KR20030077837A - 반도체 제조용 크라이오 펌프 - Google Patents

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KR20030077837A
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Abstract

본 발명은 반도체 제조공정 중 진공을 유지하는 공정에 사용되는 크라이오 펌프의 재생능력을 향상함으로 크라이오 펌프의 전체성능을 향상되게 하는 반도체 제조용 크라이오 펌프에 관한 것으로, 이와 같은 본 발명은 에어 배기관이 설치된 펌프 케이스와, 밑면 일측에 퍼지가스 유입구가 형성된 내통과, 가스분자들을 응축 및 흡착시키는 가스응축수단과, 응축된 가스분자들을 제거하는 재생수단을 포함하는 반도체 제조용 크라이오 펌프에 있어서, 상기 재생수단은 퍼지가스를 공급해주는 퍼지가스 공급유닛과, 퍼지가스가 이송되도록 하는 퍼지가스 공급배관과, 퍼지가스가 공급될 때에만 퍼지가스 흡입구에 접촉되어 내통 내부로 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 노즐유닛을 포함한다.
이상과 같이 본 발명 반도체 제조용 크라이오 펌프는 내통으로 공급되는 퍼지가스를 퍼지 가이드를 통해 공급하기 때문에 퍼지가스는 내통 내부의 여러부분에 골고루 공급되어 내통에 설치된 가스응축수단을 전체적으로 감싸면서 응축된 가스분자들을 제거할 수 있으므로 종래 퍼지가스가 일측으로만 공급되어 수분이나 오염물 등이 이 차콜 등에 흡착되는 것을 미연에 방지할 수 있다.

Description

반도체 제조용 크라이오 펌프{Cryo pump for manufacturing semiconductor}
본 발명은 반도체 제조용 크라이오 펌프에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조공정 중 진공을 유지하는 공정에 사용되는 크라이오 펌프의 재생능력을 향상함으로 크라이오 펌프의 전체성능을 향상되게 하는 반도체 제조용 크라이오 펌프에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자는 미세한 파티클(Particle)에 의해서도 소자의 불량이 발생하므로 대부분의 반도체소자 제조공정은 진공상태의 공정챔버(Chamber)에서 공정이 진행되고 있다.
이때, 이와 같은 공정챔버를 진공상태로 설정시키기 위해서는 통상 두가지 원리가 이용되고 있다. 예를 들면, 그 첫째로는 공정챔버 내부의 가스(Gas)를 물리적으로 진공반응실 밖의 외부로 배출하는 방법이며, 둘째로는 가스분자들을 외부로 배출하지 않고 공정챔버의 내부 한 부분에서 응축 또는 포획하는 방법이다.
여기에서, 가스분자들을 외부로 배출하지 않고 공정챔버의 내부 한 부분에서 응축 또는 포획하는 방법으로 공정챔버를 진공상태로 설정시키는 장치로는 크라이오 펌프 등이 있는 바, 이러한 크라이오 펌프는 계속해서 가스분자들을 공정챔버의 내부 한 부분에서 응축 또는 포획하기 때문에 일정시간 사용한 이후에는 그 성능이 현저히 저하되어 요구되는 진공도를 제대로 형성하지 못하게 된다.
따라서, 이러한 크라이오 펌프에는 질소가스 등의 퍼지가스(Purge gas)를 크라이오 펌프 내부로 공급하여 응축된 가스분자들을 제거하는 공정인 재생공정을 정기적으로 실시하고 있다.
이하, 이상과 같은 종래 반도체 제조용 크라이오 펌프를 도 1과 도 2를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 종래 반도체 제조용 크라이오 펌프(100)를 설명하면, 종래 크라이오 펌프(100)는 상면이 개구된 원통형상의 펌프 케이스(Pump case,110)와, 이러한 펌프 케이스(110)에 소정 간격 이격되게 삽입설치되는 원통형상의 내통(120)과, 이 내통(120) 내 설치되어 가스분자들을 응축되게 하는 가스응축수단과, 펌프 케이스(110) 내 설치되어 가스응축수단에 가스가 응축될 수 있도록 가스응축수단을 소정 극저온상태로 냉각되게 하는 냉각유닛(Unit,130)과, 펌프 케이스(110) 및 펌프 케이스(110)의 외부 일측에 설치되는 재생수단으로 구성된다.
여기에서, 가스응축수단은 다시 내통(120) 내 설치되며 냉각유닛(130)에 의해 냉각되어 수증기와 탄화수소 등과 같은 가스들을 냉각응축되게 하는 제1어레이 (Array) 부재(140)와, 내통(120) 내 설치되며 냉각유닛(130)에 의해 냉각되어 에어 등과 같은 가스를 냉각응축되게 하는 제2어레이 부재(150)와, 이 두 어레이 부재(140,150)에 응축된 가스가 흡착될 수 있도록 하는 차콜(Charcoal,160)로 구성된다.
그리고, 재생수단은 제1어레이 부재(140)와 제2어레이 부재(150)와 차콜(160)과 같은 가스응축수단에 응축된 가스분자들을 제거하여 외부로 강제배출시킬 수 있도록 하는 역할을 하는 바, 다시 퍼지가스 공급유닛(182)과 퍼지가스 공급배관(184) 및 퍼지가스 공급노즐(186)로 구성된다.
이때, 크라이오 펌프(100)의 내통(120) 일측 밑면에는 퍼지가스(70)를 공급되게 하는 퍼지가스 공급노즐(186)이 끼워질 수 있도록 소정 크기로 개구된 퍼지가스 유입구(122)가 형성되게 되며, 크라이오 펌프(100)의 펌프 케이스(110) 일측 밑면에는 퍼지가스(70)에 의해 제거되는 가스분자들이 외부로 배출될 수 있도록 하는 에어 배기관(115)이 설치된다.
따라서, 종래 크라이오 펌프(100)의 내통(120)에 퍼지가스 공급노즐(186)을 통해 퍼지가스(70)가 공급되게 되면, 크라이오 펌프(100)의 가스응축수단에 응축된 가스분자들은 이 퍼지가스(70)에 의해 가스상태(이하, 응축된 상태에서 다시 가스상태로 변한 가스분자들을 '오염가스(80)'라 칭하기로 한다.)로 변하면서 외부로강제 배출되게 되며, 크라이오 펌프(100)의 성능은 회복되게 된다.
그러나, 이상과 같은 크라이오 펌프(100)는 그 특성상 내부로 유입되는 퍼지가스(70)가 깨끗한 상태가 아니면 차콜(160) 부위에 이물질이 침투하게 되어 재생에 장시간 소요되게 되고 그 성능이 저하되게 되는데, 종래 크라이오 펌프(100) 같은 경우 내통(120)에 개구된 퍼지가스 유입구(122)가 과대하게 개구되어 재생이 시작될 경우 퍼지가스(70)에 의해 외부로 강제 배출되던 오염가스(80) 중 일부는 이 퍼지가스 유입구(122)로 재유입되게 되어 크라이오 펌프(100)의 성능을 저하시키게 되는 문제점이 발생된다.
또한, 크라이오 펌프(100)를 재생할 경우 크라이오 펌프(100)의 내통(120)으로 공급된 퍼지가스(70)는 다른 오염된 이물질이나 수분 등이 차콜(160) 등에 흡착되지 않도록 크라이오 펌프(100)의 내측에 설치된 가스응축수단을 전체적으로 감싸면서 가스분자들을 제거해야 하는데, 종래 크라이오 펌프(100)의 내통(120)에 퍼지가스(70)를 직접 공급하는 퍼지가스 공급노즐(186) 같은 경우 하나의 원형로드(Rod) 형태로 형성되었기 때문에 일방향으로만 퍼지가스(70)가 공급되어 가스응축수단을 전체적으로 감싸주지 못하게 되는 문제점이 발생된다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은 외부로 배출되는 오염가스가 크라이오 펌프의 내통 내부로 재유입되는 것을 차단할 뿐만 아니라 크라이오 펌프의 내통으로 퍼지가스가 유입될 경우 이 퍼지가스가 가스응축수단을 전체적으로 감쌀 수 있도록 한 반도체 제조용 크라이오 펌프의 재생시스템을 제공함에 있다.
도 1은 종래 반도체 제조용 크라이오 펌프를 도시한 개념도.
도 2는 도 1의 A부분을 확대도시한 단면도.
도 3은 본 발명의 일실시예인 반도체 제조용 크라이오 펌프를 도시한 개념도.
도 4는 도 3의 퍼지 가이드를 도시한 평면도.
도 5는 도 3의 B부분을 확대도시한 단면도.
이와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명은 에어 배기관이 설치된 펌프 케이스와, 펌프 케이스의 내부에 설치되며 밑면 일측에 퍼지가스 유입구가 형성된 내통과, 내통에 설치되며 가스분자들을 응축 및 흡착시키는 가스응축수단과, 이 가스응축수단을 극저온상태로 냉각시키는 냉각유닛과, 퍼지가스 유입구에 퍼지가스를 공급하여 응축된 가스분자들을 제거하는 재생수단을 포함하는 반도체 제조용 크라이오 펌프에 있어서, 상기 재생수단은 퍼지가스를 공급해주는 퍼지가스 공급유닛과, 퍼지가스 공급유닛과 연결되어 퍼지가스가 이송되도록 하는 퍼지가스 공급배관과, 퍼지가스 공급배관과 연결되어 퍼지가스가 공급될 때에만 퍼지가스 흡입구에 접촉되어 내통 내부로 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 노즐유닛을 포함한 것을 특징으로 한다.
나아가, 상기 퍼지가스 노즐유닛은 가스공급배관의 일 단부에 장착되며 내부에는 유동홈이 형성되고 끝단부에는 걸림턱이 형성된 배관헤드와, 유동홈에 왕복유동될 수 있도록 설치되며 퍼지가스에 의해 일측방향으로 유동되고 끝단부에 걸림턱에 걸릴 수 있도록 걸림돌기가 형성된 퍼지가스 공급노즐과, 배관헤드와 퍼지가스 공급노즐 사이에 설치되며 일측방향으로 유동된 퍼지가스 공급노즐이 타측방향으로 유동될 수 있도록 탄성지지하는 탄성부재로 구성된 것을 특징으로 한다.
더 나아가, 상기 내통의 밑면에는 퍼지가스 유입구로 유입된 퍼지가스가 내통 내부에서 여러방향으로 분출될 수 있도록 하는 퍼지 가이드가 설치된 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 퍼지 가이드는 상면에 다수개의 퍼지가스 공급홀이 형성된 원형 링 형상인 것을 특징으로 한다.
이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 일실시예인 반도체 제조용 크라이오 펌프(200)를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 3을 참조하여 본 발명의 일실시예인 반도체 제조용 크라이오 펌프(200)를 구체적으로 설명하면, 본 발명의 일실시예인 크라이오 펌프(200)는 전체적으로 보아 상면이 개구된 원통형상의 펌프 케이스(210)와, 이러한 펌프 케이스(210)에 소정 간격 이격되게 삽입설치되는 내통(220)과, 내통(220) 내부에 설치되어 가스분자들을 응축되게 하는 가스응축수단과, 펌프 케이스(210) 내 설치되어 가스응축수단에 가스가 응축될 수 있도록 가스응축수단을 소정 극저온상태로 냉각되게 하는 냉각유닛(230)과, 펌프 케이스(210) 및 펌프 케이스(210)의 외부 일측에 설치되어 크라이오 펌프(200)의 성능을 재생시켜주는 재생수단으로 구성된다.
보다 구체적으로 설명하면, 펌프 케이스(210)의 일측 밑면에는 가스응축수단에 의해 응축된 가스분자들이 오염가스(80)로 변할 경우 이 오염가스(80)가 외부로 배출될 수 있도록 하는 에어 배기관(115)이 설치되며, 내통(220)의 일측 밑면에는 재생수단에서 공급하는 퍼지가스(70)가 내통(220) 내부로 공급될 수 있도록 하는 소정 크기의 퍼지가스 유입구(222)가 형성된다.
이때, 내통(220)에 형성된 퍼지가스 유입구(222)의 하측부분에는 후술될 퍼지가스 공급노즐(286)의 일부분이 이에 삽입될 수 있도록 퍼지가스 공급노즐(286)의 상측 형상과 유사한 형상으로 절개된 삽입홈(224)이 형성되며, 퍼지가스 유입구(222)의 상측부분에는 퍼지가스 유입구(222)를 통하여 퍼지가스(70)가 공급될 경우 이 퍼지가스(70)가 내통(220) 내부의 여러 방향으로 확산되면서 공급될 수 있도록 하는 퍼지 가이드(Purge guide,226)가 설치된다.
여기에서, 퍼지 가이드(226)는 원형 링(Ring) 형상으로 퍼지가스 유입구(222) 상측으로부터 내통(220)의 밑면에 설치되는 바 그 내부와 밑면 일측 및 상면에는 퍼지가스(70)가 유통될 수 있도록 퍼지가스 공급홀(Hole,227)이 형성된다. 즉, 이 퍼지 가이드(226)의 밑면에는 퍼지가스 유입구(222)를 통해 공급되는 퍼지가스(70)가 유입될 수 있도록 하나의 퍼지가스 공급홀(227)이 형성되고, 내부에는 이 유입된 퍼지가스(70)가 원형 링(Ring)의 형상을 따라 회전 또는 유통될 수 있도록 원형 형태로 형성되며, 상면에는 이와 같이 유통되는 퍼지가스(70)가 원형 링의 여러 부분에서 각각 분출될 수 있도록 다수개의 퍼지가스 공급홀(227)이 형성된다.
한편, 가스응축수단은 공정챔버 내 가스분자들을 응축되도록 하는 역할을 하는 바, 다시 내통(220) 내 설치되며 냉각유닛(230)에 의해 냉각되어 수증기와 탄화수소 등과 같은 가스들을 냉각응축되게 하는 제1어레이 부재(240)와, 내통(220 내 설치되며 냉각유닛(230)에 의해 냉각되어 에어 등과 같은 가스를 냉각응축되게 하는 제2어레이 부재(250)와, 이 두 어레이 부재(240,250)에 장착되어 응축된 가스들을 흡착할 수 있도록 하는 차콜(260)로 구성된다.
또한, 재생수단은 제1어레이 부재(240)와 제2어레이 부재(250)와 차콜(260)과 같은 가스응축수단에 응축된 가스분자들을 제거하여 외부로 강제배출시킬 수 있도록 하는 역할을 하는 바, 다시 퍼지가스 공급유닛(282)과 퍼지가스 공급배관(284) 및 퍼지가스 노즐유닛(Purge gas nozzle unit)으로 구성된다.
이때, 퍼지가스 공급유닛(282)은 펌프 케이스(210)의 외부 일측에 설치되어 펌프 케이스(210) 및 내통(220)의 내부로 퍼지가스(70)를 공급하는 역할을 하며, 퍼지가스 공급배관(284)은 일측 단부가 퍼지가스 공급유닛(282)과 연결되고 타측 단부가 퍼지가스 노즐유닛과 연결되어 퍼지가스 공급유닛(282)이 공급하는 퍼지가스(70)가 퍼지가스 노즐유닛으로 유동될 수 있도록 하는 역할을 한다.
그리고, 퍼지가스 노즐유닛은 퍼지가스 유입구(222)가 형성된 부분에 근접한 내통(220)과 펌프 케이스(210) 사이에 설치되며, 퍼지가스 공급유닛(282)에서 퍼지가스(70)를 공급할 때에만 내통(220)의 퍼지가스 유입구(222)에 접촉되어 퍼지가스 공급유닛(282)에서 공급하는 퍼지가스(70)가 내통(220) 내부로 공급되도록 하는 역할을 한다.
퍼지가스 노즐유닛에 대해 보다 구체적으로 설명하면, 퍼지가스 노즐유닛은 다시 배관헤드(Head,289)와, 퍼지가스 공급노즐(286)과, 탄성부재(288)로 구성된다.
이때, 배관헤드(289)는 퍼지가스 공급배관(284)의 타측단부에 장착되며, 내부에 퍼지가스 공급노즐(286)이 삽입되어 소정 거리 왕복 유동될 수 있도록 하는 유동홈(290)이 형성되고, 그 상측 끝단부에는 이와 같이 유동되는 퍼지가스 공급노즐(286)이 걸릴수 있도록 걸림턱(291)이 형성된 실린더(Cylinder) 형상으로 형성된다.
그리고, 퍼지가스 공급노즐(286)은 앞에서 설명한 바와 같이 배관헤드(289)의 유동홈(290)에 삽입되는 바 유동홈(290)에 삽입되어 소정 거리 왕복할 수 있는 피스톤(Piston) 형상으로 형성되고, 그 내부에는 퍼지가스(70)가 유동될 수 있도록 퍼지가스 공급홀(285)이 형성되며, 외부의 하측 끝단부에는 퍼지가스 공급노즐(286)이 배관헤드(289) 내부에서 외부로 이탈하는 것을 방지하는 걸림돌기(287)가 형성된다. 이에 퍼지가스 공급노즐(286)은 배관헤드(289) 내부에서 왕복유동되며 퍼지가스 공급노즐(286)에 형성된 걸림돌기(287)는 배관헤드(289)에 형성된 걸림턱(291)에 걸리게 된다.
한편, 탄성부재(288)는 배관헤드(289)의 유동홈(290) 중 퍼지가스 공급노즐(286)의 외주면과 배관헤드(289) 사이에 설치되며, 퍼지가스 공급노즐(286)이 퍼지가스(70)의 압력에 의해 배관헤드(289) 내부에서 상측으로 유동될 경우 이 퍼지가스 공급노즐(286)을 탄성력에 의해 배관헤드(289) 내부에서 하측으로 유동되게 하는 역할을 한다.
이하, 이상과 같이 구성된 본 발명의 일실시예인 반도체 제조용 크라이오 펌프(200)의 작용 및 효과를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 공정챔버 내부를 진공상태로 형성시키고자 할 경우 유저(User)는 냉각유닛(230)을 구동하여 제1어레이 부재(240)와 제2어레이 부재(250)를 각각 극저온 상태로 냉각시키게 된다. 이에 공정챔버 내 가스분자들은 제1어레이 부재(240)와 제2어레이 부재(250)에 의해 응축되면서 이 두 어레이 부재(240,250)에 설치된 차콜(260)에 흡착되게 된다.
이후, 이와 같이 계속해서 공정을 진행함으로 차콜(260) 등에 가스분자들이 과도하게 흡착되었을 경우 크라이오 펌프(200)의 가스분자 응축 및 흡착성능은 현저히 떨어지는 바, 유저는 이 크라이오 펌프(200)의 성능을 회복시키기 위해 재생공정을 실시하게 된다.
이에 퍼지가스 공급유닛(282)은 퍼지가스 공급배관(284)으로 퍼지가스(70)를 공급하게 되고, 퍼지가스 공급배관(284)으로 공급된 퍼지가스(70)는 퍼지가스 노즐유닛으로 공급된다.
즉, 퍼지가스 공급배관(284)을 통해 퍼지가스 노즐유닛으로 공급되는 퍼지가스(70)는 퍼지가스 노즐유닛 중 퍼지가스 공급노즐(286)의 퍼지가스 공급홀(285)을 통해 외부로 배출되게 된다. 이에, 퍼지가스 공급노즐(286)은 이 퍼지가스(70)의 배출압력에 의해 배관헤드(289)의 유동홈(290)에서 상측으로 유동되어 내통(220)의 퍼지가스 유입구(222) 하측에 형성된 삽입홈(224)에 접촉되게 되며, 퍼지가스 공급노즐(286)의 퍼지가스 공급홀(285)을 통해 공급되는 퍼지가스(70)는 퍼지가스 유입구(222)로 공급되게 된다.
이후, 퍼지가스 유입구(222)로 유입된 퍼지가스(70)는 이 퍼지가스 유입구(222)의 상측에 설치된 퍼지 가이드(226) 내부로 유입된 후 퍼지 가이드(226)의 상면에 형성된 다수개의 퍼지가스 공급홀(227)을 통해 내통의 여러부분으로 분출되게 된다.
이에, 내통(220) 내 설치된 제1어레이 부재(240)와 제2어레이 부재(250) 및차콜(260)은 이 퍼지가스(70)에 의해 감싸지게 되고, 이 제1어레이 부재(240)와 제2어레이 부재(250) 및 차콜(260) 등에 부착된 가스분자들은 퍼지가스(70)에 의해 가스상태인 오염가스(80)로 변화되어 내통(220) 외부로 유출되며 종국에는 펌프 케이스(210)의 에어배기관(215)을 통해 외부로 배출된다.
이후, 재생공정이 완료되어 퍼지가스(70)의 공급이 중단되면, 퍼지가스 유입구(222) 방향으로 유동된 퍼지가스 공급노즐(286)은 탄성부재(288)의 탄성력에 의해 다시 원위치로 복귀하게 된다.
이상과 같이 본 발명에 따른 반도체 제조용 크라이오 펌프(200)는 내통(220)으로 공급되는 퍼지가스(70)를 원형 링 형상의 퍼지 가이드(226)를 통해 공급하기 때문에 퍼지가스(70)는 내통(220) 내부의 여러부분에 골고루 공급되어 내통(220)에 설치된 제1어레이 부재(240)와 제2어레이 부재(250) 및 차콜(260) 등을 전체적으로 감싸면서 응축된 가스분자들을 제거할 수 있으므로 종래와 같이 퍼지가스가 일측으로만 공급되어 수분이나 오염물 등이 이 차콜(260) 등에 흡착되는 것을 미연에 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 반도체 제조용 크라이오 펌프(200)는 퍼지가스(70)를 공급할 때에 퍼지가스(70)의 배출압력에 의해 퍼지가스 공급노즐(286)이 퍼지가스 유입구(222)에 접촉되어 퍼지가스(70)를 공급하기 때문에 종래 외부로 배출되던 오염가스(80)가 역류하는 현상을 완전히 차단하여 크라이오 펌프(200)의 오염을 예방하고 펌프(200)의 성능을 향상시킬 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 제조용 크라이오 펌프는 내통으로 공급되는 퍼지가스를 원형 링 형상의 퍼지 가이드를 통해 공급하기 때문에 퍼지가스는 내통 내부의 여러부분에 골고루 공급되어 내통에 설치된 제1어레이 부재와 제2어레이 부재 및 차콜 등을 전체적으로 감싸면서 응축된 가스분자들을 제거할 수 있으므로 종래와 같이 퍼지가스가 일측으로만 공급되어 수분이나 오염물 등이 이 차콜 등에 흡착되는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 반도체 제조용 크라이오 펌프는 퍼지가스를 공급할 때에 퍼지가스의 배출압력에 의해 퍼지가스 공급노즐이 퍼지가스 유입구에 접촉되어 퍼지가스를 공급하기 때문에 종래 외부로 배출되던 오염가스가 역류하는 현상을 완전히 차단하여 펌프의 오염을 예방하고 펌프의 성능을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 에어 배기관이 설치된 펌프 케이스와, 상기 펌프 케이스의 내부에 설치되며 밑면 일측에 퍼지가스 유입구가 형성된 내통과, 상기 내통에 설치되며 가스분자들을 응축 및 흡착시키는 가스응축수단과, 상기 가스응축수단을 극저온상태로 냉각시키는 냉각유닛과, 상기 퍼지가스 유입구에 퍼지가스를 공급하여 응축된 상기 가스분자들을 제거하는 재생수단을 포함하는 반도체 제조용 크라이오 펌프에 있어서,
    상기 재생수단은
    상기 퍼지가스를 공급해주는 퍼지가스 공급유닛과;
    상기 퍼지가스 공급유닛과 연결되어 상기 퍼지가스가 이송되도록 하는 퍼지가스공급배관과;
    상기 가스공급배관과 연결되어 상기 퍼지가스가 공급될 때에만 상기 퍼지가스 유입구에 접촉되면서 상기 내통 내부로 상기 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 노즐유닛을 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 크라이오 펌프.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 퍼지가스 노즐유닛은
    상기 가스공급배관의 일 단부에 장착되며 내부에는 유동홈이 형성되고 끝단부에는 걸림턱이 형성된 배관헤드와, 상기 유동홈에 왕복유동될 수 있도록 설치되며 상기 퍼지가스에 의해 일측방향으로 유동되고 끝단부에 상기 걸림턱에 걸릴 수 있도록 걸림돌기가 형성된 퍼지가스 공급노즐과, 상기 배관헤드와 상기 퍼지가스공급노즐 사이에 설치되며 상기 퍼지가스에 의해 일측방향으로 유동된 상기 퍼지가스 공급노즐이 타측방향으로 유동될 수 있도록 탄성지지하는 탄성부재로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 크라이오 펌프.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 내통의 밑면에는 상기 퍼지가스 유입구로 유입된 상기 퍼지가스가 상기 내통 내부에서 여러방향으로 분출될 수 있도록 하는 퍼지 가이드가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 크라이오 펌프.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 퍼지 가이드는 상면에 다수개의 퍼지가스 공급홀이 형성된 원형 링 형상인 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 크라이오 펌프.
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