KR20030060434A - Apparatus for correcting a vacuum gauge - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 진공 게이지(vacuum gauge) 교정 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 반도체 장치 제조 설비에서 챔버 내부에 제공되는 진공을 측정하기 위한 진공 게이지의 교정을 위한 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a vacuum gauge calibration apparatus. More particularly, the invention relates to a device for calibration of a vacuum gauge for measuring a vacuum provided inside a chamber in a semiconductor device manufacturing facility.
최근 정보 통신 기술의 발달과 개인용 컴퓨터 및 정보 통신 장비가 급속도로 보급됨에 따라 반도체 장치는 고속의 처리 속도와 대용량의 저장 능력 및 높은 안정성이 요구되고 있다. 이에 따라 반도체 장치의 제조 기술은 집적도, 신뢰도 및 응답 속도 등을 향상시키는 방향으로 발전되고 있다.Recently, with the development of information communication technology and the rapid spread of personal computers and information communication equipment, semiconductor devices are required to have high processing speed, large storage capacity, and high stability. Accordingly, the manufacturing technology of the semiconductor device has been developed in the direction of improving the degree of integration, reliability and response speed.
상기 반도체 장치는 실리콘 웨이퍼에 대하여 증착, 포토 리소그래피, 식각, 연마 등의 단위 공정들을 순차적으로 수행함으로서 제조된다. 일반적으로 상기 단위 공정들 중에서 증착, 포토 리소그래피, 식각 등의 단위 공정은 고진공 하에서 수행되는데 이는 대기 중의 먼지 또는 공기 입자와의 반응에 의한 공정 불량을 방지하기 위해서이다.The semiconductor device is manufactured by sequentially performing unit processes such as deposition, photolithography, etching, and polishing on a silicon wafer. In general, the unit processes such as deposition, photolithography, and etching are performed under high vacuum in order to prevent process defects caused by reaction with dust or air particles in the air.
단위 공정들마다 각각 다른 공정 조건에 따라 각각 다른 진공도를 필요로 하게 된다. 일반적으로, 진공을 제공하기 위한 설비는 다수개의 진공 펌프, 상기 진공 펌프들 사이 또는 진공 펌프와 프로세스 챔버 사이에 구비되는 다수개의 밸브, 상기 프로세스 챔버와 연결되고 프로세스 챔버 내부에 제공되는 진공 정도를 센싱하는 진공 게이지 및 상기 진공 게이지로부터 센싱된 진공 신호에 따라 프로세스 챔버 내부의 진공 정도를 제어하는 제어부 등으로 구성된다.Different unit processes require different degrees of vacuum depending on different process conditions. In general, a facility for providing a vacuum senses a plurality of vacuum pumps, a plurality of valves provided between the vacuum pumps or between a vacuum pump and a process chamber, and a degree of vacuum connected to the process chamber and provided inside the process chamber. The vacuum gauge and the control unit for controlling the degree of vacuum in the process chamber according to the vacuum signal sensed from the vacuum gauge.
상기와 같은 진공 게이지는 공정 조건을 정밀하게 제어하는데 필수적인 요소이며, 최근의 0.15㎛ 이하의 디자인 룰(design rule)을 요구하는 반도체 장치 제조공정에서는 더욱 중요한 부품으로 인식되고 있다. 상기와 같은 진공 게이지와 진공 펌프를 포함하는 진공 설비에 대한 일 예가 미합중국 특허 제5,788,463호(issued to Chan)에 개시되어 있다.Such a vacuum gauge is an essential element for precisely controlling process conditions, and is recognized as a more important component in a semiconductor device manufacturing process requiring a design rule of 0.15 μm or less. One example of a vacuum installation comprising such a vacuum gauge and vacuum pump is disclosed in US Pat. No. 5,788,463 (issued to Chan).
일반적으로 진공 게이지는 일반적으로 진공 용기 속에 남아있는 기체의 압력을 직접 측정하는 방법과 기체가 지닌 다른 물리적 특성을 이용하여 간접적으로 측정하는 방법이 있는데 민감도가 후자의 경우가 좋으므로 대부분의 진공 게이지는 기체가 가진 열 또는 전기적 특성을 이용하고 있다. 이들 물리량은 캘리브레이션(calibration)과정을 통해 압력으로 변환된다.In general, vacuum gauges generally have a method of directly measuring the pressure of the gas remaining in the vacuum vessel and indirectly by using other physical properties of the gas. It uses the thermal or electrical properties of the gas. These physical quantities are converted to pressure through a calibration process.
상기와 같이 열 또는 전기적 특성을 이용하는 진공 게이지에는 열전쌍과 필라멘트를 이용하는 열전쌍 게이지(thermocouple gauge), 휘이트스톤 브리지(Wheatstone bridge)를 이용하는 피라니 게이지(Pirani gauge), 기체의 대류에 의한 열전달 현상을 이용한 대류 게이지(convection gauge) 등이 있으며, 일 예로서 미합중국 특허 제5,608,168호(issued to Schoroth)에는 휘이트스톤 브리지와 게이지 필라멘트를 사용하는 진공 게이지가 개시되어 있다.As described above, the vacuum gauge using thermal or electrical characteristics includes a thermocouple gauge using a thermocouple and a filament, a Pirani gauge using a Wheatstone bridge, and a heat transfer phenomenon due to gas convection. Convection gauges, and the like, and US Patent No. 5,608,168 issued to Schoroth discloses a vacuum gauge using a Wheatstone bridge and gauge filament.
상기와 같은 진공 게이지를 장시간 사용하는 경우, 프로세스 챔버 내부에 제공되는 공정 가스에 의한 오염, 공정 수행 도중에 제공되는 고열에 의한 용량(capacitance) 특성 변화 및 영점과 최대치 특성 변화(zero point and full scale spec. over)와 같은 진공 게이지의 불량이 발생된다. 상기와 같은 불량 요인이 발생되는 경우 진공 게이지를 프로세스 챔버로부터 분리하여 교정 작업을 수행하게 된다.In the case of using the vacuum gauge for a long time, contamination by the process gas provided inside the process chamber, change in capacity characteristics due to high heat provided during the process, zero point and full scale spec. Failure of the vacuum gauge such as over will occur. When such a bad factor occurs, the vacuum gauge is separated from the process chamber to perform a calibration operation.
상기 교정 작업은 진공이 제공되는 진공 챔버에 피교정 진공 게이지를 연결하고, 진공 챔버에 제공되는 진공 정도를 변화시키면서, 피교정 진공 게이지의 진공 신호와 기준 진공 게이지의 진공 신호를 비교함으로서, 교정 데이터를 획득하게 된다. 이때, 열 및 전기적 특성을 이용하는 진공 게이지는 안정화 시간(stability time)이 약 4시간 정도 소요되며, 안정화 시간 동안 전류의 공급에 의해 일정 온도로 가열된 후에 교정 작업을 수행하게 된다. 그런데, 상기 공정 가스에 의한 오염의 경우, 교정 작업을 거치지 않고 폐기 처분하게 되는 반면, 고열에 의한 용량 특성 변화의 경우에는 그 특성 변화를 교정 작업이 종료된 후에 비로소 알게 되며, 이러한 경우 진공 게이지의 교정이 불가능하다. 따라서, 교정 작업의 효율이 감소되며, 시간적인 손실이 발생한다. 또한, 교정 장치의 진공 챔버에는 하나의 진공 게이지만 장착할 수 있도록 되어 있으므로 교정 작업의 결과 상기 용량 특성 변화로 판명되는 경우에는 장시간에 걸쳐 수행한 교정 작업 자체가 무위로 돌아가게 된다.The calibration operation is performed by connecting a vacuum gauge to a vacuum chamber provided with a vacuum and comparing the vacuum signal of the vacuum gauge to the vacuum signal of the reference vacuum gauge while varying the degree of vacuum provided to the vacuum chamber. Will be obtained. At this time, the vacuum gauge using the thermal and electrical characteristics is a stabilization time (stability time) is about 4 hours, the calibration operation is performed after being heated to a constant temperature by the supply of current during the stabilization time. By the way, in the case of contamination by the process gas, it is disposed of without going through a calibration operation, while in the case of capacity characteristics change due to high temperature, the characteristic change is not known until after the calibration operation is completed. Calibration is impossible. Thus, the efficiency of the calibration operation is reduced, and time loss occurs. In addition, since only one vacuum gauge can be mounted in the vacuum chamber of the calibration device, when it is determined that the capacity characteristics change as a result of the calibration work, the calibration work itself performed for a long time returns to the unstable state.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 동시에 다수개의 진공 게이지에 대하여 교정 작업을 수행할 수 있는 진공 게이지 교정 장치를 제공하는데 있다.The present invention for solving the above problems is to provide a vacuum gauge calibration apparatus that can perform a calibration operation for a plurality of vacuum gauge at the same time.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 게이지 교정 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.1 is a schematic diagram illustrating a vacuum gauge calibration apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1에 도시한 진공 게이지 교정 장치를 설명하기 위한 블록도이다.FIG. 2 is a block diagram illustrating the vacuum gauge calibration apparatus shown in FIG. 1.
도 3은 도 1에 도시한 제1피팅을 나타내는 사시도이다.3 is a perspective view illustrating a first fitting illustrated in FIG. 1.
도 4는 도 1에 도시한 제2피팅을 나타내는 사시도이다.4 is a perspective view illustrating a second fitting shown in FIG. 1.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100 : 진공 챔버102 : 진공 펌프100: vacuum chamber 102: vacuum pump
104 : 조절 밸브106 : 기준 진공 게이지104: control valve 106: reference vacuum gauge
108 : 신호 변환기110 : 피교정 진공 게이지108: signal converter 110: vacuum gauge to be calibrated
112 : 제1진공 제공관114 : 제2진공 제공관112: first vacuum providing pipe 114: second vacuum providing pipe
116 : 개폐 밸브118 : 제1피팅116: on-off valve 118: first fitting
120 : 제2피팅122 : 전원 공급기120: second fitting 122: power supply
126 : 디스플레이126: display
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 진공이 제공되는 진공 챔버와, 상기 진공 챔버와 연결되는 제1진공 제공관과, 상기 제1진공 제공관의 일측 단부로부터 분기되는 다수개의 제2진공 제공관과, 상기 제2진공 제공관의 일측 단부에 각각 구비되고, 상기 제2진공 제공관과 진공 게이지를 연결하기 위한 연결 부재, 및 상기 제2진공관에 연결된 진공 게이지들과 연결되고, 상기 진공 챔버에 제공되는 진공의 변화에 따라 전기적인 진공 신호를 발생시키고, 상기 전기적인 진공 신호에 따라 상기 진공 게이지들의 교정을 위한 교정 데이터를 획득하는 데이터 획득 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 게이지 교정 장치를 제공한다.The present invention for achieving the above object, the vacuum chamber is provided with a vacuum, a first vacuum providing pipe connected to the vacuum chamber, and a plurality of second vacuum branching from one end of the first vacuum providing pipe A vacuum supply pipe and a connection member for connecting the second vacuum providing pipe and the vacuum gauge, respectively provided at one end of the second vacuum providing pipe, and the vacuum gauges connected to the second vacuum pipe, and the vacuum And a data acquiring means for generating an electric vacuum signal according to the change of the vacuum provided to the chamber and acquiring calibration data for calibration of the vacuum gauges according to the electric vacuum signal. To provide.
따라서, 동시에 다수개의 진공 게이지에 대한 교정 작업을 수행하므로, 교정 작업의 효율을 향상시킬 수 있고, 교정 작업이 종료된 다수개의 진공 게이지 중에서 용량 특성 변화에 의한 불량으로 판정되는 진공 게이지가 발생하더라도, 장시간에 걸친 교정 작업이 완전히 무위로 돌아가는 경우가 발생하지 않는다.Therefore, since the calibration operation is performed on a plurality of vacuum gauges at the same time, the efficiency of the calibration operation can be improved, and even if a vacuum gauge is determined to be defective due to a change in capacity characteristics among the plurality of vacuum gauges for which the calibration operation is completed, Long periods of corrective work are never completely lost.
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
상기 진공 챔버에는 진공을 제공하는 진공 펌프가 연결되고, 진공 챔버와 진공 펌프 사이를 연결하는 진공 라인에는 진공 정도를 조절하는 밸브가 구비된다. 또한, 진공 챔버에는 기준 진공 게이지가 연결되어 있고, 기준 진공 게이지와 피교정 진공 게이지들의 진공 신호를 비교함으로서, 목적하는 교정 데이터를 획득하게 된다.A vacuum pump for providing a vacuum is connected to the vacuum chamber, and a vacuum line connecting valve between the vacuum chamber and the vacuum pump is provided with a valve for adjusting the degree of vacuum. In addition, a reference vacuum gauge is connected to the vacuum chamber, and the target calibration data is obtained by comparing the vacuum signals of the reference vacuum gauge and the vacuum gauges to be calibrated.
상기 연결 부재는 상기 진공 게이지가 수직 방향으로 연결되도록 상기 제2진공 제공관에 구비된다. 즉, 다수개의 제2진공 제공관의 일측 단부에는 진공 게이지가 수직 방향으로 연결되도록 하는 파이프 피팅(pipe fitting)이 연결된다. 이는 진공 게이지의 특성상 수평으로 장착되는 경우 약 1% 정도의 교정 오차가 발생하기때문이다. 경우에 따라서는, 공정 특성상 수평 방향으로 진공 게이지를 장착한 후 교정해야 하는 경우도 있다.The connecting member is provided in the second vacuum providing pipe so that the vacuum gauge is connected in the vertical direction. That is, a pipe fitting is connected to one end of the plurality of second vacuum providing pipes so that the vacuum gauge is connected in the vertical direction. This is because a calibration error of about 1% occurs when mounted horizontally due to the characteristics of the vacuum gauge. In some cases, it may be necessary to calibrate the vacuum gauge after mounting it in the horizontal direction due to process characteristics.
상기 데이터 획득 수단은, 상기 각각의 진공 게이지에 전력을 제공하는 전원 공급기와, 상기 각각의 진공 게이지로부터 발생되는 전기적인 진공 신호를 보여주는 디스플레이부를 포함한다. 피교정 진공 게이지들과 상기 데이터 획득 수단은 연결 케이블로 연결되고, 전원 공급기로부터 일정한 전류가 제공된다. 상기 전류에 의해 일정 온도로 가열된 후 안정화되면, 열 및 전기적 특성에 의한 진공 신호가 전기적 신호로 발생된다. 상기 진공 신호를 멀티 테스터 등을 통해 이를 확인함으로서 교정 데이터를 획득한다.The data acquiring means includes a power supply for supplying power to each vacuum gauge, and a display unit for showing an electrical vacuum signal generated from each vacuum gauge. The vacuum gauges to be calibrated and the data acquisition means are connected by means of a connecting cable and a constant current is provided from the power supply. When heated to a constant temperature by the current and then stabilized, a vacuum signal due to thermal and electrical characteristics is generated as an electrical signal. The vacuum signal is checked through a multi tester or the like to obtain calibration data.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 게이지 교정 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1에 도시한 진공 게이지 교정 장치를 설명하기 위한 블록도이다.1 is a schematic diagram illustrating a vacuum gauge calibration apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram illustrating the vacuum gauge calibration apparatus illustrated in FIG. 1.
도 1 및 도 2를 참조하면, 진공 챔버(100)는 진공을 제공하는 진공 펌프(102)와 연결되고, 진공 챔버(100)와 진공 펌프(102) 사이에는 진공 챔버(100) 내부에 제공되는 진공의 정도를 조절하는 조절 밸브(104)가 설치되어 있다. 진공 펌프(102)에는 10-2∼5×10-10Torr 정도의 고진공을 제공하는 터보 분자 펌프가 사용되며, 이외에도 다른 종류의 진공 펌프도 사용 가능하다.1 and 2, the vacuum chamber 100 is connected to a vacuum pump 102 that provides a vacuum, and is provided inside the vacuum chamber 100 between the vacuum chamber 100 and the vacuum pump 102. A control valve 104 for adjusting the degree of vacuum is provided. As the vacuum pump 102, a turbomolecular pump that provides high vacuum on the order of 10 −2 to 5 × 10 −10 Torr is used, and other types of vacuum pumps may be used.
진공 챔버(100)의 일측에는 진공 펌프(102)로부터 제공되는 진공을 측정하기 위한 기준 진공 게이지(106)가 연결되어 있고, 기준 진공 게이지(106)로부터 측정되는 기준 진공 신호는 전기적인 신호이며, 상기 기준 진공 신호는 신호 변환기(108)에서 압력으로 변환된다. 신호 변환기(108)는 전기적 신호로 입력되는 기준 진공 신호를 증폭시키고, 이를 디지털 신호로 변환한 후 캘리브레이션을 통해 압력으로 변환한다. 상기와 같이 획득되는 기준 진공 신호는 교정을 위한 기준 데이터로 활용된다.One side of the vacuum chamber 100 is connected to a reference vacuum gauge 106 for measuring the vacuum provided from the vacuum pump 102, the reference vacuum signal measured from the reference vacuum gauge 106 is an electrical signal, The reference vacuum signal is converted into pressure in the signal converter 108. The signal converter 108 amplifies the reference vacuum signal input as an electrical signal, converts it into a digital signal, and then converts it into pressure through calibration. The reference vacuum signal obtained as described above is used as reference data for calibration.
진공 챔버(100)의 타측에는 진공 챔버(100) 내부에 제공되는 진공을 피교정 진공 게이지(110)로 제공하기 위한 제1진공 제공관(112), 제2진공 제공관(114) 및 개폐 밸브(116)가 연결된다. 제1진공 제공관(112)은 진공 챔버의(100) 타측에 연결되고, 개폐 밸브(116)는 제1진공 제공관(112)에 설치된다. 제1진공 제공관(112)의 일측 단부에는 다수개의 제2진공 제공관(114)을 연결하기 위한 제1피팅(118)이 연결된다. 제1피팅(118)에 연결되는 다수개의 제2진공 제공관(114)의 일측 단부에는 피교정 진공 게이지(110)와 연결하기 위한 제2피팅(120)이 각각 구비된다.On the other side of the vacuum chamber 100, a first vacuum providing pipe 112, a second vacuum providing pipe 114, and an opening / closing valve for providing a vacuum provided inside the vacuum chamber 100 to the vacuum gauge 110 to be calibrated. 116 is connected. The first vacuum providing pipe 112 is connected to the other side of the vacuum chamber 100, and the opening and closing valve 116 is installed in the first vacuum providing pipe 112. One end of the first vacuum providing pipe 112 is connected with a first fitting 118 for connecting a plurality of second vacuum providing pipes 114. One end of the plurality of second vacuum providing pipes 114 connected to the first fitting 118 is provided with second fittings 120 for connecting with the vacuum gauge 110 to be calibrated, respectively.
제1피팅(118)은 일측에 제1진공 제공관(112)과 연결되는 제1연결부(118a)가 형성되어 있고, 제1진공 제공관(112)과 수직하는 양측으로 제2진공 제공관(114)과 연결되는 제2, 제3연결부(118b, 118c)가 형성되어 있으며, 제1진공 제공관(112)과 수직하는 상측으로 피교정 진공 게이지(110)와 연결되는 제4연결부(118d)가 형성되어 있다. 제2진공 제공관(114)은 제1피팅(118)의 제2, 제3연결부(118b, 118c)에 연결되고, 각각의 일측 단부에는 피교정 진공 게이지(110)와 연결되는 제2피팅(120)이 구비된다.The first fitting 118 is formed with a first connection portion 118a connected to the first vacuum providing pipe 112 at one side, and the second vacuum providing pipe at both sides perpendicular to the first vacuum providing pipe 112. Second and third connecting portions 118b and 118c connected to the 114 are formed, and the fourth connecting portion 118d connected to the vacuum gauge 110 to be calibrated upwardly perpendicular to the first vacuum providing pipe 112. Is formed. The second vacuum providing pipe 114 is connected to the second and third connecting portions 118b and 118c of the first fitting 118, and a second fitting connected to the vacuum gauge 110 to be calibrated at one end thereof. 120).
제2피팅(120)은 엘보우(elbow) 형상을 갖고, 일측에는 제2진공 제공관(114)과 연결되는 제5연결부(120a)가 형성되어 있고, 제5연결부(120a)가 형성된 일측에 수직하는 상측에는 피교정 진공 게이지(110)와 연결되는 제6연결부(120b)가 형성되어 있다. 제1피팅(118) 및 제2피팅(120)의 규격은 3/8인치이며, 스테인레스 스틸로 형성된다. 즉, 세 개의 피교정 진공 게이지(110)가 동시에 연결되며, 동시에 교정 작업을 수행할 수 있도록 구성된다. 상기와 같은 제1피팅(118) 및 제2피팅(120)의 형상은 도 3 및 도 4에 상세하게 도시되어 있다.The second fitting 120 has an elbow shape, and a fifth connection part 120a connected to the second vacuum providing pipe 114 is formed at one side thereof, and is perpendicular to one side at which the fifth connection part 120a is formed. The sixth connection part 120b connected to the vacuum gauge 110 to be calibrated is formed at an upper side thereof. The first fitting 118 and the second fitting 120 are 3/8 inch in size and are made of stainless steel. That is, three calibration vacuum gauges 110 are connected at the same time, it is configured to perform a calibration operation at the same time. Shapes of the first fitting 118 and the second fitting 120 as described above are shown in detail in FIGS. 3 and 4.
도시된 바와 같은 본 발명의 실시예에서 보여주고 있는 피교정 진공 게이지(110)는 열전쌍 게이지이며, 진공 게이지의 종류가 본 발명을 한정하지는 않는다. 상기 열전쌍 게이지는 내부에 필라멘트와 열전쌍을 구비하며, 열전쌍에 사용하는 금속에 따라 온도의 측정범위나 민감도 등이 다르다. 일반적으로, J 타입(J-type)이나 K 타입(K-type)을 많이 사용하고 있다.The calibration vacuum gauge 110 shown in the embodiment of the present invention as shown is a thermocouple gauge, and the type of vacuum gauge does not limit the present invention. The thermocouple gauge includes a filament and a thermocouple therein, and a temperature measurement range or sensitivity varies depending on a metal used in the thermocouple. Generally, J type (J-type) and K type (K-type) are used a lot.
열전쌍 게이지의 원리는 filament가 일정한 전류의 제공에 의해 일정한 온도를 유지하여 데워져 있고, 열전쌍이 접촉되어 그 온도를 측정한다. 상기와 같은 열전쌍 게이지가 진공 용기 속에 놓이게 되면 기체 분자들이 필라멘트와 충돌하면서 열을 빼앗게 된다. 이때 변한 온도를 열전쌍이 감지하게 되는데, 기체의 양이 많을수록 온도가 떨어지게 되므로 간접적으로 압력을 측정하게 된다. 보통 공기나 질소로 캘리브레이션이 되어 있으므로 기체에 따라 열용량과 열전도성이 다르므로 기체의 종류에 따라 보정을 하여 사용하여야 한다.The principle of the thermocouple gauge is that the filament is heated to maintain a constant temperature by providing a constant current, and the thermocouple is in contact and measures its temperature. When the thermocouple gauge is placed in a vacuum vessel, gas molecules collide with the filament and lose heat. At this time, the thermocouple detects the changed temperature. As the amount of gas increases, the temperature decreases, thereby indirectly measuring the pressure. Since it is usually calibrated with air or nitrogen, the heat capacity and thermal conductivity are different according to the gas. Therefore, it should be used according to the type of gas.
각각의 피교정 진공 게이지(110)에는 일정 온도로 가열하기 위한 전력을 제공하는 전원 공급기(122)가 연결되고, 상기 열전쌍으로부터 발생되는 전기적인 진공 신호를 보여주는 디스플레이(126)가 연결된다. 여기서, 디스플레이(126)는 전기적 신호를 측정하는 멀티 테스터 등이 사용될 수 있다. 도 1에 도시된 바에 의하면, 피교정 진공 게이지(110)의 각각에 디스플레이(126)가 연결되어 있으나, 피교정 진공 게이지(110)로부터 발생되는 진공 신호를 디스플레이하는 방법은 다양하게 변경될 수 있다.Each of the vacuum gauges 110 to be calibrated is connected to a power supply 122 that provides power for heating to a constant temperature, and to a display 126 showing the electrical vacuum signal generated from the thermocouple. Here, the display 126 may be a multi tester for measuring an electrical signal. As shown in FIG. 1, although the display 126 is connected to each of the vacuum gauges 110 to be calibrated, a method of displaying a vacuum signal generated from the vacuum gauge 110 to be calibrated may be variously changed. .
상기한 바와 같이 하나의 제1진공 제공관(112)에 세 개의 피교정 진공 게이지(110)를 동시에 연결할 경우, 실제로 진공 챔버(100)에 미치는 영향은 무시해도 좋을 정도이며, 터보 분자 펌프를 사용하는 경우 피교정 진공 게이지(110)의 측정 범위를 진공 펌프(102)가 충분히 소화할 수 있기 때문이다.As described above, when three vacuum gauges 110 to be calibrated are simultaneously connected to one first vacuum providing pipe 112, the effect on the vacuum chamber 100 is negligible, and a turbo molecular pump is used. This is because the vacuum pump 102 can sufficiently extinguish the measurement range of the vacuum gauge 110 to be calibrated.
이하, 상기와 같은 진공 게이지 교정 장치를 사용하여 피교정 진공 게이지를 교정하는 작업을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of calibrating the vacuum gauge to be calibrated using the vacuum gauge calibration device as described above will be described.
먼저, 진공 펌프(102)를 작동하여 진공 챔버(100) 내부를 진공 상태로 형성한다. 이때, 진공 챔버(100)와 진공 펌프(102) 사이의 조절 밸브(104)는 일정하게 유지되고, 개폐 밸브(116)는 닫혀있는 상태이다.First, the vacuum pump 102 is operated to form the inside of the vacuum chamber 100 in a vacuum state. At this time, the control valve 104 between the vacuum chamber 100 and the vacuum pump 102 is kept constant, the on-off valve 116 is in a closed state.
이어서, 기준 진공 게이지(106)로부터 목적하는 진공 정도가 달성된 것이 확인되면, 각각의 피교정 진공 게이지(110)들을 연결하고, 개폐 밸브(116)를 개방한다. 이어서, 피교정 진공 게이지(110)들에 일정한 전력을 제공하면서, 피교정 진공 게이지(110)를 안정화시킨다.Subsequently, when it is confirmed from the reference vacuum gauge 106 that the desired degree of vacuum has been achieved, each of the vacuum gauges 110 to be calibrated is connected, and the on-off valve 116 is opened. The stabilized vacuum gauge 110 is then stabilized while providing constant power to the vacuum gauges 110 to be calibrated.
약 4시간 정도의 안정화 시간이 지나면, 진공 챔버(100)와 진공 펌프(102) 사이의 조절 밸브(104)를 조절하여 진공 챔버(100) 내부의 진공 정도를 변화시킨다. 그리고, 변화되는 진공 정도를 기준 진공 게이지(106)를 사용하여 측정하고, 동시에 피교정 진공 게이지(110)들로부터 발생되는 진공 신호를 측정한다.After the stabilization time of about 4 hours, the control valve 104 between the vacuum chamber 100 and the vacuum pump 102 is adjusted to change the degree of vacuum inside the vacuum chamber 100. Then, the changed vacuum degree is measured using the reference vacuum gauge 106, and at the same time, the vacuum signal generated from the vacuum gauges 110 to be measured is measured.
상기 기준 진공 게이지(106)로부터 측정된 기준 진공 데이터와 피교정 진공 게이지(110)들로부터 측정된 진공 신호를 비교하여 피교정 진공 게이지(110)의 교정 데이터를 획득한다.The calibration data of the vacuum gauge 110 to be calibrated is obtained by comparing the reference vacuum data measured from the reference vacuum gauge 106 and the vacuum signals measured from the calibration vacuum gauges 110.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 진공 게이지 교정을 위한 진공이 제공되는 진공 챔버에는 동시에 다수개의 진공 게이지가 연결되고, 동시에 다수개의 상기 진공 게이지에 대한 교정 작업이 진행된다.According to the present invention as described above, a plurality of vacuum gauges are simultaneously connected to a vacuum chamber provided with a vacuum for vacuum gauge calibration, and at the same time a calibration operation for the plurality of vacuum gauges is performed.
따라서, 장시간이 소요되는 교정 작업을 효율적으로 수행할 수 있으며, 교정 작업에 소요되는 시간적인 손실을 감소시킬 수 있다.Therefore, it is possible to efficiently perform a long time calibration work, it is possible to reduce the time loss required for the calibration work.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020020001137A KR20030060434A (en) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | Apparatus for correcting a vacuum gauge |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020020001137A KR20030060434A (en) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | Apparatus for correcting a vacuum gauge |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20030060434A true KR20030060434A (en) | 2003-07-16 |
Family
ID=32217402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020020001137A KR20030060434A (en) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | Apparatus for correcting a vacuum gauge |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20030060434A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100724092B1 (en) * | 2005-10-27 | 2007-06-04 | 한국표준과학연구원 | An in-stu calibration apparatus of vacuum gauge by absolute and comparison method |
-
2002
- 2002-01-09 KR KR1020020001137A patent/KR20030060434A/en not_active Application Discontinuation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100724092B1 (en) * | 2005-10-27 | 2007-06-04 | 한국표준과학연구원 | An in-stu calibration apparatus of vacuum gauge by absolute and comparison method |
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