KR20030085692A - Device and Method of Photoresist sensing in spin coater - Google Patents

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KR20030085692A KR1020020023897A KR20020023897A KR20030085692A KR 20030085692 A KR20030085692 A KR 20030085692A KR 1020020023897 A KR1020020023897 A KR 1020020023897A KR 20020023897 A KR20020023897 A KR 20020023897A KR 20030085692 A KR20030085692 A KR 20030085692A
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Abstract

PURPOSE: A photoresist sensing apparatus of a spin coater and a sensing method are provided to be capable of checking the volume of photoresist remaining in a photoresist container while carrying out a photoresist coating process. CONSTITUTION: A photoresist sensing apparatus of a spin coater is provided with a rotating chuck(12), a photoresist supply nozzle(14) having the third sensing part(S3), located at the upper portion of the rotating chuck for coating a photoresist layer on a wafer(W), and a photoresist container(18) having the first sensing part(S1). The photoresist sensing apparatus further includes a pumping part(16) having the second sensing part(S2), connected with the photoresist container for supplying the photoresist stored in the photoresist container to the photoresist supply nozzle by pumping the photoresist and a controller(20) for controlling a driving part and the pumping part.

Description

스핀코터의 포토레지스트 센싱장치 및 센싱방법{Device and Method of Photoresist sensing in spin coater}Device and method of photoresist sensing in spin coater

본 발명은 포토레지스트의 양을 감지하는 센싱장치 및 센싱방법을 구비한 스핀코터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 포토레지스트용기 및 포토레지스트가 이동되는 경로에서의 포토레지스트의 양이 감지될 수 있는 센싱장치 및 센싱방법을 구비한 스핀코터에 관한 것이다.The present invention relates to a spin coater having a sensing device and a sensing method for sensing the amount of photoresist, and more particularly, the sensing of the photoresist container and the amount of photoresist in the path through which the photoresist is moved. A spin coater having an apparatus and a sensing method.

반도체소자 제조공정 중 사진공정은 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하고, 포토마스크를 이용하여 노광하고, 현상액에 현상함으로써 포토 마스크의 일정 패턴이 포토레지스터 막에 전사되도록 하는 공정이다. 이때, 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 포토레지스트 도포공정을 수행하게 되는데, 이는 주로 스핀 코터를 이용하여 이루어진다.In the semiconductor device manufacturing process, a photoresist is applied to a photoresist on a wafer, exposed using a photomask, and developed on a developer so that a predetermined pattern of the photomask is transferred to a photoresist film. In this case, a photoresist coating process of coating a photoresist on a wafer is performed, which is mainly performed using a spin coater.

이 스핀 코터는 웨이퍼를 고정하고 회전할 수 있도록 이루어진 회전척 위에 외부에서 공급된 웨이퍼가 놓이면 회전척은 웨이퍼를 고정하고 회전을 시작한다. 그리고 포토레지스트 공급용 노즐은 대기 위치에서 분사 위치로 이동하여 일정량의 포토레지스트를 회전하는 웨이퍼 중앙부에 뿌려주게 되고, 이 액상의 포토레지스터는 회전하는 웨이퍼 상에서 원심력에 의해 넓게 퍼져나가며 자체의 점성에 의해 웨이퍼에 거의 고른 두께로 분포된다. 이후 액상의 포토레지스터는 베이크 같은 일련의 경화과정을 거쳐 고상을 이루고 노광공정에 투입된다.The spin coater holds an externally supplied wafer on a rotating chuck that is capable of holding and rotating the wafer, and the rotating chuck holds the wafer and starts rotating. Then, the photoresist supply nozzle moves from the standby position to the ejection position and sprays a certain amount of photoresist on the center of the rotating wafer. The liquid photoresist spreads widely by centrifugal force on the rotating wafer and is caused by its viscosity. It is evenly distributed on the wafer. The liquid photoresist is then subjected to a series of curing processes such as baking to form a solid phase and then subjected to exposure.

이때, 포토레지스트 공급용 노즐로 공급되는 포토레지스트는 포토레지스트 용기에 담겨져 있으며, 이 포토레지스트 용기의 입구에 펌핑부 등을 구비하여 이펌핑부의 펌핑에 의해 포토레지스트 공급용 노즐로 이동된다.At this time, the photoresist supplied to the photoresist supply nozzle is contained in the photoresist container, and is provided with a pumping part or the like at the inlet of the photoresist container and is moved to the photoresist supplying nozzle by the pumping of the pumping part.

여기서 상술한 바와 같은 포토레지스트 도포 공정이 실시되는 도중 포토레지스트 용기에 남아 있는 포토레지스트가 완전 소비되는 경우가 발생되는데, 이를 스핀코터의 전반적인 공정이 제어되는 콘트롤러에서 인지하지 못할 경우, 상기 포토레지스트가 웨이퍼에 도포되지 않는 포토레지스트 도포공정이 수행될 수 있다.In this case, the photoresist remaining in the photoresist container is completely consumed during the photoresist coating process as described above, and when the overall process of the spin coater is not recognized by the controller, the photoresist A photoresist application process that is not applied to the wafer may be performed.

따라서 이는 웨이퍼 불량을 생산하게 되는 문제점을 가져오게 된다.Therefore, this brings about a problem of producing wafer defects.

상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 포토레지스트도포 공정이 실시되는 도중 포토레지스트 용기에 남아 있는 포토레지스트의 양을 감지할 수 있도록 하는 센싱장치 및 센싱방법을 구비한 스핀코터를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention for solving the above problems is to provide a spin coater having a sensing device and a sensing method for sensing the amount of photoresist remaining in the photoresist container during the photoresist coating process. Is in.

또, 본 발명의 목적은 상기 포토레지스트 용기뿐만 아니라 스핀코터의 포토레지스트가 이동되는 경로에서의 포토레지스트의 양을 감지할 수 있도록 하는 센싱장치 및 센싱방버을 구비한 스핀코터를 제공함에 있다.It is also an object of the present invention to provide a spin coater having a sensing device and a sensing chamber for sensing the amount of photoresist in a path along which the photoresist of the spin coater is moved, as well as the photoresist container.

도 1은 본 발명에 따른 포토레지스트 센싱수단이 구비된 스핀코터의 구성도1 is a block diagram of a spin coater having a photoresist sensing means according to the present invention

도 2는 본 발명에 따른 포토레지스트 이동경로에 따라 포토레지스트의 센싱방법이 도시된 순서도2 is a flowchart illustrating a method of sensing a photoresist according to a photoresist movement path according to the present invention.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는, 포토레지스트 용기에 담긴 포토레지스트의 양을 제1 센싱부가 감지하여 포토레지스트 용기에 포토레지스트가 존재하면 펌핑부로 이동되고, 포토레지스트가 존재하지 않으면 스핀코터의 동작을 중지시킬 수 있도록 하는 단계와; 상기 펌핑부로 이동된 포토레지스트의 양을 제2 센싱부가 감지하여 펌핑부에 포토레지스트가 존재하면 포토레지스트 공급용 노즐로 이동될 수 있도록 콘트롤러를 제어하고, 포토레지스트가 존재하지 않으면 스핀코터의 동작을 중지시킬 수 있도록 하는 단계와; 상기 포토레지스트 공급용 노즐로 이동된 포토레지스트의 양을 제3 센싱부가 감지하여 포토레지스트 공급용 노즐에 포토레지스트가 존재하면 웨이퍼에 분사되고, 포토레지스트가 존재하지 않으면 상기 스핀코터의 동작을 중지시킬 수 있도록 하는 단계로 이루어진다. 또, 본 발명은 구동수단에 의해 회전될 수 있도록 하는 회전척과; 포토레지스트의 양이 감지될 수 있는 제3 센싱부가 구비되고, 상기 회전척의 상부에 위치된 웨이퍼에 일정량의 포토레지스트가 도포되는 포토레지스트 공급용 노즐과; 포토레지스트의 양이 감지될수 있는 제1 센싱부가 구비되고, 상기 웨이퍼에 분산될 포토레지스트가 담겨져 있는 포토레지스트 용기와; 포토레지스트의 양이 감지될 수 있는 제2 센싱부가 구비되고, 상기 포토레지스트 용기에 담긴 포토레지스트를 상기 포토레지스트 공급용 노즐에 공급될 수 있도록 펌핑시키는 펌핑부과; 상기 회전척이 회전될 수 있도록 구동수단을 콘트롤하고, 상기 포토레지스트 용기에 담긴 포토레지스트를 펌핑하여 포토레지스트 공급용 노즐로 이동되도록 상기 펌핑부를 콘트롤하는 콘트롤러가 구비된다. 상기 포토레지스트 공급용 노즐은 포토레지스트가 이동될 지의 여부가 판단된 상기 콘트롤러에 의해 개방 또는 폐쇄되는 제1 밸브가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 펌핑부는 포토레지스트가 이동될 지의 여부가 판단된 상기 콘트롤러에 의해 개방 또는 폐쇄되는 제2 밸브가 더 구비되는 것이 바람직하다.In order to achieve the above object, in the present invention, the first sensing unit senses the amount of photoresist contained in the photoresist container and moves to the pumping unit if the photoresist exists in the photoresist container, and the spin coater operates if the photoresist does not exist. Making it possible to stop; The second sensing unit senses the amount of photoresist moved to the pumping unit and controls the controller to move to the photoresist supply nozzle when the photoresist exists in the pumping unit, and if the photoresist does not exist, operates the spin coater. Enabling to halt; The third sensing unit senses the amount of photoresist moved to the photoresist supply nozzle and is sprayed onto the wafer when the photoresist exists in the photoresist supply nozzle, and stops the operation of the spin coater if the photoresist does not exist. To make it possible. In addition, the present invention is a rotary chuck to be rotated by the drive means; A photoresist supply nozzle having a third sensing unit capable of sensing an amount of the photoresist, wherein a predetermined amount of photoresist is applied to a wafer located above the rotary chuck; A photoresist container having a first sensing unit capable of sensing an amount of photoresist, and containing a photoresist to be dispersed on the wafer; A second sensing part capable of sensing an amount of photoresist, and a pumping part configured to pump the photoresist contained in the photoresist container to be supplied to the photoresist supply nozzle; A controller is provided to control the driving means to rotate the rotary chuck and to control the pumping part to pump the photoresist contained in the photoresist container and to move the nozzle to the photoresist supply nozzle. Preferably, the photoresist supply nozzle further includes a first valve that is opened or closed by the controller that determines whether the photoresist is to be moved. Preferably, the pumping unit further includes a second valve that is opened or closed by the controller that determines whether the photoresist is to be moved.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

본 발명은 포토레지스트의 양을 감지할 수 있는 센싱수단을 스핀코터의 포토레지스트가 이동되는 장치마다 구비하여 포토레지스트 도포공정이 수행될 수 있도록 함이 목적이다.An object of the present invention is to provide a sensing means capable of sensing the amount of photoresist for each device to which the photoresist of the spin coater is moved so that the photoresist coating process can be performed.

도 1은 본 발명에 따른 포토레지스트 센싱장치가 구비된 스핀코터의 구성도를 도시하고 있고, 도 2는 본 발명에 따른 포토레지스트 이동경로에 따라 포토레지스트의 센싱방법을 도시하고 있는 순서도이다.1 is a block diagram illustrating a spin coater equipped with a photoresist sensing apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a flowchart illustrating a method of sensing a photoresist according to a photoresist movement path according to the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 포토레지스트 센싱장치가 구비된 스핀 코터(10)의 구성도를 도시하고 있는 데, 우선, 웨이퍼(W)가 고정되면 모터(11)등의 구동수단에의해 회전될 수 있도록 하는 회전척(12)과; 상기 회전척(12)의 상부에 위치된 웨이퍼(W)에 일정량의 포토레지스트가 도포되는 포토레지스트 공급용 노즐(14)과; 상기 웨이퍼(W)에 분산될 포토레지스트가 담겨져 있는 포토레지스트 용기(18)와; 상기 포토레지스트 용기(18)에 담긴 포토레지스트를 상기 포토레지스트 공급용 노즐(14)에 공급될 수 있도록 펌핑시키는 펌핑부(16)와; 상기 회전척(12)이 회전될 수 있도록 모터(11)등의 구동수단을 콘트롤하고, 상기 포토레지스트 용기(18)에 담긴 포토레지스트를 펌핑하여 포토레지스트 공급용 노즐(14)로 이동되도록 상기 펌핑부(16)를 콘트롤하는 콘트롤러(20)가 구비되어 있다.1 shows a schematic view of a spin coater 10 equipped with a photoresist sensing device according to the present invention. First, when the wafer W is fixed, it may be rotated by a driving means such as a motor 11. A rotary chuck 12 for retaining; A photoresist supply nozzle (14) in which a predetermined amount of photoresist is applied to the wafer (W) positioned above the rotary chuck (12); A photoresist container (18) containing photoresist to be dispersed on the wafer (W); A pumping unit (16) for pumping the photoresist contained in the photoresist container (18) to be supplied to the photoresist supply nozzle (14); Control the driving means such as the motor 11 so that the rotary chuck 12 is rotated, pumping the photoresist contained in the photoresist container 18 to be moved to the photoresist supply nozzle 14 A controller 20 for controlling the unit 16 is provided.

또, 상기 스핀코터는 스핀 코터에 공급되는 포토레지스트가 이동되는 포토레지스트 공급용 배관(22)이 구비된다.In addition, the spin coater is provided with a photoresist supply pipe 22 through which the photoresist supplied to the spin coater is moved.

여기서, 상기 포토레지스트 용기(18)에 존재하고 있는 포토레지스트의 양 및 포토레지스트 공급용 배관을 통해 이동되고 있는 포토레지스트의 양을 감지할 수 있도록 하기 하는 센싱장치가 구비된다. 이는 포토레지스트 용기(18)에 존재하고 있는 포토레지스트의 양을 감지하기 위해 포토레지스트 용기(18)에 부착된 제1 센싱부(S1)와, 상기 펌핑부(16)를 이동하고 있는 포토레지스트의 양을 감지하기 위해 펌핑부(16)의 입구에 부착된 제2 센싱부(S2)와, 상기 포토레지스트 공급용 노즐(14)에 존재하고 있는 포토레지스트의 양을 감지하기 위해 포토레지스트 공급용 노즐(14)의 입구에 부착된 제3 센싱부(S3)로 구비된다. 이와 같이 제1 , 제2 및 제3 센싱부를 통해 각 위치에서의 포토레지스트의 양을 감지한 신호가 상기 콘트롤러(20)에 입력되면 입력된 신호에 따라 상기 스핀 코터(10)의 동작 상태를 콘트롤하게 된다.Here, a sensing device for sensing the amount of photoresist present in the photoresist container 18 and the amount of photoresist being moved through the photoresist supply pipe is provided. The first sensing unit S1 attached to the photoresist container 18 and the photoresist moving the pumping unit 16 are used to sense the amount of photoresist present in the photoresist container 18. The second sensing unit S2 attached to the inlet of the pumping unit 16 to detect the amount and the photoresist supply nozzle to detect the amount of photoresist present in the photoresist supply nozzle 14. It is provided with a third sensing unit (S3) attached to the inlet of (14). As such, when a signal sensing the amount of photoresist at each position is input to the controller 20 through the first, second and third sensing units, the operation state of the spin coater 10 is controlled according to the input signal. Done.

이때, 상기 포토레지스트 용기에서 요구되는 포토레지스트의 양을 상기 콘트롤러(20)에 설정하고, 이 설정치를 제1 센싱부(S1)에서 감지할 수 있도록 하고, 상기 상기 펌핑부(16)에서 요구되는 포토레지스트의 양을 상기 콘트롤러(20)에 설정하고, 이 설정치를 제2 센싱부에서 감지할 수 있도록 한다. 또, 포토레지스트 공급용 노즐(14)에서 요구되는 포토레지스트의 양을 상기 콘트롤러(20)에 설정하고, 이 설정치를 제3 센싱부(S3)에서 감지할 수 있도록 한다.At this time, the amount of photoresist required in the photoresist container is set in the controller 20, and the set value can be detected by the first sensing unit S1, and the pumping unit 16 is required. The amount of photoresist is set in the controller 20 so that the set value can be sensed by the second sensing unit. In addition, the amount of photoresist required by the photoresist supply nozzle 14 is set in the controller 20 so that the set value can be sensed by the third sensing unit S3.

또, 상기 펌핑 수단 및 상기 포토레지스트 공급용 노즐(14)에는 각각 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)가 구비되는데, 이는 포토레지스트가 다음 단계로 이동될 지의 여부가 판단된 콘트롤러(20)에 의해 개방 또는 폐쇄된다.Further, the pumping means and the photoresist supply nozzle 14 are provided with a first valve V1 and a second valve V2, respectively, which are controllers that determine whether the photoresist is to be moved to the next step ( Open or closed by 20).

상술한 바와 같은 구성을 가진 스핀 코터의 동작을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the operation of the spin coater having the configuration as described above are as follows.

우선, 포토레지스트 용기(18)에 담긴 포토레지스트의 양이 제1 센싱부(S1)에 의해 감지되고, 이 제1 센싱부(S1)에서 감지된 신호는 콘트롤러(20)에 입력되어 이 감지된 신호를 판단(P2)하는 단계이다. 다시 말해 콘트롤러(20)에 설정되어 있는 포토레지스트의 양이면 발생하는 신호로 콘트롤러(20)에 입력됨을 판단하면 상기 펌핑부를 상기 포토레지스트 용기에서 펌핑부로 유입되도록 콘트롤러(20)는 제어하고, 콘트롤러(20)에 설정된 포토레지스트의 양이 아닐 때 발생된 신호로 콘트롤러(20)가 판단하면 상기 스핀코터의 동작이 중지되도록 콘트롤러(20)는 제어한다.First, the amount of photoresist contained in the photoresist container 18 is detected by the first sensing unit S1, and the signal sensed by the first sensing unit S1 is input to the controller 20 to detect the detected amount. In operation P2, the signal is determined. In other words, when it is determined that the amount of photoresist set in the controller 20 is input to the controller 20 as a signal generated, the controller 20 controls the pumping unit to flow into the pumping unit from the photoresist container, and the controller ( When the controller 20 determines that the signal generated when the amount of the photoresist is not set to 20, the controller 20 controls to stop the operation of the spin coater.

상기 P2 단계에서 판단된 바에 의해 콘트롤러(20)가 제어하여 포토레지스트는 포토레지스트 용기에서 펌핑부로 이동(P4)되고, P2 단계에서 판단된 바에 의해 콘트롤러(20)가 제어하여 회전척(12)을 구동시키는 모터(11)수단의 동작이 중지 및 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)는 폐쇄되어 스핀 코터의 동작이 중지(T2)된다.The controller 20 controls the photoresist from the photoresist container to the pumping unit (P4), as determined in the step P2, and the controller 20 controls the rotary chuck 12, as determined in the step P2. The operation of the motor 11 means for driving is stopped and the first valve V1 and the second valve V2 are closed to stop the operation of the spin coater (T2).

이어서, 펌핑부로 이동된 포토레지스트의 양이 제2 센싱부에 의해 감지되고, 이 제2 센싱부(S2)에서 감지된 신호는 콘트롤러(20)에 입력되어 이 감지된 신호를 판단하는 단계(P6)이다. 다시 말해 콘트롤러(20)에 설정되어 있는 포토레지스트의 양일 때 발생된 신호가 콘트롤러(20)에 입력됨을 판단하면 상기 펌핑부의 포토레지스트가 포토레지스트 공급용 노즐에 유입되도록 콘트롤러(20)는 제어하고, 콘트롤러(20)에 설정된 포토레지스트의 양이 아닐 때 발생된 신호가 콘트롤러(20)에 입력됨을 판단하면 상기 스핀코터의 동작이 중지되도록 콘트롤러(20)는 제어한다.Subsequently, the amount of photoresist moved to the pumping unit is sensed by the second sensing unit, and the signal sensed by the second sensing unit S2 is input to the controller 20 to determine the detected signal (P6). )to be. In other words, when it is determined that the signal generated when the amount of photoresist set in the controller 20 is input to the controller 20, the controller 20 controls the photoresist of the pump to flow into the photoresist supply nozzle. When it is determined that the signal generated when the amount of photoresist set in the controller 20 is not input to the controller 20, the controller 20 controls the operation of the spin coater to be stopped.

상기 P6 단계에서 판단된 바에 의해 콘트롤러(20)가 제어하여 제1 밸브가 개방되면 포토레지스트는 펌핑부에서 포토레지스트 공급용 노즐로 이동(P8)되고, P6 단계에서 판단된 바에 의해 콘트롤러(20)가 제어하여 회전척(12)을 구동시키는 모터(11)수단 동작의 중지 및 제1 밸브(V1)는 폐쇄되어 스핀 코터의 동작이 중지(T2)된다.When the controller 20 is controlled by the determination in step P6 and the first valve is opened, the photoresist moves from the pump to the photoresist supply nozzle (P8), and the controller 20 determines in step P6. Stops the operation of the motor 11 means for driving the rotary chuck 12 and the first valve V1 is closed to stop the operation of the spin coater (T2).

이어서, 포토레지스트 공급용 노즐로 이동된 포토레지스트의 양이 제3 센싱부에 의해 감지되고, 이 제3 센싱부(S2)에서 감지된 신호는 콘트롤러(20)에 입력되어 이 감지된 신호를 판단하는 단계(P10)이다. 다시 말해 콘트롤러(20)에 설정되어 있는 포토레지스트의 양일 때 발생된 신호가 콘트롤러(20)에 입력됨을 판단하면 상기 포토레지스트 공급용 노즐의 포토레지스트가 웨이퍼에 분사되도록 콘트롤러(20)는 제어하고, 콘트롤러(20)에 설정된 포토레지스트의 양이 아닐 때 발생된 신호가 콘트롤러(20)에 입력됨을 판단하면 상기 스핀코터의 동작이 중지되도록 콘트롤러(20)는 제어한다.Subsequently, the amount of photoresist moved to the photoresist supply nozzle is sensed by the third sensing unit, and the signal sensed by the third sensing unit S2 is input to the controller 20 to determine the detected signal. It is step P10. In other words, when it is determined that the signal generated when the amount of photoresist set in the controller 20 is input to the controller 20, the controller 20 controls the photoresist of the photoresist supply nozzle to be injected onto the wafer. When it is determined that the signal generated when the amount of photoresist set in the controller 20 is not input to the controller 20, the controller 20 controls the operation of the spin coater to be stopped.

상기 P12 단계에서 판단된 바에 의해 콘트롤러(20)가 제어하여 제2 밸브가 개방되면 포토레지스트는 포토레지스트 공급용 노즐에서 웨이퍼로 이동(P8)되어 분사되고, P12 단계에서 판단된 바에 의해 콘트롤러(20)가 제어하여 회전척(12)을 구동시키는 모터(11)수단 동작의 중지 및 제2 밸브(V2)는 폐쇄되어 스핀 코터의 동작이 중지(T2)된다.When the second valve is opened by controlling the controller 20 as determined in the step P12, the photoresist is moved to the wafer from the photoresist supply nozzle (P8) and injected, and the controller 20 is determined in the step P12. ) Stops the operation of the motor 11 means for driving the rotary chuck 12 and the second valve V2 is closed to stop the operation of the spin coater (T2).

이때, 상술한 스핀코터의 동작이 중지시키는 단계(T2)를 수행한 후 콘트롤러(20)는 포토레지스트의 양이 존재하지 않음을 작업자에게 인지시켜 주어 작업자는 포토레지스트 용기(18)에 포토레지스트가 유입되도록 하는 단계(T4)를 수행한다.At this time, after performing the step (T2) to stop the operation of the spin coater described above, the controller 20 notifies the operator that the amount of photoresist does not exist, so that the operator may have the photoresist in the photoresist container 18. Perform step T4 to be introduced.

따라서 포토레지스트 용기(18)에 포토레지스트가 유입되면 다시 포토레지스트 용기(18)에 포토레지스트가 있는 지 여부를 판단하는 단계(P2)로 이동되어 상술한 단계들이 수행된다.Therefore, when the photoresist flows into the photoresist container 18, the process moves to step P2 of determining whether the photoresist exists in the photoresist container 18 and the above-described steps are performed.

이상에서 살펴본 것과 같이 본 발명은 포토레지스트 용기 및 스핀코터의 포토레지스트가 이동되는 경로에 존재하고 있는 포토레지스트의 양을 감지할 수 있도록 하는 센싱 장치를 스핀코터가 구비함으로써, 포토레지스트가 도포되어 있는 웨이퍼가 생산될 확률을 높일 수 있는 효과가 있다.As described above, in the present invention, the spin coater is provided with a sensing device that can sense the amount of the photoresist existing in the path where the photoresist of the photoresist container and the spin coater are moved. There is an effect that can increase the probability that the wafer is produced.

Claims (4)

구동수단에 의해 회전될 수 있도록 하는 회전척과;A rotary chuck to be rotated by the driving means; 포토레지스트의 양이 감지될 수 있는 제3 센싱부가 구비되고, 상기 회전척의 상부에 위치된 웨이퍼에 일정량의 포토레지스트가 도포되는 포토레지스트 공급용 노즐과;A photoresist supply nozzle having a third sensing unit capable of sensing an amount of the photoresist, wherein a predetermined amount of photoresist is applied to a wafer located above the rotary chuck; 포토레지스트의 양이 감지될 수 있는 제1 센싱부가 구비되고, 상기 웨이퍼에 분산될 포토레지스트가 담겨져 있는 포토레지스트 용기와;A photoresist container having a first sensing unit capable of sensing an amount of photoresist, and containing a photoresist to be dispersed on the wafer; 포토레지스트의 양이 감지될 수 있는 제2 센싱부가 구비되고, 상기 포토레지스트 용기에 담긴 포토레지스트를 상기 포토레지스트 공급용 노즐에 공급될 수 있도록 펌핑시키는 펌핑부과;A second sensing part capable of sensing an amount of photoresist, and a pumping part configured to pump the photoresist contained in the photoresist container to be supplied to the photoresist supply nozzle; 상기 회전척이 회전될 수 있도록 구동수단을 콘트롤하고, 상기 포토레지스트 용기에 담긴 포토레지스트를 펌핑하여 포토레지스트 공급용 노즐로 이동되도록 상기 펌핑부를 콘트롤하는 콘트롤러가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 스핀코터의 포토레지스트 센싱장치.And a controller for controlling the driving means to rotate the rotary chuck, and controlling the pumping part to pump the photoresist contained in the photoresist container and to move to the photoresist supply nozzle. Photoresist sensing device. 제 1 항에 있어서, 상기 포토레지스트 공급용 노즐은The method of claim 1, wherein the photoresist supply nozzle 포토레지스트가 이동될 지의 여부가 판단된 상기 콘트롤러에 의해 개방 또는 폐쇄되는 제1 밸브가 더 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 스핀코터의 포토레지스트 센싱 장치.And a first valve that is opened or closed by the controller that determines whether the photoresist is to be moved. 제 1 항에 있어서, 상기 펌핑부는The method of claim 1, wherein the pumping unit 포토레지스트가 이동될 지의 여부가 판단된 상기 콘트롤러에 의해 개방 또는 폐쇄되는 제2 밸브가 더 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 스핀코터의 포토레지스트 센싱 장치.And a second valve that is opened or closed by the controller that determines whether the photoresist is to be moved. 포토레지스트 용기에 담긴 포토레지스트의 양을 제1 센싱부가 감지하여 포토레지스트 용기에 포토레지스트가 존재하면 펌핑부로 이동되고, 포토레지스트가 존재하지 않으면 스핀코터의 동작을 중지시킬 수 있도록 하는 단계와;Sensing the amount of photoresist contained in the photoresist container to move the pumping part if the photoresist is present in the photoresist container and to stop the operation of the spin coater if the photoresist is not present; 상기 펌핑부로 이동된 포토레지스트의 양을 제2 센싱부가 감지하여 펌핑부에 포토레지스트가 존재하면 포토레지스트 공급용 노즐로 이동될 수 있도록 콘트롤러를 제어하고, 포토레지스트가 존재하지 않으면 스핀코터의 동작을 중지시킬 수 있도록 하는 단계와;The second sensing unit senses the amount of photoresist moved to the pumping unit and controls the controller to move to the photoresist supply nozzle when the photoresist exists in the pumping unit, and if the photoresist does not exist, operates the spin coater. Enabling to halt; 상기 포토레지스트 공급용 노즐로 이동된 포토레지스트의 양을 제3 센싱부가 감지하여 포토레지스트 공급용 노즐에 포토레지스트가 존재하면 웨이퍼에 분사되고, 포토레지스트가 존재하지 않으면 상기 스핀코터의 동작을 중지시킬 수 있도록 하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 스핀코터의 포토레지스트 센싱방법.The third sensing unit senses the amount of photoresist moved to the photoresist supply nozzle and is sprayed onto the wafer when the photoresist exists in the photoresist supply nozzle, and stops the operation of the spin coater if the photoresist does not exist. Photoresist sensing method of a spin coater, characterized in that consisting of steps to make.
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