KR20030035855A - Method for self-correcting, dose control of liquid treatment chemicals - Google Patents

Method for self-correcting, dose control of liquid treatment chemicals Download PDF

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KR20030035855A KR1020020055295A KR20020055295A KR20030035855A KR 20030035855 A KR20030035855 A KR 20030035855A KR 1020020055295 A KR1020020055295 A KR 1020020055295A KR 20020055295 A KR20020055295 A KR 20020055295A KR 20030035855 A KR20030035855 A KR 20030035855A
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테트라 프로세스 테크놀로지스
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Abstract

PURPOSE: A method for controlling quantity of liquid treating compound used to process liquid in a liquid treating system for automatically correcting flow variables is provided. CONSTITUTION: The automatic correct quantitative control method of liquid treating compound comprises a step (a) of measuring an average moving liquid flux through treatment system, and producing liquid flux signals from measured values; a step (b) of measuring concentration of compound inside the treatment system, and producing compound concentration signals for measured values; a step (c) of transmitting the signals produced from the step (a) and signals produced from the step (b); a step (d) of automatically calculating input quantity of compound from the signals supplied to compound input controller(50); a step (e) of transmitting output signals from the compound input controller based on the input quantities calculated in the step (d) to compound supply system(60); a step (f) of discharging compound from the step (d) into inlet flow(20) by responding to output signals of the step (e); and a step (g) of continuously repeating the steps (a) to (f) during liquid treatment process.

Description

액체 처리 화학물질을 자가 보정 방식으로 용량 제어하는 방법{METHOD FOR SELF-CORRECTING, DOSE CONTROL OF LIQUID TREATMENT CHEMICALS}METHOD FOR SELF-CORRECTING, DOSE CONTROL OF LIQUID TREATMENT CHEMICALS}

발명의 기술분야Technical Field of the Invention

본 발명은 액체 처리 화학물질을 자가 보정 방식으로 용량 제어하는 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 흐름 변수들을 자가 보정하는 액체 처리 시스템내에서 액체를 프로세싱하기 위해 사용되는 액체 처리 화학물질의 용량을 제어하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for dose control of liquid treatment chemicals in a self-calibrating manner. More particularly, the present invention relates to a method for controlling the volume of liquid processing chemical used to process a liquid in a liquid processing system that self-corrects flow variables.

발명의 종래기술Prior art of the invention

폐수 필터 시스템과 같은 처리 시스템에서 액체의 프로세싱에 사용되는 공급 화학물질의 제어는 컴퓨터화된 제어 장치의 사용을 통해 자동화될 수 있다. 문제는 시스템에 존재하는 화학물질의 측정의 부정확 및 액체 유량이 가변적인 경우 화학물질 대 액체의 가변적인 비 때문에 처리 시스템내로 화학물질의 자동 투입 동안일어날 수 있다. 액체 유량은 하기의 몇가지 인자에 기인하여 달라질 수 있다:Control of feed chemicals used in the processing of liquids in treatment systems such as wastewater filter systems can be automated through the use of computerized control devices. Problems can arise during automatic dosing of chemicals into the treatment system due to inaccurate measurement of chemicals present in the system and variable liquid to liquid ratios when the liquid flow rate is variable. Liquid flow rate may vary due to several factors:

1. 처리 공정 동안에 짧은 시간 동안 개폐함으로써 시스템을 통하여 유입물을 증가시키고 감소시키는 펌프;1. a pump that increases and decreases influent through the system by opening and closing for a short time during the treatment process;

2. 필요한 시간 동안 처리 시스템에 추가되는 추가적인 펌프. 예를 들어, 폭풍해일 동안에는 폐수를 필터로 펌핑하기 위해 추가적인 펌프가 필요하다.2. Additional pump added to the treatment system for the required time. For example, during storm surges an additional pump is needed to pump wastewater into the filter.

유입 흐름에서의 짧은 증가일지라도 투입 과정에서 부정확을 초래할 수 있는 처리 시스템을 통하여 흐름에서 피크를 일으킨다.Even a short increase in the inflow stream causes a peak in the flow through the treatment system which can lead to inaccuracies in the input process.

과거에, 투입은 유입 화학물질 농도를 실험실 또는 벤치 시험하고 유입 흐름을 측정함으로써 수행되었다. 후속적으로, 용량 계산이 수행되었고, 투입 장치, 예컨대 화학물질 공급 펌프가 상기 계산에 따라 수동으로 조정되었다. 몇년 후에, 투입 펌프의 부분적인 페이싱(pacing)이 유입 물 흐름 시그널을 사용하여 실행되었다. 그러나, 수동으로 유입 화학물질 농도를 시험하고 수동으로 펌프의 투입량 속도를 미세조절해야 할 필요가 여전히 존재하였다. 얼마 후에, 유입 화학물질 농도가 합리적으로 안정한 경우, 폐수 플랜트와 같은 공정 처리 플랜트가 예컨대 환경 승인을 충족시키는 엄격한 유출 표준을 가짐이 밝혀졌다. 특정한 유출 화학물질 농도 시험 결과를 유지하기 위해 투입 속도를 변화시키는 것은 더욱 양호한 투입 결과를 보증하는 더욱 직접적인 접근법이다.In the past, input has been performed by laboratory or bench testing influent chemical concentrations and measuring influent flow. Subsequently, a dose calculation was performed and the input device, such as the chemical feed pump, was adjusted manually according to the above calculation. After a few years, partial pacing of the input pump was performed using the influent flow signal. However, there was still a need to manually test the incoming chemical concentration and manually fine tune the dosing rate of the pump. After a while, when the incoming chemical concentrations are reasonably stable, it has been found that process treatment plants, such as wastewater plants, have stringent effluent standards, eg meeting environmental approvals. Changing the dosing rate to maintain specific effluent chemical concentration test results is a more direct approach to guarantee better dosing results.

최근에, 화학물질 농도에 대한 신뢰할 수 있는 자동 분석기를 사용할 수 있게 되었고 전체 투입 과정의 자동화가 가능해졌다. 따라서, 수동 시험 및 수동 조정에 대한 필요는 사실상 없어졌다. 추가적인 결과는 자동 분석기가 또한 질화작용을 제어하기 위한 폭기된 생물학적 반응기내로의 탄산나트륨의 첨가 또는 인 제거를 제어하기 위한 정화제 이전에 철 또는 알루미늄 염의 첨가와 같은 다른 적용을 위해 유용한 투입 과정을 수행하는 물 처리에서 몇가지 중요한 화학물질을 검출하도록 설정될 수 있다는 것이다.Recently, reliable automated analyzers for chemical concentrations have been made available and automation of the entire dosing process has become possible. Thus, the need for manual testing and manual adjustment is virtually eliminated. Further results indicate that the automated analyzer also performs a dosing process useful for other applications such as the addition of sodium or carbonate to the aerated biological reactor to control nitrification or the addition of iron or aluminum salts prior to the purifying agent to control phosphorus removal. It can be set up to detect some important chemicals in the process.

가변성 흐름 시스템의 유입 흐름과 유출 흐름 둘 모두에서 화학물질을 계측하고 측정하는 방법의 정확성은 유입 흐름 스파이크 때문에 여전히 문제가 있다. 물 처리 동안 향상된 화학물질 투입을 위한 향상된 조정이 바람직하다.The accuracy of the method of measuring and measuring chemicals in both inflow and outflow flows of variable flow systems remains problematic due to inflow flow spikes. Improved adjustments for improved chemical dosing during water treatment are desirable.

본 발명의 목적은 자가 보정 방식의 자동 용량 제어에 의해 액체 처리 화학물질의 첨가를 제어하는 방법을 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a method for controlling the addition of liquid treatment chemicals by automatic dose control in a self-correcting manner.

도 1은 본 발명에 따라 액체 처리 화학물질을 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하는 방법의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a method for automatic dose control of a liquid treatment chemical in a self-correcting manner in accordance with the present invention.

발명의 요약Summary of the Invention

장점적으로, 출원인의 혁신적인 방법을 통해 액체 처리 공정, 예컨대 물 처리 또는 폐수 여과 공정 동안 화학물질 투입을 향상시키기 위해 향상된 제어를 사용하는 자가 보정 방식의 자동 용량 제어가 수행된다. 유량계 판독에서 피크 또는 스파이크는 시스템에 첨가될 화학물질 용량의 컴퓨터 계산 동안 부정확한 결과를 초래할 수 있다. 본 발명의 방법은 액체 유량의 이동 평균을 사용하기 때문에 유량에서의 피크 또는 스파이크가 용량 제어 시그널에서 설명되도록 자가 보정하는 것이다.Advantageously, the Applicant's innovative method results in self-calibrating, automatic dose control using enhanced control to improve chemical input during liquid treatment processes such as water treatment or wastewater filtration processes. Peaks or spikes in the flowmeter readings can cause inaccurate results during computer calculations of the chemical capacity to be added to the system. Since the method of the present invention uses a moving average of the liquid flow rate, it is self-correcting so that peaks or spikes at the flow rate are accounted for in the capacity control signal.

처리 화학물질의 첨가를 조정하는 방법은 액체 유량계, 유입 화학물질 농도분석기 및/또는 유출 화학물질 농도 분석기로부터의 시그널의 혼합을 포함하는 자가 보정 방식의 자동 용량 제어 시스템을 사용한다. 이러한 신규한 혼합은 향상된 화학물질 투입을 위해 필요한 정확성 및 제어를 제공한다. 이러한 시그널은 화학물질 투입 펌프를 제어하는 컴퓨터화된 화학물질 용량 제어기로 보내진다.The method of adjusting the addition of treatment chemicals uses a self-calibrating, automated dose control system that includes mixing of signals from liquid flow meters, influent chemical concentration analyzers and / or effluent chemical concentration analyzers. This new blend provides the accuracy and control needed for improved chemical dosing. This signal is sent to a computerized chemical dose controller that controls the chemical input pump.

화학물질 시스템내에서 처리될 액체는 탄소 공급원인 화학물질로 처리된 폐수를 포함할 수 있다. 탄소 공급원은 종종 탈질소작용을 촉진시키기 위해 탈질소 반응기에 첨가된다.Liquids to be treated in a chemical system may include wastewater treated with chemicals as a carbon source. Carbon sources are often added to the denitrification reactor to promote denitrification.

물 처리 화학물질을 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하기 위한 하나의 방법에서, 유량계는 유입 유량계이고 화학물질 농도 분석기는 유출 분석기이거나 유입 및 유출 농도 분석기의 혼합이다. 액체 흐름 데이터 및 화학물질 농도 분석의 혼합은 물 처리 동안 화학물질 투입을 향상시키기 위해 투입을 제어하기 위한 기준이다.In one method for automatic capacity control of water treatment chemicals in a self-calibrating manner, the flow meter is an inflow flow meter and the chemical concentration analyzer is an outflow analyzer or a mixture of inflow and outflow concentration analyzers. The mixing of liquid flow data and chemical concentration analysis is the criterion for controlling the input to improve the chemical input during water treatment.

유입 흐름 및 유출 흐름을 가진 처리 시스템내에서 액체 처리 공정 동안 액체 처리 화학물질을 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하기 위한 방법은 다음 단계들을 포함한다:The method for automatic dose control of the liquid treatment chemical in a self-calibrating manner during the liquid treatment process in a treatment system with an inflow stream and an outflow stream includes the following steps:

a. 처리 시스템을 통하여 이동 평균 액체 유량을 측정하고, 측정치로부터 액체 유량 시그널을 생성시키는 단계;a. Measuring a moving average liquid flow rate through the processing system and generating a liquid flow signal from the measurement;

b. 처리 시스템내에서 화학물질의 농도를 측정하고, 측정치로부터 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring the concentration of the chemical in the treatment system and generating a chemical concentration signal from the measurement;

c. 단계 (a)로부터 생성된 시그널 및 단계 (b)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하는 단계;c. Transmitting the signal generated from step (a) and the signal generated from step (b) to a chemical input controller;

d. 화학물질 투입 제어기에 공급된 시그널로부터 화학물질의 투입량을 자동으로 계산하는 단계;d. Automatically calculating a dose of a chemical from a signal supplied to the chemical input controller;

e. 단계 (d)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;e. Transmitting an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (d) to the chemical supply system;

f. 단계 (e)의 출력 시그널에 응답하여 단계 (d)로부터의 화학물질을 유입 흐름으로 방출시키는 단계; 및f. Releasing the chemical from step (d) into the inlet stream in response to the output signal of step (e); And

g. 액체 처리 공정 동안 단계 (a) 내지 (f)를 계속적으로 반복하는 단계.g. Continuously repeating steps (a) to (f) during the liquid treatment process.

단계 (a)의 이동 평균 액체 흐름은 일정기간 동안 유량을 2회 이상 측정하고 측정치의 평균을 컴퓨팅함으로써 계산될 수 있다. 본 방법에서, 액체 유량은 시스템의 유입 흐름에서 측정된다. 또한, 액체 유량은 시스템의 유출 흐름에서 측정될 수 있다. 액체 유량은 플로우 페이스 멀티플라이어(flow pace multiplier)에 의해 조정될 수 있다. 단계 (b)에서의 화학물질의 농도는 시스템의 유입 흐름에서 측정될 수 있다. 또한, 단계 (b)에서의 화학물질의 농도는 시스템의 유출 흐름에서 측정될 수 있다. 또 다른 대안에서, 단계 (b)에서의 화학물질의 농도는 시스템의 유출 흐름 및 유입 흐름 둘 모두에서 측정된다. 본 발명의 일면에서, 단계 (b)의 화학물질은 단계 (d)의 화학물질과 동일한 화학물질이다. 대안적으로, 단계 (b)의 화학물질은 단계 (d)의 화학물질과 상이한 화학물질이다.The moving average liquid flow of step (a) can be calculated by measuring the flow rate two or more times over a period of time and computing the average of the measurements. In this method, the liquid flow rate is measured at the inflow of the system. In addition, the liquid flow rate can be measured at the outflow of the system. The liquid flow rate can be adjusted by a flow pace multiplier. The concentration of chemical in step (b) can be measured in the inflow stream of the system. In addition, the concentration of chemicals in step (b) can be measured in the effluent flow of the system. In another alternative, the concentration of chemical in step (b) is measured in both the effluent stream and the inflow stream of the system. In one aspect of the invention, the chemical of step (b) is the same chemical as the chemical of step (d). Alternatively, the chemical of step (b) is a chemical that is different from the chemical of step (d).

바람직하게는, 단계 (a)에서의 이동 평균 액체 유량의 측정 및 단계 (b)에서의 화학물질의 농도의 측정은 연속적으로 수행된다. 또한, 단계 (a)에서의 액체유량의 측정은 연속적이고 측정치의 평균은 특정 기간내에서 취해진다. 평균을 컴퓨팅하기 위한 기간은 15초 내지 30분이다. 단계 (b)에서의 화학물질의 농도의 측정은 일순간 내지 약 15분의 범위내에서 간격을 두고 수행된다.Preferably, the measurement of the moving average liquid flow rate in step (a) and the measurement of the concentration of chemical in step (b) are carried out continuously. In addition, the measurement of the liquid flow rate in step (a) is continuous and the average of the measurements is taken within a certain period of time. The period for computing the average is 15 seconds to 30 minutes. The determination of the concentration of the chemical in step (b) is performed at intervals in the range of one minute to about 15 minutes.

하나의 구체예에서, 액체 처리 공정의 액체는 물이고 처리 공정은 물 처리 공정이다.In one embodiment, the liquid of the liquid treatment process is water and the treatment process is a water treatment process.

자가 보정 방식으로 자동 용량 조정하는 방법은 유입 흐름 및 유출 흐름을 가진 탈질소 처리 시스템내에서 사용될 수 있으며, 조정될 화학물질은 물 처리 공정 동안 질산염-질소이고 유기 탄소의 화학적 공급원은 공급 화학물질이다. 본 방법은 하기 단계들을 포함한다:The self-calibrating method of self-calibration can be used in denitrification systems with inflow and outflow streams, where the chemical to be adjusted is nitrate-nitrogen during the water treatment process and the chemical source of organic carbon is the feed chemical. The method includes the following steps:

a. 처리 시스템을 통하여 이동 평균 물 유량을 측정하고, 측정치로부터 물 유량 시그널을 생성시키는 단계;a. Measuring a moving average water flow rate through the treatment system and generating a water flow signal from the measurement;

b. 처리 시스템의 유입 흐름내에서 질산염-질소의 농도를 측정하고, 측정치로부터의 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring the concentration of nitrate-nitrogen in the inlet stream of the treatment system and generating a chemical concentration signal from the measurement;

c. 단계 (a)로부터 생성된 시그널 및 단계 (b)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하는 단계;c. Transmitting the signal generated from step (a) and the signal generated from step (b) to a chemical input controller;

d. 하나 이상의 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 질산염/질소 시그널을 자동으로 조정하는 단계;d. Automatically adjusting the nitrate / nitrogen signal by one or more adjustable dose factors;

e. 화학물질 투입 제어기에 공급된 조정된 시그널로부터 공급 화학물질의 투입량을 자동으로 계산하는 단계;e. Automatically calculating a dose of feed chemical from the adjusted signal supplied to the chemical input controller;

f. 단계 (e)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;f. Transmitting an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (e) to the chemical supply system;

g. 단계 (f)의 출력 시그널에 응답하여 공급 화학물질을 유입 흐름내로 방출시키는 단계; 및g. Releasing the feed chemical into the inlet stream in response to the output signal of step (f); And

h. 탈질소 공정 동안 계속적으로 단계(a) 내지 (g)를 반복하는 단계.h. Continuously repeating steps (a) to (g) during the denitrification process.

본 방법에서, 공급 화학물질은 알코올 및 휘발성 지방산으로 구성된 군으로부터 선택된다. 바람직하게는, 공급 화학물질은 메탄올이다. 하나의 일면에서, 단계 (c)의 물 유량 시그널은 플로우 페이스 멀티플라이어에 의해 자동으로 조정된다. 또 다른 일면에서, 질산염-질소의 농도는 시스템의 유출 흐름 및 유입 흐름 둘 모두에서 측정된다. 바람직하게는, 유출 질산염-질소에 대한 목표값(setpoint)이 선택되고, 유출 흐름 농도 시그널이 유출 흐름에서 질산염-질소의 농도의 측정으로부터 생성되고, 상기 농도 시그널은 화학물질 투입 제어기로 전송된다.In the process, the feed chemical is selected from the group consisting of alcohols and volatile fatty acids. Preferably, the feed chemical is methanol. In one aspect, the water flow rate signal of step (c) is automatically adjusted by the flow face multiplier. In another aspect, the concentration of nitrate-nitrogen is measured in both the outflow and inflow streams of the system. Preferably, a setpoint for effluent nitrate-nitrogen is selected and an effluent flow concentration signal is generated from the measurement of the concentration of nitrate-nitrogen in the effluent stream and the concentration signal is sent to a chemical dosing controller.

하나의 구체예에서, 질산염-질소의 유출 농도와 목표값 사이의 차이는 제어 응답을 생성시키기 위해 계산되며, 제어 응답은 하나 이상의 감수성 인자에 의해 조정되고 조정된 제어 응답은 공급 화학물질의 투입량을 위한 계산내로 자동으로 혼입된다. 바람직하게는, 투입량은 화학물질 투입 제어기로부터 화학물질 공급 시스템으로 전송되는 수정된 출력 시그널을 생성시키기 위해 사용된다. 또한, 화학적 투입 제어기로부터의 수정된 출력 시그널은 재설정(reset) 시간 후에 화학물질 공급 시스템으로 전송된다. 본 발명의 하나의 구체예에서, 재설정 시간은 수동으로 입력된다. 또한, 재설정 시간은 수리학적 체류 시간을 기초로 하여 자동으로 계산된 변수이다. 수리학적 체류 시간은 처리 탱크내에서 부피 레벨 인디케이터를판독하고, 이동 평균 유량으로 부피를 나눔으로써 계산된다. 재설정 시간은 공정 동안 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기초로 한다. 질산염-질소 시그널은 하나 이상의 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 자동으로 조정된다.In one embodiment, the difference between the nitrate-nitrogen effluent concentration and the target value is calculated to produce a control response, where the control response is adjusted by one or more susceptibility factors and the adjusted control response changes the input of feed chemical. It is automatically incorporated into the calculation. Preferably, the dosage is used to generate a modified output signal that is sent from the chemical dosing controller to the chemical supply system. In addition, the modified output signal from the chemical dosing controller is sent to the chemical supply system after a reset time. In one embodiment of the invention, the reset time is entered manually. In addition, the reset time is a variable that is automatically calculated based on the hydraulic dwell time. Hydraulic residence time is calculated by reading the volume level indicator in the treatment tank and dividing the volume by the moving average flow rate. Reset time is based on hydraulic residence time and process reaction time during the process. The nitrate-nitrogen signal is automatically adjusted by one or more adjustable dose factors.

유입 흐름 및 유출 흐름을 가지는, 공급 화학물질로서 유기 탄소의 화학적 공급원을 사용하는 질화 처리 시스템내에서 물 처리 공정 동안 질산염-질소를 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하기 위한 대안적인 방법에서, 상기 방법은 하기 단계를 포함한다:In an alternative method for the automatic capacity control of nitrate-nitrogen in a self-correcting manner during a water treatment process in a nitriding treatment system using a chemical source of organic carbon as feed chemical with an inflow stream and an outflow stream, the method comprises It includes the following steps:

a. 유출 질산염-질소에 대한 목표값을 선택하는 단계;a. Selecting a target value for effluent nitrate-nitrogen;

b. 처리 시스템을 통하여 이동 평균 물 유량을 측정하고, 측정치로부터 물 유량 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring a moving average water flow rate through the treatment system and generating a water flow signal from the measurement;

c. 유출 흐름에서 질산염-질소의 농도를 측정하고, 측정치로부터 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;c. Measuring the concentration of nitrate-nitrogen in the effluent stream and generating a chemical concentration signal from the measurement;

d. 단계 (b)로부터 생성된 시그널 및 단계 (c)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하는 단계;d. Transmitting the signal generated from step (b) and the signal generated from step (c) to a chemical input controller;

e. 질산염-질소의 유출 농도와 목표값 사이의 차이를 계산하여 제어 응답을 생성시키는 단계;e. Calculating a difference between the nitrate-nitrogen effluent concentration and a target value to generate a control response;

f. 하나 이상의 감수성 인자에 의해 제어 응답을 조정하는 단계;f. Adjusting the control response by one or more susceptibility factors;

g. 제어 응답으로부터 공급 화학물질의 투입량을 자동으로 계산하는 단계;g. Automatically calculating the dose of feed chemical from the control response;

h. 단계 (g)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;h. Transmitting an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (g) to the chemical supply system;

i. 단계 (h)의 출력 시그널에 응답하여 공급 화학물질을 유입 흐름내로 방출시키는 단계; 및i. Releasing the feed chemical into the inlet stream in response to the output signal of step (h); And

j. 탈질소 공정 동안 단계 (a) 내지 (i)를 계속적으로 반복하는 단계.j. Continuously repeating steps (a) to (i) during the denitrification process.

질산염-질소의 농도는 유입 흐름 및 유출 흐름 둘 모두에서 측정된다. 하나의 일면에서, 유입 흐름에서 질산염-질소의 농도가 측정되고 유입 흐름 농도 시그널이 생성되고 화학물질 투입 제어기로 전송된다. 바람직하게는, 유입 흐름 농도 시그널은 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 조정되고 단계 (d)로부터의 물 유량 시그널은 플로우 페이스 멀티플라이어에 의해 조정된다.Nitrate-nitrogen concentrations are measured in both the inlet and outlet streams. In one aspect, the concentration of nitrate-nitrogen in the inflow stream is measured and an inflow stream concentration signal is generated and sent to the chemical dosing controller. Preferably, the inflow flow concentration signal is adjusted by a volume factor which can be adjusted and the water flow rate signal from step (d) is adjusted by a flow phase multiplier.

바람직한 구체예에서, 화학물질 투입 제어기로부터 화학물질 공급 시스템으로의 출력 시그널의 계산은 평균 물 유량, 유입 흐름에서의 질산염-질소의 농도 및 유출 흐름에서의 질산염-질소의 농도를 기초로 한다. 바람직하게는, 단계 (e)에서의 후속하는 제어 응답의 계산은 재설정 시간 후에 수행된다. 재설정 시간은 수동으로 입력될 수 있거나, 대안적으로는, 재설정 시간은 공정 동안 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기초로 하는, 자동으로 계산된 변수일 수 있다.In a preferred embodiment, the calculation of the output signal from the chemical input controller to the chemical supply system is based on the average water flow rate, the concentration of nitrate-nitrogen in the inlet stream and the concentration of nitrate-nitrogen in the effluent stream. Preferably, the calculation of the subsequent control response in step (e) is performed after the reset time. The reset time may be entered manually or, alternatively, the reset time may be an automatically calculated variable based on the hydraulic residence time and the process reaction time during the process.

유도된 제어 응답은 바람직하게는 목표값에 접근하거나 이로부터 멀어지도록 하는 빠른 변화율을 중화시키기 위해 생성된다. 바람직한 유도된 제어 응답은 재설정 시간 이전에 제 1 유출 농도를 측정하고, 재설정 시간에 제 2 유출 농도를 측정하고, 제 1 유출 농도를 제 2 유출 농도와 비교하고 이에 따라 제어 응답을 조정함으로써 생성된다.The derived control response is preferably generated to neutralize the rapid rate of change that causes the target value to approach or move away from it. Preferred derived control responses are generated by measuring the first outlet concentration before the reset time, measuring the second outlet concentration at the reset time, comparing the first outlet concentration with the second outlet concentration and adjusting the control response accordingly. .

유입 흐름 및 유출 흐름을 가지는, 공급 화학물질을 사용하는 액체 처리 시스템내에서 처리 공정 동안 액체 처리 화학물질의 자동 용량 제어를 위한 방법의 대안적인 구체예에서, 상기 방법은 하기 단계들을 포함한다:In an alternative embodiment of the method for automatic dose control of liquid treatment chemicals during a treatment process in a liquid treatment system using feed chemicals having an inflow stream and an outflow stream, the method comprises the following steps:

a. 유출 흐름에서 화학물질에 대한 목표값을 선택하는 단계;a. Selecting a target value for the chemical in the effluent stream;

b. 처리 시스템을 통과하는 액체 유량을 측정하고, 측정치로부터 액체 유량 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring a liquid flow rate through the processing system and generating a liquid flow signal from the measurement;

c. 유입 흐름에서 단계 (a)의 화학물질의 농도를 측정하고, 측정치로부터 유입 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;c. Measuring the concentration of the chemical of step (a) in the inflow stream and generating an influent chemical concentration signal from the measurement;

d. 유출 흐름에서 단계 (a)의 화학물질의 농도를 측정하고, 측정치로부터 유출 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;d. Measuring the concentration of the chemical of step (a) in the effluent stream and generating an effluent chemical concentration signal from the measurement;

e. 단계 (b)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하고 일차 제어 응답을 생성시키는 단계;e. Transmitting the signal generated from step (b) to a chemical dosing controller and generating a primary control response;

f. 플로우 페이스 멀티플라이어에 의해 일차 제어 응답을 조정하는 단계;f. Adjusting the primary control response by the flow phase multiplier;

g. 단계 (c)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하고 이차 제어 응답을 생성시키는 단계;g. Transmitting the signal generated from step (c) to the chemical dosing controller and generating a secondary control response;

h. 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 이차 제어 응답을 조정하는 단계;h. Adjusting the secondary control response by a dose factor that can be adjusted;

i. 단계 (d)로부터의 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하고 유출 화학물질 농도와 목표값 사이의 차이를 계산하여 삼차 제어 응답을 생성시키는 단계;i. Transmitting the signal from step (d) to the chemical dosing controller and calculating the difference between the effluent chemical concentration and the target value to generate a tertiary control response;

j. 하나 이상의 감수성 인자에 의해 삼차 제어 응답을 조정하는 단계;j. Adjusting the tertiary control response by one or more susceptibility factors;

k. 재설정 기간 후에 단계 (f)로부터의 삼차 제어 응답을 혼입시키면서 일차 제어 응답 및 이차 제어 응답으로부터 공급 화학물질의 투입량을 연속적으로 계산하는 단계;k. Continuously calculating the dose of feed chemical from the primary control response and the secondary control response while incorporating the tertiary control response from step (f) after the reset period;

l. 단계 (k)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;l. Sending an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (k) to the chemical supply system;

m. 단계 (l)의 출력 시그널에 응답하여 공급 화학물질을 유입 흐름내로 방출시키는 단계; 및m. Releasing the feed chemical into the inlet stream in response to the output signal of step (l); And

n. 처리 공정 동안 단계 (a) 내지 (m)을 계속적으로 반복하는 단계.n. Continuously repeating steps (a) to (m) during the treatment process.

바람직하게는 단계 (a)의 화학물질은 단계 (m)의 화학물질과 동일한 화학물질이다. 하나의 일면에서, 단계 (a)의 화학물질은 단계 (m)의 화학물질과 상이한 화학물질이다(38). 하나의 구체예에서, 재설정 시간은 수동으로 입력된다. 또한, 재설정 시간은 수리학적 체류 시간 및 공정 반응을 기초로 하는, 자동으로 계산된 변수이다. 수리학적 체류 시간은 처리 탱크내에서 부피 레벨 인디케이터를 판독하고, 이동 평균 유량으로 부피를 나눔으로써 계산된다. 공정 반응 시간은 주입된 화학물질의 존재에 대해 응답하기 위한 처리 공정을 위해 걸리는 시간이다. 재설정 시간은 공정 동안 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기초로 한다.Preferably the chemical of step (a) is the same chemical as the chemical of step (m). In one aspect, the chemical of step (a) is a chemical that is different from the chemical of step (m) (38). In one embodiment, the reset time is entered manually. In addition, the reset time is an automatically calculated variable based on the hydraulic residence time and the process reaction. Hydraulic residence time is calculated by reading the volume level indicator in the treatment tank and dividing the volume by the moving average flow rate. Process reaction time is the time taken for the treatment process to respond to the presence of injected chemicals. Reset time is based on hydraulic residence time and process reaction time during the process.

발명의 상세한 설명Detailed description of the invention

자가 보정 방식의 자동 용량 조정에 의해 액체 처리 화학물질의 첨가를 제어하는 신규하고 향상된 방법에서, 시스템내로 투입될 화학물질의 양의 계산은 액체 유량계로부터의 시그널, 유입 화학물질 농도 분석기로부터의 시그널 및/또는 유출 화학물질 농도 분석기로부터의 시그널의 이동 평균을 혼합하는 것이다. 화학물질의 자동 용량 제어의 이러한 방법은 화학물질의 첨가에 의해 액체를 처리하는 임의의 시스템, 예컨대, 물 처리 시스템 또는 폐수 처리 시스템을 위해 유용하다. 화학물질 농도 분석기로부터의 이들 시그널은 시그널로부터의 데이터를 분석하고 조정하는 컴퓨터화된 화학물질 용량 제어기로 보내지고 화학물질 투입 장치를 제어하는 출력 시그널을 생성시킴으로써 적당한 양의 화학물질이 처리 탱크 또는 필터에 첨가된다.In a new and improved method of controlling the addition of liquid treatment chemicals by automatic dose adjustment with self-calibration, the calculation of the amount of chemical to be introduced into the system includes the signal from the liquid flow meter, the signal from the incoming chemical concentration analyzer, and And / or mixing the moving average of the signal from the effluent chemical concentration analyzer. This method of automatic dose control of chemicals is useful for any system that treats liquids by the addition of chemicals, such as water treatment systems or wastewater treatment systems. These signals from the chemical concentration analyzer are sent to a computerized chemical dose controller that analyzes and adjusts the data from the signal and generates an output signal that controls the chemical dosing device so that the appropriate amount of chemical is added to the treatment tank or filter. Is added to.

본 발명의 방법은 처리 공정 동안 화학물질 투입을 향상시키기 위해 향상된 제어를 사용하는 자가 보정 방식의 자동 용량 제어를 수행한다. 유량에서 피크 또는 스파이크는 폭풍해일 또는 다른 증가된 유입 흐름 동안 처리 시스템에 더 많은 펌프를 추가함으로써 발생할 수 있다. 피크 또는 스파이크는 또한 물 처리 공정 동안 개폐되는 펌프에 의해 발생할 수 있다. 유량계 판독에서 피크 또는 스파이크는 시스템에 첨가될 화학물질 용량의 컴퓨터 계산 동안 부정확한 결과를 초래할 수 있다. 본 발명의 방법은 액체 유량의 이동 평균을 사용함으로써 유량에서 피크 또는 스파이크가 용량 제어 시그널에서 설명되도록 자가 보정한다.The method of the present invention performs self-calibrating automatic dose control using enhanced control to improve chemical dosing during the treatment process. Peaks or spikes at the flow rate can occur by adding more pumps to the treatment system during storm surges or other increased inflow flows. Peaks or spikes may also be caused by pumps that open and close during the water treatment process. Peaks or spikes in the flowmeter readings can cause inaccurate results during computer calculations of the chemical capacity to be added to the system. The method of the present invention uses a moving average of the liquid flow rate to self-correct so that peaks or spikes at the flow rate are accounted for in the capacity control signal.

장점적으로, 자동 용량 제어 방법은 또한 제어 작용의 최대 포지티브 및 네가티브 한계를 설정하는 능력, 이전의 변화가 시스템을 통해 보급되도록 하여 유출 센서에 디스플레이되도록 함으로써 물 처리 동안 화학물질의 투입을 향상시키는 능력을 포함한다.Advantageously, the automatic dose control method also has the ability to set the maximum positive and negative limits of the control action, improve the input of chemicals during water treatment by allowing previous changes to be disseminated through the system and displayed on the outflow sensor. It includes.

자동 용량 제어를 사용하는 액체 처리 시스템은 폐수 처리 시스템의 탈질소작용, 생물학적 폭기를 위한 탄산나트륨 또는 중탄산나트륨의 첨가 및 인산염을 제거하기 위해 디자인된 공정에서 알룸 또는 철 염의 첨가를 포함한다.Liquid treatment systems using automatic dose control include the denitrification of wastewater treatment systems, the addition of sodium carbonate or sodium bicarbonate for biological aeration and the addition of alum or iron salts in a process designed to remove phosphates.

도 1의 개략도에 관해, 폐수의 처리에서 화학 공정을 사용하는 액체 또는 폐수 처리 시스템은 공정 유입 흐름(20), 및 유출 흐름(30), 가변성 용량의 화학물질 투입 또는 공급 시스템(60)으로 시그널을 생성시키는 화학물질 투입 제어기(50)로서 언급된 컴퓨터화된 조정 시스템, 예컨대 처리 시스템에 적당한 화학물질을 투입하는 화학물질 공급 펌프(60)을 포함한다. 바람직하게는, 화학물질 공급 펌프(60)는 펌프 속도 변화 및/또는 펌프 스트로크 길이 변화를 통한 자동 가변성 출력을 포함한다. 상기 펌프는 2가지 또는 3가지 변수, 공정 이동 평균 물 유량, 유입 화학물질 농도의 입력, 및 대안적인 방법에서는, 유출 화학물질 농도의 입력을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기(50)로부터의 시그널에 의해 활성화된다.Referring to the schematic diagram of FIG. 1, a liquid or wastewater treatment system using a chemical process in the treatment of wastewater is signaled to the process inlet stream 20, and to the outlet stream 30, a variable dose of chemical input or supply system 60. And a chemical supply pump 60 for injecting the appropriate chemicals into the computerized control system, such as the treatment system, referred to as the chemical dosing controller 50 to produce the chemicals. Preferably, chemical feed pump 60 includes an automatically variable output through a change in pump speed and / or a change in pump stroke length. The pump may be coupled to a signal from chemical input controller 50 based on two or three variables, input of process moving average water flow, input of incoming chemical concentration, and alternatively input of outflow chemical concentration. Is activated by

제 1 변수인 공정 물 유량은 전자 유량계(25)에 의해 측정된다. 유량계는 바람직하게는 유입 흐름(20)에 위치되거나, 대안적으로는 유출 흐름(30)에 위치될 수 있다. 유량계(25)는 처리 시스템(10)을 통해 물 유량을 측정한다. 유량의 평균은 일정기간 동안 2회 이상 물 유량을 측정하고 상기 기간 동안 측정치의 평균을 컴퓨팅함으로써 계산된다. 예를 들어, 유량은 3분 동안 15초 마다 측정될 수 있고 이들 측정치의 평균은 이동 평균 유량을 제공할 수 있다. 이러한 방법으로, 유량에서 피크 또는 스파이크에 의해 일어난 예외적인 측정치가 보정된다. 물 유량 시그널은 측정치의 평균으로부터 생성된다. 유량계가 유출 흐름에 존재하는 경우, 판독은 공정 플랜트 배관 및 탱크용량의 지연 시간에 기인하여 시간이 지체될 것이다. 이러한 시간 지체는 시스템 조작자에 의해 화학물질 투입 제어기(50)에서 설명될 수 있다.The process water flow rate, which is the first variable, is measured by the electromagnetic flowmeter 25. The flow meter may preferably be located in the inflow stream 20, or alternatively in the outflow stream 30. Flowmeter 25 measures the water flow rate through treatment system 10. The average of the flow rates is calculated by measuring the water flow rate two or more times over a period of time and computing the average of the measurements over that period. For example, the flow rate can be measured every 15 seconds for 3 minutes and the average of these measurements can provide a moving average flow rate. In this way, exceptional measurements caused by peaks or spikes in the flow rate are corrected. The water flow signal is generated from the average of the measurements. If a flow meter is present in the effluent flow, the readout will be delayed due to delays in process plant piping and tank capacity. This time delay can be accounted for in the chemical input controller 50 by the system operator.

바람직하게는, 제어기(50)는 물 유량 시그널을 기초로 하는 일차 제어 응답을 생성시킨다. 제어기(50)는 플로우 페이스 멀티플라이어에 의해 유입 유량계 또는 유출 유량계로부터의 일차 제어 응답을 조정한다. 이러한 조정 또는 제어 응답의 임의의 조정은 조작자에 의해 수동으로 수행될 수 있지만 제어기(50)내로 미리 프로그래밍된 자동 조정이 바람직하다. 조정된 일차 제어 응답 또는 공정 흐름 인자는 투입 시그널과 같이 화학물질 공급 시스템으로 전송될 수 있다. 이러한 측정치 및 시그널은 약 5분 간격 이하에서 약 0.5초 만큼 자주 계속적으로 생성된다. 또한, 조정된 일차 제어 응답은 이차 및/또는 삼차 제어 응답과 혼합됨으로써 투입 시그널을 생성시킬 수 있다. 화학물질 공급 시스템(60)의 최대 출력은 물 처리 시스템(10)을 거치는 물 유량에 따라 다르다. 일차 제어 응답의 계산은 다음과 같이 표시된다:Preferably, the controller 50 generates a primary control response based on the water flow signal. The controller 50 adjusts the primary control response from the inflow or outflow flowmeter by the flow face multiplier. Any adjustment of this adjustment or control response can be performed manually by the operator, but automatic adjustment pre-programmed into the controller 50 is preferred. The adjusted primary control response or process flow factor may be sent to the chemical supply system as an input signal. These measurements and signals are continually generated as often as about 0.5 seconds below about 5 minutes. In addition, the adjusted primary control response may be mixed with the secondary and / or tertiary control response to generate an input signal. The maximum output of the chemical supply system 60 depends on the water flow rate through the water treatment system 10. The calculation of the primary control response is expressed as follows:

일차 제어 응답 = 플로우 페이스 멀티플라이어 × 평균 유량 ÷ 유량계 최대 범위Primary Control Response = Flow Face Multiplier × Average Flow ÷ Flow Meter Maximum Range

유입 흐름에서의 화학물질의 농도는 화학물질 투입량을 결정하는데 있어서 제 2의 변수이다. 화학물질 분석기(28)는 유입 흐름에서 화학물질 농도를 측정하고 화학물질 투입 제어기(50)로 전송되는 시그널을 생성시키기 위해 사용된다. 화학물질 농도를 측정하기 위한 화학물질 분석기는 당분야에 널리 공지되어 있으며 본원에 추가로 설명하지 않을 것이다. 화학물질 투입 제어기(50)는 화학물질로부터의 화학물질 시그널을 기초로 하여 이차 제어 응답을 생성시킨다. 이차 제어 응답은 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 조정된다. 조정될 수 있는 투입 인자는 공정 효율에서의 차이를 허용하기 위해 조작자에 의해 결정된다. 당분야에 공지된 표준 용량 인자는 이차 제어 응답을 조정하기 위해 사용될 수도 있다. 표준 용량 인자는 첨가된 화학물질과 이것이 응답하는 화학물질 사이의 경험적이거나 일반적으로 요구되는 비이고; 표준 인자는 당분야에 공지되어 있다. 질산염-질소를 제거하기 위해 메탄올을 사용하는 경우, 표준 용량 인자는 약 3.0이다.The concentration of chemicals in the inflow stream is the second parameter in determining chemical inputs. Chemical analyzer 28 is used to measure the chemical concentration in the influent stream and generate a signal sent to chemical input controller 50. Chemical analyzers for measuring chemical concentrations are well known in the art and will not be described further herein. Chemical input controller 50 generates a secondary control response based on the chemical signal from the chemical. The secondary control response is adjusted by the capacity factor, which can be adjusted. The input factors that can be adjusted are determined by the operator to allow for differences in process efficiency. Standard dose factors known in the art may be used to adjust the secondary control response. The standard dose factor is the empirical or generally required ratio between the chemical added and the chemical it responds to; Standard factors are known in the art. If methanol is used to remove nitrate-nitrogen, the standard dose factor is about 3.0.

이차 제어 응답의 계산은 다음과 같이 표시된다:The calculation of the secondary control response is expressed as follows:

이차 제어 응답 = (조정될 수 있는 용량 인자 × 측정된 유입 농도) ÷ (표준 용량 인자 × 최대 유입 농도)Secondary control response = (volume factor adjustable × measured inlet concentration) ÷ (standard dose factor × maximum inlet concentration)

그런 다음 화학물질 투입 제어기(50)로부터 공급 펌프(60)로의 출력 또는 투입 시그널은 조정된 이차 제어 응답에 의해 수정된다. 자동 용량 제어 방법의 본 단계에서 투입 시그널의 계산은 다음과 같이 표시된다:The output or input signal from chemical input controller 50 to feed pump 60 is then corrected by the adjusted secondary control response. The calculation of the input signal at this stage of the automatic dose control method is expressed as follows:

투입 시그널 = 조정된 일차 제어 응답 × 조정된 이차 응답Input signal = adjusted primary control response × adjusted secondary response

유입 화학물질 농도의 측정 및 조정된 일차 및 이차 제어 응답에 대한 시그널의 생성은 1초 미만 내지 약 15분의 간격으로 일어날 수 있다.Measurement of the incoming chemical concentration and generation of signals for the adjusted primary and secondary control responses can occur at intervals of less than 1 second to about 15 minutes.

화학물질 투입량을 계산하는데 있어서 제 3의 변수는 유출 흐름 화학물질 농도를 포함한다. 유출 흐름 화학물질 농도의 측정 및 이러한 측정에 기초한 시그널의 화학물질 투입 제어기(50)로의 전송은 삼차 제어 응답을 생성시킨다. 이러한 변수를 일차 제어 응답 또는 이차 제어 응답 또는 둘 모두와 혼합하는 것은 공정 효율의 레벨을 변경하기 위해 조정하거나 목표값에 대해 특정 유출 화학물질 농도 결과를 보증하도록 제어하기 위해서 바람직하다. 유출 화학물질 농도는 화학물질투입 제어기(50)로 전송되는 시그널을 생성시키는 유출 농도 분석기(38)에 의해 측정된다. 화학물질 투입 제어기(50)는 화학물질 분석기(38)로부터의 화학물질 시그널을 기초로 하는 삼차 제어 응답을 생성시킨다. 삼차 제어 응답은 유출 농도를 기초로 한다. 삼차 제어 응답은 더욱 복잡한 계산이다. 삼차 제어 응답은 선택된 유출 농도 목표값에 대해 제어한다.The third parameter in calculating the chemical input includes the effluent stream chemical concentration. The measurement of the effluent flow chemical concentrations and the transmission of signals based on these measurements to the chemical dosing controller 50 generates a tertiary control response. Mixing these variables with the primary control response or the secondary control response or both is desirable to adjust to change the level of process efficiency or to control to ensure a specific effluent chemical concentration result for the target value. The effluent chemical concentration is measured by the effluent concentration analyzer 38 which generates a signal that is sent to the chemical input controller 50. Chemical input controller 50 generates a tertiary control response based on the chemical signal from chemical analyzer 38. The tertiary control response is based on the effluent concentration. Tertiary control response is a more complex calculation. The tertiary control response controls for the selected effluent concentration target value.

본 발명의 제어 방법의 중요한 특징은 공정의 업스트림에서 화학물질 투입량의 변화를 제어하는 것과 공정에서 응답하고 유출 농도 결과가 측정되는 지점으로의 파이프 및 탱크용량을 통해 보급되는 결과를 기다리는 것 사이에 많은 경과 시간, 지연 시간의 가능성을 고려한다는 것이다. 시판되는 가장 유용한 제어기는 계속적으로 작동하도록 디자인되며, 이것은 지연 시간이 존재할 때 제어 문제점을 드러낸다.An important feature of the control method of the present invention is that between controlling the change in chemical input upstream of the process and waiting for the result to be replenished through the pipe and tank capacity to the point where the process responds and the effluent concentration results are measured. It considers the possibility of elapsed time and delay time. The most useful controllers on the market are designed to work continuously, which reveals control problems when there is a delay.

본 발명의 방법에서 제어 시스템은 상기에 설명된 조정된 일차 및 이차 제어 응답을 사용하여 계속적으로 작동하여 화학물질 투입 시그널을 생성시키며, 구분되는 간격에서만큼은 삼차 제어 응답을 생성시킨다. 이러한 간격은 재설정 시간으로서 공지되어 있다. 재설정 시간은 특정 간격 및 불변 간격으로 수동으로 설정되거나 자동으로 설정될 수 있다. 재설정 시간이 자동으로 계산되는 경우, 다음의 재설정 간격은 현재 공정 유량, 제어 지점과 측정 지점 사이의 파이프 및 탱크용량의 공지된 부피, 및 제어 변화에 응답하는 공정 자체 동안의 경험에 근거한 조정될 수 있는 일정기간(공정 반응 시간)을 기초로 한다. 이차 제어 응답의 계산은 공정 동안 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기준으로 한다. 수리학적 체류 시간은 처리 탱크내에서 부피 레벨 인디케이터를 판독하고, 이동 평균 유량으로 부피를 나눔으로써 계산된다. 재설정 시간은 공정 동안 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기초로 하는 자동으로 계산된 변수이다. 재설정 시간은 하기 방정식으로 표시될 수 있다:In the method of the present invention, the control system continuously operates using the adjusted primary and secondary control responses described above to generate a chemical input signal, generating a tertiary control response at discrete intervals. This interval is known as the reset time. The reset time can be set manually or automatically at specific and constant intervals. If the reset time is calculated automatically, the next reset interval can be adjusted based on the current process flow rate, the known volume of pipe and tank capacity between the control point and the measuring point, and experience during the process itself in response to control changes. Based on a period of time (process reaction time). The calculation of the secondary control response is based on the hydraulic residence time and the process reaction time during the process. Hydraulic residence time is calculated by reading the volume level indicator in the treatment tank and dividing the volume by the moving average flow rate. The reset time is an automatically calculated variable based on the hydraulic residence time and the process reaction time during the process. The reset time can be represented by the following equation:

재설정 시간 = (공정 탱크용량 부피 ÷ 이동 평균 유량) + 공정 반응 시간Reset time = (process tank volume volume ÷ moving average flow rate) + process reaction time

이러한 간격이 중지되는 경우, 유출 농도 인자는 재계산되고 삼차 제어 응답은 일차 및 이차 제어 응답과 혼합되어 화학물질 투입량 출력 시그널을 생성시킨다. 바람직하게는, 재설정 시간 후에 조정된 삼차 제어 응답이 계산내로 혼입되면서 조정된 일차 제어 응답 및 조정된 이차 제어 응답을 기초로 하는 공급 화학물질의 투입량이 계산되어 계속적으로 전송된다. 유입 화학물질 농도의 측정 및 조정된 일차 및 이차 응답에 대한 시그널의 생성은 1초 미만 내지 약 15분의 범위내에서 간격을 두고 일어날 수 있다. 재설정 간격의 시간은 약 5분 내지 약 120분이거나, 매우 거대한 처리 시스템에서는 심지어 3시간 내지 4시간 만큼 길다. 하나의 바람직한 방법에서, 재설정 시간은 약 30분 내지 약 60분이다. 재설정 시간이 만료된 후에, 새로운 재설정 간격은 그 시간에서의 공정 흐름을 사용하여 계산되고 순환이 다시 시작된다.If this interval is stopped, the runoff concentration factor is recalculated and the tertiary control response is mixed with the primary and secondary control responses to produce a chemical input output signal. Preferably, after the reset time, the adjusted tertiary control response is incorporated into the calculation and the dosage of feed chemicals based on the adjusted primary control and adjusted secondary control response is calculated and transmitted continuously. Measurement of the incoming chemical concentration and generation of signals for the adjusted primary and secondary responses can occur at intervals in the range of less than 1 second to about 15 minutes. The time between reset intervals is from about 5 minutes to about 120 minutes, or even as long as 3 to 4 hours in very large processing systems. In one preferred method, the reset time is from about 30 minutes to about 60 minutes. After the reset time expires, the new reset interval is calculated using the process flow at that time and the cycle starts again.

삼차 제어 응답은 유출 화학물질 농도를 기초로 한다. 삼차 제어가 최초로 개시되면, 기존의 제어 응답을 감소시키지도 증가시키지도 않는 중립 인자, 예컨대 일(1)로서 시작한다. 삼차 제어 응답에 대한 변화는 플랜트 조작자가 제어로서 수립하고 사용하는 목표값에 대해 측정된 유출 농도를 비교하으로써 계산된다. 삼차제어 응답에 대한 변화는 "단계 변화"로서 당분야에 공지되어 있다. 목표값은 화학물질 투입 제어기내로 기입되어 삼차 제어 응답을 계산하기 위해 사용된다. 이러한 계산은 상기 기술한 재설정 기간이 경과되는 경우 수행된다. 목표값은 "오차"를 결정하기 위해 유출 농도에서 감해지며 감수성 인자로 곱해진다. 감수성 인자는 투입을 필요로 하는 특정 액체 처리 공정에 대한 조작자의 경험에 기초하여 조작자에 의해 선택된다. 감수성 인자는 두가지 값을 가질 수 있다. 감수성 인자 값중 하나는 유출 농도가 상기 목표값을 초과하는 경우 사용하기 위해 디자인된다. 다른 하나는 유출 농도가 상기 목표값 미만인 경우 사용된다.The tertiary control response is based on the effluent chemical concentration. When tertiary control is initiated for the first time, it starts with a neutral factor, such as work (1), which neither decreases nor increases the existing control response. The change in tertiary control response is calculated by comparing the measured effluent concentration against a target value established and used by the plant operator as control. Changes to the tertiary control response are known in the art as "step changes". The target value is entered into the chemical dosing controller and used to calculate the tertiary control response. This calculation is performed when the above-described reset period has passed. The target value is subtracted from the runoff concentration to determine the "error" and multiplied by the sensitivity factor. Susceptibility factors are selected by the operator based on the operator's experience with the particular liquid treatment process requiring input. Susceptibility factors can have two values. One of the sensitivity factor values is designed for use when the runoff concentration exceeds the target value. The other is used when the effluent concentration is below the target value.

단계 변화 방정식은 다음과 같이 표시될 수 있다:The phase change equation can be expressed as follows:

단계 변화 =감수성 인자 × (유출 농도 - 목표값) Phase Change = Susceptibility Factor × (Outflow Concentration-Target Value)

100100

단계 변화 계산은 유출 농도가 목표값을 초과하는 경우 포지티브이며, 이는 다음 재설정 기간 동안 삼차 제어 응답의 크기를 증가시키고 화학물질 공급 시스템, 바람직하게는, 투입 펌프(60)을 가속시킨다. 단계 변화는 유출 농도가 목표값 미만인 경우 네가티브이며, 이는 삼차 제어 응답을 감소시키고 용량을 삭감시킨다.The step change calculation is positive if the effluent concentration exceeds the target value, which increases the magnitude of the tertiary control response and accelerates the chemical supply system, preferably the input pump 60, during the next reset period. The step change is negative if the effluent concentration is below the target value, which reduces the tertiary control response and reduces the dose.

조정된 삼차 제어 응답이 계산되는 경우, 조정된 삼차 제어 응답은 재설정 기간 후에 투입 출력 시그널을 계산하기 위해 사용되는 방정식내로 혼입될 수 있다. 이것이 투입 시그널 방정식에 적용되는 경우, 삼차 제어 응답을 포함하는 완전한 방정식은 다음과 같이 표시된다:When the adjusted tertiary control response is calculated, the adjusted tertiary control response can be incorporated into the equation used to calculate the input output signal after the reset period. If this applies to the input signal equation, the complete equation containing the cubic control response is expressed as follows:

투입 시그널 = 조정된 일차 제어 응답 × 조정된 이차 응답 × 조정된 삼차제어 응답Input signal = adjusted primary control response × adjusted secondary response × adjusted third control response

투입 시그널이 화학물질 투입 제어기(50)에 의해 자동으로 계산된 후에, 시그널은 화학물질 공급 시스템(60) 또는 펌프로 전송되어 처리 시스템에 공급 화학물질의 지시된 양을 투입하도록 한다. 공급 화학물질은 바람직하게는 유입 흐름(20)내로 투입된다.After the dosing signal is automatically calculated by the chemical dosing controller 50, the signal is sent to the chemical supply system 60 or pump to input the indicated amount of feed chemical to the treatment system. The feed chemical is preferably introduced into inlet stream 20.

본 방법에 실시에 있어서, 공정 변수는 다음의 삼차 제어 응답이 계산되기 직전에 빠른 속도로 목표값에 근접하거나 멀어질 수 있다. 화학물질 투입에서의 다음 단계 변화가 이러한 조건하에서 최종 유출 농도만을 기초로 한다기 보다는, 이것은 변화 조류의 속도에 반대로 작용하는 다음의 삼차 제어 응답을 수정하는데 도움이 되며, 수정된 삼차 제어 응답을 유도된 제어 응답이라 칭한다. 본 발명의 방법의 실시에 있어서, 유도된 제어 응답은 재설정 기간이 끝나기 전에 조정될 수 있는 시간에 유출 농도를 측정하고 이를 재설정 기간의 말기에서의 유출 농도와 비교함으로써 생성된다. 유출 농도에서의 변화율이 빠른 경우, 다음 단계의 화학물질 투입량에서의 변화는 이에 따라서 상향조정되거나 하향조정된다. 변화율 및 반응 인자는 각각의 설비에 따라 상이할 것이다. 사용된 인자는 또한 유출 농도가 재설정의 말기에서 목표값을 초과하는지 목표값 미만인지에 의존할 것이다.In the practice of the method, the process variable may approach or move away from the target value at high speed just before the next tertiary control response is calculated. Rather than the next step change in chemical dosing based solely on the final runoff concentration under these conditions, this helps to modify the next tertiary control response that reverses the rate of change algae and induces a modified tertiary control response. Is referred to as a control response. In the practice of the method of the invention, the derived control response is generated by measuring the effluent concentration at a time that can be adjusted before the reset period ends and comparing it with the effluent concentration at the end of the reset period. If the rate of change in the effluent concentration is rapid, the change in the next chemical input is either raised or lowered accordingly. The rate of change and the response factor will vary with each installation. The factor used will also depend on whether the runoff concentration is above or below the target value at the end of the reset.

실시예: 유출 농도(EC)를 재설정(R) 15분 전에 검사한 다음, R에도 검사하였다. 어느 한 방향에서의 0.3 mg/L 변화는 본 공정에 대한 변화의 빠른 속도라고 가정하였다. 변화의 방향에 반대로 작용하도록 25%의 인자에 의한 계산된 단계 변화를 증가시키거나 감소시켰다. 대표적인 방정식은 다음과 같다:Example: The effluent concentration (EC) was examined 15 minutes before the reset (R) and then also on R. A 0.3 mg / L change in either direction was assumed to be a rapid rate of change for this process. The calculated step change by 25% factor is increased or decreased to counteract the direction of change. Representative equations are as follows:

ECR> SP이고 ECR- ECR-15> 0.3인 경우 SCNEW= 1.25 x SCCALC이거나When EC R > SP and EC R -EC R-15 > 0.3, SC NEW = 1.25 x SC CALC

ECR- ECR-15≤ -0.3인 경우 SCNEW= 0.75 x SCCALC이고For EC R -EC R-15 ≤ -0.3 SC NEW = 0.75 x SC CALC and

ECR< SP이고 ECR- ECR-15> 0.3인 경우 SCNEW= 0.75 x SCCALC이거나When EC R <SP and EC R -EC R-15 > 0.3, SC NEW = 0.75 x SC CALC

ECR- ECR-15≤ -0.3인 경우 SCNEW= 1.25 x SCCALC이다For EC R -EC R-15 ≤ -0.3, SC NEW = 1.25 x SC CALC

상기 식에서, EC는 유출 화학물질 농도이고, R은 재설정이고, SP는 목표값이고, SC는 상기 기재한 방정식에 따라 계산된 바와 같이 단계 변화이다. 인자, 1.25는 25%의 증가를 나타내고 인자 0.75는 25%의 감소를 나타낸다. 이러한 인자는 특정 액체 처리 공정을 사용시 경험에 기초하여 조작자에 의해 조정된다.Where EC is the effluent chemical concentration, R is the reset, SP is the target value, and SC is the step change as calculated according to the equation described above. Factor, 1.25, represents a 25% increase and factor 0.75, represents a 25% decrease. These factors are adjusted by the operator based on experience in using a particular liquid treatment process.

삼차 제어가 개시될 때, 삼차 제어 응답은 유출 농도 인자(ECF)를 기준으로 하고 1.0에서 시작한다. 재설정 시간의 말기에, 단계 변화 계산이 이루어지고 결과는 현재 유출 농도 인자에 더해진다. 이것은 각각의 재설정 기간의 말기에 반복된다:When tertiary control is initiated, the tertiary control response is based on the runoff concentration factor (ECF) and starts at 1.0. At the end of the reset time, a step change calculation is made and the result is added to the current runoff concentration factor. This is repeated at the end of each reset period:

ECFNEW= ECFNOW+ SCNEW ECF NEW = ECF NOW + SC NEW

본 방법의 실시 동안, 단계들은 합리적인 범위내에서 제어 입력 및 출력을 유지시킨다. 삼차 제어 응답을 제어불능으로부터 배제시키기 위해, 조작자가 조정할 수 있는 삼차 제어 작용을 위한 상한 및 하한을 화학물질 투입 제어기에 프로그래밍하였다. 유출 농도는 이러한 한계를 초과하는 것을 허용치 않을 것이다. 하나의 바람직한 방법 동안, 투입 펌프에 대한 최소 및 최대 허용가능한 시그널이 설정될 수 있다. 재설정 시간은 수동 또는 자동으로 설정될 수 있기 때문에, 최소 및 최대 재설정 시간 한계는 각각에 대해 설정될 수 있다.During the implementation of the method, the steps keep the control input and output within a reasonable range. In order to exclude the tertiary control response from out of control, an upper and lower limits for the tertiary control action that the operator can adjust are programmed into the chemical dosing controller. The runoff concentration will not allow to exceed this limit. During one preferred method, the minimum and maximum allowable signals for the input pump can be set. Since the reset time can be set manually or automatically, the minimum and maximum reset time limits can be set for each.

바람직하게는, 제어 시스템은 수동 제어, 흐름 제어, 흐름과 유입 농도, 흐름과 유출 농도, 또는 흐름과 유입 및 유출 농도에 대해 허용할 수 있다. 이것은 상이한 장치 배치 뿐만 아니라 시스템의 여러 부분상에서의 유지를 허용한다. 본 발명의 실시 동안 사용된 가능한 제어 변수중 일부의 목록은 다음과 같다:Preferably, the control system may allow for manual control, flow control, flow and inlet concentrations, flow and outlet concentrations, or flow and inlet and outlet concentrations. This allows for maintenance on different parts of the system as well as different device arrangements. The list of some of the possible control variables used during the practice of the present invention is as follows:

제어 변수Control variables

외부 설정(MMI)External setting (MMI) 내부 설정(PLC)Internal setting (PLC) 조정될 수 있는 용량 인자플로우 페이스 멀티플라이어공정 탱크용량 부피목표값(SP)공정 반응 시간감수성 인자+SP를 초과하는 빠른 변화율-SP를 초과하는 빠른 변화율+SP 미만의 빠른 변화율-SP 미만의 빠른 변화율SP에 접근하는 변화율 인자SP로부터 멀어지는 변화율 인자최소 유출 농도 인자(ECF)최대 ECF최대 투입 시그널최소 투입 시그널재설정 시간 자동/수동 모드수동 재설정 시간수동 투입 시그널자동/수동 제어 모드흐름 제어 모드흐름 + 유입 농도 제어 모드흐름 + 유출 농도 제어 모드흐름 + 유입 + 유출 농도 제어 모드Adjustable Volume Factor Flow Face Multiplier Process Tank Capacity Volume Target Value (SP) Process Response Time Susceptibility Factor + Fast Change Rate Above SP-Fast Change Rate Above SP + Fast Change Rate Below SP-Fast Change Rate Below SP Rate of change factor approaching to SP Factor of change away from SP Minimum ECF Maximum ECF Maximum ECF Maximum Input Signal Minimum Input Signal Reset Time Automatic / Manual Mode Manual Reset Time Manual Input Signal Automatic / Manual Control Mode Flow Control Mode Flow + Influent Concentration Control Mode Flow + Outflow Concentration Control Mode Flow + Inflow + Outflow Concentration Control Mode 표준 용량 인자최대 유입 농도유량계 범위최대 재설정 시간SP를 초과하는 최대 감수성 인자SP 미만의 최대 감수성 인자최소 재설정 시간Standard Dose Factor Maximum Inlet Concentration Flowmeter Range Maximum Reset Time Above Maximum Susceptibility Factor Above SP Maximum Susceptibility Factor Below SP Reset Time

본 발명의 하나의 바람직한 방법에서, 기술된 액체 처리 시스템은 폐수 처리 시스템일 것이고, 공정은 폐수 흐름내로 투입되는 화학물질로서 유기 탄소의 공급원을 사용하는 탈질소 공정일 것이다. 그러나 본 발명의 방법은 상기 기술한 시스템과 같은 처리 화학물질의 자동 투입을 필요로하는 임의의 액체 처리 시스템에 적용될 수 있으며, 폐수 처리 시스템에 제한되지 않는다.In one preferred method of the present invention, the liquid treatment system described will be a wastewater treatment system, and the process will be a denitrification process using a source of organic carbon as the chemical introduced into the wastewater stream. However, the method of the present invention can be applied to any liquid treatment system that requires automatic dosing of treatment chemicals, such as the system described above, and is not limited to wastewater treatment systems.

탈질화는 질소 가스로의 수성의 질산염-질소 및 아질산염-질소의 생화학적 전환이다. 탈질화 반응기는 상향흐름 또는 하향흐름 과립형 필터 또는 팩키징된 베드 뿐만 아니라 교반된 탱크 또는 회전하는 생물학적 수축기를 포함하는 많은 형태를 가정할 수 있다. 유기 탄소의 화학적 공급원은 탈질소 공정에서 사용된다. 탄소 공급원은 전형적으로 알콜 또는 휘발성 지방산과 같은 유기산이다. 하나의 바람직한 알콜은 메탄올이고, 대안적으로, 아세트산이 화학적 공급원이 될 수 있다. 바람직하게는, 폐수 처리 시스템은 유입 흐름(20) 및 유출 흐름(30)을 포함한다. 탈질소 공정에서, 공급 화학물질, 예컨대, 메탄올의 투입은 폐수 흐름내에서 질산염-질소 농도로부터 계산된다. 질산염-질소의 농도는 유입 흐름(20) 또는 유출 흐름(30) 또는 둘 모두에서 계산될 수 있다. 탈질소 공정에서 본 방법의 실시 동안, 처리 시스템을 통하여 이동 평균 물 유량이 측정된다. 유량의 평균은 일정기간 동안 2회 이상 물 유량을 측정하고 이 기간 동안 측정치의 평균을 컴퓨팅함으로써 계산된다. 평균 유량을 기초로 하는 시그널이 생성되고 일차 제어 응답으로서 화학물질 투입 제어기(50)로 전송된다. 일차 제어 응답은 플로우 페이스 멀티플라이어에 의해 조정될 수 있다. 그런 다음 질산염-질소의 농도는 유입 흐름(20)에서 측정되고 시그널이 생성되고 이차 제어 응답으로서 화학물질 투입 제어기(50)로 전송된다. 이차 제어 응답은 하나 이상의 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 자동으로 수정될 수 있다. 표준 용량 인자 및 다른 조작자가 조정할 수 있는 용량인자를 사용함으로써 조작자는 투입될 액체 처리 시스템 사용시 그의 경험에 기초하여 이차 제어 응답을 수정할 수 있다. 본 발명의 하나의 실시 방법에서, 조정된 일차 제어 응답 및 조정된 이차 제어 응답은 화학물질 투입 제어기(50)로부터 화학물질 공급 시스템(60)으로 전송되는 화학물질 투입 출력 시그널을 생성시키기 위해 혼합된다. 화학물질 공급 시스템(60)은 화학물질 투입 출력 시그널을 기초로 하는 양으로 메탄올을 공급한다.Denitrification is the biochemical conversion of aqueous nitrate-nitrogen and nitrite-nitrogen into nitrogen gas. Denitrification reactors can assume many forms including upflow or downflow granular filters or packaged beds, as well as stirred tanks or rotating biological shrinkers. Chemical sources of organic carbon are used in the denitrification process. The carbon source is typically an organic acid such as an alcohol or volatile fatty acid. One preferred alcohol is methanol, and alternatively acetic acid can be a chemical source. Preferably, the wastewater treatment system comprises an inflow stream 20 and an outflow stream 30. In the denitrification process, the input of feed chemicals, such as methanol, is calculated from the nitrate-nitrogen concentration in the wastewater stream. The concentration of nitrate-nitrogen can be calculated in the inflow stream 20 or the outflow stream 30 or both. During the implementation of the method in the denitrification process, a moving average water flow rate is measured through the treatment system. The average of the flow rates is calculated by measuring the water flow rate two or more times over a period of time and computing the average of the measurements over this period. A signal based on the average flow rate is generated and sent to the chemical input controller 50 as the primary control response. The primary control response can be adjusted by the flow face multiplier. The nitrate-nitrogen concentration is then measured in the inflow stream 20 and a signal is generated and sent to the chemical input controller 50 as a secondary control response. The secondary control response can be automatically corrected by one or more adjustable dose factors. By using a standard dose factor and another operator adjustable dose factor, the operator can modify the secondary control response based on his experience in using the liquid handling system to be injected. In one embodiment of the invention, the adjusted primary control response and the adjusted secondary control response are mixed to generate a chemical input output signal that is sent from the chemical input controller 50 to the chemical supply system 60. . Chemical supply system 60 supplies methanol in an amount based on the chemical input output signal.

또한, 질산염-질소 농도는 유출 흐름(30)에서 측정될 수 있다. 유출 농도를 기초로 하는 삼차 제어 응답은 측정된 유출 농도를 플랜트 조작자가 제어로서 수립하여 사용하는 목표값과 비교함으로써 계산된다. 목표값은 화학물질 투입 제어기내로 입력되어 삼차 제어 응답을 계산하기 위해 사용된다. 이러한 계산은 상기 기술된 재설정 기간이 경과될 때 수행된다. 목표값은 "오차"를 측정하기 위해 유출 농도로부터 감해지고 조정된 삼차 제어 응답을 생성시키기 위해 감수성 인자에 의해 곱해진다. 조정된 삼차 제어 응답이 계산되는 경우, 조정된 삼차 제어 응답은 재설정 기간이 만료된 후에 투입 출력 시그널을 계산하기 위해 사용된 방정식내로 혼입될 수 있다. 이것이 투입 시그널 방정식에 적용되는 경우, 삼차 제어 응답을 포함하는 완전한 방정식은 다음과 같이 표시된다:In addition, nitrate-nitrogen concentrations can be measured in the effluent stream 30. The tertiary control response based on the effluent concentration is calculated by comparing the measured effluent concentration with a target value established and used by the plant operator as control. The target value is entered into the chemical dosing controller and used to calculate the tertiary control response. This calculation is performed when the reset period described above has passed. The target value is subtracted from the effluent concentration to measure the "error" and multiplied by the susceptibility factor to produce an adjusted tertiary control response. When the adjusted tertiary control response is calculated, the adjusted tertiary control response can be incorporated into the equation used to calculate the input output signal after the reset period has expired. If this applies to the input signal equation, the complete equation containing the cubic control response is expressed as follows:

투입 시그널 = 조정된 일차 제어 응답 × 조정된 이차 응답 × 조정된 삼차 제어 응답Input signal = adjusted primary control response × adjusted secondary response × adjusted tertiary control response

그런 다음 투입 시그널은 화학물질 공급 시스템(60)으로 전송되어 유입 흐름(20)내로 필요한 양의 메탄올을 공급한다.The input signal is then sent to the chemical supply system 60 to supply the required amount of methanol into the inlet stream 20.

본 발명의 자가 보정 방식의 화학물질 투입 제어 시스템의 시도는 처리 화학물질의 과공급 또는 부족공급에 대한 감소된 경향 및 안정화된 유출 화학물질 농도를 보여주었다. 향상된 방법은 (1) 처리 화학물질을 과공급하는 위험없이, 본 발명 이전에 가능했던 것 보다 더 큰 정도의 전환 또는 더 낮은 유출 화학물질 농도로 처리 시스템을 작동시키고, (2) 여전히 신뢰할 만하게 유출 표적 또는 환경 승인을 충족시키면서, 더 적은 처리 화학물질을 사용하여 더 낮은 정도의 전환 또는 더 높은 유출 화학물질 농도로 처리 시스템을 작동시키는 것을 가능하게 하였다.Attempts of the self-correcting chemical input control system of the present invention have shown a reduced tendency for oversupply or undersupply of treatment chemicals and stabilized effluent chemical concentrations. The improved method (1) operates the treatment system to a greater degree of conversion or lower effluent chemical concentration than was possible before the present invention, without the risk of overfeeding the treatment chemical, and (2) still reliably effluent While meeting target or environmental approvals, it has been possible to use a lower treatment chemical to operate the treatment system at a lower degree of conversion or at a higher effluent chemical concentration.

상술한 설명은 본 발명의 바람직한 구체예의 예시 및 설명이며, 크기, 모양, 재료 및 다른 세부사항에 있어서의 변화는 당업자에게 자명할 것이다. 첨부된 청구항의 정신 또는 범위내에 속하는 이러한 모든 변화 및 수정을 청구항에 의해 포함시키고자 한다.The foregoing description is an illustration and description of preferred embodiments of the invention, and variations in size, shape, material, and other details will be apparent to those skilled in the art. It is intended that all such changes and modifications fall within the spirit or scope of the appended claims.

이상과 같이, 본 발명은 액체 처리 시스템에서 처리 화학물질의 과공급 또는 부족공급에 대한 감소된 경향 및 안정화된 유출 화학물질 농도를 달성하기 위한 자가 보정 방식의 화학물질 투입 제어 시스템을 제공한다.As described above, the present invention provides a self-correcting chemical dosing control system to achieve a reduced tendency for oversupply or undersupply of treatment chemicals and a stabilized effluent chemical concentration in a liquid treatment system.

Claims (39)

a. 처리 시스템을 통하여 이동 평균 액체 유량을 측정하고, 측정치로부터 액체 유량 시그널을 생성시키는 단계;a. Measuring a moving average liquid flow rate through the processing system and generating a liquid flow signal from the measurement; b. 처리 시스템내에서 화학물질의 농도를 측정하고, 측정치로부터 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring the concentration of the chemical in the treatment system and generating a chemical concentration signal from the measurement; c. 단계 (a)로부터 생성된 시그널 및 단계 (b)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하는 단계;c. Transmitting the signal generated from step (a) and the signal generated from step (b) to a chemical input controller; d. 화학물질 투입 제어기에 공급된 시그널로부터 화학물질의 투입량을 자동으로 계산하는 단계;d. Automatically calculating a dose of a chemical from a signal supplied to the chemical input controller; e. 단계 (d)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을, 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;e. Sending an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (d) to the chemical supply system; f. 단계 (e)의 출력 시그널에 응답하여 단계 (d)로부터의 화학물질을 유입 흐름내로 방출시키는 단계; 및f. Releasing the chemical from step (d) into the inlet stream in response to the output signal of step (e); And g. 액체 처리 공정 동안 단계 (a) 내지 (f)를 계속적으로 반복하는 단계를 포함하여, 유입 흐름 및 유출 흐름을 가지는 처리 시스템내에서 액체 처리 공정 동안 액체 처리 화학물질을 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하는 방법.g. Continuously repeating steps (a) to (f) during the liquid treatment process to automatically self-calibrate the liquid treatment chemicals during the liquid treatment process in a treatment system having an inflow and an outflow. Way. 제 1항에 있어서, 이동 평균 액체 유량이 일정기간 동안 유량을 2회 이상 측정하고, 측정치의 평균을 컴퓨팅함으로써 계산됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the moving average liquid flow rate is calculated by measuring the flow rate two or more times over a period of time and computing the average of the measurements. 제 1항에 있어서, 유량이 시스템의 유입 흐름에서 측정됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the flow rate is measured at the inflow of the system. 제 1항에 있어서, 유량이 시스템의 유출 흐름에서 측정됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the flow rate is measured at the outflow of the system. 제 1항에 있어서, 유량이 플로우 페이스 멀티플라이어(flow pace multiplier)에 의해 조정됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the flow rate is adjusted by a flow pace multiplier. 제 1항에 있어서, 단계 (b)의 화학물질의 농도가 시스템의 유입 흐름에서 측정됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the concentration of chemical in step (b) is measured in the inflow stream of the system. 제 1항에 있어서, 단계 (b)의 화학물질의 농도가 시스템의 유출 흐름에서 측정됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the concentration of chemical in step (b) is measured in the effluent flow of the system. 제 1항에 있어서, 단계 (b)의 화학물질의 농도가 시스템의 유출 흐름 및 유입 흐름 둘 모두에서 측정됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the concentration of chemical in step (b) is measured in both the effluent stream and the inflow stream of the system. 제 1항에 있어서, 단계 (b)의 화학물질이 단계 (d)의 화학물질과 동일한 화학물질임을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the chemical of step (b) is the same chemical as the chemical of step (d). 제 1항에 있어서, 단계 (b)의 화학물질이 단계 (d)의 화학물질과 상이한 화학물질임을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the chemical of step (b) is a different chemical from the chemical of step (d). 제 1항에 있어서, 단계 (a)에서의 액체 유량의 측정 및 단계 (b)에서의 화학물질의 농도의 측정이 연속적으로 수행됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the measurement of the liquid flow rate in step (a) and the measurement of the concentration of chemicals in step (b) are carried out continuously. 제 1항에 있어서, 단계 (a)에서의 액체 유량의 측정이 연속적이고, 유량의 평균이 설정 시간 후에 계산되며, 단계 (b)에서의 화학물질의 농도의 측정이 일순간 내지 약 15분 간격의 범위내에서 간격을 두고 수행됨을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the measurement of the liquid flow rate in step (a) is continuous, the average of the flow rates is calculated after a set time, and the measurement of the concentration of chemicals in step (b) is carried out at one to about 15 minute intervals. Method performed at intervals within the range. 제 1항에 있어서, 액체 처리 공정의 액체가 물이고 처리 공정이 물 처리 공정임을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the liquid in the liquid treatment process is water and the treatment process is a water treatment process. a. 처리 시스템을 통하여 이동 평균 물 유량을 측정하고, 측정치로부터 물 유량 시그널을 생성시키는 단계;a. Measuring a moving average water flow rate through the treatment system and generating a water flow signal from the measurement; b. 처리 시스템의 유입 흐름내에서 질산염-질소의 농도를 측정하고, 측정치로부터 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring the concentration of nitrate-nitrogen in the inlet stream of the treatment system and generating a chemical concentration signal from the measurement; c. 단계 (a)로부터 생성된 시그널 및 단계 (b)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하는 단계;c. Transmitting the signal generated from step (a) and the signal generated from step (b) to a chemical input controller; d. 하나 이상의 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 질산염/질소 시그널을 자동으로 조정하는 단계;d. Automatically adjusting the nitrate / nitrogen signal by one or more adjustable dose factors; e. 화학물질 투입 제어기에 공급된 조정된 시그널로부터 공급 화학물질의 투입량을 자동으로 계산하는 단계;e. Automatically calculating a dose of feed chemical from the adjusted signal supplied to the chemical input controller; f. 단계 (e)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을, 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;f. Transmitting an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (e) to the chemical supply system; g. 단계 (f)의 출력 시그널에 응답하여 공급 화학물질을 유입 흐름내로 방출시키는 단계; 및g. Releasing the feed chemical into the inlet stream in response to the output signal of step (f); And h. 탈질소 공정 동안 단계 (a) 내지 (g)를 계속적으로 반복하는 단계를 포함하여, 유입 흐름 및 유출 흐름을 가지는, 공급 화학물질로서 유기 탄소의 화학적 공급원을 사용하는 탈질소 처리 시스템내에서 물 처리 공정 동안 질산염-질소를 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하는 방법.h. Treatment of water in a denitrification system using a chemical source of organic carbon as feed chemical, with continuous inflow and outflow, including repeating steps (a) to (g) during the denitrification process. Self-calibration control of nitrate-nitrogen during the process. 제 14항에 있어서, 공급 화학물질이 알코올 및 휘발성 지방산으로 구성된 군으로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the feed chemical is selected from the group consisting of alcohols and volatile fatty acids. 제 14항에 있어서, 공급 화학물질이 메탄올임을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the feed chemical is methanol. 제 14항에 있어서, 단계 (c)의 물 유량 시그널이 플로우 페이스 멀티플라이어에 의해 자동으로 조정됨을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the water flow rate signal of step (c) is automatically adjusted by a flow face multiplier. 제 14항에 있어서, 질산염-질소의 농도가 시스템의 유출 흐름 및 유입 흐름 둘 모두에서 측정됨을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the concentration of nitrate-nitrogen is measured in both the effluent stream and the inflow stream of the system. 제 18항에 있어서, 유출 질산염-질소에 대한 목표값(setpoint)이 선택되고, 유출 흐름 농도 시그널이 유출 흐름에서 질산염-질소의 농도의 측정치로부터 생성되고, 농도 시그널이 화학물질 투입 제어기로 전송됨을 특징으로 하는 방법.19. The method of claim 18, wherein a setpoint for effluent nitrate-nitrogen is selected, an effluent flow concentration signal is generated from the measurement of the concentration of nitrate-nitrogen in the effluent stream, and the concentration signal is sent to a chemical dosing controller. How to feature. 제 18항에 있어서, 질산염-질소의 유출 농도와 목표값 사이의 차이가 제어 응답을 생성시키기 위해 계산되고, 제어 응답이 하나 이상의 감수성 인자에 의해 조정되고, 조정된 제어 응답이 공급 화학물질의 투입량에 대한 계산내로 자동으로 혼입됨을 특징으로 하는 방법.19. The method of claim 18, wherein the difference between the nitrate-nitrogen effluent concentration and the target value is calculated to produce a control response, the control response is adjusted by one or more susceptibility factors, and the adjusted control response is input to the feed chemical. Automatically incorporated into the calculation for. 제 20항에 있어서, 투입량이 화학물질 투입 제어기로부터 화학물질 공급 시스템으로 전송되는 수정된 출력 시그널을 생성시키기 위해 사용됨을 특징으로 하는 방법.21. The method of claim 20, wherein the input is used to generate a modified output signal that is sent from the chemical input controller to the chemical supply system. 제 20항에 있어서, 화학물질 투입 제어기로부터의 수정된 출력 시그널이 화학물질 공급 시스템으로 재설정(reset) 시간 후에 전송됨을 특징으로 하는 방법.21. The method of claim 20, wherein the modified output signal from the chemical dosing controller is sent after a reset time to the chemical supply system. 제 22항에 있어서, 수리학적 체류 시간(hydraulic residence time)이 처리 탱크내에서 부피 레벨 인디케이터를 판독하고, 이동 평균 물 유량으로 부피를 나눔으로써 계산됨을 특징으로 하는 방법.23. The method of claim 22, wherein the hydraulic residence time is calculated by reading the volume level indicator in the treatment tank and dividing the volume by a moving average water flow rate. 제 23항에 있어서, 재설정 시간이 공정 동안의 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기초로 하는 자동으로 계산된 변수임을 특징으로 하는 방법.24. The method of claim 23, wherein the reset time is an automatically calculated variable based on the hydraulic residence time and process reaction time during the process. 제 14항에 있어서, 질산염-질소 시그널이 하나 이상의 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 자동으로 조정됨을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the nitrate-nitrogen signal is automatically adjusted by one or more adjustable dose factors. a. 유출 질산염-질소에 대한 목표값을 선택하는 단계;a. Selecting a target value for effluent nitrate-nitrogen; b. 처리 시스템을 통하여 이동 평균 물 유량을 측정하고, 측정치로부터 물 유량 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring a moving average water flow rate through the treatment system and generating a water flow signal from the measurement; c. 유출 흐름에서 질산염-질소의 농도를 측정하고, 측정치로부터 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;c. Measuring the concentration of nitrate-nitrogen in the effluent stream and generating a chemical concentration signal from the measurement; d. 단계 (b)로부터 생성된 시그널 및 단계 (c)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하는 단계;d. Transmitting the signal generated from step (b) and the signal generated from step (c) to a chemical input controller; e. 질산염-질소의 유출 농도와 목표값 사이의 차이를 계산하여 제어 응답을 생성시키는 단계;e. Calculating a difference between the nitrate-nitrogen effluent concentration and a target value to generate a control response; f. 하나 이상의 감수성 인자에 의해 제어 응답을 조정하는 단계;f. Adjusting the control response by one or more susceptibility factors; g. 제어 응답으로부터 공급 화학물질의 투입량을 자동으로 계산하는 단계;g. Automatically calculating the dose of feed chemical from the control response; h. 단계 (g)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을, 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;h. Sending an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (g) to the chemical supply system; i. 단계 (h)의 출력 시그널에 응답하여 유입 흐름내로 공급 화학물질을 방출시키는 단계; 및i. Releasing the feed chemical into the inlet stream in response to the output signal of step (h); And j. 탈질소 공정 동안 단계 (a) 내지 (i)를 계속적으로 반복하는 단계를 포함하여, 유입 흐름 및 유출 흐름을 가지는, 공급 화학물질로서 유기 탄소의 화학적 공급원을 사용하는 탈질 처리 시스템내에서 물 처리 공정 동안 질산염-질소를 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하는 방법.j. A water treatment process in a denitrification system using a chemical source of organic carbon as feed chemical, having an inflow stream and an outflow stream, including continuously repeating steps (a) to (i) during the denitrification process. Automatic dose control of nitrate-nitrogen in a self-calibrating manner. 제 26항에 있어서, 질산염-질소의 농도가 유입 흐름 및 유출 흐름 둘 모두에서 측정됨을 특징으로 하는 방법.27. The method of claim 26, wherein the concentration of nitrate-nitrogen is measured in both the inlet and outlet streams. 제 26항에 있어서, 유입 흐름에서 질산염-질소의 농도가 측정되고 유입 흐름 농도 시그널이 생성되어 화학물질 투입 제어기로 전송됨을 특징으로 하는 방법.27. The method of claim 26, wherein the concentration of nitrate-nitrogen in the influent stream is measured and an influent stream concentration signal is generated and sent to the chemical input controller. 제 28항에 있어서, 유입 흐름 농도 시그널이 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 조정되고, 단계 (d)로부터의 물 유량 시그널이 플로우 페이스 멀티플라이어에 의해 조정됨을 특징으로 하는 방법.29. The method of claim 28, wherein the inflow flow concentration signal is adjusted by a volume factor that can be adjusted and the water flow rate signal from step (d) is adjusted by a flow face multiplier. 제 28항에 있어서, 화학물질 공급 시스템으로 전송되는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널의 계산이 이동 평균 물 유량, 유입 흐름중의 질산염-질소의 농도 및 유출 흐름중의 질산염-질소의 농도를 기초로 함을 특징으로 하는 방법.29. The method of claim 28, wherein the calculation of the output signal from the chemical dosing controller sent to the chemical supply system is based on a moving average water flow rate, the concentration of nitrate-nitrogen in the inlet stream and the concentration of nitrate-nitrogen in the effluent stream. Characterized in that. 제 26항에 있어서, 단계 (e)에서 후속하는 제어 응답의 계산이 재설정 시간 후에 수행됨을 특징으로 하는 방법.27. The method of claim 26, wherein the calculation of the subsequent control response in step (e) is performed after a reset time. 제 31항에 있어서, 수리학적 체류 시간이 처리 탱크내에서 부피 레벨 인디케이터를 판독하고, 이동 평균 물 유량으로 부피를 나눔으로써 계산됨을 특징으로 하는 방법.32. The method of claim 31, wherein the hydraulic residence time is calculated by reading the volume level indicator in the treatment tank and dividing the volume by a moving average water flow rate. 제 32항에 있어서, 재설정 시간이 공정 동안의 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기초로 하는 자동으로 계산된 변수임을 특징으로 하는 방법.33. The method of claim 32, wherein the reset time is an automatically calculated variable based on the hydraulic residence time during the process and the process reaction time. 제 31항에 있어서, 유도된 제어 응답이 목표값에 접근하거나 이로부터 멀어지도록 하는 빠른 변화율을 중화시키기 위해 생성됨을 특징으로 하는 방법.32. The method of claim 31, wherein the derived control response is generated to neutralize a rapid rate of change that causes the target value to approach or move away from the target value. 제 34항에 있어서, 유도된 제어 응답이 재설정 시간 이전에 제 1 유출 농도를 측정하고, 재설정 시간에 제 2 유출 농도를 측정하고, 제 1 유출 농도를 제 2유출 농도와 비교하고, 이에 따라 제어 응답을 조정함으로써 생성됨을 특징으로 하는 방법.35. The method of claim 34, wherein the induced control response measures the first outflow concentration before the reset time, measures the second outflow concentration at the reset time, compares the first outflow concentration with the second outflow concentration, and accordingly controls Generated by adjusting the response. a. 유출 흐름에서 화학물질에 대한 목표값을 선택하는 단계;a. Selecting a target value for the chemical in the effluent stream; b. 처리 시스템을 통하여 이동 평균 액체 유량을 측정하고, 측정치로부터 액체 유량 시그널을 생성시키는 단계;b. Measuring a moving average liquid flow rate through the processing system and generating a liquid flow signal from the measurement; c. 유입 흐름에서 단계 (a)의 화학물질의 농도를 측정하고, 측정치로부터 유입 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;c. Measuring the concentration of the chemical of step (a) in the inflow stream and generating an influent chemical concentration signal from the measurement; d. 유출 흐름에서 단계 (a)의 화학물질의 농도를 측정하고, 측정치로부터 유출 화학물질 농도 시그널을 생성시키는 단계;d. Measuring the concentration of the chemical of step (a) in the effluent stream and generating an effluent chemical concentration signal from the measurement; e. 단계 (b)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하여 일차 제어 응답을 생성시키는 단계;e. Transmitting the signal generated from step (b) to a chemical dosing controller to generate a primary control response; f. 플로우 페이스 모디파이어(flow pace modifier)에 의해 일차 제어 응답을 조정하는 단계;f. Adjusting the primary control response by a flow pace modifier; g. 단계 (c)로부터 생성된 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하여 이차 제어 응답을 생성시키는 단계;g. Transmitting the signal generated from step (c) to a chemical dosing controller to generate a secondary control response; h. 조정될 수 있는 용량 인자에 의해 이차 제어 응답을 조정하는 단계;h. Adjusting the secondary control response by a dose factor that can be adjusted; i. 단계 (d)로부터의 시그널을 화학물질 투입 제어기로 전송하고 유출 화학물질 농도와 목표값 사이의 차이를 계산하여 삼차 제어 응답을 생성시키는 단계;i. Transmitting the signal from step (d) to the chemical dosing controller and calculating the difference between the effluent chemical concentration and the target value to generate a tertiary control response; j. 하나 이상의 감수성 인자에 의해 삼차 제어 응답을 조정하는 단계;j. Adjusting the tertiary control response by one or more susceptibility factors; k. 처리 탱크내에서 부피 레벨 인디케이터를 판독하고 이동 평균 물 유량으로 부피를 나눔으로써 공정 동안의 수리학적 체류 시간을 계산하는 단계;k. Calculating the hydraulic retention time during the process by reading the volume level indicator in the treatment tank and dividing the volume by the moving average water flow rate; l. 수리학적 체류 시간 및 공정 반응 시간을 기초로 하여 재설정 시간을 자동으로 계산하는 단계;l. Automatically calculating the reset time based on the hydraulic residence time and the process reaction time; m. 재설정 시간 후에 단계 (f)로부터의 삼차 제어 응답을 혼입시키면서 일차 제어 응답 및 이차 제어 응답으로부터 공급 화학물질의 투입량을 연속적으로 계산하는 단계;m. Continuously calculating the dose of feed chemical from the primary control response and the secondary control response while incorporating the tertiary control response from step (f) after the reset time; n. 단계 (m)에서 계산된 투입량을 기초로 하는 화학물질 투입 제어기로부터의 출력 시그널을, 화학물질 공급 시스템으로 전송하는 단계;n. Transmitting an output signal from the chemical input controller based on the input calculated in step (m) to the chemical supply system; o. 단계 (n)의 출력 시그널에 응답하여 유입 흐름내로 공급 화학물질을 방출시키는 단계; 및o. Releasing the feed chemical into the inlet stream in response to the output signal of step (n); And p. 처리 공정 동안 단계 (a) 내지 (o)를 계속적으로 반복하는 단계를 포함하여, 유입 흐름 및 유출 흐름을 가지는, 공급 화학물질을 사용하는 액체 처리 시스템내에서 처리 공정 동안 액체 처리 화학물질을 자가 보정 방식으로 자동 용량 제어하는 방법.p. Self-calibrating the liquid treatment chemicals during the treatment process in a liquid treatment system using feed chemicals, comprising continuously repeating steps (a) to (o) during the treatment process. How to do automatic dose control in a way. 제 36항에 있어서, 단계 (a)의 화학물질이 단계 (o)의 화학물질과 동일한 화학물질임을 특징으로 하는 방법.37. The method of claim 36, wherein the chemical of step (a) is the same chemical as the chemical of step (o). 제 36항에 있어서, 단계 (a)의 화학물질이 단계 (o)의 화학물질과 상이한 화학물질임을 특징으로 하는 방법.37. The method of claim 36, wherein the chemical of step (a) is a different chemical from the chemical of step (o). 제 36항에 있어서, 재설정 시간이 수동으로 입력됨을 특징으로 하는 방법.37. The method of claim 36, wherein the reset time is entered manually.
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KR100490197B1 (en) * 2002-10-14 2005-05-17 삼성정밀화학 주식회사 Method of evaluating waste resources to utilize waste resources via external substrate required for nitrogen removal process

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