KR20030049988A - Liquid crystal display, array panel having a reflector and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display having a reflective plate, an array substrate and a method for fabricating the array substrate are provided to form a color filter on the array substrate to improve aperture rate. CONSTITUTION: A liquid crystal display includes the first substrate(110), gate lines and data lines formed on the first substrate to define pixel regions, a gate insulating layer(130) covering the gate lines, a thin film transistor connected to each gate line and each data line, and a passivation layer covering the thin film transistor. The liquid crystal display further includes a reflective plate(181) formed on the pixel region placed on the gate insulating layer, a color filter(140) formed on the reflective plate, a pixel electrode(200) formed on the color filter and made of a transparent conductive material connected to the thin film transistor, the second substrate facing the first substrate, a transparent common electrode(50) formed on the second substrate, and a liquid crystal layer formed between the pixel electrode and the common electrode.

Description

반사판을 가진 액정 표시 장치, 어레이기판 및 그의 제조 방법{Liquid crystal display, array panel having a reflector and manufacturing method thereof}Liquid crystal display, array substrate having reflector and manufacturing method therefor {Liquid crystal display, array panel having a reflector and manufacturing method}

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반사판을 가진 액정표시장치, 어레이기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device having an reflective plate, an array substrate, and a manufacturing method thereof.

일반적으로 액정 표시 장치(liquid crystal display)는 마주보는 면에 전계생성전극이 각각 형성된 상,하기판의 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 이 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 빛의 투과율을 조절함에 의해 화상을 표현하는 장치이다.In general, liquid crystal displays inject liquid crystal materials between upper and lower substrates on which opposing field-forming electrodes are formed, and then apply voltages to the two electrodes to form liquid crystal molecules. It is a device that expresses an image by adjusting the transmittance of light by moving.

이러한 액정 표시 장치는 사용하는 광원에 따라 투과형(transmission type)과 반사형(reflection type)으로 나눌 수 있다.The liquid crystal display may be classified into a transmission type and a reflection type according to a light source to be used.

투과형 액정 표시 장치는 액정 패널의 뒷면에 부착된 배면광원인 백라이트(backlight)로부터 나오는 인위적인 빛을 액정에 입사시켜 액정의 배열에 따라 빛의 양을 조절하여 이미지를 표시하는 형태이고, 반사형 액정 표시 장치는 외부의 자연광이나 인조광을 반사시킴으로써 액정의 배열에 따라 빛의 투과율을 조절하는 형태이다.Transmissive liquid crystal display is a form of displaying an image by adjusting the amount of light according to the arrangement of the liquid crystal by injecting artificial light from the backlight (backlight) attached to the back of the liquid crystal panel to the liquid crystal The device adjusts light transmittance according to the arrangement of liquid crystals by reflecting external natural or artificial light.

투과형 액정 표시 장치는 인위적인 배면광원을 사용하므로 어두운 외부 환경에서도 밝은 화상을 구현할 수 있으나 전력소비(power consumption)가 큰 단점이 있는 반면, 반사형 액정 표시 장치는 빛의 대부분을 외부의 자연광이나 인조광원에 의존하는 구조를 하고 있으므로 투과형 액정 표시 장치에 비해 전력소비가 적지만 어두운 장소에서는 사용할 수 없다는 단점이 있다.The transmissive liquid crystal display uses an artificial back light source, so that bright images can be realized even in a dark environment. However, the power consumption of the transmissive liquid crystal display is large. Since the structure is dependent on the power consumption is less than the transmissive liquid crystal display device, but can not be used in a dark place has the disadvantage.

따라서, 두 가지 모드(mode)를 필요한 상황에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있는 장치로 반사 및 투과 겸용 액정 표시 장치가 제안되고 있다. 이러한 반사형 및 반투과형 액정표시장치는 모두 외부광을 반사하기 위한 반사판을 가지고 있다.Accordingly, a liquid crystal display device having both a reflection and a transmission has been proposed as a device capable of appropriately selecting and using two modes according to a necessary situation. Both the reflective and transflective liquid crystal display devices have reflectors for reflecting external light.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 반사판을 가진 액정표시장치의 예로서, 반투과형 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a transflective liquid crystal display device will be described as an example of a liquid crystal display device having a reflection plate with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 반투과형 액정 표시 장치의 개념을 설명하기 위한 단면도로서, 스위칭(switching) 소자인 박막 트랜지스터(thin film transistor)(도시하지 않음)를 포함하는 하부 기판(10) 위에 화소 전극(20)이 형성되어 있다. 화소 전극(20)은 투과 전극(21)과 반사 전극(22)의 두 부분으로 이루어지는데, 반사 전극(22)은 내부에 홀(hole)이 형성되어 있으며, 반사 전극(22)의 홀 내에는 투과 전극(21)이 형성되어 있다. 투과 전극(21)은 인듐-틴-옥사이드(indium-tin-oxide ; ITO)나 인듐-징크-옥사이드(indium-zinc-oxide ; IZO)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 도전 물질로 이루어지며, 반사 전극(22)은 알루미늄(Al)과 같이 저항이 작고 반사율이 큰 물질로 이루어진다.FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a concept of a general transflective liquid crystal display, and includes a pixel electrode 20 on a lower substrate 10 including a thin film transistor (not shown) that is a switching element. Is formed. The pixel electrode 20 is composed of two parts, the transmissive electrode 21 and the reflective electrode 22. The reflective electrode 22 has a hole formed therein, and the hole of the reflective electrode 22 The transmissive electrode 21 is formed. The transmission electrode 21 is made of a transparent conductive material having a relatively high light transmittance, such as indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO). The reflective electrode 22 is made of a material having a low resistance and a high reflectance, such as aluminum (Al).

하부 기판(10) 상부에는 하부 기판(10)과 일정 간격을 가지고 상부 기판(30)이 평행하게 마주보며 배치되어 있으며, 상부 기판(30)의 내면에는 화소 전극(20)과 대응하는 위치에 컬러필터(color filter)(40)가 형성되어 있다. 컬러필터(40)는 적, 녹, 청의 세 가지 색으로 이루어지며, 하나의 색을 가진 컬러필터가 하나의 화소 전극(20)과 대응한다. 컬러필터(40) 하부에는 화소전극의 재질과 유사한 투명 도전 물질로 이루어진 공통 전극(50)이 형성되어 있다. 여기서, 도시하지 않았지만 상부 기판(30)의 각 컬러필터(40)의 사이에는 블랙 매트릭스(black matrix)가 위치하여 화소 이외의 영역에서 빛이 새는 것을 방지하고, 컬러필터(40)의 색을 구분한다.The upper substrate 30 is disposed to face the lower substrate 10 in parallel with the lower substrate 10 at a predetermined distance, and the inner surface of the upper substrate 30 is colored at a position corresponding to the pixel electrode 20. A color filter 40 is formed. The color filter 40 includes three colors of red, green, and blue, and a color filter having one color corresponds to one pixel electrode 20. A common electrode 50 formed of a transparent conductive material similar to the material of the pixel electrode is formed under the color filter 40. Although not shown, a black matrix is positioned between each color filter 40 of the upper substrate 30 to prevent light leakage from an area other than the pixel, and to distinguish colors of the color filter 40. do.

이어, 상부 기판(30)의 공통 전극(50)과 하부 기판(10)의 화소 전극(20) 사이에는 액정층(60)이 위치한다.Next, the liquid crystal layer 60 is positioned between the common electrode 50 of the upper substrate 30 and the pixel electrode 20 of the lower substrate 10.

두 기판(10, 30)의 바깥쪽에는 통상 제 1 및 제 2 위상차판(retardation film)(71, 72)이 각각 배치되어 있는데, 제 1 및 제 2 위상차판(71, 72)은 빛의 편광 상태를 바꾸는 기능을 한다. 여기서, 제 1 및 제 2 위상차판(71, 72)은 λ/4(λ=550 ㎚)에 해당하는 위상차를 가지는 것(quarter wave plate ; QWP)을 이용하여, 입사된 선평광을 원편광으로, 원편광을 선편광으로 바꾼다.Outside of the two substrates 10 and 30, first and second retardation films 71 and 72 are disposed, respectively. The first and second retardation plates 71 and 72 are polarized light. It changes the state. Here, the first and second retardation plates 71 and 72 have a phase difference corresponding to λ / 4 (λ = 550 nm) (quarter wave plate; QWP), and the incident linear flat light is converted into circularly polarized light. , Change the circularly polarized light into linearly polarized light.

제 1 및 제 2 위상차판(71, 72) 바깥쪽에는 하부 편광판(81)과 상부 편광판(82)이 각각 배치되어 있다. 여기서, 상부 편광판(82)의 광투과축은 하부 편광판(81)의 광투과축에 대하여 90도의 각을 가진다.The lower polarizing plate 81 and the upper polarizing plate 82 are disposed outside the first and second retardation plates 71 and 72, respectively. Here, the light transmission axis of the upper polarizing plate 82 has an angle of 90 degrees with respect to the light transmission axis of the lower polarizing plate 81.

또한, 하부 편광판(81)의 바깥쪽 즉, 하부 편광판(81)의 아래에는 백라이트(90)가 배치되어 있어 투과 모드시 광원으로 이용된다.In addition, the backlight 90 is disposed outside the lower polarizer 81, that is, below the lower polarizer 81, and thus is used as a light source in the transmission mode.

한편, 이러한 반투과형 액정 표시 장치는 일반적인 투과형액정 표시 장치와 마찬가지로 박막트랜지스터와 화소 전극이 배열된 하부의 어레이 기판을 제조하는 공정과 컬러필터 및 공통 전극을 포함하는 상부의 컬러필터 기판을 제조하는 공정, 그리고 제조된 두 기판의 배치와 액정 물질의 주입 및 봉지, 편광판 부착으로 이루어진 액정 셀(cell) 공정에 의해 형성된다.On the other hand, the transflective liquid crystal display device is a process of manufacturing a lower array substrate in which a thin film transistor and a pixel electrode are arranged like a general transmissive liquid crystal display device and a process of manufacturing an upper color filter substrate including a color filter and a common electrode. And a liquid crystal cell process consisting of the arrangement of the two substrates prepared, the injection and encapsulation of the liquid crystal material, and the attachment of the polarizing plate.

도 2는 도 1과 같은 개념을 가진 구체적인 반투과형 액정 표시 장치의 어레이 기판에 대한 평면도이고, 도 3은 도 2에서 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 자른 개략 단면에 대응하는 상부기판을 같이 도시한 단면도이다. 도면부호 중 도 1과 동일, 유사한 부분은 동일, 유사한 번호를 부여하였다.FIG. 2 is a plan view of an array substrate of a specific transflective liquid crystal display device having the same concept as that of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an upper substrate corresponding to a schematic cross section taken along a line III-III of FIG. 2. . The same or similar parts as in Fig. 1 in the reference numerals are given the same and similar numbers.

하판에는 게이트라인(gate line)(121)과 데이터라인(date line)(161)이 교차하여 화소영역을 정의하고, 두 라인(121)(161)의 교차영역 근처에는 게이트전극(122), 소스(source)전극(162), 드레인(drain)전극(163) 및 반도체층(141)으로 이루어진 박막트랜지스터가 위치하고 있다.A gate line 121 and a data line (date line) 161 intersect the lower plate to define a pixel area, and a gate electrode 122 and a source are located near the intersection area of the two lines 121 and 161. A thin film transistor including a source electrode 162, a drain electrode 163, and a semiconductor layer 141 is positioned.

드레인전극(163)은 콘택홀(contact hole)(171)을 통해 화소전극(200)과 접촉하고 있고, 화소전극의 하부에는 홀(183)이 형성된 반사판(도 3의 181)이 위치하고 있다.The drain electrode 163 is in contact with the pixel electrode 200 through a contact hole 171, and a reflecting plate (181 of FIG. 3) having a hole 183 is disposed under the pixel electrode.

이러한 종래의 어레이기판을 형성하는 방법은 기판(10)상에 게이트전극(122)을 포함하는 게이트라인(121)을 형성한다. 게이트라인(121)은 하나의 층으로 이루어질 수도 있고, 전도성을 고려하여 두 개의 적층금속층으로 이루어질 수도 있다.The conventional method of forming an array substrate forms a gate line 121 including a gate electrode 122 on the substrate 10. The gate line 121 may be formed of one layer or two laminated metal layers in consideration of conductivity.

상기 게이트라인(121)의 상부에 게이트절연층(124)을 형성하고,아일랜드(island)형상의 반도체층(141)을 형성한다. 반도체층(141) 상부에는 금속층을 증착하고 패터닝(patterning)하여 소스전극(162)을 가진 데이터라인(161)과 드레인전극(163) 및 반사판(181)을 형성한다. 반사판(181)은 게이트전극(121)형성과 동시에 형성되는 경우도 있다.A gate insulating layer 124 is formed on the gate line 121, and an island-shaped semiconductor layer 141 is formed. A metal layer is deposited and patterned on the semiconductor layer 141 to form a data line 161 having a source electrode 162, a drain electrode 163, and a reflecting plate 181. The reflective plate 181 may be formed at the same time as the gate electrode 121 is formed.

다음으로 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene; BCB)과 같은 투명유기절연층을 증착하고 패터닝하여 콘택홀(171)을 형성한 후, 투명도전성금속을 증착하여 이 콘택홀(171)을 통해 상기 드레인전극(163)과 접촉하는 화소전극(200)을 형성한다.Next, a transparent organic insulating layer such as benzocyclobutene (BCB) is deposited and patterned to form a contact hole 171, and then a transparent conductive metal is deposited to form the contact hole 171 through the drain electrode 163. ) Is formed to contact the pixel electrode 200.

상부기판은 기판(30)상에 블랙매트릭스(45)와 컬러필터(40)를 형성한 후, 투명도전성금속층으로 공통전극(50)을 형성하는 것으로 통상의 투과형 컬러필터기판과 유사하다고 할 수 있다.The upper substrate is similar to the conventional transmissive color filter substrate by forming the black matrix 45 and the color filter 40 on the substrate 30 and then forming the common electrode 50 with the transparent conductive metal layer. .

그런데, 이러한 구조의 반투과 액정표시장치에 있어서, 도 3에 도시한 바와 같이, Ⅰ방향으로 관찰하는 경우에는 대응하는 컬러필터(40)의 색이 디스플레이됨을 볼 수 있으나, Ⅱ방향과 같이, 기판과의 각이 작아질수록 빛의 경로는 반사되어 블랙매트릭스(45) 혹은 인접한 컬러필터층(40)으로 향하게 된다.By the way, in the transflective liquid crystal display device having such a structure, as shown in FIG. 3, it can be seen that the color of the corresponding color filter 40 is displayed when viewed in the I direction. As the angle between and decreases, the light path is reflected and directed toward the black matrix 45 or the adjacent color filter layer 40.

이에 따라 원하는 색이 표현되지 않거나, 휘도가 떨어지거나 색이동이 발생되는 문제점이 있다.Accordingly, there is a problem that the desired color is not expressed, the luminance is degraded, or color shift occurs.

이러한 문제는 상,하판의 조립공정시 미스얼라인(mis-align) 문제에 의해서도 발생될 수 있고, 이는 외부광원만을 이용하는 반사형 액정표시장치에도 그대로 적용되는 문제이다.This problem may also be caused by a mis-alignment problem in the assembly process of the upper and lower plates, and this problem is also applied to a reflective liquid crystal display device using only an external light source.

본 발명은 위에 설명한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 색이동 현상을 저감시킬 수 있는 반사전극을 가진 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having a reflective electrode that can reduce the color shift phenomenon and a manufacturing method thereof.

본 발명의 기타 장점들은 추후 설명되는 실시예를 통해 이해될 수 있을 것이다.Other advantages of the present invention will be understood through the embodiments described later.

도 1은 일반적인 반투과형 액정 표시 장치의 단면도.1 is a cross-sectional view of a general transflective liquid crystal display device.

도 2는 일반적인 반투과형 액정 표시 장치의 어레이 기판에 대한 평면도.2 is a plan view of an array substrate of a general transflective liquid crystal display device;

도 3은 도 2에서 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 자른 단면과 이에 대응하는 상부기판을 동시에 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view simultaneously taken along the line III-III of FIG. 2 and an upper substrate corresponding thereto.

도 4는 본 발명에 따른 반투과형 액정 표시 장치의 어레이 기판에 대한 평면도4 is a plan view of an array substrate of a transflective liquid crystal display according to the present invention.

도 5는 도 4에서 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 자른 단면과 이에 대응하는 상부기판을 동시에 도시한 단면도.FIG. 5 is a cross-sectional view simultaneously illustrating a cross section taken along the line VV of FIG. 4 and an upper substrate corresponding thereto. FIG.

도 6은 도 4에서 Ⅵ-Ⅵ선을 따라 자른 단면과 이에 대응하는 상부기판을 동시에 도시한 단면도.FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. 4 and an upper substrate corresponding thereto at the same time. FIG.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명** Brief description of symbols for the main parts of the drawings *

110: 하부기판181: 반사판110: lower substrate 181: reflector

140: 컬러필터145: 블랙매트릭스140: color filter 145: black matrix

200: 화소전극50: 공통전극200: pixel electrode 50: common electrode

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 반사판위에 칼라필터층이 형성된 어레이기판을 제공하는 것을 기본정신으로 하고 있다.In order to achieve the above object, the present invention has a basic spirit to provide an array substrate having a color filter layer formed on a reflecting plate.

각 컬러필터층 사이에는 블랙매트릭스가 위치하고 있고, 바람직하게 이 블랙매트릭스는 빛을 차단할 수 있는 안료가 혼합된 유기절연막이다.A black matrix is positioned between each color filter layer. Preferably, the black matrix is an organic insulating film in which a pigment capable of blocking light is mixed.

이러한 어레이기판에 대응되는 상판에는 컬러필터층이 존재하지 않으며 단지 공통전극만 형성되어 있다.There is no color filter layer on the top plate corresponding to the array substrate, and only the common electrode is formed.

본 발명의 일측면에 따르면, 투명기판과; 상기 투명기판상에 위치한 게이트전극과; 상기 게이트전극상에 위치한 게이트절연층과; 상기 게이트절연층상에 상기 게이트전극의 상부에 위치한 액티브층과; 상기 액티브층의 상부에 위치한 소스 및 드레인전극과; 상기 게이트절연층상의 화소영역에 위치한 반사판과; 상기 반사판 상부의 컬러필터와; 상기 컬러필터와 접하고 상기 액티브층의 상부에 위치한 블랙매트릭스와; 상기 드레인전극과 연결되고 상기 컬러필터층 상부에 위치한 투명전극을 포함하는 액정표시장치용 어레이기판을 제공한다.According to one aspect of the invention, the transparent substrate; A gate electrode disposed on the transparent substrate; A gate insulating layer on the gate electrode; An active layer on the gate insulating layer, wherein the active layer is located above the gate electrode; Source and drain electrodes disposed on the active layer; A reflection plate positioned in the pixel region on the gate insulating layer; A color filter on the reflection plate; A black matrix in contact with the color filter and positioned above the active layer; The present invention provides an array substrate for a liquid crystal display device including a transparent electrode connected to the drain electrode and positioned above the color filter layer.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 제 1 영역과 제 2 영역을 가진 기판과; 상기 제 1 영역상에 위치한 스위칭소자와; 상기 제 2 영역상에 위치한 반사판과; 상기 스위칭소자의 상에 위치한 블랙매트릭스와; 상기 반사판상에 위치한 컬러필터와; 상기 제 2 영역의 컬러필터상에 상기 스위칭소자와 연결된 투명전극을 포함하는 액정표시장치용 어레이기판을 제공한다.According to another aspect of the invention, a substrate having a first region and a second region; A switching element located on said first region; A reflection plate located on the second area; A black matrix on the switching element; A color filter positioned on the reflector; An array substrate for a liquid crystal display device including a transparent electrode connected to the switching element is provided on the color filter of the second region.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 기판에 게이트전극을 형성하는 단계와; 상기 게이트전극상에 게이트절연층을 형성하는 단계와; 상기 게이트절연층상에 액티브층을 형성하는 단계와; 상기 액티브층상에 금속층을 증착하고 패터닝하여 소스전극, 드레인전극, 반사판을 형성하는 단계와;상기 액티브층, 드레인전극상에 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 반사판상에 상기 블랙매트릭스와 인접한 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터상에 상기 드레인전극과 접촉하는 투명전극을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판제조방법을 제공한다.According to another aspect of the invention, forming a gate electrode on the substrate; Forming a gate insulating layer on the gate electrode; Forming an active layer on the gate insulating layer; Depositing and patterning a metal layer on the active layer to form a source electrode, a drain electrode, and a reflecting plate; forming a black matrix on the active layer and the drain electrode; Forming a color filter adjacent to the black matrix on the reflecting plate; It provides a method for manufacturing an array substrate for a liquid crystal display device comprising the step of forming a transparent electrode on the color filter in contact with the drain electrode.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 기판의 제 1영역에 스위칭소자를 형성하는 단계와; 상기 기판의 제 2 영역에 반사판을 형성하는 단계와; 상기 스위칭소자상부에 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 반사판상에 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터상에 상기 스위칭소자와 연결된 투명전극을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판제조방법을 제공한다.According to another aspect of the invention, forming a switching device in the first region of the substrate; Forming a reflecting plate in a second region of the substrate; Forming a black matrix on the switching element; Forming a color filter on the reflecting plate; It provides an array substrate manufacturing method for a liquid crystal display device comprising the step of forming a transparent electrode connected to the switching element on the color filter.

상기 블랙매트릭스는 유기절연막이며 바람직하게는벤조사이클로부텐(benzocyclobutene; BCB)이나 감광성 아크릴(acryl)계열이다.The black matrix is an organic insulating film, preferably benzocyclobutene (BCB) or photosensitive acryl series.

상기 각 반사판에 개구부가 형성된 경우에는 반투과형 액정표시장치용 어레이기판으로 활용할 수 있다.When openings are formed in each of the reflecting plates, the reflecting plate may be used as an array substrate for a transflective liquid crystal display device.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 반투과형 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a transflective liquid crystal display and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 반사판을 가진 액정표시장치의 예로서, 반투과형 액정 표시 장치의 어레이 기판에 대한 평면도이고, 도 5는 도 4에서 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 자른 단면도이다. 도 4는 도 2와 거의 유사한 평면도이나, 데이터라인(161) 및 게이트라인(121) 및 박막트랜지스터(T)를 커버하는 블랙매트릭스(145)가 형성되어 있고, 블랙매트릭스(145)의 사이에는 컬러필터(140)이 위치하고 있는 점이 다르다고 볼 수 있다.4 is a plan view of an array substrate of a transflective liquid crystal display device as an example of a liquid crystal display device having a reflective plate according to the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4. 4 is a plan view similar to that of FIG. 2, but a black matrix 145 is formed to cover the data line 161, the gate line 121, and the thin film transistor T, and a color is formed between the black matrix 145. It can be seen that the location where the filter 140 is located is different.

도 5에서 명확하게 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 어레이기판(300)에는 컬러필터층(140)이 반사판(181)위에 위치하고 있으며, 각 컬러필터층(140) 또는 각 화소영역을 구분하고, 박막트랜지스터로의 빛을 차단하는 블랙매트릭스(145)는 각 컬러필터층(140)의 테두리를 따라 박막트랜지스터 및 게이트배선, 데이터배선을 커버(cover)하고 있다.As can be clearly seen in FIG. 5, in the array substrate 300 according to the present invention, the color filter layer 140 is positioned on the reflecting plate 181, and each color filter layer 140 or each pixel region is divided into a thin film. The black matrix 145 which blocks light to the transistor covers the thin film transistor, the gate wiring, and the data wiring along the edge of each color filter layer 140.

도 5를 참조하여 본 발명에 따른 어레이기판을 제조하는 방법을 설명하면, 먼저 기판(110)상에 통상 세정작업을 하고, 버퍼(buffer)층(미도시)을 형성한 후, 게이트배선(도 4의 121)과 일체로 연결된 게이트전극(122)을 형성한다.Referring to FIG. 5, a method of manufacturing an array substrate according to an exemplary embodiment of the present invention will be described. First, a normal cleaning operation is performed on a substrate 110, a buffer layer (not shown) is formed, and then gate wiring (FIG. A gate electrode 122 connected integrally with 121 of 4 is formed.

이때 게이트전극(122)은 크롬, 구리, 알미늄 등을 사용한 이중금속층으로 형성할 수도 있다.In this case, the gate electrode 122 may be formed of a double metal layer using chromium, copper, aluminum, or the like.

상기 게이트전극(122)위의 기판전면에 걸쳐 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiO2)과 같은 절연층으로 게이트절연층(130)을 형성한다.The gate insulating layer 130 is formed of an insulating layer such as a silicon nitride film (SiN x ) or a silicon oxide film (SiO 2 ) over the entire surface of the substrate on the gate electrode 122.

이후, 반도체층을 증착하고 패터닝하여 아일랜드형상의 액티브(active)층(141)을 형성하고, 보론(B)이나 인(P)와 같은 불순물을 도핑하여 오믹 콘택(ohmic contact)층(151, 152)을 형성한다.Thereafter, the semiconductor layer is deposited and patterned to form an island-shaped active layer 141, and dopants such as boron (B) and phosphorus (P) are doped to form ohmic contact layers 151 and 152. ).

이후, 알미늄이나 알미늄함금과 같이 반사특성이 뛰어난 금속으로 데이터배선(도 4의 161)과 연결된 소스전극(162)과 이와 이격된 드레인전극(163)을 형성함과 동시에 화소영역에는 개구부(183)가 형성된 반사판(181)을 형성한다. 반사판(181)은 별도의 마스크를 사용하여 금속이 아닌 반사특성이 뛰어난 재질을 사용하여 형성하는 것도 가능하다. 개구부(183)는 기판(110)의 하부로부터의 배광장치(미도시)에서 입사되는 빛이 통과하기 위한 것으로 투과모드일 때 사용된다. 따라서 반사형 액정표시장치에서의 반사판(181)은 개구부(183)가 없는 형상이다.Subsequently, a source electrode 162 connected to the data wiring (161 of FIG. 4) and a drain electrode 163 spaced apart from the data wiring (161 of FIG. 4) are formed of a metal having excellent reflection characteristics such as aluminum or aluminum alloy, and an opening 183 is formed in the pixel region. The reflection plate 181 is formed. The reflective plate 181 may be formed using a material having excellent reflection characteristics rather than metal using a separate mask. The opening 183 is used to pass the light incident from the light distribution device (not shown) from the bottom of the substrate 110 and is used in the transmissive mode. Accordingly, the reflective plate 181 of the reflective liquid crystal display device has no opening 183.

한편, 여기서 다른 예로서, 게이트절연층(130)을 투명절연층으로 할 경우에는 상기 반사판(181)은 게이트배선(121) 형성시 동시에 형성할 수도 있다.As another example, when the gate insulating layer 130 is a transparent insulating layer, the reflective plate 181 may be formed at the same time when the gate wiring 121 is formed.

이후, 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene; BCB)이나 감광성 아크릴계열의 유기절연층을 증착하고 패터닝하여 블랙매트릭스(145)를 형성한다. 이때 유기절연층을 블랙매트릭스(145)로 사용하기 위해서는 블랙계통의 유기안료(orgonicpigment)를 첨가한다.Subsequently, a black matrix 145 is formed by depositing and patterning an organic insulating layer of benzocyclobutene (BCB) or photosensitive acrylic series. At this time In order to use the organic insulating layer as the black matrix 145, an organic pigment (orgonic pigment) of black color is added.

유기안료의 바람직한 예로는, 예컨대 프탈로시아닌 블루(phthalo cyanine blue), 프탈로시아닌 그린(phthalo cyanine green) 등의 프탈로시아닌(phthalo cyanine) 안료; 크로모프탈 레드(chromophthal red)등의 안트라퀴논(anthraquinone) 안료; 보르도(Bordeaux) 10B와 레이크 레드(lake red) 등의 아조(azo) 또는 아조-레이크(azo-lake) 안료; 이르가진(Irgazine) 옐로우(yellow) 등의 이소인돌리논(iso indolinone) 안료; 디옥산 바이올렛(dioxane violet) 등의 디옥산 안료; 나프톨 그린(naphthol green)B 등의 니트로소(nitroso) 안료; 니트로(nitro) 안료; 피코크블루 레이크(peacock blue lake)와 로다민 레이크(rodanine lake) 등의 레이크(lake) 안료; 퀴나크리돈(quinacridone) 안료; 퀴나크리딘(quinacridine) 안료와 같이 고열저항성과 고견뢰도(高堅牢度)를 보유한 안료가 포함된다.Preferred examples of the organic pigment include, for example, phthalo cyanine pigments such as phthalo cyanine blue and phthalo cyanine green; Anthraquinone pigments such as chromophthal red; Azo or azo-lake pigments such as Bordeaux 10B and lake red; Iso indolinone pigments such as Irazine yellow; Dioxane pigments such as dioxane violet; Nitroso pigments such as naphthol green B; Nitro pigments; Lake pigments such as peacock blue lake and rodanine lake; Quinacridone pigments; Pigments with high heat resistance and high fastness, such as quinacridine pigments, are included.

블랙매트릭스(145)는 도 4에 도시한 바와 같이, 게이트배선(121), 데이터배선(161) 및 박막트랜지스터(T)를 커버하도록 한다.As illustrated in FIG. 4, the black matrix 145 covers the gate wiring 121, the data wiring 161, and the thin film transistor T.

이후, 컬러필터층을 증착하고 패터닝하여 블랙매트릭스(145)로 둘러쌓여진 화소영역에 컬러필터(140)을 형성한다. 컬러필터(140)는 적, 녹, 청의 색으로 이루어지며, 하나의 색이 하나의 화소 영역에 위치한다.Thereafter, the color filter layer is deposited and patterned to form the color filter 140 in the pixel region surrounded by the black matrix 145. The color filter 140 is composed of red, green, and blue colors, and one color is located in one pixel area.

이후, 상기 블랙매트릭스(145)를 패터닝하여 콘택홀(171)을 형성하고 ITO나 IZO와 같은 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극(200)을 컬러필터(140)상의 화소영역에 형성한다.Thereafter, the black matrix 145 is patterned to form a contact hole 171, and a pixel electrode 200 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO is formed in the pixel area on the color filter 140.

도 6은 도 4의 Ⅵ-Ⅵ선에 따른 어레이기판의 단면과 이에 대응하여 합착되는 상부기판을 동시에 도시한 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view simultaneously showing a cross section of the array substrate according to line VI-VI of FIG. 4 and an upper substrate bonded thereto correspondingly.

하부기판(110)에 컬러필터(140)가 형성되므로 상부기판(30)에는 컬러필터가 없고, 단지 ITO 또는 IZO와 같은 투명도전성물질로 이루어진 공통전극(50)이 형성된다. 이후, 상,하부기판을 합착한 후 액정(400)을 주입하여 액정표시장치는 완성된다.Since the color filter 140 is formed on the lower substrate 110, there is no color filter on the upper substrate 30, and only the common electrode 50 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO is formed. Thereafter, the upper and lower substrates are bonded to each other, and then the liquid crystal 400 is injected to complete the liquid crystal display.

이러한 구조를 가진 액정표시장치에서 외부광의 경로를 살펴보면 반사판(181)에 거의 수직으로 들어오는 외부광(Ⅶ)뿐 아니라, 상부기판(30)에 거의 평행하게 입사되는 외부광(Ⅷ)의 경우에도 반사판(181)에서 반사되는 컬러필터의 색이 변화지 않게 되므로 색이동현상이 저감 또는 제거될 수 있게 된다.Looking at the path of the external light in the liquid crystal display having such a structure, not only the external light that enters substantially perpendicularly to the reflecting plate 181, but also the external light incident almost in parallel to the upper substrate 30 is reflected. Since the color of the color filter reflected at 181 does not change, color shift may be reduced or eliminated.

이상에서 설명한 실시예는, 앞에서 언급한 것과 같이, 반사형액정표시장치에도 그대로 적용할 수 있다.As described above, the embodiments described above can be applied to the reflective liquid crystal display device as it is.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 반사판을 가진 액정표시장치에서는 반사판위에 컬러필터를 적층하는 구조를 취하고 있으므로, 시야각변동에 따른 색이동을 저감 또는 제거할 수 있는 이점이 있다.As described above, the liquid crystal display device having the reflecting plate according to the present invention has a structure in which a color filter is stacked on the reflecting plate, thereby reducing or eliminating color shift due to a change in viewing angle.

더우기 종래에 컬러필터가 상판에 형성된 경우에 발생하던 화소전극과 컬러필터사이에 발생할 수 있는 오정렬(mis-align)을 방지할 수 있으므로, 색이동현상은 더욱 저감될 수 있다.Furthermore, since mis-alignment that may occur between the pixel electrode and the color filter, which occurs when the color filter is formed on the top plate, can be prevented, the color shift phenomenon can be further reduced.

Claims (14)

제 1 기판;A first substrate; 상기 제 1 기판 상부에 형성되어 있으며 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선;A gate line and a data line formed on the first substrate and crossing each other to define a pixel area; 상기 게이트 배선을 덮고 있는 게이트 절연막;A gate insulating film covering the gate wiring; 상기 게이트 배선 및 상기 데이터 배선과 연결되어 있는 박막 트랜지스터;A thin film transistor connected to the gate line and the data line; 상기 박막 트랜지스터를 덮고있는 보호층;A protective layer covering the thin film transistor; 상기 게이트 절연막 상부의 화소 영역에 위치하는 반사판;A reflection plate positioned in the pixel area above the gate insulating layer; 상기 반사판 상부에 형성되어 있는 컬러필터;A color filter formed on the reflective plate; 상기 컬러필터 상부에 형성되고, 상기 박막 트랜지스터와 연결된 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극;A pixel electrode formed on the color filter and made of a transparent conductive material connected to the thin film transistor; 상기 제 1 기판과 이격되어 대향하는 제 2 기판;A second substrate spaced apart from and opposed to the first substrate; 상기 제 2 기판의 대향면에 형성된 투명한 공통 전극;A transparent common electrode formed on an opposite surface of the second substrate; 상기 화소 전극과 상기 공통 전극 사이에 주입되어 있는 액정층A liquid crystal layer injected between the pixel electrode and the common electrode 을 포함하는 액정 표시 장치.Liquid crystal display comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호층은 유기절연물질로 이루어진 액정 표시 장치.The protective layer is made of an organic insulating material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호층은 블랙안료가 혼합된 액정 표시 장치.The protective layer is a liquid crystal display of black pigment mixed. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호층은 BCB 또는 아크릴인 액정 표시 장치.The protective layer is BCB or acrylic liquid crystal display device. 화소영역을 가진 투명기판과;A transparent substrate having a pixel region; 상기 투명기판상에 위치한 게이트전극과;A gate electrode disposed on the transparent substrate; 상기 게이트전극상에 위치한 게이트절연층과;A gate insulating layer on the gate electrode; 상기 게이트절연층상에 상기 게이트전극의 상부에 위치한 액티브층과;An active layer on the gate insulating layer, wherein the active layer is located above the gate electrode; 상기 액티브층의 상부에 위치한 소스 및 드레인전극과;Source and drain electrodes disposed on the active layer; 상기 게이트절연층상의 상기 화소영역에 위치한 반사판과;A reflection plate positioned in the pixel region on the gate insulating layer; 상기 반사판 상부의 컬러필터와;A color filter on the reflection plate; 상기 컬러필터를 감싸며, 상기 액티브층의 상부에 위치한 블랙매트릭스와;A black matrix surrounding the color filter and positioned above the active layer; 상기 드레인전극과 연결되고 상기 컬러필터층 상부에 위치한 투명전극A transparent electrode connected to the drain electrode and positioned on the color filter layer; 을 포함하는 액정표시장치용 어레이기판.Array substrate for a liquid crystal display device comprising a. 제 1 영역과 제 2 영역을 가진 기판과;A substrate having a first region and a second region; 상기 제 1 영역상에 위치한 스위칭소자와;A switching element located on said first region; 상기 제 2 영역상에 위치한 반사판과;A reflection plate located on the second area; 상기 스위칭소자의 상에 위치한 블랙매트릭스와;A black matrix on the switching element; 상기 반사판상에 위치한 컬러필터와;A color filter positioned on the reflector; 상기 제 2 영역의 컬러필터상에 상기 스위칭소자와 연결된 투명전극A transparent electrode connected to the switching element on the color filter of the second region; 을 포함하는 액정표시장치용 어레이기판.Array substrate for a liquid crystal display device comprising a. 제 5 항과 제 6 항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 5 and 6, 상기 블랙매트릭스는 블랙안료가 혼합된 유기절연막인 어레이기판.The black matrix is an array substrate, an organic insulating film mixed with black pigment. 제 5 항과 제 6 항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 5 and 6, 상기 화소전극은 상기 블랙매트릭스에 형성된 콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 연결된 어레이기판.And the pixel electrode is connected to the drain electrode through a contact hole formed in the black matrix. 제 1 기판 상부에 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선을 형성하는 단계;Forming a gate line and a data line intersecting the first substrate to define a pixel area; 상기 게이트 배선 및 상기 데이터 배선과 연결되어 있는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;Forming a thin film transistor connected to the gate line and the data line; 상기 기판의 화소영역에 반사판을 형성하는 단계;Forming a reflector on the pixel region of the substrate; 상기 박막 트랜지스터를 덮는 보호층을 형성하는 단계;Forming a protective layer covering the thin film transistor; 상기 반사판 상부에 컬러필터를 형성하는 단계;Forming a color filter on the reflective plate; 상기 박막 트랜지스터와 연결되어 있으며, 상기 컬러필터 상부에 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극을 형성하는 단계;Forming a pixel electrode connected to the thin film transistor and formed of a transparent conductive material on the color filter; 제 2 기판에 투명한 공통 전극을 형성하는 단계;Forming a transparent common electrode on the second substrate; 상기 화소전극이 형성된 제 1 기판과 상기 공통전극이 형성된 제 2 기판을 대향시키는 단계;Opposing a first substrate on which the pixel electrode is formed and a second substrate on which the common electrode is formed; 상기 대향한 화소전극과 공통전극 사이에 액정층을 형성하는 단계Forming a liquid crystal layer between the opposite pixel electrode and the common electrode 를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.Method of manufacturing a liquid crystal display comprising a. 기판에 게이트전극을 형성하는 단계와;Forming a gate electrode on the substrate; 상기 게이트전극상에 게이트절연층을 형성하는 단계와;Forming a gate insulating layer on the gate electrode; 상기 게이트절연층상에 액티브층을 형성하는 단계와;Forming an active layer on the gate insulating layer; 상기 액티브층상에 금속층을 증착하고 패터닝하여 소스전극, 드레인전극, 반사판을 형성하는 단계와;Depositing and patterning a metal layer on the active layer to form a source electrode, a drain electrode, and a reflector; 상기 액티브층, 드레인전극상에 절연 블랙매트릭스를 형성하는 단계와;Forming an insulating black matrix on the active layer and the drain electrode; 상기 반사판상에 상기 블랙매트릭스와 인접한 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a color filter adjacent to the black matrix on the reflecting plate; 상기 컬러필터상에 상기 드레인전극과 접촉하는 투명전극을 형성하는 단계Forming a transparent electrode on the color filter in contact with the drain electrode 를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판제조방법Array substrate manufacturing method for a liquid crystal display device comprising a 기판의 제 1영역에 스위칭소자를 형성하는 단계와;Forming a switching device in the first region of the substrate; 상기 기판의 제 2 영역에 반사판을 형성하는 단계와;Forming a reflecting plate in a second region of the substrate; 상기 스위칭소자상부에 절연 블랙매트릭스를 형성하는 단계와;Forming an insulating black matrix on the switching element; 상기 반사판상에 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a color filter on the reflecting plate; 상기 컬러필터상에 상기 스위칭소자와 연결된 투명전극을 형성하는 단계Forming a transparent electrode connected to the switching element on the color filter 를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판제조방법.Array substrate manufacturing method for a liquid crystal display device comprising a. 제 10 항과 제 11 항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 10 and 11, 상기 블랙매트릭스는 블랙안료가 혼합된 유기절연막인 어레이기판 제조방법The black matrix is an array substrate manufacturing method of an organic insulating film mixed with black pigment 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 유기절연막은 벤조사이클로붙텐(benzocyclobutene; BCB)이나 감광성 아크릴계열인 어레이기판 제조방법The organic insulating film is a benzocyclobutene (BCB) or photosensitive acrylic array method of manufacturing an array substrate 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 화소전극을 상기 스위칭소자에 연결하기 위하여 상기 블랙매트릭스에 콘택홀을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 어레이기판 제조방법And forming a contact hole in the black matrix to connect the pixel electrode to the switching element.
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KR100623814B1 (en) * 2003-05-01 2006-09-19 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Liquid crystal display and electronic device

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