KR200312319Y1 - rolling elements of maximum type to support the shaft for semiconductor and LCD - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 및 LCD 제조공정의 이송장치중 기판 이송을 목적으로 축을 지지하는 베어링 및 안내홈을 갖는 브라켓에 고정되는 베어링류에서 축의 회전이 불량하여 발생되는 기판의 파손을 방지할 수 있도록 하면서 아울러 축을 지지하는 베어링 및 베어링류의 수명을 연장시킬 수 있도록 리테이너 없이 총형 형태를 갖는 반도체 및 LCD 제조장치의 기판 이송용 축 지지 회전체에 관한 것이다.The present invention prevents breakage of the substrate caused by poor rotation of the shaft in bearings fixed to a bracket having a bearing and a guide groove for supporting the substrate in the transfer device of the semiconductor and LCD manufacturing process. The present invention relates to a shaft support rotating body for transporting a substrate of a semiconductor and LCD manufacturing apparatus having a form without a retainer so as to extend the life of the bearing and bearings supporting the shaft.
본 고안은 반도체 및 LCD의 기판 이송용 회전체에 있어서, 내륜과 외륜 사이에 각각의 동일한 측면 한 곳에 마련된 일정 크기의 삽입홈을 통하여 강제 삽입된 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)만으로 리테이너 없이 일정한 간극을 갖고 축을 지지하는 베어링 및 내륜과 슬라이드 외륜 사이에 상기와 같이 삽입된 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)을 갖는 지지부가 축의 양쪽에 끼워져서 안내홈을 갖는 브라켓에 고정되어 회전하는 베어링류에 축의 편심으로 인해 가해지는 과도한 힘으로 리테이너 마모 및 파손으로 발생되는 회전 불량을 원천적으로 방지하고, 회전 궤도부가 세라믹 볼(또는 로울러)만으로 구성됨으로써 리테이너 사용 회전체 대비 내부하성능 증가와 이에 의한 수명 연장을 이룰 수 있도록 구성되어진 것을 특징으로 한다.The present invention is a substrate for rotating substrates of a semiconductor and LCD, a constant gap without a retainer with only a plurality of ceramic balls (or rollers) forcibly inserted through a predetermined size insertion groove provided at one place on each same side between the inner ring and the outer ring. A bearing having a bearing supporting the shaft and having a plurality of ceramic balls (or rollers) inserted as described above between the inner ring and the outer ring of the slide and fitted to both sides of the shaft to be fixed to a bracket having guide grooves, and the shaft is eccentric to the bearings. Due to the excessive force applied to prevent the rotation defect caused by the retainer wear and breakage at the source, and the rotating track part is composed only of ceramic balls (or rollers), thereby increasing the internal load performance compared to the retainer using rotating body, thereby extending the life It is characterized in that it is configured to be.
Description
본 고안은 반도체 및 LCD 제조공정의 이송장치중 기판 이송을 목적으로 축을 지지하는 베어링 및 안내홈을 갖는 브라켓에 고정되면서 베어링 구동방식으로 회전하고 축을 지지하는 베어링류에 관한 것으로서 특히 기판의 초기 세정과 기판에 감광액을 도포한 상태에서 노광과 현상, 부식 그리고 박리 및 증착 공정 등이 순차적으로 이어지도록 기판을 이송시키는 과정에서 이송장치의 축을 지지하는 베어링 및 베어링류에서 축의 편심 발생으로 구동되는 베어링의 궤도부에 과대 하중이 인가되어 구름마찰저항을 증가시키고 이로 인한 리테이너 마모 및 파손으로 인한 베어링 및 베어링류의 회전불량이 자주 발생되는 바, 리테이너 적용 구동 방식에서 리테이너 없는 총형 형태의 구동 방식으로 변경하여 리테이너 마모 및 파손으로 인한 베어링 회전 불량을 원천적으로 방지하고 아울러 동일한 크기의 베어링 및 베어링류에서도 더 큰 내부하성능을 발휘하여 장시간 구름수명을 연장시킬 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to bearings that rotate in a bearing drive and support the shaft while being fixed to a bracket having a bearing and a guide groove for supporting a substrate in a transport apparatus of a semiconductor and LCD manufacturing process. The bearing track driven by the eccentricity of the bearing in the bearings and bearings that support the axis of the transfer device during the transfer of the substrate so that exposure, development, corrosion, peeling, and deposition processes are sequentially performed while the photosensitive liquid is applied to the substrate. The excessive load is applied to the part, which increases rolling frictional resistance, which causes frequent rotation failure of bearings and bearings due to retainer wear and breakage. Therefore, the retainer is changed from the retainer type drive type to the total type without retainer. Bearing rotation fire due to wear and breakage To fundamentally prevent the addition and exhibited a greater inside and performance in the bearing and bearing flow of the same size to be a long period of time so as to prolong the life of clouds.
일반적으로 반도체 및 LCD 제조공정은 기판 세정(Wafer Glass Cleaning) → 감광액 도포(Photo Resist Coating) → 노광(Exposure) → 현상(Development) → 부식(Etching) → 박리(Stripping) → 증착(Coating) → 조립 및 검사 등 일련의 연속된 공정으로 최종 제품이 완성된다.In general, semiconductor and LCD manufacturing processes include wafer glass cleaning → photoresist coating → exposure → development → etching → etching → stripping → coating → assembly. The final product is completed by a series of continuous processes such as inspection and inspection.
이와 같은 여러 공정을 위해서는 기판을 연속적으로 이송시키는 이송장치가필요하며, 이러한 이송장치는 도 3a, b에 도시한 바와 같이 리테이너((34)를 적용한 베어링(30)이 축(5)에 고정되어 있거나 또는 지지 판넬의 하우징(7)에 고정되어 있고, 리테이너(44)를 적용한 슬라이드 외륜(42)을 갖는 베어링류(40)가 안내홈(8)을 갖는 브라켓(9) 사이에 고정되어서 미도시한 모터의 회전력이 기어(6)를 통하여 축(5)을 회전시키도록 구성되어져 있다.For such various processes, a transfer device for continuously transferring a substrate is required. The transfer device has a bearing 30 to which a retainer 34 is applied to the shaft 5 as shown in FIGS. 3A and 3B. Or bearings 40 fixed to the housing 7 of the support panel and having a slide outer ring 42 to which the retainer 44 is applied are fixed between the brackets 9 having the guide grooves 8, not shown. The rotational force of one motor is configured to rotate the shaft 5 via the gear 6.
이송장치를 통하여 기판이 이송되는 과정은 모터의 회전력이 기어(6)로 전달됨에 따라 이와 연결된 축(5)이 회전하면서 축(5)의 상부에 놓여진 기판이 이송하게 된다.In the process of transferring the substrate through the transfer apparatus, as the rotational force of the motor is transmitted to the gear 6, the substrate 5 placed on the upper portion of the shaft 5 is transferred while the shaft 5 connected thereto rotates.
그러나 축(5)의 회전을 통한 기판 이송을 위하여 모터의 회전력이 기어(6)에 전달되는 과정에서 기어(6)와 연결된 축(5)에 편심이 발생되고, 이로 인하여 축(5)을 지지하는 베어링(10) 및 안내홈(8)을 가진 브라켓(9)에 고정된 베어링류(20)는 축방향 및 경방향 그리고 이의 합성 모멘트 힘이 가해진 가혹한 구동 조건하에서 회전하게 되어 마찰저항이 증가하게 되며, 이때 내륜(11)과 외륜(12)의 궤도부(16, 17) 그리고 내륜(21)과 슬라이드 외륜(22)의 궤도부(26, 27) 사이에 볼(또는 로울러) 분배 목적으로 사용된 리테이너(34, 44)에 무리한 힘이 가해짐으로써 이의 마모로 인한 오염물질 배출 및 파손에 의한 회전불량을 일으키게 되어서 기판의 오염 및 파손을 발생시키는 문제점이 있었다.However, an eccentricity occurs in the shaft 5 connected to the gear 6 in the process of transmitting the rotational force of the motor to the gear 6 to transfer the substrate through the rotation of the shaft 5, thereby supporting the shaft 5 The bearings 20 fixed to the brackets 9 having the bearings 10 and the guide grooves 8 are rotated under the severe driving conditions applied in the axial and radial directions and the combined moment force thereof to increase the frictional resistance. In this case, it is used for the purpose of distributing the ball (or roller) between the raceways 16 and 17 of the inner ring 11 and the outer ring 12 and between the raceways 26 and 27 of the inner ring 21 and the slide outer ring 22. Excessive force is applied to the retainers 34 and 44 thus causing problems of rotation and contamination due to the discharge and breakage of pollutants due to its wear, thereby causing contamination and breakage of the substrate.
또한 축을 지지하는 베어링 및 베어링류에 적용된 리테이너는 도 4a, b에 도시한 바와 같이 내륜이나 외륜에 비하여 상대적으로 취약한 기계적 강성을 가지는 구조로 되어 있는데, 이는 상기에서 설명하였듯이 축에 가해진 편심이나 이송공정중에서 사용되는 여러가지 세정액에 노출되면서 리테이너가 내륜 및 외륜에 비하여 쉽게 변형, 마모 및 파손이 발생되어서 베어링 및 베어링류의 회전이 불량하게 되고 따라서 이송중이던 기판이 파손되거나 아울러 잦은 베어링 및 베어링류의 교체에 따른 생산성 저하와 같은 문제점이 있었다.In addition, the retainers applied to the bearings and bearings supporting the shaft have a structure that has a relatively weak mechanical rigidity as compared to the inner ring or the outer ring, as shown in Figs. 4a and b. The retainer is more easily deformed, worn and damaged than the inner and outer rings due to exposure to various cleaning liquids used in the process. There was a problem such as a decrease in productivity.
본 고안은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로 베어링 및 베어링류의 구조에서 리테이너 채용 구동방식을 리테이너를 사용하지 않는 총형 형태의 구동방식으로 변경하고 아울러 축의 편심으로 유입된 과대 하중으로 인하여 발생되는 리테이너 마모 및 파손에 의한 회전 불량을 원천적으로 방지함으로써 안정적인 축의 회전력 전달과 함께 동일 크기의 베어링으로도 더 큰 내부하성능을 가질 수 있도록 하여 베어링 사용 수명을 연장시킬 수 있도록 한 반도체 및 LCD 제조장치의 기판 이송용 축 지지를 위한 총형 형태의 회전체를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention was devised to solve the above problems, and in the structure of the bearings and bearings, the retainer adopts a total drive type without a retainer and is caused by an excessive load introduced into the shaft. Semiconductor and LCD manufacturing equipment that can prolong the service life of bearings by preventing the rotational failure caused by retainer wear and breakage, which in turn prevents the rotational force of stable shafts, and has greater load carrying capacity even with bearings of the same size. It is an object of the present invention to provide a rotating body of the form of a shaft for supporting a shaft for transporting a substrate.
도 1a, b는 본 고안에 따른 총형 형태의 기판 이송용 축 지지 회전체의 분해 사시도.Figure 1a, b is an exploded perspective view of the support shaft for rotating the substrate of the form of a gun according to the present invention.
도 2a, b는 본 고안에 따른 총형 형태의 기판 이송용 축 지지 회전체의 요부 분해 사시도.Figure 2a, b is an exploded perspective view of the main portion of the shaft support rotating body for transferring the substrate in the form of a gun according to the present invention.
도 3a, b는 종래 기술에 따른 기판 이송용 회전체의 분해 사시도.Figure 3a, b is an exploded perspective view of a substrate transfer rotating body according to the prior art.
도 4a, b는 종래 기술에 따른 기판 이송용 회전체의 요부 분해도.Figure 4a, b is an exploded view of the main portion of the rotating body for substrate transfer according to the prior art.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
5 : 축 6 : 기어5: shaft 6: gear
7 : 하우징 8 : 안내홈7: housing 8: guide groove
9 : 브라켓 10 : 베어링9: bracket 10: bearing
11(21) : 내륜 12 : 외륜11 (21): Inner Ring 12: Outer Ring
13(23) : 세라믹 보올(또는 로울러) 14(15) : 베어링 삽입홈13 (23): Ceramic bowl (or roller) 14 (15): Bearing insert groove
20 : 베어링류 22 : 슬라이드 외륜20: bearings 22: slide outer ring
24(25) : 베어링류 삽입홈 34(44) : 리테이너24 (25): Bearing slot 34 (44): Retainer
이하 첨부 도면을 참조하여 본 고안의 구성에 대하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the configuration of the present invention with reference to the accompanying drawings as follows.
본 고안에 따른 반도체 및 LCD 제조장치의 기판 이송용 축(5) 지지를 위한 총형 형태의 회전체는 도 1a ∼ 2a에 도시된 바와 같이 리테이너(34) 없이 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(13)만이 내륜(11)과 외륜(12) 사이에 안내되는데, 이때 내륜(11)과 외륜(12)의 동일한 측면 한 곳에 각각 일정 크기의 볼(또는 로울러)(13)삽입홈(14, 15)을 만들며, 이 삽입홈(14, 15))은 내륜(11)의 경우에 측면 한 곳에“ ˘ ”형태로서 궤도부(16)에 도달하도록 가공하며, 이때 궤도부(16)까지의 가공은 일정 각도를 가질 수 있도록 하고, 외륜(12)의 경우에도 측면 한 곳에 “ ⌒ ”형태로서 궤도부(17)에 도달하도록 가공하며, 이때 궤도부(17)까지의 가공은 일정 각도를 가질 수 있도록 한다.The rotating body of the form for supporting the substrate transfer shaft 5 of the semiconductor and LCD manufacturing apparatus according to the present invention is a plurality of ceramic balls (or rollers) 13 without the retainer 34 as shown in Figs. ) Is guided between the inner ring 11 and the outer ring 12, where balls (or rollers) 13 of a predetermined size are placed in the same side of the inner ring 11 and the outer ring 12, respectively. The insertion grooves 14 and 15) are machined to reach the track 16 in the form of "˘" in one side of the inner ring 11, where machining to the track 16 is constant. To have an angle, and in the case of the outer ring 12 is processed to reach the track portion 17 in the form of "곳에" in one side, at this time machining to the track portion 17 to have a certain angle .
이와 같이 내륜(11)과 외륜(12)에 만들어진 “ ˘ ”와“ ⌒ ”형태의 볼(또는 로울러)(13) 삽입홈(14, 15)을 동일 선상에 놓고 “ ˘ ”와“ ⌒ ”의 선을 가상으로 연장하면 서로 만나서 가상의 원 모양이 형성될 수 있도록 하는데, 이와 같은 삽입홈(14, 15)은 삽입홈(14, 15) 입구쪽이 볼(또는 로울러)(13) 크기보다는 크고, 삽입홈(14, 15) 안쪽(궤도부)은 볼(또는 로울러)(13) 크기보다 작게함으로써, 이 볼(또는 로울러)(13) 삽입홈(14, 15)을 통과하는 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(13)을 강제로 삽입하여 내륜(11)과 외륜(12) 사이의 궤도부(16, 17)에 안착하도록 하고, 삽입되어 궤도부(16, 17)에 안착된 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(13)은 삽입홈(14, 15)을 통하여 바깥으로 빠져 나올 수 없도록 구성하며, 이와 같이 삽입홈(14, 15)을 통하여 강제 삽입된 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(13)만으로 리테이너(34) 없이 일정한 간극을 갖고 축(5)을 지지하게 되는 형태의 총형 베어링(10)이 축(5)에 고정될 수 있도록 구성된다.In this way, the “?” And “⌒” shaped ball (or roller) (13) insertion grooves (14, 15) made on the inner ring (11) and the outer ring (12) are placed on the same line and the “˘?” And “⌒” When the line is virtually extended to meet each other to form a virtual circle shape, such insertion grooves (14, 15) is larger than the size of the ball (or roller) 13 inlet side of the insertion grooves (14, 15) The inside (tracking section) of the insertion grooves 14 and 15 is smaller than the size of the balls (or rollers) 13, whereby a plurality of ceramic balls passing through the balls (or rollers) 13 and the insertion grooves 14 and 15 are formed. (Or roller) 13 is forcibly inserted so as to be seated on the track portions 16 and 17 between the inner ring 11 and the outer ring 12, and a plurality of ceramics inserted and seated on the track portions 16 and 17. The ball (or roller) 13 is configured so that it can not escape out through the insertion grooves (14, 15), and thus a plurality of ceramic balls (or forcedly inserted through the insertion grooves (14, 15) Ulreo) (13) only the retainer (in the form of a full complement bearing (10, to have a constant gap to the support shaft 5 with no. 34)) is adapted to be fixed to the shaft (5).
또한 도 1b ∼ 2b에 도시된 바와 같이 리테이너(44) 없이 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(23)만이 내륜(21)과 슬라이드 외륜(22) 사이에 안내되는데, 이때 내륜(21)과 슬라이드 외륜(22)의 동일한 측면 한 곳에 각각 일정 크기의 볼(또는 로울러)(23) 삽입홈(24, 25)을 만들며, 이 삽입홈(24, 25)은 내륜(21)의 경우에 측면 한 곳에“ ˘ ”형태로서 궤도부(26)에 도달하도록 가공하며, 이때 궤도부(26)까지의 가공은 일정 각도를 가질 수 있도록 하고, 슬라이드 외륜(22)의 경우에도 측면 한 곳에 “ ⌒ ”형태로서 궤도부(27)에 도달하도록 가공하며, 이때 궤도부(27)까지의 가공은 일정 각도를 가질 수 있도록 한다.In addition, as shown in FIGS. 1B-2B, only a plurality of ceramic balls (or rollers) 23 are guided between the inner ring 21 and the slide outer ring 22 without the retainer 44, where the inner ring 21 and the slide outer ring are shown. Each of the same side of (22) has a certain size of balls (or rollers) 23 insertion grooves (24, 25) are made, which in the case of the inner ring 21 It is processed to reach the track portion 26 in the form of ˘ ”, in which the processing up to the track portion 26 can have a certain angle, and in the case of the slide outer ring 22, the track has a shape of“ ⌒ ”at one side. Machining to reach the portion 27, in this case the machining up to the track portion 27 to have a certain angle.
이와 같이 내륜(21)과 슬라이드 외륜(22)에 만들어진 “ ˘ ”와“ ⌒ ”형태의 볼(또는 로울러)(23) 삽입홈(24, 25)을 동일 선상에 놓고 “ ˘ ”와“ ⌒ ”의 선을 가상으로 연장하면 서로 만나서 가상의 원 모양이 형성될 수 있도록 하는데, 이와 같은 삽입홈(24, 25)은 볼(또는 로울러)(23) 삽입홈(24, 25) 입구쪽이 볼(또는 로울러)(23) 크기보다는 크고, 볼(또는 로울러)(23) 삽입홈(24, 25) 안쪽(궤도부)은 볼(또는 로울러)(23) 크기보다 작게함으로써, 이 삽입홈(24, 25)을 통과하는 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(23)을 강제로 삽입하여 내륜(21)과 슬라이드 외륜(22) 사이의 궤도부(26, 27)에 안착하도록 하고, 삽입되어 궤도부(26, 27)에 안착된 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(23)은 삽입홈(24, 25)을 통하여 바깥으로 빠져 나올 수 없도록 구성하며, 이와 같이 삽입홈(24, 25)을 통하여 강제 삽입된 다수의 세라믹 볼(또는 로울러)(23)만으로 리테이너(44) 없이 일정한 간극을 갖고 축(5)을 지지하는 총형 형태의 지지부(20)가 축(5)의 양쪽에 끼워져서 안내홈(8)을 갖는 브라켓(9)에 고정될 수 있도록 구성된다.In this way, the “˘” and “⌒” shaped ball (or roller) 23 insertion grooves (24, 25) formed on the inner ring (21) and the slide outer ring (22) are placed on the same line. When extending the line of the virtual to meet each other to form a virtual circle, such insertion grooves (24, 25) is the ball (or roller) 23, the insertion groove (24, 25) inlet side ball ( Or the inside of the balls (or rollers) 23 and the insertion grooves 24 and 25 (tracking section) smaller than the size of the balls (or the rollers) 23, so that the insertion grooves 24, A plurality of ceramic balls (or rollers) 23 passing through 25 are forcibly inserted so as to be seated on the tracks 26 and 27 between the inner ring 21 and the slide outer ring 22 and inserted into the tracks ( A plurality of ceramic balls (or rollers) 23 seated in the 26, 27 is configured so as not to come out through the insertion groove (24, 25), and thus through the insertion groove (24, 25) The guide groove 20 is formed on both sides of the shaft 5 by a plurality of ceramic balls (or rollers) 23 forcibly inserted into the support shaft 20 having a constant gap and supporting the shaft 5 without the retainer 44. It is configured to be able to be fixed to the bracket (9) having a (8).
이와 같이 구성된 본 고안의 작용은 다음과 같다.The operation of the present invention configured as described above is as follows.
기판이 이송되는 과정은 미도시한 모터의 회전력이 기어(6)를 통하여 축(5)으로 전달됨으로써 축(5)의 상부에 놓여진 기판이 이송하게 된다.In the process of transferring the substrate, the rotational force of the motor (not shown) is transmitted to the shaft 5 through the gear 6 so that the substrate placed on the upper portion of the shaft 5 is transferred.
이때 축(5)의 회전을 통한 기판 이송을 위하여 모터의 회전력이 기어(6)에 전달되는 과정에서 기어(6)와 연결된 축(5)에 편심이 발생하여, 이로 인하여 축(5)을 지지하는 베어링(10) 및 안내홈을 가진 브라켓에 고정된 베어링류(20)에 축방향 및 경방향 그리고 이의 합성 모멘트 힘이 가해지게 되더라도 리테이너(34, 44)가 없는 총형 형태의 회전체로 구성되어져 있기 때문에, 리테이너(34, 44)의 마모 및 파손으로 발생되는 회전불량을 원천적으로 방지할 수 있게 되어 축(5)이 정숙하게 원활한 회전을 하게 된다.At this time, in the process of transmitting the rotational force of the motor to the gear 6 to transfer the substrate through the rotation of the shaft 5, an eccentricity occurs in the shaft 5 connected to the gear 6, thereby supporting the shaft 5 Although the bearings 10 and the bearings 20 fixed to the brackets having the guide grooves are axially and radially and their combined moment forces are applied, they are composed of a total rotating body without retainers 34 and 44. As a result, it is possible to fundamentally prevent rotational defects caused by wear and breakage of the retainers 34 and 44 so that the shaft 5 is smoothly and smoothly rotated.
그리고 동일한 크기의 베어링에서 리테이너(34, 44)를 사용한 회전체와 비교할 때, 본 고안의 리테이너(34, 44) 없는 회전체(10, 20)는 상대적으로 많은 수의 세라믹 볼(또는 로울러)(13, 23)이 회전 궤도부에 놓이게 됨으로써 일정한 힘이 외부에서 회전체(10, 20)에 인가될 경우, 내부하성능이 크게 증가하게 되어서 장시간 사용할 수 있게 된다.And compared to the rotors using retainers 34 and 44 in bearings of the same size, the rotors 10 and 20 without retainers 34 and 44 of the present invention have a relatively large number of ceramic balls (or rollers) ( 13, 23 is placed on the rotary track portion when a constant force is applied to the rotating body (10, 20) from the outside, the internal load performance is greatly increased and can be used for a long time.
이상에서 살펴 본 바와 같이 본 고안은 베어링 및 베어링류의 구조에서 리테이너 채용 구동방식을 리테이너를 사용하지 않는 총형 형태의 구동방식으로 변경함으로써 축에 가해지는 편심으로 유입된 과대 하중으로 인하여 발생되는 리테이너 마모 및 파손에 의한 회전 불량을 원천적으로 방지함으로써 안정적으로 축을 회전시켜서 기판을 이송할 수 있도록 하며 아울러 회전 궤도부에 리테이너가 없이 모두 세라믹 볼(또는 로울러)만으로 구성됨으로써 일정한 힘이 외부에서 회전체에 인가될 경우에 동일한 크기의 베어링에서 리테이너를 사용한 회전체와 비교하여 내부하성능이 크게 증가하게 되어서 장시간 사용할 수 있도록 한 효과가 있다.As described above, the present invention changes retainer wear caused by excessive load introduced by eccentricity applied to the shaft by changing the retainer-driven driving method from the retainer to the gross type driving method without the retainer. And by preventing the rotational failure caused by damage at the source to stably rotate the shaft to transfer the substrate, and also all of the ceramic ball (or roller) without the retainer in the rotating track part is applied a constant force to the rotating body from the outside In case of the same size of bearing, the internal load performance is greatly increased compared to the rotating body using the retainer, which has the effect of making it possible to use for a long time.
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| KR20030004057U KR200312319Y1 (en) | 2003-02-12 | 2003-02-12 | rolling elements of maximum type to support the shaft for semiconductor and LCD |
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| KR20030004057U KR200312319Y1 (en) | 2003-02-12 | 2003-02-12 | rolling elements of maximum type to support the shaft for semiconductor and LCD |
Publications (1)
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| KR200312319Y1 true KR200312319Y1 (en) | 2003-05-09 |
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ID=41130293
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009088523A1 (en) * | 2008-01-11 | 2009-07-16 | Kaydon Corporation | Pivot arm assembly for semiconductor wafer handling robots and method for making the same |
-
2003
- 2003-02-12 KR KR20030004057U patent/KR200312319Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009088523A1 (en) * | 2008-01-11 | 2009-07-16 | Kaydon Corporation | Pivot arm assembly for semiconductor wafer handling robots and method for making the same |
| US8225509B2 (en) | 2008-01-11 | 2012-07-24 | Kaydon Corporation | Method for making a pivot arm assembly for semiconductor wafer handling robots |
| KR101368614B1 (en) * | 2008-01-11 | 2014-02-27 | 카이돈 코포레이션 | Pivot arm assembly for semiconductor wafer handling robots and method for making the same |
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