KR20030047022A - A method for fabricating color filter substrate for LCD - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for fabricating a color filter substrate for a liquid crystal display is provided to simplify a color filter substrate fabrication process to improve product yield. CONSTITUTION: A black matrix(106) and color filters(108a,108b,108c) are formed on a substrate(100). An overcoat layer(126) is formed on the overall surface of the substrate. A transparent common electrode(118) is formed on the color filter. An alignment film(120) is formed on the common electrode. A plurality of photosensitive organic layer patterns are formed on the alignment film using ink jet. Light is irradiated onto the bottom of the substrate on which the plurality of photosensitive organic layer patterns are formed. The photosensitive organic layer patterns exposed to the light are developed, to form spacers(124) on the black matrix.

Description

액정표시장치용 컬러필터 기판 형성방법{A method for fabricating color filter substrate for LCD}A method for fabricating color filter substrate for LCD}

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 액정표시장치용 컬러필터기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and to a manufacturing method of a color filter substrate for a liquid crystal display device.

이하, 도 1을 참조하여 액정표시장치에 구성되는 액정패널의 구조와 이에 따른 동작특성을 개략적으로 설명한다.Hereinafter, a structure and operation characteristics thereof according to the liquid crystal panel of the liquid crystal display will be described with reference to FIG. 1.

도 1은 일반적인 액정패널을 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing a general liquid crystal panel.

도시한 바와 같이, 액정패널은 블랙매트릭스(6)와 서브컬러필터(적, 녹, 청)(8)를 포함한 컬러필터(7)와, 상기 컬러필터(7)상에 투명한 공통전극(18)이 형성된 상부기판(5)과, 화소영역(P)과 화소영역 상에 형성된 화소전극(17)과 스위칭소자(T)를 포함한 어레이배선이 형성된 하부기판(22)으로 구성되며, 상기 상부기판(5)과 하부기판(22) 사이에는 액정(14)이 충진 되어있다.As shown, the liquid crystal panel includes a color filter 7 including a black matrix 6 and a sub-color filter (red, green, blue) 8 and a common electrode 18 transparent on the color filter 7. The upper substrate 5 formed thereon, the lower substrate 22 on which the pixel region P and the array wiring including the switching electrode T and the pixel electrode 17 formed on the pixel region are formed. The liquid crystal 14 is filled between 5) and the lower substrate 22.

상기 하부기판(22)은 어레이기판이라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스형태(matrix type)로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터를 교차하여 지나가는 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 형성된다.The lower substrate 22 is also referred to as an array substrate, and the thin film transistor T, which is a switching element, is positioned in a matrix type, and the gate wiring 13 and the data wiring 15 passing through the plurality of thin film transistors cross each other. Is formed.

상기 화소영역(P)은 상기 게이트배선(13)과 데이터배선(15)이 교차하여 정의되는 영역이다. 상기 화소영역(P)상에 형성되는 화소전극(17)은 인듐-틴-옥사이드(indium-tin-oxide : ITO)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명도전성 금속을 사용한다.The pixel area P is an area defined by the gate line 13 and the data line 15 intersecting each other. The pixel electrode 17 formed on the pixel region P uses a transparent conductive metal having relatively high light transmittance, such as indium-tin-oxide (ITO).

전술한 바와 같은 구성을 가지고 제작되는 액정패널은 이하, 흐름도 2를 참조하여 액정패널의 제작순서를 간략히 설명한다.A liquid crystal panel manufactured with the above-described configuration will be briefly described below with reference to flowchart 2.

도 2는 일반적으로 적용되는 액정셀의 제작 공정을 도시한 흐름도로써, st1 단계에서는 먼저 하부기판을 준비한다. 상기 하부기판에는 스위칭 소자로 다수개의 박막 트랜지스터(TFT)가 배열되어 있고, 상기 TFT와 일대 일 대응하게 화소전극이 형성되어 있다.2 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a liquid crystal cell that is generally applied. In the st1 step, a lower substrate is prepared first. A plurality of thin film transistors (TFTs) are arranged on the lower substrate as switching elements, and pixel electrodes are formed in one-to-one correspondence with the TFTs.

st2 단계는 상기 하부기판 상에 배향막을 형성하는 단계이다.The st2 step is to form an alignment layer on the lower substrate.

상기 배향막 형성은 고분자 박막의 도포와 러빙(Rubbing) 공정을 포함한다. 상기 고분자 박막은 통상 배향막이라 하고, 하부기판 상의 전체에 균일한 두께로 증착되어야 하고, 러빙 또한 균일해야 한다.The alignment layer formation includes a coating and rubbing process of the polymer thin film. The polymer thin film is generally referred to as an alignment layer, and must be deposited with a uniform thickness over the entire lower substrate, and rubbing should be uniform.

상기 러빙은 액정의 초기 배열방향을 결정하는 주요한 공정으로, 상기 배향막의 러빙에 의해 정상적인 액정의 구동이 가능하고, 균일한 디스플레이(Display)특성을 갖게 한다.The rubbing is a main process of determining the initial alignment direction of the liquid crystal. The rubbing of the alignment layer enables the normal liquid crystal to be driven and has a uniform display characteristic.

일반적으로, 배향막은 유기질의 유기배향막인 폴리이미드(polyimide)계열이 주로 쓰이고 있다.In general, a polyimide series, which is an organic organic alignment layer, is mainly used for the alignment layer.

러빙공정은 천을 이용하여 배향막을 일정한 방향으로 문질러주는 것을 말하며, 러빙 방향에 따라 액정 분자들이 정렬하게 된다.The rubbing process refers to rubbing the alignment layer in a predetermined direction using a cloth, and the liquid crystal molecules are aligned according to the rubbing direction.

st3 단계는 씰 패턴(seal pattern)을 인쇄하는 공정을 나타낸다.The st3 step represents a process of printing a seal pattern.

액정 셀에서 씰 패턴은 액정 주입을 위한 갭 형성과 주입된 액정을 새지 않게 하는 두 가지 기능을 한다. 상기 씰 패턴은 열경화성 수지를 일정하게 원하는패턴으로 형성시키는 공정으로, 스크린 인쇄법이 주류를 이루고 있다.The seal pattern in the liquid crystal cell has two functions of forming a gap for injecting the liquid crystal and preventing leaking of the injected liquid crystal. The seal pattern is a step of uniformly forming a thermosetting resin into a desired pattern, and screen printing has become mainstream.

st4 단계는 스페이서(Spacer)를 산포하는 공정을 나타낸다.st4 step is to remove spacer It shows the process of spreading.

액정 셀의 제조공정에서 상부기판과 하부기판 사이의 갭을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서가 사용된다. 따라서, 상기 스페이서 산포시 하부기판에 대해 균일한 밀도로 산포해야 하며, 산포 방식은 크게 알콜 등에 스페이서를 혼합하여 분사하는 습식 산포법과 스페이서 만을 산포하는 건식 산포법으로 나눌 수 있다.In the manufacturing process of the liquid crystal cell, a spacer having a constant size is used to maintain a precise and uniform gap between the upper substrate and the lower substrate. Therefore, the spacer should be dispersed at a uniform density with respect to the lower substrate, and the dispersion method can be broadly divided into a wet dispersion method in which a spacer is mixed by spraying alcohol and the like and a dry dispersion method in which only the spacer is dispersed.

또한, 건식 산포에는 정전기를 이용하는 정전 산포식과 기체의 압력을 이용하는 제전 산포식으로 나뉘는데, 정전기에 취약한 구조를 갖고 있는 액정 셀에서는 제전 산포법을 많이 사용한다.In addition, dry dispersion is divided into electrostatic spraying using static electricity and antistatic spraying using gas pressure. In the liquid crystal cell having a structure susceptible to static electricity, the electrostatic spraying method is frequently used.

상기 스페이서 산포 공정이 끝나면, 컬러필터 기판인 상부기판과 박막 트랜지스터 배열 기판인 하부기판의 합착공정으로 진행된다(st5).After the spacer spreading process is completed, the process proceeds to the bonding process of the upper substrate as the color filter substrate and the lower substrate as the thin film transistor array substrate (st5).

상부기판과 하부기판의 합착 배열은 각 기판의 설계시 주어지는 마진(Margin)에 의해 결정되는데, 보통 수 μm의 정밀도가 요구된다. 두 기판의 합착 오차범위를 벗어나면, 빛이 새어나오게 되어 액정 셀의 구동시 원하는 화질 특성을 기대할 수 없다.The joining arrangement of the upper substrate and the lower substrate is determined by the margin given in the design of each substrate, and usually a precision of several μm is required. If the two substrates are out of the bonding error range, light leaks out, so that the desired image quality characteristics cannot be expected when the liquid crystal cell is driven.

st6 단계는 상기 st1 내지 st5 단계에서 제작된 액정 셀을 단위 셀로 절단하는 공정이다. 일반적으로 액정 셀은 대면적의 유리기판에 다수개의 액정 셀을 형성한 후 각각 하나의 액정 셀로 분리하는 공정을 거치게 되는데, 이 공정이 셀 절단 공정이다.The st6 step is a step of cutting the liquid crystal cell prepared in the st1 to st5 step into a unit cell. In general, a liquid crystal cell undergoes a process of forming a plurality of liquid crystal cells on a large area glass substrate and then separating them into a single liquid crystal cell, which is a cell cutting process.

초기 액정 표시장치의 제조공정에서는 여러 셀을 동시에 액정주입후 셀단위로 절단하는 공정을 진행하였으나, 셀 크기가 증가함에 따라 단위 셀로 절단한 후, 액정을 주입하는 방법을 사용한다.In the initial manufacturing process of the liquid crystal display device, a process of cutting several cells at the same time and then cutting them into cell units is performed. However, as cell sizes increase, the cells are cut into unit cells and then a liquid crystal is injected.

셀 절단 공정은 유리기판 보다 경도가 높은 다이아몬드 재질의 펜으로 기판 표면에 절단 선을 형성하는 스크라이브(Scribe) 공정과 힘을 가해 절단하는 브레이크(Break) 공정으로 이루어진다.The cell cutting process is composed of a diamond pen having a hardness higher than that of a glass substrate, and a scribe process for forming a cutting line on the surface of the substrate and a break process for applying force.

st7 단계는 각 단위 셀로 절단된 액정 셀에 액정을 주입하는 단계이다.The st7 step is a step of injecting liquid crystal into the liquid crystal cell cut into each unit cell.

단위 액정 셀은 수백 cm2의 면적에 수 μm의 갭을 갖는다. 따라서, 이런 구조의 셀에 효과적으로 액정을 주입하는 방법으로 셀 내외의 압력 차를 이용한 진공 주입법이 가장 널리 이용된다.The unit liquid crystal cell has a gap of several μm in an area of several hundred cm 2 . Therefore, the vacuum injection method using the pressure difference between the inside and outside of the cell is most widely used as a method of effectively injecting the liquid crystal into the cell of such a structure.

전술한 바와 같은 공정 중 상기 스페이서는 설명한 바와 같이 주로 별도의 규격화된 스페이서를 사용하나, 이 방법은 스페이서를 산포하는 방법상의 제약이 많다.In the above-described process, the spacer mainly uses a separate standardized spacer as described, but this method has many limitations in the method of dispersing the spacer.

따라서, 기판의 제작공정 중 스페이서를 패턴하여 형성하는 방법이 많이 연구되고 있다.Therefore, many methods of patterning and forming spacers during the manufacturing process of the substrate have been studied.

기판에 직접 패턴되는 스페이서는 상기 하부기판 또는 상부기판(컬러필터 기판)에 형성할 수 있으며, 하부기판에 구성될 경우에는 일반적으로 상기 하부기판의 어레이 배선 상부에 형성한다.The spacer directly patterned on the substrate may be formed on the lower substrate or the upper substrate (color filter substrate). When the spacer is formed on the lower substrate, the spacer is generally formed on the array wiring of the lower substrate.

상기 스페이서를 형성하는 한가지 예로 상부기판에 감광성 물질을 이용하여스페이서를 형성하는 방법을 설명한다.As an example of forming the spacer, a method of forming a spacer using a photosensitive material on an upper substrate will be described.

이하, 도 3a 내지 도 3f의 공정을 참조하여 종래의 패턴된 스페이서 형성방법을 설명한다.Hereinafter, a conventional patterned spacer forming method will be described with reference to the processes of FIGS. 3A to 3F.

먼저, 도 3a에 도시한 바와 같이 투명한 절연기판(5) 상에 블랙매트릭스를 형성한다.First, as shown in FIG. 3A, a black matrix is formed on the transparent insulating substrate 5.

일반적으로, 블랙매트릭스(6)는 서브 컬러필터인 적/녹/청 패턴 사이에 위치하며, 상기 화소전극(도 1의 17) 주변부에 형성되는 반전도메인(reverse tilt domain)을 통과하는 빛을 차폐하는 것을 목적으로 형성한다.In general, the black matrix 6 is positioned between red / green / blue patterns, which are sub color filters, and shields light passing through a reverse tilt domain formed around the pixel electrode 17 of FIG. 1. It forms for the purpose of doing it.

일반적으로, 블랙매트릭스(6)의 재질로는 광밀도(optical density)가 3.5이상인 크롬(Cr)등의 금속박막이나 카본(carbon)계통의 유기재료가 주로 쓰이며, 크롬(Cr)/산화크롬(CrOX)등의 이층막 구조의 블랙매트릭스는 저 반사화를 목적으로 사용하기도 한다.In general, as the material of the black matrix 6, a metal thin film such as chromium (Cr) having an optical density of 3.5 or more, or a carbon-based organic material is mainly used, and chromium (Cr) / chromium oxide ( Black matrices of two-layer films such as CrO X ) may be used for the purpose of low reflection.

따라서, 목적에 따라 전술한 재료 중 임의의 재료를 사용하여 블랙매트릭스(6)를 형성한다.Thus, according to the purpose, any of the above-mentioned materials is used to form the black matrix 6.

이때, 어레이기판(도 1의 22)에 형성되는 화소전극(도 1의 17)과 대응되는 컬러필터가 형성될 부분(17a)은, 상기 화소전극 보다 작은 면적으로 식각하여 구성한다.In this case, the portion 17a on which the color filter corresponding to the pixel electrode (17 of FIG. 1) formed on the array substrate 22 of FIG. 1 is to be formed is etched by an area smaller than the pixel electrode.

도 3b는 적/녹/청색을 띄는 컬러수지를 이용한 컬러필터 형성공정을 도시한 도면이다.3B is a view illustrating a color filter forming process using color resins having red / green / blue colors.

상기 컬러수지의 주요성분은 광 중합 개시제, 모노머(monomer), 바인더(binder)등의 광 중합형 감광 조성물과 적/녹/청색 또는 이와 유사한 색상을 띄는 유기안료로 구성되어 있다.The main component of the color resin is composed of a photopolymerizable photosensitive composition such as a photopolymerization initiator, a monomer, a binder, and an organic pigment having a red / green / blue or similar color.

먼저, 적(red), 녹(green), 청(blue)컬러수지 중 적색을 띄는 컬러 수지를 상기 블랙매트릭스(6)가 형성된 기판(5)의 전면에 도포한 후 선택적으로 노광하여, 원하는 영역에 적색 서브컬러필터(8a)를 형성한다. (색을 입히는 순서는 임의로 적(R), 녹(G), 청(B)의 색순서로 정하여 설명한다.)First, a red, green or blue color resin having a red color is applied to the entire surface of the substrate 5 on which the black matrix 6 is formed, and then selectively exposed to a desired area. The red sub-color filter 8a is formed in this. (The order of coloring Randomly The color order of red (R), green (G) and blue (B) will be explained.

다음으로, 상기 적색 컬러필터(8a)가 형성된 기판(5)의 전면에 녹색 컬러수지를 도포한 후 선택적으로 노광하여, 녹색 컬러필터(8b)를 형성한다.Next, a green color resin is coated on the entire surface of the substrate 5 on which the red color filter 8a is formed and then selectively exposed to form a green color filter 8b.

연속하여, 상기 적색 및 녹색컬러필터(8a,8b)가 형성된 기판(5)의 전면에 청색 컬러수지를 도포한 후 선택적으로 노광하여, 청색 컬러필터(8c)를 형성한다.Subsequently, a blue color resin is coated on the entire surface of the substrate 5 on which the red and green color filters 8a and 8b are formed and then selectively exposed to form a blue color filter 8c.

도 3c는 상기 컬러필터가 형성된 기판의 표면을 평탄화 하는 공정이다. `상기 컬러필터(8a,8b,8c)가 형성된 기판(5)을 평탄화 하기 위해, 상기 기판(5)상부에 절연특성을 가지는 투명한 수지를 도포하여 평탄화층(overcoat layer)(26)을 형성한다.3C is a step of planarizing the surface of the substrate on which the color filter is formed. In order to planarize the substrate 5 on which the color filters 8a, 8b, and 8c are formed, a transparent resin having an insulating property is coated on the substrate 5 to form an overcoat layer 26. .

도 3d는 상기 컬러필터 상에 전극을 형성하는 공정이다.3D is a step of forming an electrode on the color filter.

일반적으로, 컬러필터 기판(5)을 액정패널의 상부기판으로 사용할 경우, 컬러필터 기판(5)의 상층은 투명전극(18)을 형성한다.In general, when the color filter substrate 5 is used as the upper substrate of the liquid crystal panel, the upper layer of the color filter substrate 5 forms the transparent electrode 18.

이때, 상기 투명전극(18)에는 공통전압이 흐르게 되며, 도 1의 화소전극(17)에 흐르는 화소전압과 더불어 액정(14)을 구동하는 역할을 하게된다.In this case, a common voltage flows through the transparent electrode 18, and serves to drive the liquid crystal 14 together with the pixel voltage flowing through the pixel electrode 17 of FIG. 1.

따라서, 상기 오버코트 층(26)이 형성된 기판(5)의 전면에 투과율이 뛰어난 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 투명 도전성 금속그룹 중 선택된 하나를 증착하고 패턴하여, 공통전극(common electrode)(18)을 형성한다.Therefore, a selected one of a transparent conductive metal group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) having excellent transmittance is deposited on the entire surface of the substrate 5 on which the overcoat layer 26 is formed, and the pattern is deposited. Thus, a common electrode 18 is formed.

다음으로, 도 3e는 스페이서를 형성하는 공정으로, 상기 공통전극(18)이 형성된 기판(5)의 전면에 감광성 유기물질을 코팅하여 감광성 유기막(28)을 형성한다. 이때, 상기 감광성 유기물질은 일반적으로 네가티브 타입(negative type)을 사용한다.Next, FIG. 3E illustrates a process of forming a spacer, and forms a photosensitive organic layer 28 by coating a photosensitive organic material on the entire surface of the substrate 5 on which the common electrode 18 is formed. In this case, the photosensitive organic material generally uses a negative type.

상기 감광성 유기막(28)이 형성된 기판(5)의 상부에 투과부(E)와 차단부(F)로 구성된 마스크(30)를 위치시킨다. 상기 투과부(E)는 기판(5)상에 스페이서 패턴을 형성할 부분에 대응하여 위치하도록 한다.The mask 30 including the transmission part E and the blocking part F is positioned on the substrate 5 on which the photosensitive organic film 28 is formed. The transmission part E may be positioned to correspond to a portion where a spacer pattern is to be formed on the substrate 5.

다음으로, 상기 마스크(30)의 상부에서 빛을 조사한 후, 상기 감광성 유기막(28)을 현상(develop)한다.Next, after irradiating light from the upper portion of the mask 30, the photosensitive organic layer 28 is developed.

위의 결과로 도 3f에 도시한 바와 같이, 소정의 형상으로 패턴된 스페이서(40)가 형성된다.As a result of the above, as shown in FIG. 3F, a spacer 40 patterned into a predetermined shape is formed.

전술한 바와 같은 공정으로 기판 상에 직접 스페이서를 제작할 수 있다.Spacers can be fabricated directly on the substrate by the process described above.

그러나, 종래의 스페이서 형성방법은, 스페이서를 형성하는 물질을 기판의 전면에 코팅한 후 이를 현상하는 방법을 사용하게 된다.However, the conventional method for forming a spacer uses a method of coating a material forming the spacer on the entire surface of the substrate and then developing it.

이때, 상기 현상 공정 중 기판 상에 코팅된 스페이서 형성물질의 90%가 제거된다. 결국 10%만큼의 스페이서 형성물질을 소정의 패턴으로 형성하기 위해 나머지 90%의 스페이서 형성물질이 낭비되어 재료비가 증가하는 문제가 발생한다.At this time, 90% of the spacer forming material coated on the substrate is removed during the developing process. As a result, the remaining 90% of the spacer forming material is wasted in order to form as much as 10% of the spacer forming material in a predetermined pattern, resulting in an increase in material cost.

본 발명은 전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위한 목적으로 제안된 것으로, 상기 스페이서 물질을 코팅할 때 잉크젯 방식을 사용하여 원하는 영역에만 스페이서 물질을 코팅하고 배면노광을 통해 패턴한다.The present invention has been proposed for the purpose of solving the above-described problems, and when the spacer material is coated, the spacer material is coated only on a desired area by using an inkjet method and patterned through back exposure.

이와 같이 하면, 재료비의 손실을 줄일 수 있는 효과와 함께 마스크 공정을 생략할 수 있으므로, 제품의 가격 경쟁력을 높일 수 있고 공정단순화를 통한 제품의 수율을 개선할 수 있다.In this way, the mask process can be omitted together with the effect of reducing the loss of material costs, thereby increasing the price competitiveness of the product and improving the yield of the product through the process simplification.

도 1은 액정패널을 개략적으로 도시한 도면이고,1 is a view schematically showing a liquid crystal panel,

도 2는 액정패널이 제작되는 순서를 도시한 흐름도이고,2 is a flowchart illustrating a procedure of manufacturing a liquid crystal panel;

도 3a 내지 도 3f는 액정패널의 상부기판인 도 1의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단하여 종래기술의 공정 순서에 따라 도시한 공정 단면도이고,3A to 3F are cross-sectional views illustrating a process sequence of the prior art by cutting along II-II of FIG. 1, which is an upper substrate of a liquid crystal panel.

도 4a 내지 도 4f는 액정패널의 상부기판인 도 1의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단하여 본 발명의 공정 순서에 따라 도시한 공정 단면도이고,4A to 4F are cross-sectional views illustrating a process sequence of the present invention by cutting along II-II of FIG. 1, which is an upper substrate of a liquid crystal panel.

도 5는 액정패널의 하부기판인 도 1의 Ⅴ-Ⅴ를 따라 절단한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 1, which is a lower substrate of the liquid crystal panel.

<도면의 부호에 대한 간단한 설명><Short description of the symbols in the drawings>

100 : 기판 108a,b,c : 적/녹/청 서브 컬러필터100: substrate 108a, b, c: red / green / blue sub color filter

118 : 공통전극 120 : 배향막118: common electrode 120: alignment layer

122 : 스페이서막 126 : 평탄화막122 spacer film 126 planarization film

130 : 잉크젯 헤드130: inkjet head

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 스페이서 형성방법은 제 1 기판과 제 2 기판 사이의 갭을 유지하기 위해 제 1 기판 또는 제 2 기판에 형성된 액정표시장치용 스페이서 형성방법에 있어서, 기판에 정의된 임의의 스페이서 형성영역에만 잉크젯 방식으로 스페이서 패턴막을 형성하는 단계와; 상기 스페이서 패턴막이 형성된 기판의 하부에서 빛을 조사하는 단계와; 상기 스페이서 패턴막을 현상하여 스페이서를 형성하는 단계를 포함한다.In the spacer forming method according to the present invention for achieving the above object, in the liquid crystal display spacer forming method formed on the first substrate or the second substrate to maintain a gap between the first substrate and the second substrate, Forming a spacer pattern film in an inkjet method only on any spacer forming region defined in the substrate; Irradiating light from a lower portion of the substrate on which the spacer pattern layer is formed; Developing the spacer pattern layer to form a spacer.

상기 스페이서 형성물질은 포지티브형 감광성 유기물질을 사용한다.The spacer forming material uses a positive photosensitive organic material.

본 발명에 따른 컬러필터 형성방법은 기판 상에 블랙매트릭스와 서브컬러로 구성된 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터 상부에 투명한 공통전극을 형성하는 단계와; 상기 공통전극 상부에 배향막을 형성하는 단계와; 상기 블랙매트릭스 상부의 배향막 상에 잉크젯을 이용하여 감광성 유기막 패턴을 다수개 형성하는 단계와; 상기 다수개의 감광성 유기막 패턴이 형성된 기판의 하부에서 빛을 조사하는 단계와; 상기 빛이 조사된 감광성 유기막 패턴을 현상하여, 상기 블랙매트릭스 상부에 스페이서를 형성하는 단계를 포함한다.The color filter forming method according to the present invention includes the steps of forming a color filter composed of a black matrix and a sub color on a substrate; Forming a transparent common electrode on the color filter; Forming an alignment layer on the common electrode; Forming a plurality of photosensitive organic layer patterns on the alignment layer on the black matrix by using inkjet; Irradiating light from a lower portion of the substrate on which the plurality of photosensitive organic layer patterns are formed; Developing the photosensitive organic film pattern irradiated with light to form a spacer on the black matrix.

본 발명에 따른 어레이기판 형성방법은 기판 상에 서로 교차하여 화소영역을 정의하는 다수의 게이트배선과 데이터배선을 형성하는 단계와; 상기 게이트배선과 데이터배선이 교차하는 영역에 게이트전극과 액티브층과 소스전극 및 드레인전극을 포함하는 박막트랜지스터를 형성하는 단계와; 상기 박막트랜지스터의 드레인전극과 접촉하면서 상기 화소영역에 투명한 화소전극을 형성하는 단계와; 상기 화소전극이 형성된 기판의 전면에 배향막을 형성하는 단계와; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 상부의 배향막 상에 잉크젯을 이용하여 유기막 패턴을 다수개 형성하는 단계와;According to an aspect of the present invention, there is provided a method of forming an array substrate, the method comprising: forming a plurality of gate interconnections and data interconnections defining a pixel region by crossing each other on a substrate; Forming a thin film transistor including a gate electrode, an active layer, a source electrode, and a drain electrode in a region where the gate wiring and the data wiring cross each other; Forming a transparent pixel electrode in the pixel region while being in contact with the drain electrode of the thin film transistor; Forming an alignment layer on the entire surface of the substrate on which the pixel electrode is formed; Forming a plurality of organic layer patterns on the alignment layer on the gate line and the data line by using inkjet;

상기 다수개의 감광성 유기막 패턴이 형성된 기판의 하부에서 빛을 조사하는 단계와; 상기 빛이 조사된 감광성 유기막 패턴을 현상하여, 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 상부에 소정형상의 스페이서를 형성하는 단계를 포함한다.Irradiating light from a lower portion of the substrate on which the plurality of photosensitive organic layer patterns are formed; Developing the photosensitive organic film pattern to which the light is irradiated, and forming a spacer having a predetermined shape on the gate line and the data line.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

-- 실시예 --Example

본 발명은 액정표시장치용 컬러필터기판에 패턴된 스페이서를 형성할 경우, 잉크젯(ink jet) 방식으로 원하는 영역에만 유기물질을 코팅하고, 상기 유기물질을배면노광하여 스페이서로 패턴하는 것을 특징으로 한다.The present invention is characterized in that when forming a patterned spacer on a color filter substrate for a liquid crystal display, the organic material is coated only on a desired area by an ink jet method, and the organic material is exposed to the back surface to pattern the spacer. .

도 4a 내지 도 4f는 본 발명에 따른 액정표시장치용 컬러필터기판의 제조공정을 순서대로 도시한 공정 단면도이다.4A to 4F are cross-sectional views sequentially illustrating a manufacturing process of a color filter substrate for a liquid crystal display device according to the present invention.

먼저, 도 4a에 도시한 바와 같이 투명한 절연기판(100)상에 블랙매트릭스(106)와 적/녹/청 서브 컬러필터(108a,108b,108c)를 형성한다.First, as shown in FIG. 4A, the black matrix 106 and the red / green / blue sub color filters 108a, 108b, and 108c are formed on the transparent insulating substrate 100.

상기 서브 컬러필터를 형성하는 방법을 종래에 설명한 바 있다.The method of forming the sub color filter has been described in the related art.

도 4b는 상기 컬러필터가 형성된 기판의 표면을 평탄화하는 공정이다. `상기 컬러필터(108a,108b,108c)가 형성된 기판(100)을 평탄화 하기 위해, 상기 기판(100)상부에 절연특성을 가지는 투명한 수지를 도포하여 평탄화층(overcoat layer)(126)을 형성한다.4B is a step of planarizing the surface of the substrate on which the color filter is formed. In order to planarize the substrate 100 on which the color filters 108a, 108b and 108c are formed, an overcoat layer 126 is formed by applying a transparent resin having an insulating property on the substrate 100. .

도 4c는 상기 컬러필터 상에 전극을 형성하는 공정이다.4C is a step of forming an electrode on the color filter.

일반적으로, 컬러필터 기판(100)을 액정패널의 상부기판으로 사용할 경우, 컬러필터 기판(100)의 상층은 투명전극(118)을 형성하여 준다.In general, when the color filter substrate 100 is used as the upper substrate of the liquid crystal panel, the upper layer of the color filter substrate 100 forms the transparent electrode 118.

이때, 상기 투명전극(118)에는 공통전압이 흐르게 되며, 도 1의 화소전극(17)에 흐르는 화소전압과 더불어 액정(14)을 구동하는 역할을 하게된다.In this case, a common voltage flows through the transparent electrode 118, and serves to drive the liquid crystal 14 together with the pixel voltage flowing through the pixel electrode 17 of FIG. 1.

따라서, 상기 오버코트 층(126)이 형성된 기판(100)의 전면에 투과율이 뛰어난 인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 투명 도전성 금속그룹 중 선택된 하나를 증착하고 패턴하여, 공통전극(common electrode)(118)을 형성한다.Therefore, a selected one of a transparent conductive metal group composed of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) having excellent transmittance is deposited on the entire surface of the substrate 100 on which the overcoat layer 126 is formed, and the pattern is deposited. Thus, a common electrode 118 is formed.

전술한 구성에서, 상기 평탄화막은 필수 구성요소는 아님으로 조건에 따라생략할 수 있다.In the above configuration, the planarization film is not an essential component and may be omitted depending on conditions.

다음으로 도 4d에 도시한 바와 같이, 상기 공통전극(118)의 상부에 액정을 배향하기 위한 배향막(120)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 4D, an alignment layer 120 is formed on the common electrode 118 to align the liquid crystal.

다음으로 도 4e에 도시한 바와 같이, 상기 블랙매트릭스(106) 상부의 배향막(120) 상부에 잉크젯(ink jet)방식으로 양성(positive) 감광성 스페이서 형성물질(122)을 코팅한다.Next, as illustrated in FIG. 4E, a positive photosensitive spacer forming material 122 is coated on the alignment layer 120 on the black matrix 106 by an ink jet method.

상세히 설명하면, 잉크젯 헤드(130)를 상기 블랙매트릭스(106) 상부에 위치시키고 원하는 영역에 필요한 양만큼 스페이서 형성물질을 떨어뜨려 소정면적을 가지는 다수의 스페이서막(122)을 코팅한다.In detail, the inkjet head 130 is positioned on the black matrix 106 and the spacer forming material is dropped by an amount necessary for a desired area to coat a plurality of spacer layers 122 having a predetermined area.

다음으로, 상기 스페이막(122)이 코팅된 기판(100)의 하부에서 빛(L2)을 조사하여 노광한다.Next, light L2 is exposed to the lower portion of the substrate 100 coated with the space film 122 to expose the light.

다음으로, 도 4f에 도시한 바와 같이, 상기 노광된 스페이서막(122)을 현상하게 되면, 상기 블랙매트릭스(106)의 상부에 위치한 부분만이 남게된다.Next, as shown in FIG. 4F, when the exposed spacer layer 122 is developed, only a portion located above the black matrix 106 remains.

비로소 소정의 높이를 가지는 스페이서(124)가 형성되는 것이다.Finally, the spacer 124 having a predetermined height is formed.

전술한 바와 같은 방법으로 본 발명에 따른 액정표시장치용 컬러필터기판을 제작할 수 있다.The color filter substrate for the liquid crystal display device according to the present invention can be manufactured by the method as described above.

상기 스페이서 형성방법은 전술한 바와 같은 액정패널의 상부기판뿐 아니라 하부기판에도 적용할 수 있다.The spacer forming method may be applied to the lower substrate as well as the upper substrate of the liquid crystal panel as described above.

이하, 도 5를 참조하여 하부기판에 패턴된 스페이서 형성공정을 개략적으로 설명한다.Hereinafter, a process of forming a spacer patterned on a lower substrate will be described with reference to FIG. 5.

도 5는 도 1의 Ⅴ-Ⅴ를 절단한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 1.

도시한 바와 같이, 기판(200)에 도전성 금속을 증착하고 패턴하여 게이트 전극(202)과 게이트배선(미도시)을 형성한다.As shown, a conductive metal is deposited and patterned on the substrate 200 to form a gate electrode 202 and a gate wiring (not shown).

상기 게이트배선(미도시)과 게이트전극(202)이 형성된 기판(200)의 전면에는 제 1 절연막인 게이트 절연막(204)을 형성한다.A gate insulating layer 204, which is a first insulating layer, is formed on an entire surface of the substrate 200 on which the gate wiring (not shown) and the gate electrode 202 are formed.

상기 게이트 전극(202)상부의 게이트 절연막(204) 상부에는 섬형상의 액티브층(206)과 오믹콘택층(208)을 적층한다.An island-like active layer 206 and an ohmic contact layer 208 are stacked on the gate insulating layer 204 on the gate electrode 202.

다음으로, 상기 액티브층(206)과 오믹콘택층(208)이 형성된 기판(200)의 전면에 도전성 금속을 증착하고 패턴하여, 상기 오믹콘택층(208)과 접촉된 소스전극 (210)및 드레인전극(212)을 형성한다.Next, a conductive metal is deposited and patterned on the entire surface of the substrate 200 on which the active layer 206 and the ohmic contact layer 208 are formed, thereby contacting the ohmic contact layer 208 with the source electrode 210 and the drain. An electrode 212 is formed.

이때, 상기 소스전극(210)은 상기 게이트배선(미도시)과 교차하여 화소영역(P)을 정의하는 데이터배선(214)으로부터 돌출 형성한다.In this case, the source electrode 210 intersects the gate wiring (not shown) and protrudes from the data wiring 214 defining the pixel region P.

상기 데이터배선(214)과 소스 및 드레인전극(210,212)을 형성한 기판(200)의 전면에 벤조사이클로부텐(BCB)과 아크릴(Acryl)계 수지(resin)를 포함한 투명 유기절연물질 그룹 중 선택된 하나를 도포하여 제 2 절연막인 보호막(216)을 형성한다.One selected from the group of transparent organic insulating materials including benzocyclobutene (BCB) and acrylic resin (resin) on the front surface of the substrate 200 on which the data line 214 and the source and drain electrodes 210 and 212 are formed. Is applied to form a protective film 216 which is a second insulating film.

연속하여 상기 보호막(216)을 패턴하여 상기 드레인전극(212)의 일부를 노출하는 드레인 콘택홀(218)을 형성하다.The passivation layer 216 is subsequently patterned to form a drain contact hole 218 exposing a portion of the drain electrode 212.

다음으로, 상기 노출된 드레인전극(212)과 접촉하면서 상기 화소영역(P)에 구성되는 투명한 화소전극(220)을 형성한다.Next, the transparent pixel electrode 220 formed in the pixel region P is formed while contacting the exposed drain electrode 212.

상기 투명한 화소전극(220)은 일반적으로 투과율이 높은 도전성 금속인인듐-틴-옥사이드(ITO)와 인듐-징크-옥사이드(IZO)를 포함한 투명한 도전성 금속물질 그룹 중 선택된 하나로 형성하다.The transparent pixel electrode 220 is formed of one selected from a group of transparent conductive metal materials including indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

다음으로, 상기 화소전극(220)이 형성된 기판(200)의 전면에 폴리이미드(PI)와 같은 투명한 수지를 도포하여 배향막(222)을 형성한다.Next, an alignment layer 222 is formed by coating a transparent resin such as polyimide (PI) on the entire surface of the substrate 200 on which the pixel electrode 220 is formed.

연속하여, 앞서 설명한 바와 같은 방법으로 상기 게이트배선(미도시) 또는 데이터 배선(214) 상부에 앞서 설명한 방법과 동일한 방법으로 소정형상의 스페이서(224)를 형성한다.Subsequently, the spacer 224 having a predetermined shape is formed in the same manner as described above on the gate wiring (not shown) or the data wiring 214 in the same manner as described above.

어레이기판 에서는 상기 게이트배선과 데이터 배선이 빛을 차단하는 마스크 역할을 한다.In the array substrate, the gate line and the data line serve as a mask to block light.

전술한 바와 같은 방법으로 본 발명의 액정패널을 구성하는 제 1 기판(상부기판) 또는 제 2 기판(하부기판)에 패턴된 스페이서를 형성할 수 있다.As described above, a patterned spacer may be formed on a first substrate (upper substrate) or a second substrate (lower substrate) constituting the liquid crystal panel of the present invention.

따라서, 본 발명에 따라 액정패널을 제작하게 되면 아래와 같은 효과가 있다.Therefore, the manufacturing of the liquid crystal panel according to the present invention has the following effects.

첫째, 스페이서를 형성하는 공정에 있어서, 기판의 전면에 스페이서 형성물질을 코팅하는 방식이 아닌 상기 스페이서 형성영역 에만 스페이서 형성물질을 코팅하기 때문에 재료비를 절감하는 효과가 있다.First, in the process of forming the spacer, the material cost is reduced because the spacer forming material is coated only on the spacer forming region, not the method of coating the spacer forming material on the entire surface of the substrate.

둘째, 상기 코팅된 스페이서막을 배면노광 공정으로 패턴하기 때문에 별도의 마스크 공정을 필요로 하지 않는다.Second, since the coated spacer film is patterned by a back exposure process, a separate mask process is not required.

따라서, 마스크 공정을 줄일 수 있으므로 제품의 수율을 개선할 수 있다.Therefore, the mask process can be reduced, so that the yield of the product can be improved.

Claims (5)

제 1 기판과 제 2 기판 사이의 갭을 유지하기 위해 제 1 기판 또는 제 2 기판에 형성된 액정표시장치용 스페이서 형성방법에 있어서,In the method of forming a spacer for a liquid crystal display device formed on the first substrate or the second substrate to maintain the gap between the first substrate and the second substrate, 기판에 정의된 임의의 스페이서 형성영역에만 잉크젯 방식으로 스페이서 패턴막을 형성하는 단계와;Forming a spacer pattern film in an inkjet method only on any spacer forming region defined in the substrate; 상기 스페이서 패턴막이 형성된 기판의 하부에서 빛을 조사하는 단계와;Irradiating light from a lower portion of the substrate on which the spacer pattern layer is formed; 상기 스페이서 패턴막을 현상하여 스페이서를 형성하는 단계를Developing the spacer pattern layer to form a spacer. 포함하는 액정표시장치용 스페이서 형성방법.Method for forming a spacer for a liquid crystal display device comprising. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스페이서 형성물질은 포지티브형 감광성 유기물질인 액정표시장치용 스페이서 형성방법.The spacer forming material is a positive photosensitive organic material spacer forming method for a liquid crystal display device. 기판 상에 블랙매트릭스와 서브컬러로 구성된 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a color filter comprising a black matrix and a subcolor on the substrate; 상기 컬러필터 상부에 투명한 공통전극을 형성하는 단계와;Forming a transparent common electrode on the color filter; 상기 공통전극 상부에 배향막을 형성하는 단계와;Forming an alignment layer on the common electrode; 상기 블랙매트릭스 상부의 배향막 상에 잉크젯을 이용하여 감광성 유기막 패턴을 다수 개 형성하는 단계와;Forming a plurality of photosensitive organic layer patterns on the alignment layer on the black matrix by using inkjet; 상기 다수개의 감광성 유기막 패턴이 형성된 기판의 하부에서 빛을 조사하는 단계와;Irradiating light from a lower portion of the substrate on which the plurality of photosensitive organic layer patterns are formed; 상기 빛이 조사된 감광성 유기막 패턴을 현상하여, 상기 블랙매트릭스 상부에 스페이서를 형성하는 단계Developing a photosensitive organic film pattern irradiated with light to form a spacer on the black matrix; 를 포함하는 액정표시장치용 컬러필터기판 제조방법.Color filter substrate manufacturing method for a liquid crystal display device comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 감광성 유기막 패턴은 포지티브형 감광성 물질로 형성한 액정표시장치용 컬러필터기판 제조방법.The photosensitive organic layer pattern is a color filter substrate manufacturing method for a liquid crystal display device formed of a positive photosensitive material. 기판 상에 서로 교차하여 화소영역을 정의하는 다수의 게이트배선과 데이터배선을 형성하는 단계와;Forming a plurality of gate wirings and data wirings crossing each other on the substrate to define pixel regions; 상기 게이트배선과 데이터배선이 교차하는 영역에 게이트전극과 액티브층과 소스전극 및 드레인전극을 포함하는 박막트랜지스터를 형성하는 단계와;Forming a thin film transistor including a gate electrode, an active layer, a source electrode, and a drain electrode in a region where the gate wiring and the data wiring cross each other; 상기 박막트랜지스터의 드레인전극과 접촉하면서 상기 화소영역에 투명한 화소전극을 형성하는 단계와;Forming a transparent pixel electrode in the pixel region while being in contact with the drain electrode of the thin film transistor; 상기 화소전극이 형성된 기판의 전면에 배향막을 형성하는 단계와;Forming an alignment layer on the entire surface of the substrate on which the pixel electrode is formed; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 상부의 배향막 상에 잉크젯을 이용하여 유기막 패턴을 다수개 형성하는 단계와;Forming a plurality of organic layer patterns on the alignment layer on the gate line and the data line by using inkjet; 상기 다수개의 감광성 유기막 패턴이 형성된 기판의 하부에서 빛을 조사하는 단계와;Irradiating light from a lower portion of the substrate on which the plurality of photosensitive organic layer patterns are formed; 상기 빛이 조사된 감광성 유기막 패턴을 현상하여, 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 상부에 소정형상의 스페이서를 형성하는 단계Developing a photosensitive organic film pattern irradiated with light to form a spacer having a predetermined shape on the gate wiring and the data wiring; 를 포함하는 액정패널의 어레이기판 형성방법.Array substrate forming method of the liquid crystal panel comprising a.
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