KR20030046223A - Semiconductor memory device with multiple internal supply voltage - Google Patents

Semiconductor memory device with multiple internal supply voltage Download PDF

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KR20030046223A
KR20030046223A KR1020010076695A KR20010076695A KR20030046223A KR 20030046223 A KR20030046223 A KR 20030046223A KR 1020010076695 A KR1020010076695 A KR 1020010076695A KR 20010076695 A KR20010076695 A KR 20010076695A KR 20030046223 A KR20030046223 A KR 20030046223A
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김송원
유제환
김재훈
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삼성전자주식회사
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Abstract

PURPOSE: A semiconductor memory device with plural internal supply voltage sources is provided to select necessary voltages by using a voltage selection circuit and a plurality of voltage pads. CONSTITUTION: A semiconductor memory device comprises a package power pin(10), a power pad(21), a voltage selection circuit(22), an internal reference voltage generation circuit(24), and a DC voltage generation circuit(25). The power pad receives the supply voltage from the package power pin and supplies the supply voltage to each circuit block. The voltage selection circuit receives the first reference voltage and an MRS control signal and outputs selection signals. The internal reference voltage generation circuit receives the selection signals and generates the internal reference voltage. The DC voltage generation circuit receives signals from the internal reference voltage generation circuit and generates the internal DC voltage.

Description

복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치{SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE WITH MULTIPLE INTERNAL SUPPLY VOLTAGE}A semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages {SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE WITH MULTIPLE INTERNAL SUPPLY VOLTAGE}

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages.

최근, 저전력화에 따라 반도체 메모리 장치는 일반 칩과 저전력용 칩의 옵션 설계가 요구되고 있는 실정이다.Recently, with the reduction of power, semiconductor memory devices are required to design options for general chips and low power chips.

종래에는 복수의 전원전압을 필요로 하는 반도체 메모리 장치의 경우, 필요한 전압을 선택하기 위하여 메탈 옵션을 사용하였다. 그런데, 메탈 옵션을 사용하여 전원전압을 선택하려면 필요한 전압별로 다른 마스크를 제작해야하고 다른 메탈공정을 행해야 한다. 또한, 메탈 옵션을 사용하여 전원전압을 선택하려면 필요한 전압별로 테스트 프로그램도 다르게 작성해야 하고, 지연 제어회로도 다르게 구현해야 한다.Conventionally, in the case of a semiconductor memory device requiring a plurality of power supply voltages, a metal option is used to select a required voltage. However, to select a power supply voltage using the metal option, a different mask must be manufactured for each required voltage and a different metal process must be performed. In addition, selecting the supply voltage using the metal option requires a different test program for each required voltage and a different delay control circuit.

본 발명의 목적은 메탈 옵션을 사용하지 않고 필요한 전압을 선택할 수 있는 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages capable of selecting a required voltage without using a metal option.

도 1은 본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치의 일실시예를 나타낸 도면이다.1 is a view illustrating an embodiment of a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 장치의 내부 기준전압 발생회로의 구체화된 도면이다.2 is an embodiment of an internal reference voltage generation circuit of the semiconductor device according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치의 다른 실시예를 나타낸 도면이다.3 is a diagram illustrating another embodiment of a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따라 생성된 선택신호를 출력구동회로에 적용한 예를 나타낸 도면이다.4 is a diagram illustrating an example in which a selection signal generated according to the present invention is applied to an output driver circuit.

도 5는 본 발명에 따라 생성된 선택신호를 어레이용 내부 전원전압 발생회로에 적용한 예를 나타낸 도면이다.5 is a diagram illustrating an example in which a selection signal generated according to the present invention is applied to an internal power supply voltage generation circuit for an array.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 패키지 전원 핀 20 : 반도체 칩10: package power pin 20: semiconductor chip

21 : 전원 패드 22 : 전압 선택회로21: power pad 22: voltage selection circuit

23 : 제 1 내지 제 n 전압패드들 24 : 내부 기준전압 발생회로들23: first to nth voltage pads 24: internal reference voltage generating circuits

25 : DC 전압 발생회로들 26 : MRS 제어회로25 DC voltage generating circuits 26 MRS control circuit

31, 41 : 차동증폭기 32 : 출력버퍼31, 41: differential amplifier 32: output buffer

42 : 펄스발생회로42: pulse generator circuit

본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치는 전원패드로부터 패드 제어신호를 수신하고 복수의 선택신호를 출력하는 전압 선택회로; 상기 전압 선택회로로부터 상기 복수의 선택신호들 중 해당 선택신호를 수신하는 복수의 전압패드들을 구비하는 것을 특징으로 한다.According to an exemplary embodiment of the present invention, a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages may include a voltage selection circuit configured to receive a pad control signal from a power pad and output a plurality of selection signals; And a plurality of voltage pads for receiving a corresponding selection signal among the plurality of selection signals from the voltage selection circuit.

또한, 본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치는 MRS(Mode Register Set) 제어회로로부터 MRS 제어신호를 수신하고 복수의 선택신호를 출력하는 전압 선택회로; 상기 전압 선택회로로부터 상기 복수의 선택신호들 중 해당 선택신호를 수신하여 내부 기준전압을 발생시키는 복수의 내부 기준전압 발생회로를 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages according to the present invention includes: a voltage selection circuit that receives an MRS control signal from a mode register set (MRS) control circuit and outputs a plurality of selection signals; And a plurality of internal reference voltage generation circuits configured to receive a corresponding selection signal among the plurality of selection signals from the voltage selection circuit and generate an internal reference voltage.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치를 설명한다.Hereinafter, a semiconductor memory device according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치의 일실시예를 나타낸 도면이다.1 is a view illustrating an embodiment of a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages according to the present invention.

도 1은 본딩패드 제어신호를 사용하여 필요한 전압을 선택하는 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치로서, 패키지 전원 핀(10), 패키지 전원 핀(10)으로부터 전원전압(VDD 또는 VSS)을 수신하고 반도체 칩(20)내의 회로 블록들로 전원전압(VDD 또는 VSS)을 공급하는 전원 패드(21), 제 1 기준 전압과 전원패드(21)로부터 패드 제어신호를 수신하고 제 1 내지 제 n 선택신호를 출력하는 전압 선택회로(22), 전압 선택회로(22)로부터 제 1 내지 제 n 선택신호들 중 해당 선택신호를 수신하는 제 1 내지 제 n 전압 패드들(23), 제 1 내지 제 n 전압패드들(23) 각각으로부터 신호를 수신하고 내부 기준전압을 발생시키는 내부 기준전압 발생회로들(24), 내부 기준전압 발생회로들(24) 각각으로부터 신호를 수신하고 내부 직류전압을 발생시키는 DC 전압 발생회로들(25)을 구비하고 있다.1 is a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages for selecting a required voltage using a bonding pad control signal, and receives a power supply voltage VDD or VSS from a package power supply pin 10 and a package power supply pin 10. And receiving a pad control signal from a first reference voltage and a power pad 21 for supplying a power supply voltage (VDD or VSS) to circuit blocks in the semiconductor chip 20, and selecting first to nth. A voltage selection circuit 22 for outputting a signal, first to nth voltage pads 23 for receiving a corresponding selection signal among the first to nth selection signals from the voltage selection circuit 22, and first to nth Internal reference voltage generation circuits 24 for receiving a signal from each of the voltage pads 23 and generating an internal reference voltage, DC for receiving a signal from each of the internal reference voltage generation circuits 24 and generating an internal DC voltage. To obtain the voltage generating circuits 25 And.

이하, 도 1의 반도체 메모리 장치의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device of FIG. 1 will be described.

전원 패드(21)는 패키지 전원 핀(10)으로부터 전원전압(VDD 또는 VSS)을 수신하고 반도체 칩(20)내의 회로 블록들로 전원전압(VDD 또는 VSS)을 공급한다. 반도체 칩(20)에 전원전압이 공급되면 맨 처음 발생되는 기준전압이 제 1 기준전압이다. 시스템에 전원이 공급된 후 제 1 기준전압이 설정되면, 전압 선택회로(22)는 제 1 기준전압과 전원패드(21)로부터 패드 제어신호를 수신하고 필요한 전압을 선택하기 위한 선택신호를 발생시킨다. 제 1 내지 제 n 선택신호들 중 선택된 신호들은 제 1 내지 제 n 전압패드들(23) 중 해당 전압패드를 통하여 내부 기준전압 발생회로들(24) 중 해당 내부 기준전압 발생회로에 인가된다. 선택된 내부 기준전압 발생회로들은 각각 기준전압을 발생시켜 해당 DC 전압 발생회로(25)에 인가된다. 각 DC 전압 발생회로는 각기 다른 DC 전압 레벨을 발생시킨다.The power pad 21 receives the power supply voltage VDD or VSS from the package power supply pin 10 and supplies the power supply voltage VDD or VSS to circuit blocks in the semiconductor chip 20. When a power supply voltage is supplied to the semiconductor chip 20, the first reference voltage generated is the first reference voltage. When the first reference voltage is set after power is supplied to the system, the voltage selection circuit 22 receives the pad control signal from the first reference voltage and the power pad 21 and generates a selection signal for selecting the required voltage. . The selected ones of the first to nth selection signals are applied to the corresponding internal reference voltage generation circuits of the internal reference voltage generation circuits 24 through corresponding voltage pads of the first to nth voltage pads 23. Each of the selected internal reference voltage generators generates a reference voltage and is applied to the corresponding DC voltage generator 25. Each DC voltage generator generates different DC voltage levels.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 장치의 내부 기준전압 발생회로의 구체화된 도면으로서, 제 1 입력단자로부터 제 1 기준전압이 인가되고 제 2 기준전압을 출력하는 차동증폭기(31), 전원전압(VDD)과 차동증폭기(31)의 출력단자 사이에 직렬로 연결되고 각각 게이트 단자와 드레인 단자가 단락되어 있는 PMOS(P-type Metal Oxide Semiconductor) 트랜지스터들(MP1 및 MP2), PMOS 트랜지스터(MP2)의 드레인 단자와 소스 단자 사이에 연결되어 있고 선택신호를 수신하는 게이트 단자를 갖는 PMOS 트랜지스터(MP3), 및 차동증폭기(31)의 출력단자에 연결되어 있는 소스 단자와 차동증폭기(31)의 제 2 입력단자에 연결되어 있는 게이트 단자를 가지며 드레인 단자와 게이트 단자가 서로 단락되어 있는 게이트 단자를 갖는 PMOS 트랜지스터(MP4), 및 PMOS 트랜지스터(MP4)의 드레인 단자에 연결되어 있는 소스 단자와 접지에 연결되어 있는 드레인 단자를 가지며 게이트 단자와 드레인 단자가 서로 단락되어 있는 PMOS 트랜지스터(MP5)를 구비하고 있다.2 is a detailed diagram of an internal reference voltage generation circuit of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, in which a differential amplifier 31 is applied with a first reference voltage from a first input terminal and outputs a second reference voltage, and a power supply voltage VDD. ) And the drains of the P-type metal oxide semiconductor (PMOS) transistors MP1 and MP2 and PMOS transistors MP2 connected in series between the output terminals of the differential amplifier 31 and the gate and drain terminals are shorted, respectively. A PMOS transistor MP3 connected between the terminal and the source terminal and having a gate terminal for receiving a selection signal, and a second input terminal of the source terminal and the differential amplifier 31 connected to the output terminal of the differential amplifier 31. A PMOS transistor MP4 having a gate terminal connected to and having a drain terminal and a gate terminal shorted to each other, and a drain terminal of the PMOS transistor MP4. Has a drain terminal coupled to the source terminal and the ground with a gate terminal and a drain terminal and a PMOS transistor (MP5) is short-circuited to each other.

이하, 도 2의 내부 기준전압 발생회로의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the internal reference voltage generator circuit of FIG. 2 will be described.

도 1 의 전압 선택회로(22)에서 발생된 선택신호들 중 하나가 PMOS 트랜지스터(MP3)의 게이트 단자로 인가된다. 인가되는 선택신호가 로우이면, PMOS 트랜지스터(MP3)가 온되어 제 2 기준전압은 PMOS 트랜지스터(MP1)에 의하여 전원전압(VDD)에서 PMOS 트랜지스터(MP1)의 문턱전압인 1VTP 만큼 낮아진 레벨이 되며, 인가되는 선택신호가 하이이면, PMOS 트랜지스터(MP3)가 오프되어 제 2 기준전압은 PMOS 트랜지스터(MP1)와 PMOS 트랜지스터(MP2)에 의하여 전원전압(VDD)에서 2VTP 만큼 낮아진 레벨이 된다. 차동증폭기(31)는 제 1 입력 단자로 인가되는 제 1 기준전압과 PMOS 트랜지스터(MP4)의 드레인 단자로부터 피드백되는 전압의 차이를 증폭하여 제 2 기준전압을 안정화시킨다.One of the selection signals generated in the voltage selection circuit 22 of FIG. 1 is applied to the gate terminal of the PMOS transistor MP3. When the selection signal applied is low, the PMOS transistor MP3 is turned on so that the second reference voltage is lowered by the PMOS transistor MP1 by 1VTP, which is the threshold voltage of the PMOS transistor MP1 from the power supply voltage VDD. When the selection signal to be applied is high, the PMOS transistor MP3 is turned off so that the second reference voltage is lowered by 2VTP from the power supply voltage VDD by the PMOS transistor MP1 and the PMOS transistor MP2. The differential amplifier 31 stabilizes the second reference voltage by amplifying a difference between the first reference voltage applied to the first input terminal and the voltage fed back from the drain terminal of the PMOS transistor MP4.

도 3은 본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치의 다른 실시예를 나타낸 도면으로서, 필요한 전압을 선택하기 위하여 전압 선택회로(22)를 제어하는 신호가 패드 제어신호가 아닌 MRS 제어신호라는 점과 전압패드들(23)이 없는 점을 제외하면 도 1의 실시예와 동일하다.3 is a view illustrating another embodiment of a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages according to the present invention, in which a signal controlling the voltage selection circuit 22 to select a required voltage is not a pad control signal, but an MRS control. Same as the embodiment of FIG. 1 except that it is a signal and there are no voltage pads 23.

도 3에 도시된 본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리장치는 패키지 전원 핀(10), 패키지 전원 핀(10)으로부터 전원전압(VDD 또는 VSS)을 수신하고 반도체 칩(20)내의 회로 블록들로 전원전압(VDD 또는 VSS)을 공급하는 전원 패드(21), 제 1 기준 전압과 MRS 제어회로(26)로부터 MRS 제어신호를 수신하고 제 1 내지 제 n 선택신호를 출력하는 전압 선택회로(22), 전압 선택회로(22)로부터 제 1 내지 제 n 선택신호들 중 선택된 선택신호를 수신하고 내부 기준전압을 발생시키는 내부 기준전압 발생회로들(24), 내부 기준전압 발생회로들(24) 각각으로부터 신호를 수신하고 내부 직류전압을 발생시키는 DC 전압 발생회로들(25)을 구비하고 있다.In the semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages according to the present invention shown in FIG. A power pad 21 for supplying a power supply voltage VDD or VSS to the circuit blocks, a voltage selection for receiving an MRS control signal from the first reference voltage and the MRS control circuit 26 and outputting first to nth selection signals Internal reference voltage generation circuits 24 and internal reference voltage generation circuits for receiving the selected selection signal of the first to nth selection signals from the circuit 22, the voltage selection circuit 22 and generating an internal reference voltage ( 24) DC voltage generation circuits 25 for receiving a signal from each and generating an internal DC voltage.

이하, 도 3의 반도체 메모리 장치의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device of FIG. 3 will be described.

전원 패드(21)는 패키지 전원 핀(10)으로부터 전원전압(VDD 또는 VSS)을 수신하고 반도체 칩(20)내의 회로 블록들로 전원전압(VDD 또는 VSS)을 공급한다. 반도체 칩(20)에 전원전압이 공급되면 맨 처음 발생되는 기준전압이 제 1 기준전압이다. 시스템에 전원이 공급된 후 제 1 기준전압이 설정되면, 전압 선택회로(22)는 제 1 기준전압과 MRS 제어회로(26)로부터 MRS 제어신호를 수신하고 필요한 전압을 선택하기 위한 선택신호를 발생시킨다. 제 1 내지 제 n 선택신호들 중 선택된 신호들은 내부 기준전압 발생회로들(24) 중 해당 내부 기준전압 발생회로에 인가된다. 선택된 내부 기준전압 발생회로들은 각각 기준전압을 발생시켜 해당 DC 전압 발생회로(25)에 인가된다. 각 DC 전압 발생회로는 각기 다른 DC 전압 레벨을 발생시킨다.The power pad 21 receives the power supply voltage VDD or VSS from the package power supply pin 10 and supplies the power supply voltage VDD or VSS to circuit blocks in the semiconductor chip 20. When a power supply voltage is supplied to the semiconductor chip 20, the first reference voltage generated is the first reference voltage. When the first reference voltage is set after the system is powered on, the voltage selection circuit 22 receives the MRS control signal from the first reference voltage and the MRS control circuit 26 and generates a selection signal for selecting the required voltage. Let's do it. The selected ones of the first to nth selection signals are applied to the corresponding internal reference voltage generation circuit among the internal reference voltage generation circuits 24. Each of the selected internal reference voltage generators generates a reference voltage and is applied to the corresponding DC voltage generator 25. Each DC voltage generator generates different DC voltage levels.

도 4는 본 발명에 따라 생성된 선택신호를 출력구동회로에 적용한 예를 나타내는 도면으로서, 출력버퍼(32), 출력구동용 전원전압(VDDQ)에 연결되어 있는 드레인 단자와 노드 (N2)에 연결되어 있는 소스 단자와 출력버퍼(32)의 출력이 인가되는 게이트 단자를 갖는 NMOS(N-type MOS) 트랜지스터(MN1), 출력구동용 전원전압(VDDQ)에 연결되어 있는 드레인 단자와 제 1 선택신호가 인가되는 게이트 단자를 갖는 NMOS 트랜지스터(MN4), NMOS 트랜지스터(MN4)의 소스 단자에 연결되어 있는 드레인 단자와 노드(N2)에 연결되어 있는 소스 단자와 NMOS 트랜지스터(MN1)의 게이트 단자에 연결되어 있는 게이트 단자를 갖는 NMOS 트랜지스터(MN2), 출력구동용 전원전압(VDDQ)에 연결되어 있는 드레인 단자와 제 2 선택신호가 인가되는 게이트 단자를 갖는 NMOS 트랜지스터(MN5), NMOS 트랜지스터(MN5)의 소스 단자에 연결되어 있는 드레인 단자와 노드(N2)에 연결되어 있는 소스 단자와 NMOS 트랜지스터(MN2)의 게이트 단자에 연결되어 있는 게이트 단자를 갖는 NMOS 트랜지스터(MN3)를 구비하고 있다.4 is a diagram illustrating an example in which a selection signal generated according to the present invention is applied to an output driving circuit, and is connected to an output buffer 32, a drain terminal connected to an output driving power supply voltage VDDQ, and a node N2. N-type MOS transistor MN1 having a source terminal and a gate terminal to which an output of the output buffer 32 is applied, a drain terminal connected to an output driving power supply voltage VDDQ, and a first selection signal. Is connected to the NMOS transistor MN4 having the gate terminal to which the gate is applied, the drain terminal connected to the source terminal of the NMOS transistor MN4, the source terminal connected to the node N2, and the gate terminal of the NMOS transistor MN1. An NMOS transistor MN2 having a gate terminal having a gate terminal therein, an NMOS transistor MN5 having a drain terminal connected to an output driving power supply voltage VDDQ, and a gate terminal to which a second selection signal is applied, and an NMOS transistor MN5 NMOS transistor (MN3) having a drain terminal connected to the source terminal of the ()), a source terminal connected to the node (N2) and a gate terminal connected to the gate terminal of the NMOS transistor (MN2).

이하, 도 4에 도시되어 있는 출력구동회로의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the output driver circuit shown in FIG. 4 will be described.

출력버퍼(32)의 출력이 하이가 되어 NMOS 트랜지스터들(MN1 내지 MN3)이 모두 온 되었을 때, 제 1 선택신호와 제 2 선택신호가 모두 로우 상태이면 NMOS 트랜지스터들( MN4 및 MN5)이 오프 상태가 되며 NMOS 트랜지스터(MN1) 만이 출력전류에 기여하게 된다. 출력버퍼(32)의 출력이 하이가 되어 NMOS 트랜지스터들(MN1 내지 MN3)이 모두 온 되었을 때, 제 1 선택신호와 제 2 선택신호가 모두 하이 상태이면 NMOS 트랜지스터들( MN4 및 MN5)이 온 상태가 되며 NMOS 트랜지스터들(MN1 내지 MN3) 모두 출력전류에 기여하게 된다.When the output of the output buffer 32 is high and both of the NMOS transistors MN1 to MN3 are turned on, when the first selection signal and the second selection signal are both low, the NMOS transistors MN4 and MN5 are turned off. Only the NMOS transistor MN1 contributes to the output current. When the output of the output buffer 32 is high and both of the NMOS transistors MN1 to MN3 are turned on, when the first select signal and the second select signal are both high, the NMOS transistors MN4 and MN5 are turned on. NMOS transistors MN1 to MN3 all contribute to the output current.

따라서, 본 발명에 의해 발생된 선택신호에 의하여 출력구동회로의 출력전류의 크기를 조절할 수 있다.Therefore, the magnitude of the output current of the output driver circuit can be adjusted by the selection signal generated by the present invention.

도 5는 본 발명에 따라 생성된 선택신호를 어레이용 내부 전원전압 발생회로에 적용한 예를 나타내는 도면으로서, 제 1 입력단자에 어레이용 기준전압이 인가되고 제 2 입력단자에는 피드백된 어레이용 내부 전원전압이 인가되며 어레이용 내부 전원 구동회로의 입력전압을 발생시키는 차동증폭기(41), 어레이용 전원전압(VDDA)이 인가되는 소스단자와 차동증폭기(41)의 출력단자에 연결된 드레인 단자를 갖고 게이트 단자와 드레인 단자가 서로 단락되어 있는 PMOS 트랜지스터(MP6), 차동증폭기(41)의 출력단자에 연결된 드레인 단자와 접지에 연결되어 있는 소스 단자를 갖는 NMOS 트랜지스터(MN6), 및 선택신호를 수신하고 펄스신호를 발생시켜 NMOS 트랜지스터(MN6)의 게이트 단자로 전송하는 펄스발생회로(42)를 구비하고 있다.5 is a diagram illustrating an example in which a selection signal generated according to the present invention is applied to an internal power supply voltage generation circuit for an array, wherein an array reference voltage is applied to a first input terminal and fed back to the second input terminal. It has a gate which has a voltage applied and a differential amplifier 41 generating an input voltage of an internal power supply driving circuit for the array, a source terminal to which the array power supply voltage VDDA is applied, and a drain terminal connected to the output terminal of the differential amplifier 41. A PMOS transistor (MP6) having a terminal and a drain terminal shorted to each other, an NMOS transistor (MN6) having a drain terminal connected to the output terminal of the differential amplifier 41 and a source terminal connected to ground, and a selection signal being received and pulsed A pulse generating circuit 42 for generating a signal and transmitting it to the gate terminal of the NMOS transistor MN6 is provided.

이하, 도 5의 어레이용 내부 전원전압 발생회로의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the internal power supply voltage generator circuit for the array of FIG. 5 will be described.

펄스발생회로(42)에 인가된 선택신호에 의해 펄스가 발생하며, 이 펄스의 하이 상태에서 NMOS 트랜지스터(MN6)는 온 되어 노드(N3)의 레벨이 로우로 된다. 이때, 어레이용 내부 전원 구동회로의 입력전압이 로우 상태로 된다.A pulse is generated by the selection signal applied to the pulse generator circuit 42. In the high state of this pulse, the NMOS transistor MN6 is turned on so that the level of the node N3 becomes low. At this time, the input voltage of the internal power supply driving circuit for the array becomes low.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치는 메탈 옵션을 사용하지 않고 필요한 전압을 선택할 수 있다.As described above, a semiconductor memory device having a plurality of internal power supply voltages according to the present invention can select a required voltage without using a metal option.

Claims (5)

전원패드로부터 패드 제어신호를 수신하고 복수의 선택신호를 출력하는 전압 선택회로;A voltage selection circuit that receives a pad control signal from a power pad and outputs a plurality of selection signals; 상기 전압 선택회로로부터 상기 복수의 선택신호들 중 해당 선택신호를 수신하는 복수의 전압패드들을 구비하는 것을 특징으로 하는 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치.And a plurality of voltage pads for receiving a corresponding selection signal among the plurality of selection signals from the voltage selection circuit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수의 전압패드들로부터 신호를 각각 수신하여 내부 기준전압을 발생시키는 복수의 내부 기준전압 발생회로를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치.And a plurality of internal reference voltage generation circuits for receiving signals from the plurality of voltage pads to generate internal reference voltages, respectively. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수의 내부 기준전압 발생회로들로부터 신호를 각각 수신하여 각기 다른 DC 전압을 발생시키는 복수의 DC 전압 발생회로를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치.And a plurality of DC voltage generation circuits for receiving signals from the plurality of internal reference voltage generation circuits to generate different DC voltages, respectively. MRS 제어회로로부터 MRS 제어신호를 수신하고 복수의 선택신호를 출력하는 전압 선택회로;A voltage selection circuit receiving the MRS control signal from the MRS control circuit and outputting a plurality of selection signals; 상기 전압 선택회로로부터 상기 복수의 선택신호들 중 해당 선택신호를 수신하여 내부 기준전압을 발생시키는 복수의 내부 기준전압 발생회로를 구비하는 것을 특징으로 하는 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치.And a plurality of internal reference voltage generating circuits configured to receive a corresponding selection signal among the plurality of selection signals from the voltage selection circuit and generate an internal reference voltage. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 복수의 내부 기준전압 발생회로들로부터 신호를 각각 수신하여 각기 다른 DC 전압을 발생시키는 복수의 DC 전압 발생회로를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 복수의 내부 전원전압을 갖는 반도체 메모리 장치.And a plurality of DC voltage generation circuits for receiving signals from the plurality of internal reference voltage generation circuits to generate different DC voltages, respectively.
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