KR20030052787A - Mask for forming seal pattern and spacer of liquid crystal panel and mathod for forming seal pattern and spacer using thereof - Google Patents

Mask for forming seal pattern and spacer of liquid crystal panel and mathod for forming seal pattern and spacer using thereof Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A mask used for forming a seal pattern and spacers of a liquid crystal panel and a method for forming the seal pattern and spacers using the mask are provided to simultaneously form the seal pattern and spacers. CONSTITUTION: A mask(300) for forming a seal pattern and spacers includes a seal pattern hole(301) and spacer holes(302). The seal pattern hole selectively exposes a predetermined region of the area surrounding an effective display part(310) of a liquid crystal panel where the seal pattern is formed. The spacer holes selectively expose predetermined portions in the effective display part where the spacers is formed. The mask further includes a liquid crystal injection hole pattern(303) formed at one side of the seal pattern hole.

Description

액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법{MASK FOR FORMING SEAL PATTERN AND SPACER OF LIQUID CRYSTAL PANEL AND MATHOD FOR FORMING SEAL PATTERN AND SPACER USING THEREOF}Mask for forming seal pattern and spacer of liquid crystal panel and method for forming seal pattern and spacer using the mask TECHNICAL FIELD

본 발명은 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법에 관한 것으로, 특히 액정 패널의 합착을 위한 실 패턴과 스페이서 형성을 단순화하기에 적당하도록 한 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask for forming a seal pattern and a spacer of a liquid crystal panel, and a seal pattern and a spacer forming method using the mask, and in particular, a liquid crystal adapted to simplify the formation of a seal pattern and a spacer for bonding the liquid crystal panel. A mask for forming a seal pattern and a spacer of a panel, and a seal pattern and a spacer forming method using the mask.

일반적으로, 액정 표시장치는 매트릭스(matrix) 형태로 배열된 액정 셀들에 화상정보에 따른 데이터신호를 개별적으로 공급하여, 그 액정 셀들의 광투과율을 조절함으로써, 원하는 화상을 표시할 수 있도록 한 표시장치이다.In general, a liquid crystal display device displays a desired image by individually supplying data signals according to image information to liquid crystal cells arranged in a matrix form, and adjusting a light transmittance of the liquid crystal cells. to be.

따라서, 액정 표시장치는 화소 단위의 액정 셀들이 매트릭스 형태로 배열되는 액정 패널과; 상기 액정 셀들을 구동하기 위한 드라이버 집적회로(integrated circuit : IC)가 구비된다.Accordingly, a liquid crystal display device includes: a liquid crystal panel in which liquid crystal cells in pixel units are arranged in a matrix form; A driver integrated circuit (IC) for driving the liquid crystal cells is provided.

상기 액정 패널은 서로 대향하는 컬러필터(color filter) 기판 및 박막 트랜지스터 어레이 기판과, 그 컬러필터 기판 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 이격 간격에 충진된 액정층으로 구성된다.The liquid crystal panel includes a color filter substrate and a thin film transistor array substrate facing each other, and a liquid crystal layer filled in a spaced interval between the color filter substrate and the thin film transistor array substrate.

그리고, 상기 액정 패널의 박막 트랜지스터 어레이 기판 상에는 데이터 드라이버 집적회로로부터 공급되는 데이터 신호를 액정 셀들에 전송하기 위한 다수의 데이터 라인들과, 게이트 드라이버 집적회로로부터 공급되는 주사신호를 액정 셀들에 전송하기 위한 다수의 게이트 라인들이 서로 직교하며, 이들 데이터 라인들과 게이트 라인들의 교차부마다 액정 셀들이 정의된다.On the thin film transistor array substrate of the liquid crystal panel, a plurality of data lines for transmitting the data signal supplied from the data driver integrated circuit to the liquid crystal cells and a scan signal supplied from the gate driver integrated circuit for the liquid crystal cells are provided. The plurality of gate lines are orthogonal to each other, and liquid crystal cells are defined at each intersection of these data lines and the gate lines.

상기 게이트 드라이버 집적회로는 다수의 게이트라인에 순차적으로 주사신호를 공급함으로써, 매트릭스 형태로 배열된 액정 셀들이 1개 라인씩 순차적으로 선택되도록 하고, 그 선택된 1개 라인의 액정 셀들에는 데이터 드라이버 집적회로로부터 데이터 신호가 공급된다.The gate driver integrated circuit sequentially supplies scan signals to a plurality of gate lines so that the liquid crystal cells arranged in a matrix form are sequentially selected one by one, and the data driver integrated circuit is included in the selected one line of liquid crystal cells. The data signal is supplied from.

한편, 상기 컬러필터 기판 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 대향하는 내측 면에는 각각 공통전극과 화소전극이 형성되어 상기 액정층에 전계를 인가한다. 이때, 화소전극은 박막 트랜지스터 어레이 기판 상에 액정 셀 별로 형성되는 반면에 공통전극은 컬러필터 기판의 전면에 일체화되어 형성된다. 따라서, 공통전극에 전압을 인가한 상태에서 화소전극에 인가되는 전압을 제어함으로써, 액정 셀들의 광투과율을 개별적으로 조절할 수 있게 된다.Meanwhile, a common electrode and a pixel electrode are formed on opposite inner surfaces of the color filter substrate and the thin film transistor array substrate to apply an electric field to the liquid crystal layer. In this case, the pixel electrode is formed for each liquid crystal cell on the thin film transistor array substrate, while the common electrode is integrally formed on the entire surface of the color filter substrate. Therefore, by controlling the voltage applied to the pixel electrode in a state where a voltage is applied to the common electrode, it is possible to individually control the light transmittance of the liquid crystal cells.

이와같이 화소전극에 인가되는 전압을 액정 셀 별로 제어하기 위하여 각각의 액정 셀에는 스위칭 소자로 사용되는 박막 트랜지스터가 형성된다.As described above, in order to control the voltage applied to the pixel electrode for each liquid crystal cell, a thin film transistor used as a switching element is formed in each liquid crystal cell.

상기한 바와같은 액정 표시장치의 구성요소들을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.The components of the liquid crystal display as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도1은 일반적인 액정 표시장치의 단위 화소에 대한 평면도이다.First, FIG. 1 is a plan view of a unit pixel of a general liquid crystal display.

도1을 참조하면, 게이트 배선(4)이 기판 상에 일정하게 이격되어 행으로 배열되고, 데이터 배선(2)이 일정하게 이격되어 열로 배열된다. 따라서, 게이트 배선(4)과 데이터 배선(2)은 매트릭스 형태로 배열된다. 이때, 단위 액정 셀은 데이터 배선(2)과 게이트 배선(4)의 교차부 마다 정의되며, 박막 트랜지스터(TFT)와 화소전극(14)을 구비한다.Referring to Fig. 1, the gate wirings 4 are arranged in a row at regular intervals on the substrate, and the data wirings 2 are arranged in columns at regular intervals. Therefore, the gate wiring 4 and the data wiring 2 are arranged in matrix form. In this case, the unit liquid crystal cell is defined at each intersection of the data line 2 and the gate line 4, and includes a thin film transistor TFT and a pixel electrode 14.

상기 게이트 배선(4)의 소정의 위치에서 연장되어 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 전극(10)이 형성되고, 상기 데이터 배선(2)으로부터 소스 전극(8)이 연장되어, 상기 게이트 전극(10)과 소정의 영역이 오버-랩(overlap)되어 있다.The gate electrode 10 of the thin film transistor TFT is formed by extending from a predetermined position of the gate line 4, and the source electrode 8 extends from the data line 2, thereby providing the gate electrode 10. And the predetermined area is overlapped.

그리고, 상기 게이트 전극(10)을 기준으로 소스 전극(8)과 대응하는 위치에 드레인 전극(12)이 형성되고, 그 드레인 전극(12) 상에 형성된 드레인 콘택홀(16)을 통해 화소전극(14)이 드레인 전극(12)과 전기적으로 접촉된다.In addition, a drain electrode 12 is formed at a position corresponding to the source electrode 8 with respect to the gate electrode 10, and the pixel electrode (through the drain contact hole 16 formed on the drain electrode 12). 14 is in electrical contact with the drain electrode 12.

상기 박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 배선(4)을 통해 게이트 전극(10)에 공급되는 주사신호에 의해 소스 전극(8)과 드레인 전극(12) 사이에 도전 채널을 형성하기 위한 반도체층(도면상에 도시되지 않음)을 구비한다.The thin film transistor TFT may include a semiconductor layer for forming a conductive channel between the source electrode 8 and the drain electrode 12 by a scan signal supplied to the gate electrode 10 through the gate line 4. Not shown).

이와같이 박막 트랜지스터(TFT)가 게이트 배선(4)으로부터 공급되는 주사 신호에 응답하여 소스 전극(8)과 드레인 전극(12) 사이에 도전 채널을 형성함에 따라 데이터 배선(2)을 통해 소스 전극(8)으로 공급된 데이터 신호가 드레인 전극(12)에 전송되도록 한다.As such, the thin film transistor TFT forms a conductive channel between the source electrode 8 and the drain electrode 12 in response to the scan signal supplied from the gate wiring 4, and thus, the source electrode 8 through the data wiring 2. Is transmitted to the drain electrode 12.

한편, 드레인 콘택홀(16)을 통해 드레인 전극(12)에 접속된 화소전극(14)은 광투과율이 높은 투명 ITO(indium tin oxide) 물질로 형성된다. 이때, 상기 화소전극(14)은 드레인 전극(12)으로부터 공급되는 데이터 신호에 의해 컬러필터 기판에 형성되는 공통 투명전극(도면상에 도시되지 않음)과 함께 액정층에 전계를 발생시킨다.Meanwhile, the pixel electrode 14 connected to the drain electrode 12 through the drain contact hole 16 is formed of a transparent indium tin oxide (ITO) material having high light transmittance. In this case, the pixel electrode 14 generates an electric field in the liquid crystal layer together with a common transparent electrode (not shown) formed on the color filter substrate by a data signal supplied from the drain electrode 12.

이와같이 액정층에 전계가 인가되면, 액정은 유전 이방성에 의해 회전하여 백라이트로부터 발광되는 빛을 화소전극(14)을 통해 컬러필터 기판 쪽으로 투과시키며, 그 투과되는 빛의 양은 데이터 신호의 전압값에 의해 조절된다.When an electric field is applied to the liquid crystal layer as described above, the liquid crystal rotates by dielectric anisotropy and transmits light emitted from the backlight to the color filter substrate through the pixel electrode 14, and the amount of light transmitted is determined by the voltage value of the data signal. Adjusted.

그리고, 스토리지 콘택홀(22)을 통해 화소전극(14)에 접속된 스토리지 전극(20)은 게이트 배선(4) 상에 증착되어 스토리지 커패시터(18)를 형성하며, 스토리지 전극(20)과 게이트 배선(4) 사이에는 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 형성과정에서 증착되는 게이트 절연막(도면상에 도시되지 않음)이 삽입되어 있다.The storage electrode 20 connected to the pixel electrode 14 through the storage contact hole 22 is deposited on the gate wiring 4 to form a storage capacitor 18, and the storage electrode 20 and the gate wiring A gate insulating film (not shown) is deposited between the portions 4 to be deposited during the formation of the thin film transistor TFT.

상기한 바와같은 스토리지 커패시터(18)는 게이트 배선(4)에 주사신호가 인가되는 박막 트랜지스터의 턴-온(turn-on) 기간 동안 주사신호의 전압값이 충전된 후, 박막 트랜지스터의 턴-오프(turn-off) 기간 동안 그 충전된 전압을 상기 화소전극(14)에 공급함으로써, 액정의 구동이 유지되도록 한다.The storage capacitor 18 as described above is turned off after the voltage value of the scan signal is charged during the turn-on period of the thin film transistor to which the scan signal is applied to the gate wiring 4. The driving of the liquid crystal is maintained by supplying the charged voltage to the pixel electrode 14 during the turn-off period.

도2는 도1의 I-I'선을 따라 절단한 단위 화소의 단면을 보인 예시도로서, 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)과 대향하여 합착되는 컬러필터 기판(60)과; 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판(50) 및 컬러필터 기판(60)을 일정하게 이격시키는 스페이서(70)와; 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)과 컬러필터 기판(60) 사이의 이격된 공간에 액정이 충진된 액정층(80)으로 구성된다.FIG. 2 is an exemplary view showing a cross section of a unit pixel cut along the line II ′ of FIG. 1, wherein the color filter substrate 60 is bonded to face the thin film transistor array substrate 50; A spacer (70) spaced apart from the thin film transistor array substrate (50) and the color filter substrate (60); The liquid crystal layer 80 is filled with liquid crystal in a space spaced between the thin film transistor array substrate 50 and the color filter substrate 60.

상기 도2의 예시도를 참조하여 박막 트랜지스터(TFT)의 제조과정을 상세히 설명하면 다음과 같다.The manufacturing process of the thin film transistor TFT is described in detail with reference to the exemplary diagram of FIG. 2 as follows.

먼저, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)의 상에 Mo, Al 또는 Cr과 같은 금속물질을 스퍼터링 방법으로 증착한 다음 제1마스크를 통해 패터닝하여 게이트전극(10)을 형성한다.First, a metal material such as Mo, Al, or Cr is deposited on the thin film transistor array substrate 50 by a sputtering method, and then patterned through a first mask to form a gate electrode 10.

그리고, 상기 게이트 전극(10)이 형성된 박막 트랜지스터 어레이 기판(50) 상에는 SiNx 등의 절연물질을 전면 증착하여 게이트 절연막(30)을 형성한다.In addition, an insulating material such as SiNx is deposited on the thin film transistor array substrate 50 on which the gate electrode 10 is formed to form a gate insulating film 30.

그리고, 상기 게이트 절연막(30) 상에는 비정질 실리콘(amorphous silicon)으로 이루어진 반도체층(32)과, 인(P)이 고농도로 도핑된 n+ 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹접촉층(Ohmic contact layer, 34)을 연속 증착한 다음 제2마스크를 통해 패터닝하여 박막 트랜지스터(TFT)의 액티브층(36)을 형성한다.On the gate insulating layer 30, a semiconductor layer 32 made of amorphous silicon and an ohmic contact layer 34 made of n + amorphous silicon doped with phosphorus (P) in a high concentration are successively formed. Deposition and then patterning through a second mask to form the active layer 36 of the thin film transistor TFT.

그리고, 상기 게이트 절연막(30)과 오믹접촉층(34) 상에 금속물질을 증착한 다음 제3마스크를 통해 패터닝하여 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 전극(8)과 드레인 전극(12)을 형성한다. 이때, 소스 전극(8)과 드레인 전극(12)은 액티브층(36)의 상부에서 서로 대응하여 이격되도록 패터닝된다.In addition, a metal material is deposited on the gate insulating layer 30 and the ohmic contact layer 34, and then patterned through a third mask to form a source electrode 8 and a drain electrode 12 of the TFT. . In this case, the source electrode 8 and the drain electrode 12 are patterned to be spaced apart corresponding to each other on the upper portion of the active layer 36.

따라서, 상기 액티브층(36) 상부의 오믹접촉층(34)이 노출되는데, 상기 소스 전극(8)과 드레인 전극(12)의 패터닝 과정에서 노출된 오믹접촉층(34)이 제거된다.Accordingly, the ohmic contact layer 34 over the active layer 36 is exposed, and the ohmic contact layer 34 exposed during the patterning of the source electrode 8 and the drain electrode 12 is removed.

상기 오믹접촉층(34)이 제거됨에 따라 반도체층(32)이 노출되는데, 그 노출된 반도체층(32)은 박막 트랜지스터(TFT)의 채널영역으로 정의된다.As the ohmic contact layer 34 is removed, the semiconductor layer 32 is exposed, and the exposed semiconductor layer 32 is defined as a channel region of the thin film transistor TFT.

그리고, 상기 노출된 반도체층(32)을 포함하여 소스 전극(8)과 드레인 전극(12) 등이 형성된 게이트 절연막(30) 상에 화학 기상 증착(chemical vapor deposition : CVD) 방식을 통해 SiNx 재질의 보호막(passivation film, 38)을 전면 증착한다. 이때, 보호막(38)의 재료로는 주로 SiNx 등의 무기물질이 적용되었으며, 최근들어 액정 셀의 개구율을 향상시키기 위하여 BCB(benzocyclobutene), SOG(spinon glass) 또는 Acryl 등의 유전율이 낮은 유기물질이 사용되고 있다.The SiNx material may be formed through a chemical vapor deposition (CVD) method on the gate insulating layer 30 including the exposed semiconductor layer 32 and the source electrode 8, the drain electrode 12, and the like. A passivation film 38 is deposited on the entire surface. At this time, an inorganic material such as SiNx is mainly used as the material of the protective film 38. In recent years, in order to improve the opening ratio of the liquid crystal cell, an organic material having a low dielectric constant such as BCB (benzocyclobutene), SOG (spinon glass) or Acryl is used. It is used.

그리고, 상기 드레인 전극(12) 상의 보호막(38) 일부를 제4마스크를 통해 선택적으로 식각하여 드레인 전극(12)의 일부를 노출시키는 드레인 콘택홀(16)을 형성한다.A portion of the passivation layer 38 on the drain electrode 12 is selectively etched through a fourth mask to form a drain contact hole 16 exposing a portion of the drain electrode 12.

그리고, 상기 보호막(38) 상에 투명 전극물질을 스퍼터링 증착한 다음 제5마스크를 통해 패터닝하여 화소전극(14)을 형성하되, 그 화소전극(14)이 상기 드레인 콘택홀(16)을 통해 드레인 전극(12)에 접속되도록 패터닝한다.Then, the transparent electrode material is sputter deposited and deposited on the passivation layer 38, and then patterned through a fifth mask to form a pixel electrode 14, wherein the pixel electrode 14 is drained through the drain contact hole 16. Patterned so as to be connected to the electrode 12.

최종적으로, 상기한 바와같이 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된 결과물의 전면에 배향막(51)을 형성한 다음 러빙(rubbing)을 실시하고, 그 배향막(51)과 대응하는 유리기판(1)의 반대면에 제1편광판(52)을 형성함으로써, 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)의 제작을 완료한다. 이때, 러빙은 천을 균일한 압력과 속도로 배향막(51) 표면과 마찰시킴으로써, 배향막(51) 표면의 고분자 사슬이 일정한 방향으로 정렬되도록 하여 액정의 초기 배향방향을 결정하는 공정을 말한다.Finally, as described above, the alignment layer 51 is formed on the entire surface of the resultant in which the thin film transistor TFT is formed, followed by rubbing, and the opposite surface of the glass substrate 1 corresponding to the alignment layer 51. By forming the first polarizing plate 52 in the above, the fabrication of the thin film transistor array substrate 50 is completed. At this time, rubbing refers to a process of determining the initial alignment direction of the liquid crystal by rubbing the cloth with the surface of the alignment layer 51 at a uniform pressure and speed so that the polymer chains on the surface of the alignment layer 51 are aligned in a predetermined direction.

한편, 상기 도2의 예시도를 참조하여 스토리지 커패시터 영역의 제조과정을 상세히 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, the manufacturing process of the storage capacitor region will be described in detail with reference to the exemplary diagram of FIG. 2.

먼저, 상기 박막 트랜지스터 어레이 기판(50) 상에 게이트 배선(4)을 패터닝하고, 그 상부에 게이트 절연막(30)을 형성한다.First, the gate wiring 4 is patterned on the thin film transistor array substrate 50, and a gate insulating layer 30 is formed on the gate wiring 4.

그리고, 상기 게이트 절연막(30)의 상부에 스토리지 전극(20)을 패터닝한다. 이때, 스토리지 전극(20)은 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 전극(8)과 드레인 전극(12)을 패터닝하는 과정에서 형성된다.The storage electrode 20 is patterned on the gate insulating layer 30. In this case, the storage electrode 20 is formed in the process of patterning the source electrode 8 and the drain electrode 12 of the thin film transistor TFT.

상기 스토리지 전극(20)은 게이트 절연막(30)을 사이에 두고 게이트 배선(4)의 일부영역과 오버-랩되어 스토리지 커패시터(18)로 기능한다.The storage electrode 20 overlaps a portion of the gate line 4 with the gate insulating layer 30 therebetween to function as a storage capacitor 18.

그리고, 상기 스토리지 전극(20)이 형성된 게이트 절연막(30) 상부에 보호막(38)을 형성한 다음 그 보호막(38)의 일부를 식각하여 스토리지 전극(20)의 일부를 노출시키는 스토리지 콘택홀(22)을 형성한다. 이때, 보호막(38)은 상기 박막 트랜지스터(TFT) 영역의 보호막(38)을 형성하는 과정에서 형성되고, 스토리지 콘택홀(22)은 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 콘택홀(16)을 형성하는 과정에서 형성된다.The storage contact hole 22 exposing a portion of the storage electrode 20 by forming a passivation layer 38 on the gate insulating layer 30 on which the storage electrode 20 is formed and then etching a portion of the passivation layer 38. ). In this case, the passivation layer 38 is formed in the process of forming the passivation layer 38 in the TFT region, and the storage contact hole 22 forms the drain contact hole 16 of the TFT. Is formed in the process.

그리고, 상기 보호막(38) 상에 화소전극(14)을 패터닝하며, 그 화소전극(14)이 상기 스토리지 콘택홀(22)을 통해 스토리지 전극(20)에 접속된다. 이때, 화소전극(14)은 상기 박막 트랜지스터(TFT) 영역에 형성되는 화소전극(14)의 패터닝 과정에서 형성된다.The pixel electrode 14 is patterned on the passivation layer 38, and the pixel electrode 14 is connected to the storage electrode 20 through the storage contact hole 22. In this case, the pixel electrode 14 is formed during the patterning process of the pixel electrode 14 formed in the TFT region.

한편, 상기 도2의 예시도를 참조하여 컬러필터 기판(60)의 제조과정을 상세히 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, the manufacturing process of the color filter substrate 60 will be described in detail with reference to the exemplary view of FIG. 2 as follows.

먼저, 컬러필터 기판(60) 상에 블랙 매트릭스(black matrix, 62)를 일정한 간격으로 이격 도포한다.First, a black matrix 62 is spaced apart at regular intervals on the color filter substrate 60.

그리고, 상기 블랙 매트릭스(62)가 이격된 유리기판(61)의 상부에 적(R), 녹(G), 청(B) 색상의 컬러필터(63)를 형성하되, 그 컬러필터(63)가 상기 블랙 매트릭스(62) 상부의 소정 영역까지 확장되도록 한다.In addition, a color filter 63 of red (R), green (G), and blue (B) colors is formed on the glass substrate 61 in which the black matrix 62 is spaced apart from the color filter 63. Is extended to a predetermined area above the black matrix 62.

그리고, 상기 블랙 매트릭스(62)를 포함한 컬러필터(63)의 상부전면에 금속물질을 형성한 다음 패터닝하여 공통전극(64)을 형성한다.Then, a metal material is formed on the upper surface of the color filter 63 including the black matrix 62 and then patterned to form a common electrode 64.

그리고, 상기 결과물의 상부전면에 배향막(65)을 형성한 다음 러빙을 실시하고, 그 배향막(65)과 대응하는 컬러필터 기판(60)의 반대면에 제2편광판(66)을 형성함으로써, 컬러필터 기판(60)의 제작을 완료한다.Then, the alignment film 65 is formed on the upper surface of the resultant, followed by rubbing, and the second polarizing plate 66 is formed on the opposite surface of the color filter substrate 60 corresponding to the alignment film 65. Production of the filter substrate 60 is completed.

상기한 바와같이 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)과 컬러필터 기판(60)의 제작이 완료되면, 그 박막 트랜지스터 어레이 기판(50) 상에 실 패턴(seal pattern, 도면상에 도시되지 않음)을 형성함과 아울러 상기 컬러필터 기판(60) 상에는 스페이서(70)를 산포한다. 이때, 제작자의 의도에 따라 박막 트랜지스터 어레이 기판(50) 상에 스페이서(70)를 산포하고, 컬러필터 기판(60) 상에 실 패턴을 형성할 수도 있다.As described above, when fabrication of the thin film transistor array substrate 50 and the color filter substrate 60 is completed, a seal pattern (not shown) is formed on the thin film transistor array substrate 50. In addition, the spacers 70 are dispersed on the color filter substrate 60. In this case, the spacer 70 may be scattered on the thin film transistor array substrate 50 according to the manufacturer's intention, and a seal pattern may be formed on the color filter substrate 60.

그리고, 상기 실 패턴 형성 및 스페이서(70) 산포가 완료되면, 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)과 컬러필터 기판(60)을 합착한다.When the seal pattern is formed and the dispersion of the spacer 70 is completed, the thin film transistor array substrate 50 and the color filter substrate 60 are bonded to each other.

그리고, 상기 합착된 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)과 컬러필터 기판(60)을 단위 액정 패널로 절단한다. 이때, 단위 액정 패널로 절단하는 공정은 대면적의 유리기판에 다수개의 액정 패널을 동시에 형성하여 액정 표시장치의 수율 향상을 도모하고 있기 때문에 요구된다.The bonded thin film transistor array substrate 50 and the color filter substrate 60 are cut into a unit liquid crystal panel. At this time, the step of cutting into a unit liquid crystal panel is required because a plurality of liquid crystal panels are simultaneously formed on a large glass substrate to improve the yield of the liquid crystal display device.

그리고, 상기 절단된 단위 액정 패널에 액정을 주입하고, 그 주입구를 밀봉함으로써, 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)과 컬러필터 기판(60)의 배향막(51,65)이 대향하여 이격된 공간에 액정이 충진된 액정층(80)을 형성한다. 이때, 초기 액정 표시장치의 제조과정에서는 다수개의 액정 패널에 액정을 주입한 다음 단위 액정 패널로 절단하였으나, 단위 액정 패널의 크기가 증가함에 따라 일률적인 액정 주입을 위한 공정 조절이 까다롭고, 액정 주입 불량으로 인한 제품의 생산성이 저하되어 단위 액정 패널로 절단한 다음 액정을 주입하는 방식이 사용되고 있다.The liquid crystal is injected into the cut unit liquid crystal panel, and the injection hole is sealed, so that the liquid crystal is spaced apart from each other by the alignment layers 51 and 65 of the thin film transistor array substrate 50 and the color filter substrate 60 facing each other. The filled liquid crystal layer 80 is formed. In the manufacturing process of the initial liquid crystal display, liquid crystal was injected into a plurality of liquid crystal panels and then cut into a unit liquid crystal panel. However, as the size of the unit liquid crystal panel increases, it is difficult to control the process for uniform liquid crystal injection. Due to the poor productivity of the product is reduced to cut the unit liquid crystal panel and then the liquid crystal is injected.

상기 단위 액정 패널은 수백 ㎠ 면적에 수 ㎛의 미세한 셀-갭을 갖기 때문에 효과적으로 액정을 주입하기 위해서, 단위 액정 패널 내측과 외측의 압력차를 이용한 진공 주입법이 가장 일반적으로 사용된다.Since the unit liquid crystal panel has a fine cell-gap of several micrometers in an area of several hundred cm 2, the vacuum injection method using the pressure difference between the inside and the outside of the unit liquid crystal panel is most commonly used to effectively inject liquid crystal.

상기한 바와같은 액정 표시장치의 제작과정 중에 실 패턴 형성에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, the actual pattern formation during the manufacturing process of the liquid crystal display device as described above will be described in detail as follows.

도3a와 도3b는 실 패턴을 형성하기 위한 스크린 인쇄(screen printing) 방법의 예시도로서, 이에 도시한 바와같이 실 패턴(102)이 형성될 영역이 선택적으로 노출되도록 패터닝된 스크린 마스크(106)와, 상기 스크린 마스크(106)를 통해 기판(100)에 실런트(103)를 선택적으로 공급하여 실 패턴(102)을 형성하는 고무 롤러(squeegee, 108)가 구비된다.3A and 3B are exemplary views of a screen printing method for forming a seal pattern, and as shown therein, a screen mask 106 patterned to selectively expose an area where a seal pattern 102 is to be formed. And a rubber roller 108 for selectively supplying the sealant 103 to the substrate 100 through the screen mask 106 to form the seal pattern 102.

상기 기판(100) 상의 실 패턴(102)은 액정을 주입하기 위한 갭을 마련하고, 주입된 액정의 누설을 방지한다. 따라서, 실 패턴(102)은 배향막(105)이 형성된 기판(100)의 가장자리를 따라 형성되며, 실 패턴(102)의 일측에는 액정 주입구(104)가 형성된다.The seal pattern 102 on the substrate 100 provides a gap for injecting liquid crystal and prevents leakage of the injected liquid crystal. Therefore, the seal pattern 102 is formed along the edge of the substrate 100 on which the alignment layer 105 is formed, and the liquid crystal injection hole 104 is formed at one side of the seal pattern 102.

상기한 바와같은 스크린 인쇄 방법은 실 패턴(102)이 형성될 영역이 패터닝된 스크린 마스크(106) 상에 열경화성 실런트(103)를 도포하고, 고무 롤러(108)로 인쇄하여 기판(100) 상에 실 패턴(102)을 형성하는 단계와, 상기 실 패턴(102)에함유된 용매를 증발시켜 레벨링(leveling)시키는 건조단계로 이루어진다.In the screen printing method as described above, the thermosetting sealant 103 is coated on the screen mask 106 on which the area where the seal pattern 102 is to be formed is patterned, and printed on the substrate 100 by printing with a rubber roller 108. Forming a seal pattern 102 and a drying step of evaporating and leveling the solvent contained in the seal pattern 102.

상기 스크린 인쇄 방법은 공정의 편의성이 매우 우수하기 때문에 보편적으로 사용되고 있으나, 스크린 마스크(106)의 전면에 실런트(103)를 도포하고, 고무 롤러(108)로 인쇄하여 실 패턴(102)을 형성함에 따라 실런트(103)의 소비량이 많아지는 단점이 있다.The screen printing method is generally used because it is very easy to process, but the sealant 103 is applied to the entire surface of the screen mask 106 and printed with a rubber roller 108 to form the seal pattern 102. Accordingly, there is a disadvantage in that the consumption of the sealant 103 increases.

따라서, 상기한 바와같은 스크린 인쇄 방법의 단점을 보완하기 위해 실 디스펜스(seal dispense) 방법이 제안되었다.Thus, a seal dispense method has been proposed to compensate for the shortcomings of the screen printing method as described above.

도4는 실 패턴의 인쇄를 위한 실 디스펜스 방법의 예시도로서, 이에 도시한 바와같이 실런트가 채워진 디스펜서(113)에 일정한 압력을 인가하면서 배향막(114)이 형성된 기판(111)의 가장자리를 따라 이동시켜 실 패턴(112)을 형성한다.FIG. 4 is an exemplary diagram of a seal dispense method for printing a seal pattern, and moves along the edge of the substrate 111 on which the alignment layer 114 is formed while applying a constant pressure to the dispenser 113 filled with the sealant as shown in FIG. The yarn pattern 112 is formed.

상기 실 디스펜스 방법을 통해 실 패턴(112)을 형성한 다음에는 상기 스크린 인쇄 방법과 마찬가지로 실런트에 함유된 용매를 증발시켜 레벨링을 실시한다.After the seal pattern 112 is formed through the seal dispense method, the solvent contained in the sealant is evaporated and leveling is performed in the same manner as the screen printing method.

상기 실 디스펜스 방법은 실런트의 소비량을 줄일 수 있는 장점이 있는 반면에, 실 패턴(112)을 형성하기 위한 공정시간이 길어짐에 따라 생산량이 감소되는 단점이 있다.While the seal dispensing method has an advantage of reducing the consumption of the sealant, there is a disadvantage in that the production amount decreases as the process time for forming the seal pattern 112 becomes longer.

따라서, 실 패턴을 형성하기 위한 스크린 인쇄방법이나 실 디스펜스 방법은 각각 장단점을 갖기 때문에 공정 진행자는 제품이 사용되는 환경이나 제품에 대한 요구사항들을 잘 고려하여 적절한 방법을 선택해야 한다.Therefore, the screen printing method and the seal dispensing method for forming the seal pattern have advantages and disadvantages, respectively, and thus the process coordinator should consider the environment in which the product is used or the requirements for the product and select an appropriate method.

한편, 상기 액정 표시장치의 제작과정 중에 스페이서(70) 산포에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, distribution of the spacer 70 during the manufacturing process of the liquid crystal display will be described in detail.

상기 스페이서(70)는 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)과 컬러필터 기판(60)의 셀-갭을 정밀하고, 균일하게 유지하기 위해 사용되며, 도5a에 도시한 바와같이 알코올 등의 솔벤트(solvent)에 스페이서(70)를 혼합하여 분사하는 습식산포와 도5b에 도시한 바와같이 질소(N2) 가스를 통해 스페이서(70) 만을 산포하는 건식산포로 나눌 수 있다. 이때, 스페이서(70)는 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)이나 컬러필터 기판(60) 상에 소정의 입자 직경을 갖는 글래스 비드, 플라스틱 비드 등의 입자를 균일한 밀도로 산포시킨다.The spacer 70 is used to precisely and uniformly maintain the cell-gap of the thin film transistor array substrate 50 and the color filter substrate 60, and as shown in FIG. 5A, a solvent such as alcohol. It can be divided into a wet dispersion in which the spacer 70 is mixed and injected, and a dry dispersion in which only the spacer 70 is dispersed through nitrogen (N 2 ) gas as shown in FIG. 5B. At this time, the spacer 70 scatters particles of glass beads, plastic beads, etc. having a predetermined particle diameter on the thin film transistor array substrate 50 or the color filter substrate 60 with a uniform density.

그러나, 상기한 바와같은 산포 방식에 의해 형성되는 스페이서(70)는 박막 트랜지스터 어레이 기판(50)이나 컬러필터 기판(60) 상에 무작위로 산포되기 때문에, 유효 화소부 내에 스페이서(70)가 존재하는 경우가 발생하여 스페이서(70)가 비치거나, 입사광을 산란시키고, 스페이서(70)가 산포된 영역에서 배향막의 배향이 흐트러져 빛샘 현상이 발생함에 따라 액정 표시장치의 화질이 저하되는 문제점이 있으며, 특히 대면적의 액정 표시장치에서는 산포된 스페이서들의 군데군데 뭉쳐지는 현상으로 인해 은하수 얼룩과 같은 화질불량을 발생시키는 요인이 되고 있다.However, since the spacer 70 formed by the above-described spreading method is randomly scattered on the thin film transistor array substrate 50 or the color filter substrate 60, the spacer 70 exists in the effective pixel portion. In some cases, there is a problem that the image quality of the liquid crystal display device is deteriorated due to the occurrence of light leakage due to the spacer 70 shining or scattering incident light and the alignment of the alignment layer in the area where the spacer 70 is scattered. In a large-area liquid crystal display device, due to the aggregation of scattered spacers in various places, image quality defects such as galaxy stains are generated.

상기한 바와같은 문제점들을 고려하여 포토리소그래피(photolithography)를 통해 패턴화된 스페이서(patterned spacer)를 형성시키는 방법이 제안되었다.In view of the problems described above, a method of forming a patterned spacer through photolithography has been proposed.

즉, 포토레지스트막을 기판에 도포하고, 소정의 마스크(mask)를 통하여 자외선을 조사한 다음 현상하여 스페이서를 형성한다.That is, a photoresist film is applied to a substrate, ultraviolet rays are irradiated through a predetermined mask, and then developed to form a spacer.

따라서, 상기 패턴화된 스페이서는 액정 패널에 형성되는 블랙 매트릭스와 정렬되도록 스페이서를 형성시킬 수 있다.Thus, the patterned spacer can form the spacer to be aligned with the black matrix formed in the liquid crystal panel.

또한, 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러필터 기판의 셀-갭을 포토레지스트막의 두께로 조절할 수 있기 때문에 정밀도가 높은 특징이 있다.In addition, since the cell gap between the thin film transistor array substrate and the color filter substrate can be adjusted by the thickness of the photoresist film, there is a feature of high accuracy.

상기한 바와같은 종래의 패턴화된 스페이서 형성방법을 첨부한 도6a 내지 도6d의 순차적인 단면 예시도를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the sequential cross-sectional view of Figure 6a to 6d with the conventional method for forming a patterned spacer as described above in detail as follows.

먼저, 도6a에 도시한 바와같이 기판(200) 상에 감광성 수지 재질의 레지스트막(201)을 스핀-코팅(spin-coating) 방법으로 도포한다.First, as shown in FIG. 6A, a resist film 201 made of a photosensitive resin material is coated on a substrate 200 by a spin-coating method.

그리고, 도6b에 도시한 바와같이 상기 레지스트막(201) 상에 빛의 투과영역과 차단영역이 패터닝된 마스크(202)를 통해 자외선을 선택적으로 조사한 다음 현상하여 레지스트막(201)을 선택적으로 잔류시킨다. 이때, 선택적으로 잔류하는 레지스트막(201)은 액정 표시장치의 박막 트랜지스터 기판과 컬러필터 기판의 셀-갭을 일정하게 유지시키는 스페이서로 기능하게 된다.6B, ultraviolet rays are selectively irradiated onto the resist film 201 through a mask 202 in which light transmission and blocking regions are patterned, and then developed to selectively retain the resist film 201. Let's do it. In this case, the selectively remaining resist film 201 functions as a spacer for maintaining a constant cell gap between the thin film transistor substrate and the color filter substrate of the liquid crystal display.

한편, 상기 레지스트막(201)으로 자외선 조사영역이 현상에 의해 선택적으로 제거되는 포지티브 형(positive type)을 적용하는 경우에는 레지스트막(201)의 스페이서가 형성될 영역이 마스크(202)에 의해 빛이 차단되어야 한다.On the other hand, when the positive type (positive type) in which the ultraviolet irradiation region is selectively removed by the development to the resist film 201 is applied to the area where the spacer of the resist film 201 is to be formed by the mask 202 Should be blocked.

그리고, 레지스트막(201)으로 자외선 조사영역이 현상에 의해 선택적으로 잔류하는 네거티브 형(negative type)을 적용하는 경우에는 레지스트막(201)의 스페이서가 형성될 영역이 마스크(202)에 의해 빛이 투과되어야 한다.In addition, when the negative type in which the ultraviolet irradiation region remains selectively due to development is applied to the resist film 201, the area where the spacer of the resist film 201 is to be formed is emitted by the mask 202. It must be transparent.

그리고, 도6c에 도시한 바와같이 상기 레지스트막(201)이 잔류하는 기판(200) 상에 러빙을 수행하여 액정이 채워질 때, 원하는 배향을 갖도록 한다.As shown in FIG. 6C, rubbing is performed on the substrate 200 where the resist film 201 remains to have a desired orientation when the liquid crystal is filled.

이후에, 도6d에 도시한 바와같이 상기 기판(200) 상에 잔류하여 스페이서로기능하는 레지스트막(201)은 다른 기판(203)이 합착될 때, 일정한 셀-갭이 유지되도록 한다.Thereafter, as shown in FIG. 6D, the resist film 201 remaining on the substrate 200 to function as a spacer allows a constant cell-gap to be maintained when the other substrate 203 is bonded.

그러나, 상기한 바와같은 패턴화된 스페이서의 형성방법은 레지스트막(201)이 스핀-코팅 방법에 의해 도포되므로, 재료의 소비가 많고, 레지스트막(201)의 노광 및 현상을 위한 포토리쏘그래피 공정이 복잡하며, 스페이서 형성에 소요되는 시간이 길어져 제품의 생산성을 저하시키는 요인이 되고 있다.However, in the method of forming the patterned spacer as described above, since the resist film 201 is applied by the spin-coating method, the consumption of materials is high, and a photolithography process for exposing and developing the resist film 201 is performed. This is complicated and the time taken for spacer formation is long, which is a factor that lowers the productivity of the product.

한편, 상기 레지스트막(201)의 노광 및 현상을 위한 포토리쏘그래피 공정은 배향을 파괴시키게 되므로, 기판(200) 상에 포토리쏘그래피 공정을 통해 스페이서로 기능하는 레지스트막(201)을 먼저 형성한 다음 배향을 실시한다.On the other hand, since the photolithography process for exposing and developing the resist film 201 destroys the orientation, the resist film 201 serving as a spacer is first formed on the substrate 200 through the photolithography process. The following orientation is performed.

그러나, 상기한 바와같이 레지스트막(201)이 형성된 기판(200) 상에 배향을 실시할 경우에는 레지스트막(201)의 단차에 의해 레지스트막(201)의 일측면을 따라 배향 불량이 발생하여 빛샘 현상이 나타나므로, 액정 표시장치의 화질을 저하시키는 단점이 있다.However, when the alignment is performed on the substrate 200 on which the resist film 201 is formed as described above, an alignment defect occurs along one side surface of the resist film 201 due to the step of the resist film 201, resulting in light leakage. Since the phenomenon appears, there is a disadvantage in reducing the image quality of the liquid crystal display.

따라서, 스페이서를 형성하기 위한 산포방식이나 포토리쏘그래피 방법은 각각 장단점을 갖기 때문에 공정 진행자는 제품이 사용되는 환경이나 제품에 대한 요구사항들을 잘 고려하여 적절한 방법을 선택해야 한다.Therefore, since the scattering method and the photolithography method for forming the spacers have advantages and disadvantages, the process operator must select an appropriate method in consideration of the environment in which the product is used or the requirements for the product.

상술한 바와같이 실 패턴은 합착된 액정 패널 상에 액정을 주입하기 위한 갭을 마련하고, 주입된 액정의 누설을 방지하기 위해 형성하며, 스페이서는 합착된 액정 패널의 갭이 정밀하고, 균일하게 유지되도록 하기 위해 형성한다.As described above, the seal pattern forms a gap for injecting the liquid crystal on the bonded liquid crystal panel, and is formed to prevent leakage of the injected liquid crystal, and the spacer keeps the gap of the bonded liquid crystal panel precise and uniform. Form to ensure

그러나, 종래에는 실 패턴과 스페이서 형성이 개별적으로 수행됨에 따라 액정 패널을 합착하기 위한 사전 공정이 복잡하고, 재료의 소비량이 많은 문제점이 있었다.However, in the related art, as the seal pattern and the spacer formation are performed separately, the preliminary process for bonding the liquid crystal panel is complicated, and the consumption of materials is high.

따라서, 본 발명은 상기한 바와같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 창안한 것으로, 본 발명의 목적은 액정 패널의 합착을 위한 실 패턴과 스페이서 형성을 동시에 수행할 수 있는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a seal pattern and a spacer of a liquid crystal panel capable of simultaneously forming a seal pattern and a spacer for bonding the liquid crystal panel. A mask for forming and a seal pattern and a spacer forming method using the mask are provided.

도1은 일반적인 액정 표시장치의 단위 화소에 대한 평면도.1 is a plan view of a unit pixel of a general liquid crystal display.

도2는 도1의 I-I'선을 따라 절단한 단위 화소의 단면을 보인 예시도.FIG. 2 is an exemplary view showing a cross section of a unit pixel cut along the line II ′ of FIG. 1; FIG.

도3a와 도3b는 종래의 스크린 인쇄 방법을 통해 실 패턴을 형성하는 예를 보인 예시도.3A and 3B are exemplary views showing an example of forming a seal pattern through a conventional screen printing method.

도4는 종래의 실 디스펜스 방법을 통해 실 패턴을 형성하는 예를 보인 예시도.Figure 4 is an exemplary view showing an example of forming a seal pattern through a conventional seal dispense method.

도5a는 종래 스페이서의 습식산포를 보인 예시도.Figure 5a is an exemplary view showing a wet dispersion of the conventional spacer.

도5b는 종래 스페이서의 건식산포를 보인 예시도.Figure 5b is an illustration showing the dry dispersion of the conventional spacer.

도6a 내지 도6d는 종래의 패턴화된 스페이서 형성방법을 순차적인 단면으로 보인 예시도.6A to 6D are exemplary views showing a conventional method for forming a patterned spacer in a sequential cross section.

도7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 평면구조를 보인 예시도.7 is an exemplary view showing a planar structure of a mask according to an embodiment of the present invention.

도8a 내지 도8d는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법을 순차적인 단면으로 보인 예시도.8A to 8D are exemplary views showing, in sequential cross section, a seal pattern and a spacer forming method of a liquid crystal panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도9a 내지 도9d는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법을 순차적인 단면으로 보인 예시도.9A to 9D are exemplary views showing, in sequential cross section, a seal pattern and a spacer forming method of a liquid crystal panel according to another exemplary embodiment of the present invention.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***

300:마스크301:실 패턴 홀300: mask 301: thread pattern hole

302:스페이서 홀303:액정 주입구302: spacer hole 303: liquid crystal inlet

310:유효표시부310: Effective display

먼저, 상기한 바와같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크는 액정 패널의 유효표시부 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀과, 상기 액정 패널의 유효표시부 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀이 구비된 것을 특징으로 한다.First, a seal pattern for forming a seal pattern and a spacer of a liquid crystal panel for achieving the object of the present invention as described above comprises a seal pattern hole for selectively exposing the region on which the seal pattern is to be formed outside the effective display portion of the liquid crystal panel; A spacer hole for selectively exposing a region where a spacer is to be formed is provided in the effective display unit of the liquid crystal panel.

그리고, 상기한 바와같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법은 액정 패널의 유효표시부 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀과, 상기 액정 패널의 유효표시부 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀이 구비된 마스크를 기판 상에 정렬시키는 단계와; 상기 마스크 상에 실런트를 형성하고, 고무 롤러(squeegee)나 닥터 블레이드(doctor blade)로 인쇄하여 기판 상에 실 패턴과 스페이서를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the seal pattern and the spacer forming method of the liquid crystal panel for achieving the object of the present invention as described above, and the seal pattern hole for selectively exposing the region in which the seal pattern is to be formed outside the effective display portion of the liquid crystal panel, the liquid crystal panel Aligning a mask having a spacer hole on the substrate, the spacer hole selectively exposing a region in which the spacer is to be formed in the effective display portion of the substrate; Forming a sealant on the mask, and printing with a rubber roller (squeegee) or a doctor blade (doctor blade) to form a seal pattern and a spacer on a substrate.

상기한 바와같은 본 발명에 의한 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, a mask for forming the seal pattern and the spacer of the liquid crystal panel according to the present invention as described above, and a seal pattern and the spacer forming method of the liquid crystal panel using the mask will be described in detail as follows.

도7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 평면구조를 보인 예시도이다.7 is an exemplary view showing a planar structure of a mask according to an embodiment of the present invention.

도7을 참조하면, 마스크(300)는 액정 패널의 유효표시부(310) 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀(301)과, 상기 액정 패널의 유효표시부(310) 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀(302)이 구비되어 있다.Referring to FIG. 7, the mask 300 includes a seal pattern hole 301 for selectively exposing a region where a seal pattern is to be formed outside the effective display unit 310 of the liquid crystal panel, and an inside of the effective display unit 310 of the liquid crystal panel. The spacer hole 302 is provided to selectively expose the region where the spacer is to be formed.

상기 실 패턴 홀(301)은 액정 패널의 유효표시부(310) 가장자리를 따라 패터닝되고, 그 실 패턴 홀(301)의 일측에는 액정을 주입하기 위한 액정 주입구(303)가 패터닝된다.The seal pattern hole 301 is patterned along the edge of the effective display unit 310 of the liquid crystal panel, and one side of the seal pattern hole 301 is patterned with a liquid crystal injection hole 303 for injecting liquid crystal.

상기 스페이서 홀(302)은 액정 패널의 유효표시부(310) 내부에 일정하게 이격되어 패터닝되며, 액정 패널의 유효표시부(310)의 내부에 형성되는 블랙 매트릭스(도면 상에 도시되지 않음)와 정렬되도록 패터닝된다.The spacer hole 302 is regularly spaced and patterned in the effective display unit 310 of the liquid crystal panel, and aligned with a black matrix (not shown) formed in the effective display unit 310 of the liquid crystal panel. Is patterned.

상기한 바와같은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(300)를 이용하여 실 패턴과 스페이서를 형성하는 방법을 첨부한 도8a 내지 도8d의 순차적인 단면 예시도를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the sequential cross-sectional view of FIGS. 8A to 8D attached to the method of forming the seal pattern and the spacer using the mask 300 according to an embodiment of the present invention as described above in detail as follows. .

먼저, 도8a에 도시한 바와같이 기판(400) 상에 배향막(401)을 형성한 다음 액정 패널의 유효표시부(310) 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀(301)과, 상기 액정 패널의 유효표시부(310) 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀(302)이 구비된 마스크(300)를 정렬시킨다. 이때, 기판(400)은 액정 표시장치에 적용되는 박막 트랜지스터 어레이 기판이나 또는 컬러필터 기판이 적용될 수 있으며, 배향막(401)은 액정의 초기 배향을 결정하기 위한 러빙이 실시되어 있다.First, as shown in FIG. 8A, the alignment layer 401 is formed on the substrate 400, and the seal pattern hole 301 selectively exposes an area where the seal pattern is to be formed outside the effective display unit 310 of the liquid crystal panel. And a mask 300 having a spacer hole 302 that selectively exposes a region where a spacer is to be formed in the effective display unit 310 of the liquid crystal panel. In this case, the substrate 400 may be a thin film transistor array substrate or a color filter substrate applied to the liquid crystal display, and the alignment layer 401 is subjected to rubbing to determine the initial alignment of the liquid crystal.

상기 실 패턴 홀(301)과 스페이서 홀(302)이 구비된 마스크(300)는 종래 도3a와 도3b에 도시된 스크린 마스크(106)와 도6b에 도시된 빛의 투과영역과 차단영역이 패터닝된 마스크(202)가 합쳐진 형태로 제작된다.In the mask 300 including the seal pattern hole 301 and the spacer hole 302, the screen mask 106 shown in FIGS. 3A and 3B and the light transmitting and blocking areas shown in FIG. 6B are patterned. The masks 202 are manufactured in a combined form.

그리고, 도8b에 도시한 바와같이 상기 정렬된 마스크(300) 상에 자외선을 조사하여 스페이서 홀(302)을 통해 노출된 배향막(401)을 평탄화시키고, 아울러 후술할 스페이서(406)와의 접착력을 향상시킨다.As shown in FIG. 8B, ultraviolet rays are irradiated onto the aligned mask 300 to planarize the alignment layer 401 exposed through the spacer hole 302, and to improve adhesion to the spacer 406 which will be described later. Let's do it.

그리고, 도8c에 도시한 바와같이 상기 마스크(300) 상에 실런트(403)를 형성하고, 고무 롤러(404)로 인쇄하여 기판(400) 상에 실 패턴(405)과 스페이서(406)를 형성한다. 이때, 고무 롤러(404) 대신에 닥터 블레이드를 적용할 수 있으며, 실런트(403)는 에폭시(epoxy) 계열의 열경화성 수지(resin)에 글래스 파이버(glass fiber)를 혼합하여 적용하거나, 또는 글래스 비드나 플라스틱 비드와 같은 스페이서 입자를 혼합하여 적용하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 8C, a sealant 403 is formed on the mask 300 and printed with a rubber roller 404 to form a seal pattern 405 and a spacer 406 on the substrate 400. do. In this case, a doctor blade may be applied instead of the rubber roller 404, and the sealant 403 may be applied by mixing glass fiber with an epoxy-based thermosetting resin, or glass beads or It is preferable to apply a mixture of spacer particles such as plastic beads.

그리고, 도8d에 도시한 바와같이 상기 마스크(300)를 제거한 다음 상기 실 패턴(405)과 스페이서(406)를 경화시킨다. 이때, 실 패턴(405)과 스페이서(406)는 가압경화장치에서 열과 압력으로써 경화시키는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 8D, the mask 300 is removed, and then the seal pattern 405 and the spacer 406 are cured. At this time, the seal pattern 405 and the spacer 406 are preferably cured by heat and pressure in a pressure hardening device.

상기 실 패턴(405)과 스페이서(406)는 경화되면서 부피가 줄어들어배향막(401) 상에 고착되며, 후속 열처리 공정에 의한 영향을 받지 않도록 충분한 시간 동안 경화시키는 것이 바람직하다.The seal pattern 405 and the spacer 406 are reduced in volume while being cured and fixed on the alignment layer 401, and are preferably cured for a sufficient time so as not to be affected by a subsequent heat treatment process.

상기한 바와같은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법은 종래의 도3a와 도3b에 도시된 스크린 마스크(106)와 도6b에 도시된 빛의 투과영역과 차단영역이 패터닝된 마스크(202)가 일체화된 형태로 마스크를 제작하고, 이를 적용하여 실 패턴과 스페이서를 동시에 형성함에 따라 액정 패널을 합착하기 위한 사전 공정을 단순화시키고, 재료의 소비량을 줄일 수 있게 된다.As described above, a mask for forming a seal pattern and a spacer of a liquid crystal panel according to an exemplary embodiment of the present invention and a method of forming a seal pattern and a spacer using the mask may include a screen mask 106 shown in FIGS. 3A and 3B. ) And a mask 202 in which the light transmitting region and the blocking region shown in FIG. 6B are patterned into one, and a mask is applied to form a seal pattern and a spacer at the same time, thereby preliminarily bonding the liquid crystal panel. This simplifies the process and reduces the consumption of materials.

특히, 종래의 스페이서 형성을 위한 산포 방식에 비해서는 원하는 위치에 정확하게 스페이서를 형성할 수 있으며, 종래의 스페이서 형성을 위한 포토리쏘그래피 방식에 비해서는 공정을 단순화시킬 수 있는 장점을 갖게 된다.In particular, the spacer can be formed accurately at a desired position as compared to the scattering method for forming a conventional spacer, and has the advantage of simplifying the process compared to the photolithography method for forming a conventional spacer.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법은 러빙이 실시된 배향막 상에 스페이서를 형성할 수 있게 되므로, 종래 포토리쏘그래피 공정을 통해 패턴화된 스페이서를 형성한 다음 배향을 실시할 경우에 스페이서의 일측면을 따라 배향 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.In addition, since the seal pattern and the spacer forming method of the liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention can form a spacer on the rubbed alignment layer, after forming a patterned spacer through a conventional photolithography process When the alignment is performed, it is possible to prevent the occurrence of an alignment defect along one side of the spacer.

한편, 상기 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시장치의 스페이서 형성방법은 박막 트랜지스터 어레이 기판이나 또는 컬러필터 기판 상에 배향막을 형성한 다음 러빙을 실시하고, 그 배향막 상부에 실 패턴과 스페이서를 동시에 형성하였으나, 본 발명의 다른 실시예로 컬러필터 기판 상에 실 패턴과 스페이서를 형성할 수도 있으며, 이를 첨부한 도9a 내지 도9d의 순차적인 단면 예시도를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, in the method for forming a spacer of the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention, an alignment layer is formed on a thin film transistor array substrate or a color filter substrate and then rubbed, and a seal pattern and a spacer are simultaneously formed on the alignment layer. However, as another embodiment of the present invention, the seal pattern and the spacer may be formed on the color filter substrate, which will be described in detail with reference to the sequential cross-sectional view of FIGS. 9A to 9D.

먼저, 도9a에 도시한 바와같이 액정 패널의 화소영역 가장자리를 따라 기판(500) 상에 블랙 매트릭스(501)를 일정하게 패터닝한 다음 상기 기판(500) 상에 액정 패널의 화소영역별로 R,G,B 컬러필터(502)들을 블랙 매트릭스(501)와 중첩되도록 형성한다.First, as shown in FIG. 9A, the black matrix 501 is uniformly patterned on the substrate 500 along the edge of the pixel region of the liquid crystal panel, and then R, G on the substrate 500 for each pixel region of the liquid crystal panel. The B color filters 502 are formed to overlap the black matrix 501.

그리고, 도9b에 도시한 바와같이 상기 R,G,B 컬러필터(502) 상면에 공통 투명전극(503)을 형성한 다음 액정 패널의 유효표시부(310) 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀(301)과, 상기 액정 패널의 유효표시부(310) 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀(302)이 구비된 마스크(300)를 정렬시킨다. 이때, 실 패턴 홀(301)과 스페이서 홀(302)이 구비된 마스크(300)는 본 발명의 일 실시예와 동일하게 종래 도3a와 도3b에 도시된 스크린 마스크(106)와 도6b에 도시된 빛의 투과영역과 차단영역이 패터닝된 마스크(202)가 합쳐진 형태로 제작된다.As shown in FIG. 9B, a common transparent electrode 503 is formed on the upper surface of the R, G, and B color filters 502, and then a region where a seal pattern is to be formed is formed outside the effective display unit 310 of the liquid crystal panel. The mask 300 having the seal pattern hole 301 exposed through the photoresist and the spacer hole 302 for selectively exposing a region in which the spacer is to be formed in the effective display unit 310 of the liquid crystal panel are aligned. In this case, the mask 300 having the seal pattern hole 301 and the spacer hole 302 is the same as the screen mask 106 shown in FIGS. 3A and 3B and 6B as in the exemplary embodiment of the present invention. The mask 202 in which the transmission region and the blocking region of the light are patterned are combined.

그리고, 도9c에 도시한 바와같이 상기 마스크(300) 상에 실런트(403)를 형성하고, 고무 롤러(404)로 인쇄하여 기판(500) 상에 실 패턴(405)과 스페이서(406)를 형성한다. 이때, 고무 롤러(404) 대신에 닥터 블레이드를 적용할 수 있으며, 실런트(403)는 에폭시(epoxy) 계열의 열경화성 수지(resin)에 글래스 파이버(glass fiber)를 혼합하여 적용하거나, 또는 글래스 비드나 플라스틱 비드와 같은 스페이서 입자를 혼합하여 적용하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 9C, a sealant 403 is formed on the mask 300 and printed with a rubber roller 404 to form a seal pattern 405 and a spacer 406 on the substrate 500. do. In this case, a doctor blade may be applied instead of the rubber roller 404, and the sealant 403 may be applied by mixing glass fiber with an epoxy-based thermosetting resin, or glass beads or It is preferable to apply a mixture of spacer particles such as plastic beads.

그리고, 도9d에 도시한 바와같이 상기 마스크(300)를 제거한 다음 상기 실패턴(405)과 스페이서(406)를 경화시킨다. 이때, 실 패턴(405)과 스페이서(406)는 가압경화장치에서 열과 압력으로써 경화시키는 것이 바람직하다.Then, as shown in FIG. 9D, the mask 300 is removed, and then the failure turn 405 and the spacer 406 are cured. At this time, the seal pattern 405 and the spacer 406 are preferably cured by heat and pressure in a pressure hardening device.

상기 스페이서(406)는 경화되면서 부피가 줄어들어 공통 투명전극(503) 상에 고착되며, 후속 열처리 공정에 의한 영향을 받지 않도록 충분한 시간 동안 경화시키는 것이 바람직하다.The spacer 406 is reduced in volume while being cured and fixed on the common transparent electrode 503, and is preferably cured for a sufficient time so as not to be affected by a subsequent heat treatment process.

이후에, 상기 스페이서(406)가 경화된 공통 투명전극(503) 상에 배향막을 형성하고, 배향을 실시하여 액정 패널의 컬러필터 기판이 제작된다.Subsequently, an alignment layer is formed on the common transparent electrode 503 on which the spacer 406 is cured, and alignment is performed to produce a color filter substrate of the liquid crystal panel.

상기한 바와같은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법은 종래의 도3a와 도3b에 도시된 스크린 마스크(106)와 도6b에 도시된 빛의 투과영역과 차단영역이 패터닝된 마스크(202)가 일체화된 형태로 마스크를 제작하고, 이를 적용하여 기판 상에 실 패턴과 스페이서를 동시에 형성함에 따라 액정 패널을 합착하기 위한 사전 공정을 단순화시키고, 재료의 소비량을 줄일 수 있게 된다.As described above, a mask for forming a seal pattern and a spacer of a liquid crystal panel according to another exemplary embodiment of the present invention and a method of forming a seal pattern and a spacer using the mask may include a screen mask 106 shown in FIGS. 3A and 3B. ) And a mask 202 patterned with the light transmission region and the blocking region shown in FIG. 6B are fabricated, and the liquid crystal panel is bonded by applying the same to form a seal pattern and a spacer on the substrate at the same time. It is possible to simplify the preliminary process to reduce the consumption of material.

특히, 종래의 스페이서 형성을 위한 산포 방식에 비해서는 원하는 위치에 정확하게 스페이서를 형성할 수 있으며, 종래의 스페이서 형성을 위한 포토리쏘그래피 방식에 비해서는 공정을 단순화시킬 수 있는 장점을 갖게 된다.In particular, the spacer can be formed accurately at a desired position as compared to the scattering method for forming a conventional spacer, and has the advantage of simplifying the process compared to the photolithography method for forming a conventional spacer.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법은 액정 패널의 컬러필터 기판 상에 실 패턴과 스페이서를 형성함에 따라 배향막 상에 스페이서를 형성하는 본 발명의 일 실시예에 비해 배향막의 평탄화 및 배향막과 스페이서의 접착력 향상을 위한 자외선 조사단계를 생략할 수 있게 된다.In addition, according to another embodiment of the present invention, a mask for forming a seal pattern and a spacer of a liquid crystal panel and a seal pattern and a spacer forming method using the mask may be formed by forming a seal pattern and a spacer on a color filter substrate of the liquid crystal panel. Compared to the embodiment of the present invention, which forms the spacer on the alignment layer, the ultraviolet irradiation step for planarization of the alignment layer and improvement of adhesion between the alignment layer and the spacer may be omitted.

상술한 바와같이 본 발명에 의한 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크 및 그 마스크를 이용한 실 패턴과 스페이서 형성방법은 액정 패널의 유효표시부 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀과, 상기 액정 패널의 유효표시부 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀이 구비된 마스크를 통해 실 패턴과 스페이서를 동시에 인쇄하여 형성함에 따라 액정 패널을 합착하기 위한 사전 공정을 단순화시키고, 재료의 소비량을 줄일 수 있게 된다.As described above, the mask for forming the seal pattern and the spacer of the liquid crystal panel according to the present invention, and the seal pattern and the spacer forming method using the mask selectively expose an area where the seal pattern is to be formed outside the effective display portion of the liquid crystal panel. Pre-process for bonding the liquid crystal panel by simultaneously printing the seal pattern and the spacer through a mask having a seal pattern hole and a spacer hole for selectively exposing a region where a spacer is to be formed in the effective display unit of the liquid crystal panel. This simplifies and reduces the consumption of materials.

특히, 종래의 스페이서 형성을 위한 산포 방식에 비해서는 원하는 위치에 정확하게 스페이서를 형성할 수 있으며, 종래의 스페이서 형성을 위한 포토리쏘그래피 방식에 비해서는 공정을 단순화시킬 수 있는 장점을 갖게 된다.In particular, the spacer can be formed accurately at a desired position as compared to the scattering method for forming a conventional spacer, and has the advantage of simplifying the process compared to the photolithography method for forming a conventional spacer.

따라서, 액정 패널의 화질을 향상시킬 수 있고, 제조비용을 대폭 절감할 수 있으며, 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Therefore, the image quality of the liquid crystal panel can be improved, manufacturing cost can be greatly reduced, and productivity can be improved.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법은 러빙이 실시된 배향막 상에 스페이서를 형성할 수 있게 되므로, 종래 포토리쏘그래피 공정을 통해 패턴화된 스페이서를 형성한 다음 배향을 실시할 경우에 스페이서의 일측면을 따라 배향 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.In addition, since the seal pattern and the spacer forming method of the liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention can form a spacer on the rubbed alignment layer, after forming a patterned spacer through a conventional photolithography process When the alignment is performed, it is possible to prevent the occurrence of an alignment defect along one side of the spacer.

그리고, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시장치의 스페이서 형성방법은 액정 표시장치의 컬러필터 기판 상에 실 패턴과 스페이서를 형성함에 따라 배향막 상에 스페이서를 형성하는 본 발명의 일 실시예에 비해 배향막의 평탄화 및 배향막과 스페이서의 접착력 향상을 위한 자외선 조사단계를 생략할 수 있게 되므로, 보다 단순화된 공정을 통해 실 패턴과 스페이서를 동시에 형성할 수 있게 된다.And, the spacer forming method of the liquid crystal display according to another embodiment of the present invention is compared to the embodiment of the present invention to form a spacer on the alignment layer as the seal pattern and the spacer is formed on the color filter substrate of the liquid crystal display device Since the UV irradiation step for planarization of the alignment layer and improvement of adhesion between the alignment layer and the spacer may be omitted, the seal pattern and the spacer may be simultaneously formed through a simpler process.

Claims (9)

액정 패널의 유효표시부 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀과, 상기 액정 패널의 유효표시부 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀이 구비된 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크.A seal pattern hole for selectively exposing a region where a seal pattern is to be formed outside the effective display unit of the liquid crystal panel, and a spacer hole for selectively exposing a region in which the spacer is to be formed inside the effective display unit of the liquid crystal panel; A mask for forming the seal pattern and the spacer of the liquid crystal panel. 제 1 항에 있어서, 상기 실 패턴 홀은 액정 패널의 유효표시부 가장자리를 따라 패터닝되고, 그 실 패턴 홀의 일측에는 액정을 주입하기 위한 액정 주입구가 패터닝된 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크.The seal pattern of claim 1, wherein the seal pattern hole is patterned along an edge of an effective display portion of the liquid crystal panel, and a liquid crystal injection hole for injecting liquid crystal is patterned on one side of the seal pattern hole. Mask to form. 제 1 항에 있어서, 상기 스페이서 홀은 액정 패널의 유효표시부 내부에 일정하게 이격되어 패터닝되며, 액정 패널의 유효표시부의 내부에 형성되는 블랙 매트릭스와 정렬되도록 패터닝된 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서를 형성하기 위한 마스크.The seal pattern of claim 1, wherein the spacer hole is patterned to be spaced apart from the inside of the effective display unit of the liquid crystal panel at regular intervals and to be aligned with a black matrix formed in the effective display unit of the liquid crystal panel. And a mask for forming a spacer. 액정 패널의 유효표시부 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀과, 상기 액정 패널의 유효표시부 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀이 구비된 마스크를 기판 상에 정렬시키는단계와; 상기 마스크 상에 실런트를 형성하고, 인쇄하여 기판 상에 실 패턴과 스페이서를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법.A mask having a seal pattern hole for selectively exposing an area where a seal pattern is to be formed outside the effective display unit of the liquid crystal panel and a spacer hole for selectively exposing an area for forming a spacer in the effective display unit of the liquid crystal panel are provided on the substrate. Aligning to; And forming a sealant on the mask and printing the sealant to form a seal pattern and a spacer on the substrate. 기판 상에 배향막을 형성한 다음 배향을 실시하는 단계와; 상기 배향막이 형성된 기판 상에 액정 패널의 유효표시부 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀과, 상기 액정 패널의 유효표시부 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀이 구비된 마스크를 정렬시키는 단계와; 상기 마스크의 실 패턴 홀과 스페이서 홀을 통해 기판 상의 배향막에 자외선을 조사하는 단계와; 상기 마스크 상에 실런트를 형성하고, 인쇄하여 기판 상에 실 패턴과 스페이서를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법.Forming an alignment film on the substrate and then performing alignment; A seal pattern hole for selectively exposing a region where a seal pattern is to be formed outside the effective display unit of the liquid crystal panel on the substrate on which the alignment layer is formed, and a spacer hole for selectively exposing a region in which the spacer is to be formed inside the effective display unit of the liquid crystal panel Aligning the provided mask; Irradiating ultraviolet rays to the alignment layer on the substrate through the seal pattern holes and the spacer holes of the mask; And forming a sealant on the mask and printing the sealant to form a seal pattern and a spacer on the substrate. 액정 패널의 화소영역 가장자리를 따라 기판 상에 블랙 매트릭스를 패터닝하는 단계와; 상기 기판 상에 액정 패널의 화소영역별로 R,G,B 컬러필터들을 형성하는 단계와; 상기 R,G,B 컬러필터의 상면에 공통 투명전극을 형성하는 단계와; 상기 공통 투명전극 상에 액정 패널의 유효표시부 외곽에 실 패턴이 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 실 패턴 홀과, 상기 액정 패널의 유효표시부 내부에 스페이서가 형성될 영역을 선택적으로 노출시키는 스페이서 홀이 구비된 마스크를 정렬시키는 단계와; 상기 마스크 상에 실런트를 형성하고, 인쇄하여 상기 기판 상에 실 패턴과스페이서를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법.Patterning the black matrix on the substrate along the edge of the pixel region of the liquid crystal panel; Forming R, G, and B color filters on the substrate for each pixel area of the liquid crystal panel; Forming a common transparent electrode on an upper surface of the R, G, and B color filters; A seal pattern hole for selectively exposing a region where a seal pattern is to be formed outside the effective display unit of the liquid crystal panel on the common transparent electrode, and a spacer hole for selectively exposing a region in which the spacer is to be formed inside the effective display unit of the liquid crystal panel Aligning the provided mask; And forming a sealant on the mask and printing the sealant to form a seal pattern and a spacer on the substrate. 제 4 항 내지 제 6 항의 어느 한 항에 있어서, 상기 실런트는 열경화성 수지(resin)인 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법.The method of forming a seal pattern and a spacer of a liquid crystal panel according to any one of claims 4 to 6, wherein the sealant is a thermosetting resin. 제 4 항 내지 제 6 항의 어느 한 항에 있어서, 상기 실 패턴과 스페이서를 형성하는 단계 이후에 상기 실 패턴과 스페이서를 경화시키는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 실 패턴과 스페이서 형성방법.7. The liquid crystal panel of claim 4, further comprising curing the seal pattern and the spacer after the forming of the seal pattern and the spacer. Way. 제 4 항에 있어서, 상기 기판 상에 스페이서 홀이 패터닝된 마스크를 정렬시키는 단계 이후에 자외선을 조사시키는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시장치의 스페이서 형성방법.The method of claim 4, further comprising irradiating ultraviolet rays after aligning a mask patterned with spacer holes on the substrate.
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