의 유해성분또는 기타 다른 원인에 의한 손상 부위의 오염으로 번식된 모발과 두피의 각종 세균등을 살균 소독은 물론 치료하면서 시술하게 되므로 상기 손상된 모발과 두피 치유는 물론 건강한 모발과 두피를 유지하면서 퍼머넌트 시술을 할 수 있게 되는 것이다.
도 1 은 종래 모발 시술용 롯드의 사시도,
도 2 는 본 고안 모발 시술용 롯드의 사시도,
도 3 은 본 고안 모발 시술용 롯드의 다른 실시예도,
도 4 는 도 3 의 종 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10; 롯드 11; 소경부
12; 대경부 13; 은
이하 첨부되는 도면에 의거 본 고안을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2 는 본 고안 모발 시술용 롯드의 사시도 로서, 소정의 직경과 길이를 갖는 원통형상의 소경부(11)와; 상기 소경부(11)의 양단부를 일체로 확관한 대경부(12)로 형성되는 롯드(10)에 살균, 항균, 항곰팡이, 성장발육과 세포 재생기능의 은 이온(Ag+)을 방출하는 은(Ag)(13)을 함침하여 성형하여서 된것이다.
상기 롯드(10)는 합성수지(ABS)재질로 형성하고, 상기 합성수지(ABS)재질에 은(Ag)(13)을 합침하여 성형하게 된다.
상기 은(Ag)(13)은 순도 99.9 이상인 것을 사용한다.
상기 롯드(10)는 액상의 합성수지(ABS)와 은(Ag)을 무게비 10:1 비율로 함침하여 혼합한 후 사출 성형하게 된다.
도 3 은 본 고안 모발 시술용 롯드의 다른 실시예도 이고, 도 4 는 도 3 의 종단면 로서, 소경부(11)의 양단부를 일체로 확관한 대경부(12)로 형성되는 롯드(10)의 표면에 은이온(Ag+)을 방출하는 은(Ag)(13)을 코팅 성형하여서 된 것이다.
상기 롯드(10)는 테프론, 세라믹, 금속재질(AL)중 어느 하나로 구성하고, 상기 은(Ag)(13)은 순도 90 이상 인 것을 사용하게 되며, 상기 은(Ag)은 액상으로 하여 상기 롯드(10)의 표면에 코팅한 후 건조 처리하여서 된 것이다.
이때 상기 은(Ag)(13)코팅은 침전 코팅으로 진행하게 되며, 건조 처리는 대기중 또는 비교적 저온 건조기를 이용하여 낮은 온도분위기에서 건조시켜 코팅하게된다.
상기와 같이 구성되는 본 고안은 모발 퍼머넌트 시술시 은(Ag)(13)이 함침된 또는 표면에 코팅된 롯드(10)의 소경부(11)에 시술하고자 하는 모발을 감아 올린 상태에서 퍼머액을 촉촉히 바르면서 감아 올려 묶어주는 과정으로 모발 전체를 퍼머넌트하여 건조하게 된다.
이때 상기 건조 과정에서 퍼머액이 과다하게 발라진 경우 상기 파머액은 흘러 내려 두피에 묻게 되어 상기 퍼머액 그 자체의 유해성분에 의하여 두피에 손상을 주게 되는가 하면, 상기 흘러 내린 퍼머액은 모발의 어느 한 부분으로 모이게 되는 경우, 모발의 영양분과 지방분을 용해시켜 모발에 손상을 주면서 퍼머넌트를 진행하게 된다.
그러나, 상기 퍼머액과 함께 모발이 감겨져 있는 상기 롯드(10)에 함침 또는 표면에 코팅된 은(Ag)(13)에서는 강력한 살균력, 원적외선 방출, 음이온 방출, 항균, 항곰팡이 작용을 하는 은이온(Ag+)을 방출하게 되므로, 상기 은이온(Ag+)은 모발과 두피에 묻어있는 파머액의 유해성분 또는 기타 다른 원인에 의한 각종 세균등에 의하여 손상된 모발과 두피의 살균 소독은 물론, 치료하면서 시술하게 된다.
그러므로 상기 퍼머넌트 시술시 롯드(10)에 형성된 은(Ag)(13)에서는 방사되는 은이온(Ag+)에 의하여 손상된 두피와 모발 치료 및 기타 유해 물질로 인한 오염으로 번식되는 세균을 살균 소독하게 되므로 더 이상 모발과 두피가 손상되는 것을 방지함은 물론, 상기 치료되는 모발과 두피에는 생장 발육과 세포 재생작용을 촉진하여 주게 되므로 건강한 모발과 두피을 유지시키면서 퍼머넌트를 시술하게 되는 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 고안은 퍼머넌트 시술시 모발이 감겨지고 파머액이 발라지는 롯드에 은(Ag)을 함침 또는 코팅하여 줌으로써, 상기 퍼머넌트 시술시 함침 또는 코팅된 은(Ag)에서 방출되는 은이온(Ag+)에 의하여 손상된 모발이나 두피를 오염 제거 및 살균 소독, 치료와 아울러 성장 발육과 세포 재생 촉진 작용을 하면서 퍼머넌트를 진행하도록 함으로써, 상기 손상된 모발과 두피 치유는 물론 건강한 모발과 두피를 유지하면서 퍼머넌트 시술을 할 수 있는 효과를 제공하게 되는 것이다.
Claims (5)
- 소정의 직경과 길이를 갖는 원통형상의 소경부와; 상기 소경부의 양단부를 일체로 확관한 대경부로 형성되는 롯드와; 상기 롯드에 살균, 항균, 항곰팡이, 성장발육과 세포 재생기능의 은 이온(Ag+)을 방출하는 은을 함침하여서 된 것을 특징으로 하는 모발시술용 롯드.
- 제 1 항에 있어서, 상기 롯드는 합성수지로 구성하고, 이 합성수지에 순도 99.9 의 분말상의 은(Ag)을 무게비 10:1 비율로 함침하여 사출 성형하여서 된 것을 특징으로 하는 모발시술용 롯드.
- 소정의 직경과 길이를 갖는 원통형상의 소경부와; 상기 소경부의 양단부를 일체로 확관한 대경부로 형성되는 롯드와; 상기 롯드의 표면에 살균, 항균, 항곰팡이, 성장발육과 세포 재생기능의 은 이온(Ag+)을 방출하는 은을 코팅하여서 된 것을 특징으로 하는 모발시술용 롯드.
- 제 3 항에 있어서, 상기 롯드는 테프론, 세라믹, 금속재 중 어느 하나로 구성하고, 상기 어느 하나의 표면에 순도 99.9 의 액상 은(Ag)을 코팅하여서 된 것을 특징으로 하는 모발 시술용 롯드.
- 소정의 직경과 길이를 갖는 원통형상의 소경부와; 상기 소경부의 양단부를 일체로 확관한 대경부로 형성되는 롯드와; 상기 롯드에 살균, 항균, 항곰팡이, 성장발육과 세포 재생기능의 은 이온(Ag+)을 방출하는 은을 함침 또는 코팅하여서 된 것을 특징으로 하는 모발시술용 롯드.
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